JP5219098B2 - Display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、有機材料等の表示組成物を備えた表示装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a display device including a display composition such as an organic material and a method for manufacturing the same.

従来、有機材料等の表示組成物を備えた表示装置が知られている。例えば、特許文献１に記載の有機ＥＬ表示装置では、複数の発光層が隙間を挟んで互いに等ピッチに配列されている。隙間には、色変換層もしくは透明な絶縁層が収容されている。色変換層及び絶縁層は、いずれも上部が上方に膨出した形状とされている。色変換層及び絶縁層の上部によって形成される斜面には、金属部材が形成されている。金属部材のうち色変換層及び絶縁層に接する部分は、光を反射する反射面を形成している。このような構成によって、発光層から横方向に発せられた光は、色変換層もしくは透明な絶縁層を通過し、金属部材の反射面に反射して、利用者が視認することが可能な方向に光を出射することができる。これによって、有機ＥＬ表示装置の輝度が向上している。   Conventionally, a display device including a display composition such as an organic material is known. For example, in the organic EL display device described in Patent Document 1, a plurality of light emitting layers are arranged at equal pitches with a gap therebetween. A color conversion layer or a transparent insulating layer is accommodated in the gap. Each of the color conversion layer and the insulating layer has a shape in which the upper portion bulges upward. A metal member is formed on the slope formed by the color conversion layer and the upper portion of the insulating layer. A portion of the metal member that contacts the color conversion layer and the insulating layer forms a reflection surface that reflects light. With such a configuration, the light emitted from the light emitting layer in the lateral direction passes through the color conversion layer or the transparent insulating layer, is reflected on the reflecting surface of the metal member, and can be visually recognized by the user. Can emit light. Thereby, the luminance of the organic EL display device is improved.

特開２００７−２４２３２４号公報JP 2007-242324 A

しかしながら、上記の有機ＥＬ表示装置では、輝度を向上させるために、金属部材を配置して反射面を形成する必要がある。つまり、金属部材を配置する製造工程が必要になるため、製造工程数が増える。さらに、金属部材の材料が必要になる。金属部材の材料が必要になり、製造工程数が増えるため、製造コストが大きくなるという問題点があった。また、金属部材を廃止した場合には、輝度が低くなるという問題点があった。   However, in the organic EL display device described above, it is necessary to dispose a metal member and form a reflective surface in order to improve luminance. That is, since a manufacturing process for arranging the metal member is required, the number of manufacturing processes increases. Further, a metal member material is required. Since a metal member material is required and the number of manufacturing steps increases, there is a problem in that the manufacturing cost increases. Further, when the metal member is abolished, there is a problem that the luminance is lowered.

本発明は、低コストで製造でき、且つ輝度を大きくすることが可能な表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a display device that can be manufactured at low cost and that can increase luminance, and a method for manufacturing the same.

本発明の第一の態様に係る発明の表示装置は、板状の基板と、前記基板の一の面側に設けられた複数の電極である第一電極と、前記各第一電極における前記基板に対向する面の反対面側に各々設けられ、電圧の印加によって発光する表示用組成物と、前記各表示用組成物の間を絶縁し、前記表示用組成物が発する光によって励起されて蛍光する蛍光材料を含有した隔壁と、前記表示用組成物の表面と前記隔壁の端面とによって形成される面に接触して設けられ、前記表示用組成物と前記隔壁とに対向する面が、前記蛍光材料と前記表示用組成物とが発する光を反射する光反射面で構成された電極である第二電極とを備え、前記隔壁に含有される前記蛍光材料は、前記表示用組成物が発する光の色と異なる色を蛍光する。 The display device according to the first aspect of the present invention includes a plate-like substrate, a first electrode that is a plurality of electrodes provided on one surface side of the substrate, and the substrate in each of the first electrodes. The display composition is provided on the opposite side of the surface facing each other, and insulates between each display composition and the display composition that emits light when voltage is applied, and is excited by the light emitted from the display composition to emit fluorescence. A partition containing a fluorescent material, a surface formed by the surface of the display composition and an end face of the partition, and a surface facing the display composition and the partition, A second electrode that is an electrode configured of a light reflecting surface that reflects light emitted from the fluorescent material and the display composition, and the fluorescent material contained in the partition emits the display composition fluorescence a different color from the color of the light.

この場合の表示装置では、表示用組成物から発せられた光が表示用組成物から見て光反射面が設けられている方向とは反対方向（以下、第一方向という。）に出射される。また、表示用組成物から隔壁の方向に発せられた光が隔壁に含有された蛍光材料を励起することにより発せられる光は、第一方向に向けて出射される。また、表示用組成物及び蛍光材料が光反射面の方向に向けて出射した光は、光反射面で反射されて、第一方向に向けて出射される。このように、第一方向に出射される光の量が多くなるため、表示装置の輝度を大きくすることができる。また、第二電極の面が光反射面となっているため、第二電極と光反射面とを別々に形成する場合に比べて、低コストで製造できる表示装置を得ることができる。   In the display device in this case, the light emitted from the display composition is emitted in a direction opposite to the direction in which the light reflecting surface is provided as viewed from the display composition (hereinafter referred to as the first direction). . Moreover, the light emitted when the light emitted from the display composition in the direction of the barrier ribs excites the fluorescent material contained in the barrier ribs is emitted in the first direction. Further, the light emitted from the display composition and the fluorescent material toward the light reflecting surface is reflected by the light reflecting surface and emitted toward the first direction. Thus, since the amount of light emitted in the first direction is increased, the luminance of the display device can be increased. Moreover, since the surface of the second electrode is a light reflecting surface, a display device that can be manufactured at a lower cost can be obtained as compared with the case where the second electrode and the light reflecting surface are formed separately.

本発明の第二の態様に係る表示装置は、板状の基板と、前記基板の一の面側に設けられ、前記基板に対向する面の反対面が光を反射する光反射面で構成された電極である第三電極と、前記第三電極の前記光反射面側に設けられ、電圧の印加によって発光する複数の表示用組成物と、前記各表示用組成物の間を絶縁し、前記表示用組成物が発する光によって励起されて蛍光する蛍光材料を含有した隔壁と、前記各表示用組成物における前記光反射面に対向する面の反対面にそれぞれ設けられた電極である第四電極とを備え、前記隔壁に含有される前記蛍光材料は、前記表示用組成物が発する光の色と異なる色を蛍光する。 A display device according to a second aspect of the present invention includes a plate-like substrate and a light reflecting surface that is provided on one surface side of the substrate, and the surface opposite to the surface facing the substrate reflects light. A third electrode that is a separate electrode, a plurality of display compositions that are provided on the light reflecting surface side of the third electrode and emit light when voltage is applied, and insulates between each of the display compositions, A partition containing a fluorescent material that is excited by light emitted from the display composition and fluoresces, and a fourth electrode that is an electrode provided on a surface opposite to the surface facing the light reflecting surface in each display composition with the door, the fluorescent material contained in the partition wall, you fluorescence of different color and the color of light the indicating composition is emitted.

この場合の表示装置では、表示用組成物から発せられた光が表示用組成物から見て光反射面が設けられている方向とは反対方向（第二方向）に光が出射される。また、表示用組成物から隔壁の方向に発せられた光が、隔壁に含有された蛍光材料を励起することよって発せられる光は、第二方向に向けて出射される。また、表示用組成物及び蛍光材料が光反射面の方向に向けて出射した光は、光反射面で反射されて、第二方向に向けて出射される。このように、第二方向に出射される光の量が多くなるため、表示装置の輝度を大きくすることができる。また、第三電極の面が光反射面となっているため、第三電極と光反射面とを別々に形成する場合に比べて、低コストで製造できる表示装置を得ることができる。   In the display device in this case, light emitted from the display composition is emitted in a direction (second direction) opposite to the direction in which the light reflecting surface is provided when viewed from the display composition. In addition, light emitted from the display composition in the direction of the barrier ribs by exciting the fluorescent material contained in the barrier ribs is emitted in the second direction. Further, the light emitted from the display composition and the fluorescent material toward the light reflecting surface is reflected by the light reflecting surface and emitted toward the second direction. Thus, since the amount of light emitted in the second direction increases, the luminance of the display device can be increased. In addition, since the surface of the third electrode is a light reflecting surface, a display device that can be manufactured at a lower cost can be obtained compared to the case where the third electrode and the light reflecting surface are formed separately.

前記表示装置において、前記蛍光材料は、クマリン、ルブレン、ナイルレッド、ＤＣＭ、及びＤＣＪＴＢのうちの少なくとも一種であってもよい。この場合、蛍光材料に応じた色で、隔壁から光を発することができる。   In the display device, the fluorescent material may be at least one of coumarin, rubrene, Nile red, DCM, and DCJTB. In this case, light can be emitted from the partition wall in a color corresponding to the fluorescent material.

前記表示装置において、前記隔壁は、ＰＶＫ、ポリスチレン、ナイロン、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキシド、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミドイミド、ポリイミド、及びフッ素樹脂のうちの少なくとも一種と、前記蛍光材料との混合物であってもよい。この場合、蛍光材料が発する光を、効率的に隔壁の外部に向けて出射することができる。   In the display device, the partition includes PVK, polystyrene, nylon, polyacetal, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene oxide, polymethyl methacrylate, cycloolefin, polyarylate, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyamideimide, polyimide, And a mixture of at least one of fluororesin and the fluorescent material. In this case, the light emitted from the fluorescent material can be efficiently emitted toward the outside of the partition wall.

前記表示装置において、前記表示用組成物は、ヘテロ芳香族化合物、スチルベン化合物、及び燐光物質のうちの少なくとも一種を含有してもよい。この場合、表示用組成物に含有された物質に応じた色の光を発することができる表示装置を製造することができる。   In the display device, the display composition may contain at least one of a heteroaromatic compound, a stilbene compound, and a phosphorescent substance. In this case, a display device that can emit light of a color corresponding to the substance contained in the display composition can be manufactured.

前記表示装置において、前記基板の光の屈折率は、前記第一電極の光の屈折率より大きくてもよい。この場合、第一電極から、基板に入る光の屈折角を小さくすることができる。よって、基板と空気との境目への光の入射角を大きくすることができる。つまり、基板の光の屈折率が第一電極の光の屈折率より小さい場合に比べて、基板と空気との境目の面に対する光の角度がより垂直に近くなり、基板と空気との境目を光が通過しやすくなる。よって、基板内に閉じ込められる光の量が少なくなり、表示装置の輝度がさらに大きくなる。   In the display device, the light refractive index of the substrate may be larger than the light refractive index of the first electrode. In this case, the refraction angle of light entering the substrate from the first electrode can be reduced. Therefore, the incident angle of light to the boundary between the substrate and air can be increased. That is, compared to the case where the refractive index of the light of the substrate is smaller than the refractive index of the light of the first electrode, the angle of the light with respect to the surface of the boundary between the substrate and air becomes closer to the vertical. Light becomes easy to pass through. Therefore, the amount of light confined in the substrate is reduced, and the luminance of the display device is further increased.

前記表示装置において、前記基板における前記第一電極と接触する面の反対面に、複数の突起が備えられてもよい。突起が設けられていない場合に基板と空気との境目において全反射される光は、突起が設けられた場合には、突起に入射されることによって、突起の側面から外部に出射される。つまり、基板内に閉じ込められる光の量がさらに少なくなる。このため、表示装置の輝度がさらに大きくなる。   In the display device, a plurality of protrusions may be provided on a surface of the substrate opposite to a surface in contact with the first electrode. When the projection is not provided, the light totally reflected at the boundary between the substrate and the air is emitted to the outside from the side surface of the projection by being incident on the projection when the projection is provided. That is, the amount of light confined in the substrate is further reduced. For this reason, the brightness | luminance of a display apparatus becomes still larger.

本発明の第三の態様にかかる表示装置の製造方法は、板状の基板の一の面側に複数の電極である第一電極を形成する第一電極形成工程と、電圧の印加によって発光する表示用組成物が発する光によって励起されて蛍光する蛍光材料であって、前記表示用組成物が発する光と異なる色で蛍光する前記蛍光材料を含有した絶縁層を、前記第一電極形成工程において形成された前記第一電極を覆うように形成する絶縁層形成工程と、前記絶縁層形成工程において形成された前記絶縁層上の前記第一電極に対向する位置に、前記絶縁層を溶解する溶媒及び前記表示用組成物を含有するインク溶液を塗布するインク溶液塗布工程と、前記インク溶液塗布工程において塗布された前記インク溶液が前記絶縁層を溶解した後に、前記インク溶液の前記溶媒を蒸発させ、前記第一電極と接触するように前記表示用組成物を形成する表示用組成物形成工程と、前記インク溶液によって溶解された後の前記絶縁層である隔壁と前記表示用組成物とに対向する面が、前記隔壁における前記蛍光材料と前記表示用組成物とが発する光を反射する光反射面として構成された電極である第二電極を、前記表示用組成物の表面と前記隔壁の端面とに接するように形成する第二電極形成工程とを備えている。 In the method for manufacturing a display device according to the third aspect of the present invention, a first electrode forming step of forming a first electrode as a plurality of electrodes on one surface side of a plate-like substrate, and light emission by applying a voltage. In the first electrode forming step, a fluorescent material that is excited by light emitted from the display composition and fluoresces, and that includes the fluorescent material that fluoresces in a color different from the light emitted from the display composition . An insulating layer forming step for covering the formed first electrode, and a solvent for dissolving the insulating layer at a position facing the first electrode on the insulating layer formed in the insulating layer forming step. And an ink solution application step of applying an ink solution containing the display composition; and after the ink solution applied in the ink solution application step dissolves the insulating layer, the solvent of the ink solution is removed. And a display composition forming step for forming the display composition so as to come into contact with the first electrode, and a partition which is the insulating layer after being dissolved by the ink solution, and the display composition A surface opposite to the second electrode, the second electrode being an electrode configured as a light reflecting surface that reflects light emitted from the fluorescent material and the display composition in the partition, and the surface of the display composition and the partition And a second electrode forming step for forming the second electrode so as to be in contact with the end face.

この製造方法によると、より輝度の大きい表示装置を低コストで製造することができる。   According to this manufacturing method, a display device with higher luminance can be manufactured at low cost.

本発明の第四の態様に係る表示装置の製造方法は、板状の基板の一の面側に、前記基板に対向する面の反対側面が光を反射する光反射面で構成された電極である第三電極を形成する第三電極形成工程と、電圧の印加によって発光する表示用組成物が発する光によって励起されて蛍光する蛍光材料であって、前記表示用組成物が発する光と異なる色で蛍光する前記蛍光材料を含有した絶縁層を、前記第三電極形成工程において形成された前記第三電極を覆うように形成する絶縁層形成工程と、前記絶縁層形成工程において形成された前記絶縁層上の複数の位置に、前記絶縁層を溶解する溶媒及び前記表示用組成物を含有するインク溶液を塗布するインク溶液塗布工程と、前記インク溶液塗布工程において塗布された前記インク溶液が前記絶縁層を溶解した後に、前記インク溶液の前記溶媒を蒸発させ、前記第三電極と接触するように前記表示用組成物を形成する表示用組成物形成工程と、前記表示用組成物形成工程において形成された前記表示用組成物と接触するように、電極である第四電極を形成する第四電極形成工程とを備えている。

According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a display device, comprising: an electrode configured on one surface side of a plate-like substrate, a light reflecting surface on which a side opposite to the surface facing the substrate reflects light. A third electrode forming step of forming a third electrode, and a fluorescent material that is excited by light emitted from the display composition that emits light by application of a voltage and fluoresces , and has a different color from the light emitted from the display composition An insulating layer containing the fluorescent material that fluoresces in the insulating layer forming step so as to cover the third electrode formed in the third electrode forming step, and the insulation formed in the insulating layer forming step An ink solution applying step of applying an ink solution containing a solvent for dissolving the insulating layer and the display composition at a plurality of positions on the layer; and the ink solution applied in the ink solution applying step layer After the dissolution, the solvent of the ink solution was evaporated, and the display composition was formed in the display composition forming step for forming the display composition so as to come into contact with the third electrode. A fourth electrode forming step of forming a fourth electrode as an electrode so as to come into contact with the display composition.

この製造方法によると、より輝度の大きい表示装置を低コストで製造することができる。   According to this manufacturing method, a display device with higher luminance can be manufactured at low cost.

前記表示装置の前記製造方法において、前記蛍光材料は、クマリン、ルブレン、ナイルレッド、ＤＣＭ、及びＤＣＪＴＢのうちの少なくとも一種であってもよい。この場合、蛍光材料に応じた色で、隔壁から光を発することができる表示装置を製造することができる。   In the manufacturing method of the display device, the fluorescent material may be at least one of coumarin, rubrene, Nile red, DCM, and DCJTB. In this case, it is possible to manufacture a display device that can emit light from the partition wall in a color corresponding to the fluorescent material.

前記表示装置の前記製造方法において、前記絶縁層は、ＰＶＫ、ポリスチレン、ナイロン、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキシド、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミドイミド、ポリイミド、及びフッ素樹脂のうちの少なくとも一種と、前記蛍光材料との混合物であってもよい。この場合、蛍光材料が発する光を、効率的に隔壁の外部に向けて出射することができる表示装置を製造することができる。   In the manufacturing method of the display device, the insulating layer is made of PVK, polystyrene, nylon, polyacetal, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene oxide, polymethyl methacrylate, cycloolefin, polyarylate, polysulfone, polyphenylene sulfide, It may be a mixture of at least one of polyamideimide, polyimide, and fluororesin and the fluorescent material. In this case, a display device that can efficiently emit light emitted from the fluorescent material toward the outside of the partition wall can be manufactured.

前記表示装置の前記製造方法において、前記表示用組成物は、ヘテロ芳香族化合物、スチルベン系化合物、及び燐光物質のうちの少なくとも一種を含有してもよい。この場合、表示用組成物に含有された物質に応じた色の光を発することができる表示装置を製造することができる。   In the manufacturing method of the display device, the display composition may contain at least one of a heteroaromatic compound, a stilbene compound, and a phosphorescent substance. In this case, a display device that can emit light of a color corresponding to the substance contained in the display composition can be manufactured.

前記表示装置の前記製造方法において、前記基板の光の屈折率は、前記第一電極の光の屈折率より大きくてもよい。これによって、基板内に閉じ込められる光の量が少ない、輝度の大きい表示装置を製造することができる。   In the manufacturing method of the display device, the light refractive index of the substrate may be larger than the light refractive index of the first electrode. Accordingly, a display device with high luminance and a small amount of light confined in the substrate can be manufactured.

前記表示装置の前記製造方法において、前記基板における前記第一電極と接触する面の反対面に、複数の突起が備えられていてもよい。これによって、基板内に閉じ込められる光の量がさらに少ない、輝度の大きい表示装置を製造することができる。   In the manufacturing method of the display device, a plurality of protrusions may be provided on the surface of the substrate opposite to the surface in contact with the first electrode. This makes it possible to manufacture a display device with a high luminance with a smaller amount of light confined in the substrate.

有機ＥＬディスプレイ１の全体構成を示す説明図である。1 is an explanatory diagram illustrating an overall configuration of an organic EL display 1. FIG. 電流駆動ＴＦＴ１２の構成を示す説明図である。3 is an explanatory diagram showing a configuration of a current drive TFT 12; FIG. 有機ＥＬ素子１１の製造プロセスを示すフローチャートである。3 is a flowchart showing a manufacturing process of the organic EL element 11. 有機ＥＬ素子１１の製造プロセスを示す説明図である。5 is an explanatory diagram showing a manufacturing process of the organic EL element 11. FIG. インクジェットヘッド３０の構成を示す説明図である。2 is an explanatory diagram showing a configuration of an inkjet head 30. FIG. 有機ＥＬ素子１１における光の出射経路を示す図である。3 is a diagram illustrating a light emission path in the organic EL element 11. FIG. 電流密度−輝度特性の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a current density-luminance characteristic. 有機ＥＬディスプレイ２の全体構成を示す説明図である。2 is an explanatory diagram showing an overall configuration of an organic EL display 2. FIG. 有機ＥＬ素子５１の製造プロセスを示すフローチャートである。3 is a flowchart showing a manufacturing process of the organic EL element 51. 有機ＥＬ素子５１の製造プロセスを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the manufacturing process of the organic EL element 51. FIG. 有機ＥＬ素子５１における光の出射経路を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a light emission path in an organic EL element 51. 変形例に係る有機ＥＬ素子１１の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the organic EL element 11 which concerns on a modification.

（第一実施形態）
以下、本発明に係る表示装置の製造方法の第一実施形態について、図面を参照して説明する。ここでは、表示装置として、有機ＥＬディスプレイを例に挙げて説明する。 (First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of a display device manufacturing method according to the present invention will be described with reference to the drawings. Here, an organic EL display will be described as an example of the display device.

まず、有機ＥＬディスプレイ１の全体構成を図１を用いて説明する。有機ＥＬディスプレイ１は、ガラス基板１０と、そのガラス基板１０上に配置された有機ＥＬ素子１１、電流駆動ＴＦＴ１２、水平駆動回路１３、垂直駆動回路１４、及び封止層１６を備えている。   First, the overall configuration of the organic EL display 1 will be described with reference to FIG. The organic EL display 1 includes a glass substrate 10, an organic EL element 11 disposed on the glass substrate 10, a current driving TFT 12, a horizontal driving circuit 13, a vertical driving circuit 14, and a sealing layer 16.

上記有機ＥＬ素子１１は、ガラス基板１０の中央部に形成されており、碁盤の目状に、１５の画素に分割されている。それぞれの画素は、発光層１１Ｃ（表示用組成物）と、その発光層１１Ｃを上下から挟むＩＴＯ（酸化インジウムスズ）で形成されている透明な陽極１１Ａと陰極１１Ｅとを備えている。   The organic EL element 11 is formed at the center of the glass substrate 10 and is divided into 15 pixels in a grid pattern. Each pixel includes a light-emitting layer 11C (display composition) and a transparent anode 11A and cathode 11E formed of ITO (indium tin oxide) sandwiching the light-emitting layer 11C from above and below.

有機ＥＬ素子１１について、陽極１１Ａと陰極１１Ｅとの間に直流電圧をかけると、陽極１１Ａ（第一電極）から正孔が発光層１１Ｃに供給され、陰極１１Ｅ（第二電極）から電子が発光層１１Ｃに供給される。そして、陽極１１Ａから供給された正孔と、陰極１１Ｅから供給された電子とが発光層１１Ｃで再結合する。この際、発光層１１Ｃは発光し、透明な陽極１１Ａと、ガラス基板１０を透過して、下方（図１における下方）に光を照射する。一方、陽極１１Ａと陰極１１Ｅとの間の電圧がＯＦＦの時には消光する。   With respect to the organic EL element 11, when a DC voltage is applied between the anode 11A and the cathode 11E, holes are supplied from the anode 11A (first electrode) to the light emitting layer 11C, and electrons are emitted from the cathode 11E (second electrode). Supplied to layer 11C. Then, the holes supplied from the anode 11A and the electrons supplied from the cathode 11E are recombined in the light emitting layer 11C. At this time, the light emitting layer 11C emits light, passes through the transparent anode 11A and the glass substrate 10, and irradiates light downward (downward in FIG. 1). On the other hand, the light is extinguished when the voltage between the anode 11A and the cathode 11E is OFF.

上記電流駆動ＴＦＴ１２は、有機ＥＬ素子１１の個々の画素ごとに１組ずつ設けられており、対応する画素への電流供給を制御するスイッチとして作用する。上記水平駆動回路１３及び上記垂直駆動回路１４は、各画素に対応する電流駆動ＴＦＴ１２を、オン又はオフとすることにより、各画素の独立発光及び消灯制御を行う。上記封止層１６は、有機ＥＬ素子１１、電流駆動ＴＦＴ１２、水平駆動回路１３、垂直駆動回路１４、Ｐ−ＳｉＴＦＴを上から覆い、保護するものである。   The current driving TFT 12 is provided for each pixel of the organic EL element 11 and functions as a switch for controlling the current supply to the corresponding pixel. The horizontal drive circuit 13 and the vertical drive circuit 14 perform independent light emission and extinction control of each pixel by turning on or off the current drive TFT 12 corresponding to each pixel. The sealing layer 16 covers and protects the organic EL element 11, the current driving TFT 12, the horizontal driving circuit 13, the vertical driving circuit 14, and the P-Si TFT from above.

次に、上記電流駆動ＴＦＴ１２について、図１及び図２を用いて説明する。有機ＥＬディスプレイ１には、図１に示す様に、有機ＥＬ素子１１の１画素ごとに、電流駆動ＴＦＴ１２が設けられている。この電流駆動ＴＦＴ１２は、有機ＥＬ素子１１の個々の画素への電流の供給を制御するスイッチとして機能する。   Next, the current drive TFT 12 will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 1, the organic EL display 1 is provided with a current drive TFT 12 for each pixel of the organic EL element 11. The current driving TFT 12 functions as a switch for controlling the supply of current to each pixel of the organic EL element 11.

この電流駆動ＴＦＴ１２の構成を、図２の等価回路を用いて説明する。なお、図２は、６個の画素についての繰り返し図である。電流駆動ＴＦＴ１２は、図２に示す様に、データ線１２Ｆ、走査線１２Ｅ、メモリーＴＦＴ１２Ｂ、コンデンサ１２Ｃ、及び駆動ＴＦＴ１２Ａを備えている。データ線１２Ｆは、垂直駆動回路１４（図１参照）に接続されている。走査線１２Ｅは、水平駆動回路１３（図１参照）に接続されている。メモリーＴＦＴ１２Ｂのゲート電極には、走査信号が走査線１２Ｅを介して供給される。コンデンサ１２Ｃには、メモリーＴＦＴ１２Ｂを介してデータ線１２Ｆから電荷（画像信号）が供給され、保持される。駆動ＴＦＴ１２Ａのゲート電極には、コンデンサ１２Ｃによって保持された画像信号が供給される。有機ＥＬ素子１１の陽極１１Ａには、駆動ＴＦＴ１２Ａを介して電源線１２Ｄから駆動電流が流れ込む。   The configuration of the current drive TFT 12 will be described using the equivalent circuit of FIG. FIG. 2 is a repetition diagram for six pixels. As shown in FIG. 2, the current driving TFT 12 includes a data line 12F, a scanning line 12E, a memory TFT 12B, a capacitor 12C, and a driving TFT 12A. The data line 12F is connected to the vertical drive circuit 14 (see FIG. 1). The scanning line 12E is connected to the horizontal drive circuit 13 (see FIG. 1). A scanning signal is supplied to the gate electrode of the memory TFT 12B through the scanning line 12E. Charge (image signal) is supplied from the data line 12F to the capacitor 12C via the memory TFT 12B and held. The image signal held by the capacitor 12C is supplied to the gate electrode of the driving TFT 12A. A drive current flows into the anode 11A of the organic EL element 11 from the power supply line 12D via the drive TFT 12A.

この電流駆動ＴＦＴ１２では、水平駆動回路１３によって走査線１２Ｅがオンになり、垂直駆動回路１４によってデータ線１２Ｆがオンになると、メモリーＴＦＴ１２Ｂが作動し、コンデンサ１２Ｃに電荷が蓄積される。この電荷に相当する時間だけ駆動ＴＦＴ１２Ａが作動し、電源線１２Ｄから、駆動ＴＦＴ１２Ａ、陽極１１Ａ、発光層１１Ｃを介して、陰極１１Ｅへ電流が流れ、その電流駆動ＴＦＴ１２に対応する画素が発光する。   In the current drive TFT 12, when the scanning line 12E is turned on by the horizontal drive circuit 13 and the data line 12F is turned on by the vertical drive circuit 14, the memory TFT 12B is activated and charges are accumulated in the capacitor 12C. The driving TFT 12A operates for a time corresponding to this charge, and a current flows from the power supply line 12D to the cathode 11E via the driving TFT 12A, the anode 11A, and the light emitting layer 11C, and the pixel corresponding to the current driving TFT 12 emits light.

一方、水平駆動回路１３によって走査線１２Ｅがオフとなるか、垂直駆動回路１４によってデータ線１２Ｆがオフとなった場合には、メモリーＴＦＴ１２Ｂが作動せず、発光層１１Ｃには電流が流れないので、その電流駆動ＴＦＴ１２に対応する画素は消光する。   On the other hand, when the scanning line 12E is turned off by the horizontal driving circuit 13 or the data line 12F is turned off by the vertical driving circuit 14, the memory TFT 12B does not operate and no current flows through the light emitting layer 11C. The pixel corresponding to the current driving TFT 12 is extinguished.

次に、有機ＥＬディスプレイ１の製造方法を図３及び図４を用いて説明する。なお、図３は、有機ＥＬディスプレイ１のうち、有機ＥＬ素子１１の部分のみの製造工程を示したフローチャートであり、図４は、図３の各工程における有機ＥＬ素子１１を示した外観図である。ここでは、特に、要部である有機ＥＬ素子１１の製造方法を説明する。   Next, a method for manufacturing the organic EL display 1 will be described with reference to FIGS. 3 is a flowchart showing a manufacturing process of only the portion of the organic EL element 11 in the organic EL display 1, and FIG. 4 is an external view showing the organic EL element 11 in each process of FIG. is there. Here, the manufacturing method of the organic EL element 11 which is a principal part is demonstrated especially.

まず、Ｓ１１では、ガラス基板１０上に、ＩＴＯを１５０ｎｍの厚みで蒸着し、陽極１１Ａを成膜する（図４（Ａ）参照）。この陽極１１Ａの表面抵抗は５００〜６００μΩ／ｃｍであり、光透過率は８１％であった。   First, in S11, ITO is vapor-deposited with a thickness of 150 nm on the glass substrate 10 to form an anode 11A (see FIG. 4A). The surface resistance of the anode 11A was 500 to 600 μΩ / cm, and the light transmittance was 81%.

次いで、Ｓ１２では、Ｓ１１で成膜した陽極１１Ａ上に、露光用のレジストをスピンコートにより塗布し、所望の電極パターンをマスク露光する。その後、濃硝酸と濃塩酸の混合液である王水を用いたエッチングにより、露光されていない部分の陽極１１Ａを取り除き、所望の電極パターンを形成する（図４（Ｂ）参照）。その後、不要となったレジストを除去する。   Next, in S12, an exposure resist is applied by spin coating on the anode 11A formed in S11, and a desired electrode pattern is mask-exposed. Thereafter, the unexposed portion of the anode 11A is removed by etching using aqua regia, which is a mixed solution of concentrated nitric acid and concentrated hydrochloric acid, to form a desired electrode pattern (see FIG. 4B). Thereafter, the resist that is no longer needed is removed.

次いで、Ｓ１３では、陽極１１Ａ表面を、中性洗剤洗浄、アセトン洗浄、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）洗浄、及びＵＶオゾン洗浄により順次洗浄する。なお、これらの洗浄の目的は、(ｉ)陽極１１Ａ上の汚れを除去すること、(ｉｉ)陽極１１Ａ表面の酸素欠陥を減らし、正孔注入障壁を低下させること、である。中でも、ＵＶオゾン洗浄は、湿式洗浄ではとれない有機物の汚れを除去することができる。   Next, in S13, the surface of the anode 11A is sequentially cleaned by neutral detergent cleaning, acetone cleaning, IPA (isopropyl alcohol) cleaning, and UV ozone cleaning. The purpose of these cleanings is (i) removing dirt on the anode 11A, and (ii) reducing oxygen defects on the surface of the anode 11A and lowering the hole injection barrier. In particular, UV ozone cleaning can remove organic contaminants that cannot be removed by wet cleaning.

次いで、Ｓ１４では、ガラス基板１０上の、有機ＥＬ素子１１を形成する部分全体に、スピンコート法、ディップ法、カーテンコート法、バーコート法、印刷法もしくはインクジェット法を用いて、シクロオレフィンとこれに蛍光材料を分散した絶縁層１１Ｂを形成する（図４（Ｃ）参照）。絶縁層１１Ｂの厚みは、陽極１１Ａ間の絶縁を保持できる厚みであればよく、薄い方が、インクジェットの液滴径（ドロップ径）を考えると、高分解能、高画質の点で好ましい。また、絶縁層１１Ｂは、後述する工程において溶解させるので、半キュアー状態（完全に硬化していない状態）が望ましい。   Subsequently, in S14, cycloolefin and this are applied to the entire portion of the glass substrate 10 where the organic EL element 11 is to be formed by using a spin coating method, a dip method, a curtain coating method, a bar coating method, a printing method, or an ink jet method. An insulating layer 11B in which a fluorescent material is dispersed is formed (see FIG. 4C). The thickness of the insulating layer 11B is not particularly limited as long as the insulation between the anodes 11A can be maintained. A thinner one is preferable in terms of high resolution and high image quality in consideration of the droplet diameter (drop diameter) of the ink jet. Further, since the insulating layer 11B is dissolved in a process described later, a semi-cured state (a state in which it is not completely cured) is desirable.

また、これに分散する蛍光材料としては、後述するインク２１の発光材料よりも発光波長が長波長な材料が望ましい。   Further, as the fluorescent material dispersed therein, a material having a longer emission wavelength than the light emitting material of the ink 21 described later is desirable.

また、有機ＥＬ膜（表示用組成物）の成分及び炭化水素系溶媒から成るインク２１（インク溶液）を予め調製しておく。具体的には、以下の成分を、それぞれ対応する重量比で混合することにより調製する。   Ink 21 (ink solution) comprising components of the organic EL film (display composition) and a hydrocarbon solvent is prepared in advance. Specifically, the following components are prepared by mixing each in a corresponding weight ratio.

ホール輸送性ポリマーである、カルバゾール誘導体を主鎖あるいは側鎖に有する高分子化合物（ＰＶＫ）：１６重量比
電子輸送材料（ＢＮＤ）：４重量比
発光中心形成化合物：１重量比
炭化水素系溶媒（テトラリン）：インク２１において、ＰＶＫ、ＢＮＤ、及び発光中心形成化合物の合計濃度が２ｗｔ％となる重量比 Polymer compound (PVK) having a carbazole derivative in the main chain or side chain, which is a hole transporting polymer: 16 weight ratio Electron transport material (BND): 4 weight ratio Luminescent center forming compound: 1 weight ratio Hydrocarbon solvent ( Tetralin): In ink 21, the weight ratio at which the total concentration of PVK, BND, and luminescent center forming compound is 2 wt%

上記インク２１の粘度は、１×１０−３〜１×１０Ｐａ・ｓとすることができるが、このうち、５×１０−３〜１．５×１０−２Ｐａ・ｓの範囲にあることが、インクジェット法を用いてインク２１を吐出する際のドロップ径を制御する上で望ましい。また、上記インク２１の表面張力は、２０〜５０ｍＮ／ｍの範囲にあることが、インクジェット法によるインクの吐出の際の飛行曲がりを抑えることができるので好ましい。 The viscosity of the ink 21 can be set to 1 × 10 −3 to 1 × 10 Pa · s, and among these, it may be in the range of 5 × 10 −3 to 1.5 × 10 −2 Pa · s. This is desirable in controlling the drop diameter when the ink 21 is ejected using the inkjet method. In addition, the surface tension of the ink 21 is preferably in the range of 20 to 50 mN / m, since flight bending at the time of ink ejection by the ink jet method can be suppressed.

次いで、Ｓ１５では、調製したインク２１を、インクジェットヘッド３０（図５参照）を用い、絶縁層１１Ｂ上において、所望の電極パターンに形成された陽極１１Ａ（第一電極）に対向する位置の、画素を形成するべき１５カ所に、選択的に塗布する（図４（Ｄ）参照）。このインクジェットヘッド３０は、図５に示す様に、圧電素子３０Ａを備えた圧電素子方式のインクジェットヘッドであり、ドライバー３０Ｃからの信号に応じて、インクジェットヘッド本体３０Ｄに形成したオリフィス３０Ｂから、インク２１のドロップを吐出する。吐出の駆動周波数は１ｋＨｚとし、ドロップ１個の液適量を５０μｌとする。インク２１が塗布された場所では、塗布されたインク２１中に含まれる溶媒により、絶縁層１１Ｂが溶解し、インク２１は陽極１１Ａに達する（図４（Ｅ）参照）。   Next, in S15, the prepared ink 21 is applied to the pixel at a position facing the anode 11A (first electrode) formed in a desired electrode pattern on the insulating layer 11B using the inkjet head 30 (see FIG. 5). Is selectively applied to 15 places to be formed (see FIG. 4D). As shown in FIG. 5, the ink jet head 30 is a piezoelectric element type ink jet head provided with a piezoelectric element 30A. From the orifice 30B formed in the ink jet head main body 30D according to the signal from the driver 30C, the ink 21 Discharge the drop. The ejection drive frequency is 1 kHz, and the appropriate amount of liquid for one drop is 50 μl. In the place where the ink 21 is applied, the insulating layer 11B is dissolved by the solvent contained in the applied ink 21, and the ink 21 reaches the anode 11A (see FIG. 4E).

次いで、Ｓ１６では、５０〜６０℃で３０分間乾燥させることにより、インク２１中の溶媒を蒸発させ、インク２１の不揮発成分である表示用組成物を、陽極１１Ａと電気的接合を持った状態で固化させる。この固化させた表示用組成物を発光層１１Ｃとする。   Next, in S16, the solvent in the ink 21 is evaporated by drying at 50 to 60 ° C. for 30 minutes, and the display composition which is a non-volatile component of the ink 21 is brought into electrical contact with the anode 11A. Solidify. This solidified display composition is referred to as a light emitting layer 11C.

なお、固化した１５カ所の発光層１１Ｃは、それぞれが、１画素に対応する。この時、図４（Ｅ）に示すように、インク２１により溶解された絶縁層１１Ｂは、インク２１を滴下した部分の周辺部に偏析し、インク２１に含まれていた表示用組成物は、インク２１を滴下した部分の中央において固化する。この理由としては、インク２１に含まれる溶媒に対する溶解度において、表示用組成物の方が、絶縁層１１Ｂよりも大きいことが考えられる。   The solidified 15 light emitting layers 11C each correspond to one pixel. At this time, as shown in FIG. 4 (E), the insulating layer 11B dissolved by the ink 21 segregates in the periphery of the portion where the ink 21 is dropped, and the display composition contained in the ink 21 is The ink 21 is solidified at the center of the dropped portion. This may be because the display composition is larger in the solubility in the solvent contained in the ink 21 than the insulating layer 11B.

また、インク２１が塗布されなかった部分の絶縁層１１Ｂは、溶解されずに残り、発光層１１Ｃを隔てる隔壁１１Ｄとなる。   Further, the insulating layer 11B where the ink 21 is not applied remains undissolved and becomes a partition wall 11D separating the light emitting layer 11C.

次いで、Ｓ１７では、マスク真空蒸着により、所定のパターンに従って、ＬｉＦ（フッ化リチウム）／Ａｌを形成し、これを陰極１１Ｅとする（図４（Ｆ）参照）。この時、Ａｌ層と、ＬｉＦ層の厚みは、それぞれ、例示として１０００Å、１０Åとし、連続的に積層する。Ｓ１７において形成された陰極１１Ｅの下面（図４における下面）は、発光層１１Ｃと隔壁１１Ｄの蛍光材料とが発する光を反射する光反射面１１１として形成される。なお、ＬｉＦ／Ａｌの代わりに、Ａｌ、ＬｉＦ、Ｍｇ／Ａｇ、Ｃａ／Ａｌ、及びＢａ／Ａｌのいずれかで陰極１１Ｅを形成してもよい。   Next, in S17, LiF (lithium fluoride) / Al is formed in accordance with a predetermined pattern by mask vacuum deposition, and this is used as the cathode 11E (see FIG. 4F). At this time, the thicknesses of the Al layer and the LiF layer are, for example, 1000 mm and 10 mm, respectively, and are laminated continuously. The lower surface (the lower surface in FIG. 4) of the cathode 11E formed in S17 is formed as a light reflecting surface 111 that reflects light emitted from the light emitting layer 11C and the fluorescent material of the partition 11D. The cathode 11E may be formed of any one of Al, LiF, Mg / Ag, Ca / Al, and Ba / Al instead of LiF / Al.

上記のようにして有機ＥＬ素子１１をガラス基板１０の中心部に形成するとともに、ガラス基板１０の周辺部に、水平駆動回路１３及び垂直駆動回路１４を形成する。さらには、封止層１６により、有機ＥＬ素子１１、水平駆動回路１３及び垂直駆動回路１４を覆うことにより、有機ＥＬディスプレイ１を完成する。   As described above, the organic EL element 11 is formed at the center of the glass substrate 10, and the horizontal drive circuit 13 and the vertical drive circuit 14 are formed at the periphery of the glass substrate 10. Furthermore, the organic EL display 1 is completed by covering the organic EL element 11, the horizontal drive circuit 13, and the vertical drive circuit 14 with the sealing layer 16.

この封止層１６は、ガラス板から成り、その下面（図１における下面）には、有機ＥＬ素子１１との間に、０．３〜０．５ｍｍの隙間が生じるように、乾燥剤が取り付けられている。封止層１６を取り付ける際には、その隙間に、窒素ガスを封入する。   The sealing layer 16 is made of a glass plate, and a desiccant is attached to the lower surface (the lower surface in FIG. 1) so that a gap of 0.3 to 0.5 mm is generated between the sealing layer 16 and the organic EL element 11. It has been. When the sealing layer 16 is attached, nitrogen gas is sealed in the gap.

以上、本実施形態の製造方法によれば、表示用組成物及び溶媒を含むインク２１を、画素を形成すべき場所に塗布することにより、発光層１１Ｃの形成と、発光層１１Ｃを隔てる隔壁１１Ｄの形成とを、同時に行うことができる。つまり、インク２１を塗布した部分においては、インク２１に含まれる溶媒が絶縁層１１Ｂを溶解し、発光層１１Ｃが形成され、インク２１が塗布されない部分では、絶縁層１１Ｂが残存し、画素間を隔てる隔壁１１Ｄとなる。そのため、従来の有機ＥＬ素子の製造方法のように、有機ＥＬ膜間の隔壁を形成するために、露光、エッチング等の独立した工程を行う必要がない。よって、製造工程を短縮することができ、製造コストを低くすることができる。   As described above, according to the manufacturing method of this embodiment, the ink 21 containing the display composition and the solvent is applied to the place where the pixel is to be formed, thereby forming the light emitting layer 11C and the partition wall 11D separating the light emitting layer 11C. Can be formed simultaneously. That is, in the portion where the ink 21 is applied, the solvent contained in the ink 21 dissolves the insulating layer 11B, and the light emitting layer 11C is formed. In the portion where the ink 21 is not applied, the insulating layer 11B remains, and between the pixels. A partition wall 11D is formed. Therefore, unlike the conventional method of manufacturing an organic EL element, it is not necessary to perform independent processes such as exposure and etching in order to form a partition between organic EL films. Therefore, the manufacturing process can be shortened and the manufacturing cost can be reduced.

また、インクジェットヘッド３０として、圧電素子方式を用いることにより、バブルジェット（登録商標）方式のように、インク吐出のための熱源がないので、インク材料の劣化が起こらないこと、インク２１の溶媒の選択範囲が広いこと、吐出するインク２１の液滴量の制御がしやすいこと、駆動周波数を高くできること、耐久性が高いこと、という利点が得られる。   In addition, by using a piezoelectric element system as the inkjet head 30, there is no heat source for ink ejection unlike the bubble jet (registered trademark) system, so that the ink material does not deteriorate and the solvent of the ink 21 Advantages are that the selection range is wide, the amount of droplets of the ejected ink 21 can be easily controlled, the drive frequency can be increased, and the durability is high.

また、有機ＥＬディスプレイ１の発光層１１Ｃに電圧が印加されると、発光層１１Ｃが発光する。この有機ＥＬディスプレイ１では、発光層１１Ｃから下方向（図６における下方向）に光が出射されることで、利用者は、有機ＥＬディスプレイ１の表示を視認することが可能となる。図６に示すように、この有機ＥＬディスプレイ１において、発光層１１Ｃが発する光の一部である光７１は、下方向に向けて出射されている。発光層１１Ｃから光反射面１１１の方向に発せられた光７２は、光反射面１１１で反射されて、下方向に向けて出射される。また、発光層１１Ｃから隔壁１１Ｄの方向に発せられた光７３は、隔壁１１Ｄに含有された蛍光材料を励起する。これによって、隔壁１１Ｄの蛍光材料が発する光の一部である光７４は、下方向に向けて出射される。また、蛍光材料が光反射面１１１の方向に向けて出射した光７５は、光反射面１１１で反射されて、下方向に向けて出射される。このように、下方向に出射される光の量が多くなるため、有機ＥＬディスプレイ１の輝度を大きくすることができる。   Further, when a voltage is applied to the light emitting layer 11C of the organic EL display 1, the light emitting layer 11C emits light. In the organic EL display 1, light is emitted downward (downward in FIG. 6) from the light emitting layer 11C, so that the user can visually recognize the display on the organic EL display 1. As shown in FIG. 6, in the organic EL display 1, light 71, which is a part of light emitted from the light emitting layer 11C, is emitted downward. The light 72 emitted from the light emitting layer 11C in the direction of the light reflecting surface 111 is reflected by the light reflecting surface 111 and emitted downward. The light 73 emitted from the light emitting layer 11C in the direction of the partition wall 11D excites the fluorescent material contained in the partition wall 11D. Thereby, the light 74 which is a part of the light emitted from the fluorescent material of the partition wall 11D is emitted downward. In addition, the light 75 emitted from the fluorescent material toward the light reflecting surface 111 is reflected by the light reflecting surface 111 and emitted downward. Thus, since the amount of light emitted downward increases, the luminance of the organic EL display 1 can be increased.

また、本実施形態では、隔壁１１Ｄを形成する際に、マスク、露光、エッチング等の工程が行われない。このため、マスク、露光、エッチング等の工程によって隔壁１１Ｄを形成する場合に比べて、隔壁１１Ｄの上部が発光層１１Ｃの上端よりも上側に突出しにくい。言い換えると、マスク、露光、エッチング等の工程によって隔壁１１Ｄを形成する場合に比べて、隔壁１１Ｄと発光層１１Ｃとの上端によって形成される面がより平面に近くなる。このため、隔壁１１Ｄ及び発光層１１Ｃの上側に形成される光反射面１１１がより平面に近くなる。光反射面１１１が平面に近くなるので、光反射面１１１によって反射された光が、下方向に反射されやすくなる。このため、有機ＥＬディスプレイ１の輝度が大きくなる。   In the present embodiment, when forming the partition 11D, processes such as masking, exposure, and etching are not performed. For this reason, compared with the case where the partition wall 11D is formed by a process such as masking, exposure, etching, or the like, the upper part of the partition wall 11D hardly protrudes above the upper end of the light emitting layer 11C. In other words, the surface formed by the upper ends of the barrier rib 11D and the light emitting layer 11C is closer to a flat surface than when the barrier rib 11D is formed by a process such as masking, exposure, etching, or the like. For this reason, the light reflecting surface 111 formed on the upper side of the partition wall 11D and the light emitting layer 11C becomes closer to a flat surface. Since the light reflecting surface 111 is close to a flat surface, the light reflected by the light reflecting surface 111 is easily reflected downward. For this reason, the brightness of the organic EL display 1 is increased.

次に、本実施形態によって作成された、一例の有機ＥＬディスプレイ１の電流密度−輝度特性の測定結果を図７に示す。図７では、隔壁１１Ｄが蛍光材料を含有する場合の有機ＥＬディスプレイ１（図中の「蛍光材料有り」で示すグラフ）と、隔壁１１Ｄが蛍光材料を含有しない場合の有機ＥＬディスプレイ（図中の「蛍光材料無し」で示すグラフ）とで、電流密度−輝度特性を比較している。図７において、隔壁１１Ｄが蛍光材料を含有する場合の有機ＥＬディスプレイ１が、本実施形態の有機ＥＬディスプレイ１の一例である。   Next, FIG. 7 shows measurement results of current density-luminance characteristics of an example organic EL display 1 created according to the present embodiment. In FIG. 7, the organic EL display 1 in the case where the partition 11D contains a fluorescent material (a graph indicated by “with fluorescent material” in the drawing) and the organic EL display in the case where the partition 11D does not contain a fluorescent material (in the drawing) The graph of “no fluorescent material”) compares the current density-luminance characteristics. In FIG. 7, the organic EL display 1 in the case where the partition 11D contains a fluorescent material is an example of the organic EL display 1 of the present embodiment.

まず、図７に記載されている２種類の有機ＥＬディスプレイの材料について説明する。隔壁１１Ｄが蛍光材料を含有する場合の有機ＥＬディスプレイ１においては、シクロオレフィンと赤色蛍光材料であるナイルレッドとを１：０．４の割合で混合し、その混合物の濃度が３．５ｗｔ％となるように、テトラリンに溶解した混合溶液を作成した。そして、この混合溶液を用いて、絶縁層１１Ｂを形成した（図３のＳ１４参照）。また、発光層１１Ｃを形成するための発光中心形成化合物には、緑色発光材料であるクマリンを用いた。そして、このクマリンの濃度が、０．７ｗｔ％となるように、テトラリンに溶解し、インク２１とした。次に、このインク２１を、絶縁層１１Ｂ上に選択的に塗布した（図３のＳ１５参照）。次に、５０〜６０℃で３０分間乾燥させることによって、発光層１１Ｃを形成した（図３のＳ１６参照）。このとき、インク２１が塗布されなかった部分の絶縁層１１Ｂは、溶解されずに残り、発光層１１Ｃを隔てる隔壁１１Ｄとなる。つまり、この隔壁１１Ｄには、赤色蛍光材料であるナイルレッドが含有されている。   First, the materials of the two types of organic EL displays shown in FIG. 7 will be described. In the organic EL display 1 in which the partition 11D contains a fluorescent material, cycloolefin and Nile red, which is a red fluorescent material, are mixed at a ratio of 1: 0.4, and the concentration of the mixture is 3.5 wt%. Thus, a mixed solution dissolved in tetralin was prepared. And the insulating layer 11B was formed using this mixed solution (refer S14 of FIG. 3). Moreover, the coumarin which is a green luminescent material was used for the light emission center formation compound for forming the light emitting layer 11C. Then, this coumarin was dissolved in tetralin so that the concentration of the coumarin was 0.7 wt%, and ink 21 was obtained. Next, the ink 21 was selectively applied on the insulating layer 11B (see S15 in FIG. 3). Next, the light emitting layer 11C was formed by drying at 50-60 degreeC for 30 minutes (refer S16 of FIG. 3). At this time, the portion of the insulating layer 11B where the ink 21 has not been applied remains undissolved and becomes a partition wall 11D separating the light emitting layer 11C. That is, this partition 11D contains Nile red which is a red fluorescent material.

隔壁１１Ｄが蛍光材料を含有しない場合の有機ＥＬディスプレイにおいては、シクロオレフィンの濃度が３．５ｗｔ％となるように、テトラリンに溶解した混合溶液を作成した。そして、この混合溶液を用いて、絶縁層１１Ｂを形成した（図３のＳ１４参照）。また、インク２１には、隔壁１１Ｄが蛍光材料を含有する場合の有機ＥＬディスプレイ１と同様のインク２１を使用し、発光層１１Ｃ及び隔壁１１Ｄを形成した（図３のＳ１５〜Ｓ１６参照）。つまり、この隔壁１１Ｄには、蛍光材料が含有されていない。   In the organic EL display in the case where the partition wall 11D does not contain a fluorescent material, a mixed solution dissolved in tetralin was prepared so that the concentration of cycloolefin was 3.5 wt%. And the insulating layer 11B was formed using this mixed solution (refer S14 of FIG. 3). Further, as the ink 21, the same ink 21 as that of the organic EL display 1 when the partition wall 11D contains a fluorescent material was used to form the light emitting layer 11C and the partition wall 11D (see S15 to S16 in FIG. 3). That is, the partition wall 11D does not contain a fluorescent material.

次に、上記の２種類の有機ＥＬディスプレイの電流密度−輝度特性の測定結果について説明する。図７に示すように、隔壁１１Ｄが蛍光材料を含有する有機ＥＬディスプレイ１（つまり、本実施形態の有機ＥＬディスプレイ１）は、隔壁１１Ｄが蛍光材料を含有しない有機ＥＬディスプレイよりも発光輝度が大きくなっている。例えば、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２の場合で比較する。この場合、隔壁１１Ｄが蛍光材料を含有しない有機ＥＬディスプレイにおける発光輝度は、２２０ｃｄ／ｍ２である。一方、本実施形態の有機ＥＬディスプレイ１における発光輝度は、９７３ｃｄ／ｍ２である。つまり、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２の場合には、本実施形態の有機ＥＬディスプレイ１は、蛍光材料を含有しない有機ＥＬディスプレイに比べて、約４．４２倍の発光輝度である。このように、本実施形態の有機ＥＬディスプレイ１は、高い発光輝度で、像を表示することができる。 Next, measurement results of current density-luminance characteristics of the two types of organic EL displays will be described. As shown in FIG. 7, the organic EL display 1 in which the partition 11D contains a fluorescent material (that is, the organic EL display 1 of the present embodiment) has higher emission luminance than the organic EL display in which the partition 11D does not contain a fluorescent material. It has become. For example, the comparison is made when the current density is 10 mA / cm 2 . In this case, the light emission luminance in the organic EL display in which the partition 11D does not contain a fluorescent material is 220 cd / m 2 . On the other hand, the light emission luminance in the organic EL display 1 of the present embodiment is 973 cd / m 2 . That is, when the current density is 10 mA / cm 2 , the organic EL display 1 of the present embodiment has a light emission luminance about 4.42 times that of the organic EL display that does not contain a fluorescent material. Thus, the organic EL display 1 of the present embodiment can display an image with high emission luminance.

以上説明したように、本実施形態では、輝度の大きい有機ＥＬディスプレイ１を製造することができる。このため、仮に、隔壁１１Ｄに蛍光材料を含有しない場合と同じ発光輝度で像を表示した場合には、隔壁１１Ｄに蛍光材料を含有しない場合と比べて消費電力を小さくすることができるとともに、有機ＥＬディスプレイ１の使用時間の寿命を延ばすことができる。   As described above, in the present embodiment, the organic EL display 1 having a high luminance can be manufactured. For this reason, if an image is displayed with the same emission luminance as that in the case where the partition 11D does not contain a fluorescent material, the power consumption can be reduced as compared with the case where the partition 11D does not contain a fluorescent material. The service life of the EL display 1 can be extended.

また、陰極１１Ｅの面が光反射面１１１となっているため、陰極１１Ｅと光反射面を有する部材とを別々に形成する場合に比べて、製造工程が少なくなる。また、光反射面を構成するための材料を別途使用する必要がない。このため、低コストで有機ＥＬディスプレイ１を製造することができる。つまり、本実施形態における有機ＥＬディスプレイ１は、低コストで製造でき、且つ輝度を大きくすることができる。   Further, since the surface of the cathode 11E is the light reflecting surface 111, the number of manufacturing steps is reduced as compared with the case where the cathode 11E and the member having the light reflecting surface are formed separately. Further, it is not necessary to separately use a material for constituting the light reflecting surface. For this reason, the organic EL display 1 can be manufactured at low cost. That is, the organic EL display 1 in the present embodiment can be manufactured at a low cost and the luminance can be increased.

また、発光層１１Ｃが発光する色と、隔壁１１Ｄの蛍光材料が蛍光する色とを異なる色にすることで、有機ＥＬディスプレイ１の色を調整することができる。例えば、発光層１１Ｃの材料にＴＰＢなどの青色に発光する材料を使用し、蛍光材料にＤＣＭなどのオレンジ色に蛍光する材料を使用したとする。この場合、発光層１１Ｃが発する青色の光と、隔壁１１Ｄの蛍光材料が発するオレンジ色の光とが合成され、有機ＥＬディスプレイ１は白色に発光する。これによって、青色の発光層とオレンジ色の発光層との２つの発光層を作成して白色に発光させるようにする必要がない。このため、２つの発光層を作成して色を調整する場合に対して、本実施形態では、一つの発光層１１Ｃを作成するのみで色を調整することができるため、製造工程が少なくなり、低コストで有機ＥＬディスプレイ１を製造することができる。   Moreover, the color of the organic EL display 1 can be adjusted by making the color which the light emitting layer 11C emits and the color which the fluorescent material of the partition 11D fluoresces differ. For example, it is assumed that a material that emits blue light such as TPB is used as the material of the light emitting layer 11C, and an orange material such as DCM is used as the fluorescent material. In this case, the blue light emitted from the light emitting layer 11C and the orange light emitted from the fluorescent material of the partition 11D are combined, and the organic EL display 1 emits white light. This eliminates the need to create two light-emitting layers, a blue light-emitting layer and an orange light-emitting layer, to emit white light. Therefore, in contrast to the case where the color is adjusted by creating two light emitting layers, in the present embodiment, the color can be adjusted only by creating one light emitting layer 11C. The organic EL display 1 can be manufactured at low cost.

ここで使用する蛍光材料は、発光材料よりも発光波長が長波長な材料が望ましく、例えば、クマリン、ルブレン、ナイルレッド、ＤＣＭ（４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−ジメチルアミノスチリル−４−ピラン）、ＤＣＪＴＢ（４−ジシアノメチレン−６−シーピージュロリジノスチリル−２−ターシャルブチル−４Ｈ−ピラン）が使用できる。   The fluorescent material used here is preferably a material having an emission wavelength longer than that of the light emitting material. For example, coumarin, rubrene, Nile red, DCM (4-dicyanomethylene-2-methyl-6-dimethylaminostyryl-4- Pyran), DCJTB (4-dicyanomethylene-6-cypidurolidinostyryl-2-tertiarybutyl-4H-pyran) can be used.

（第二実施形態）
続いて、本発明に係る表示装置の製造方法の第二実施形態について、図面を参照して説明する。ここでは、表示装置として、第一実施形態と同様に有機ＥＬディスプレイを例に挙げて説明する。なお、第一実施形態では、最初に陽極１１Ａを形成して（図３のＳ１１〜Ｓ１３）、最後に陰極１１Ｅを形成していたが（図３のＳ１７）、本実施形態では、最初に陰極を形成して、最後に陽極を形成する製造方法である。また、第一実施形態における有機ＥＬディスプレイ１の光の出射方向は、下方向であったが、第二実施形態における有機ＥＬディスプレイ１の光の出射方向は、上方向である。以下、第一実施形態と異なる部分を中心に説明する。 (Second embodiment)
Next, a second embodiment of the display device manufacturing method according to the present invention will be described with reference to the drawings. Here, an organic EL display will be described as an example of the display device as in the first embodiment. In the first embodiment, the anode 11A is formed first (S11 to S13 in FIG. 3), and the cathode 11E is finally formed (S17 in FIG. 3). And finally forming the anode. Moreover, although the light emission direction of the organic EL display 1 in the first embodiment is a downward direction, the light emission direction of the organic EL display 1 in the second embodiment is an upward direction. Hereinafter, a description will be given centering on differences from the first embodiment.

まず、有機ＥＬディスプレイ２の全体構成を図８を用いて説明する。なお、第一実施形態と同じ機能を有するものには同じ符号を付している。有機ＥＬディスプレイ２は、ガラス基板１０と、そのガラス基板１０上に配置された有機ＥＬ素子５１（表示素子）、電流駆動ＴＦＴ１２、水平駆動回路１３、垂直駆動回路１４、及びガラス板である封止層１６を備えている。なお、電流駆動ＴＦＴ１２、水平駆動回路１３、垂直駆動回路１４は、陽極５１Ｅが形成される層と同じ層に形成されるが、図示を省略している。   First, the overall configuration of the organic EL display 2 will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to what has the same function as 1st embodiment. The organic EL display 2 includes a glass substrate 10, an organic EL element 51 (display element) disposed on the glass substrate 10, a current driving TFT 12, a horizontal driving circuit 13, a vertical driving circuit 14, and a glass plate. Layer 16 is provided. The current driving TFT 12, the horizontal driving circuit 13, and the vertical driving circuit 14 are formed in the same layer as the layer in which the anode 51E is formed, but are not illustrated.

上記有機ＥＬ素子５１は、ガラス基板１０の中央部に形成されており、碁盤の目状に、１５の画素に分割されている。それぞれの画素は、発光層１１Ｃ（表示用組成物）と、その発光層１１Ｃを上下から挟む陰極５１ＡとＩＴＯで形成されている透明な陽極５１Ｅとを備えている。陰極５１Ａは、１５の画素に共通して使用される１個の電極である。   The organic EL element 51 is formed at the center of the glass substrate 10 and is divided into 15 pixels in a grid pattern. Each pixel includes a light emitting layer 11C (a display composition), a cathode 51A sandwiching the light emitting layer 11C from above and below, and a transparent anode 51E formed of ITO. The cathode 51A is one electrode used in common for 15 pixels.

有機ＥＬ素子５１について、陽極５１Ｅと陰極５１Ａとの間に直流電圧をかけると、陽極５１Ｅ（第四電極）から正孔が発光層１１Ｃに供給され、陰極５１Ａ（第三電極）から電子が発光層１１Ｃに供給される。そして、陽極５１Ｅから供給された正孔と、陰極５１Ａから供給された電子とが発光層１１Ｃで再結合する。この際、発光層１１Ｃは発光し、封止層１６を透過して、上方（図８における上方）に光を照射する。一方、陽極５１Ｅと陰極５１Ａとの間の電圧がＯＦＦの時には消光する。なお、電流駆動ＴＦＴ１２、水平駆動回路１３、垂直駆動回路１４は第一実施形態と同じなので、説明を省略する。   In the organic EL element 51, when a DC voltage is applied between the anode 51E and the cathode 51A, holes are supplied from the anode 51E (fourth electrode) to the light emitting layer 11C, and electrons are emitted from the cathode 51A (third electrode). Supplied to layer 11C. Then, the holes supplied from the anode 51E and the electrons supplied from the cathode 51A are recombined in the light emitting layer 11C. At this time, the light emitting layer 11C emits light, passes through the sealing layer 16, and irradiates light upward (upward in FIG. 8). On the other hand, the light is extinguished when the voltage between the anode 51E and the cathode 51A is OFF. Since the current drive TFT 12, the horizontal drive circuit 13, and the vertical drive circuit 14 are the same as those in the first embodiment, description thereof is omitted.

次に、有機ＥＬディスプレイ２の製造方法を図９及び図１０を用いて説明する。なお、図９は、有機ＥＬディスプレイ２のうち、有機ＥＬ素子５１の部分のみの製造工程を示したフローチャートであり、図１０は、図９の各工程における有機ＥＬ素子５１を示した外観図である。したがって、ここでは、特に、要部である有機ＥＬ素子５１の製造方法を説明する。   Next, a method for manufacturing the organic EL display 2 will be described with reference to FIGS. FIG. 9 is a flowchart showing a manufacturing process of only the organic EL element 51 in the organic EL display 2, and FIG. 10 is an external view showing the organic EL element 51 in each process of FIG. is there. Therefore, in particular, a method for manufacturing the organic EL element 51 as a main part will be described.

まず、Ｓ２１では、ガラス基板１０上に、マスク真空蒸着により、所定のパターンに従って、Ａｌ／ＬｉＦ（フッ化リチウム）の層を形成し、これを陰極５１Ａ（第三電極）とする（図１０（Ａ）参照）。この時、Ａｌ層と、ＬｉＦ層の厚みは、それぞれ、例示として１０００Å、１０Åとし、連続的に積層する。Ｓ２１において形成された陰極５１Ａの上面（図１０における上面）は、後述する工程において形成される隔壁１１Ｄの蛍光材料と発光層１１Ｃとが発する光を反射する光反射面５１１として形成される。なお、Ａｌ／ＬｉＦの代わりに、Ａｌ、Ａｌ／Ｃａ、Ａｇ／Ｍｇ、及びＡｌ／Ｂａのいずれかで陰極５１Ａを形成してもよい。   First, in S21, a layer of Al / LiF (lithium fluoride) is formed on the glass substrate 10 according to a predetermined pattern by mask vacuum deposition, and this is used as the cathode 51A (third electrode) (FIG. 10 ( A)). At this time, the thicknesses of the Al layer and the LiF layer are, for example, 1000 mm and 10 mm, respectively, and are laminated continuously. The upper surface (upper surface in FIG. 10) of the cathode 51A formed in S21 is formed as a light reflecting surface 511 that reflects light emitted from the fluorescent material of the partition wall 11D and the light emitting layer 11C formed in a process described later. The cathode 51A may be formed of any one of Al, Al / Ca, Ag / Mg, and Al / Ba instead of Al / LiF.

次いで、Ｓ２２では、陰極５１Ａ及びガラス基板１０上の、有機ＥＬ素子５１を形成する部分全体に、スピンコート法、ディップ法、カーテンコート法、バーコート法、印刷法もしくはインクジェット法を用いて、シクロオレフィンとこれに蛍光材料を分散した絶縁層１１Ｂを形成する（図１０（Ｂ）参照）。絶縁層１１Ｂの厚みは、薄い方が、インクジェットの液滴径（ドロップ径）を考えると、高分解能、高画質の点で好ましい。また、絶縁層１１Ｂは、後述する工程において溶解させるので、半キュアー状態（完全に硬化していない状態）が望ましい。   Next, in S22, the entire portion where the organic EL element 51 is formed on the cathode 51A and the glass substrate 10 is subjected to a cyclocoat method using a spin coating method, a dip method, a curtain coating method, a bar coating method, a printing method, or an inkjet method. An insulating layer 11B in which an olefin and a fluorescent material are dispersed is formed (see FIG. 10B). A smaller thickness of the insulating layer 11B is preferable in terms of high resolution and high image quality in consideration of the droplet diameter (drop diameter) of the ink jet. Further, since the insulating layer 11B is dissolved in a process described later, a semi-cured state (a state in which it is not completely cured) is desirable.

また、有機ＥＬ膜（表示用組成物）の成分及び炭化水素系溶媒から成る第一実施形態と同じインク２１（インク溶液）を予め調製しておく。   Also, the same ink 21 (ink solution) as that of the first embodiment, which is composed of the components of the organic EL film (display composition) and the hydrocarbon solvent, is prepared in advance.

次いで、Ｓ２３では、調製したインク２１を、インクジェットヘッド３０を用い、絶縁層１１Ｂ上において、画素を形成するべき１５カ所に、選択的に塗布する（図１０（Ｃ）参照）。このインクジェットヘッド３０は、図５に示す様に、圧電素子３０Ａを備えた圧電素子方式のインクジェットヘッドであり、ドライバー３０Ｃからの信号に応じて、インクジェットヘッド本体３０Ｄに形成したオリフィス３０Ｂから、インク２１のドロップを吐出する。吐出の駆動周波数は１ｋＨｚとし、ドロップ１個の液適量を５０μｌとする。インク２１が塗布された場所では、塗布されたインク中に含まれる溶媒により、絶縁層１１Ｂが溶解し、インク２１は陰極５１Ａに達する（図１０（Ｄ）参照）。   Next, in S23, the prepared ink 21 is selectively applied to 15 locations where pixels are to be formed on the insulating layer 11B using the inkjet head 30 (see FIG. 10C). As shown in FIG. 5, the ink jet head 30 is a piezoelectric element type ink jet head provided with a piezoelectric element 30A. From the orifice 30B formed in the ink jet head main body 30D according to the signal from the driver 30C, the ink 21 Discharge the drop. The ejection drive frequency is 1 kHz, and the appropriate amount of liquid for one drop is 50 μl. In the place where the ink 21 is applied, the insulating layer 11B is dissolved by the solvent contained in the applied ink, and the ink 21 reaches the cathode 51A (see FIG. 10D).

次いで、Ｓ２４では、５０〜６０℃で３０分間乾燥させることにより、インク２１中の溶媒を蒸発させ、インク２１の不揮発成分である表示用組成物を、陰極５１Ａと電気的接合を持った状態で固化させる。この固化させた表示用組成物を発光層１１Ｃとする。   Next, in S24, the solvent in the ink 21 is evaporated by drying at 50 to 60 ° C. for 30 minutes, and the display composition, which is a non-volatile component of the ink 21, is brought into electrical contact with the cathode 51A. Solidify. This solidified display composition is referred to as a light emitting layer 11C.

なお、固化した１５カ所の発光層１１Ｃは、それぞれが、１画素に対応する。この時、図１０（Ｄ）に示すように、インク２１により溶解された絶縁層１１Ｂは、インク２１を滴下した部分の周辺部に偏析し、インク２１に含まれていた表示用組成物は、インク２１を滴下した部分の中央において固化する。この理由としては、インク２１に含まれる溶媒に対する溶解度において、表示用組成物の方が、絶縁層１１Ｂよりも大きいことが考えられる。また、インク２１が塗布されなかった部分の絶縁層１１Ｂは、溶解されずに残り、発光層１１Ｃを隔てる隔壁１１Ｄとなる。   The solidified 15 light emitting layers 11C each correspond to one pixel. At this time, as shown in FIG. 10D, the insulating layer 11B dissolved by the ink 21 segregates in the periphery of the portion where the ink 21 is dropped, and the display composition contained in the ink 21 is The ink 21 is solidified at the center of the dropped portion. This may be because the display composition is larger in the solubility in the solvent contained in the ink 21 than the insulating layer 11B. Further, the insulating layer 11B where the ink 21 is not applied remains undissolved and becomes a partition wall 11D separating the light emitting layer 11C.

次いで、Ｓ２５では、マスク真空蒸着により、所定のパターンに従って発光層１１Ｃと接触するように、ＩＴＯを１５０ｎｍの厚みで蒸着し、陽極５１Ｅ（第四電極）を形成する（図１０（Ｃ）参照）。この陽極５１Ｅの表面抵抗は５００〜６００μΩ／ｃｍであり、光透過率は８１％であった。   Next, in S25, ITO is vapor-deposited with a thickness of 150 nm so as to come into contact with the light-emitting layer 11C according to a predetermined pattern by mask vacuum vapor deposition to form an anode 51E (fourth electrode) (see FIG. 10C). . The surface resistance of the anode 51E was 500 to 600 μΩ / cm, and the light transmittance was 81%.

上記のようにして有機ＥＬ素子５１をガラス基板１０の中心部に形成するとともに、絶縁層１１Ｂの上側における陽極５１Ｅが形成されていない部分に、電流駆動ＴＦＴ１２、水平駆動回路１３、及び垂直駆動回路１４を形成する。さらには、封止層１６により、有機ＥＬ素子５１、電流駆動ＴＦＴ１２、水平駆動回路１３、及び垂直駆動回路１４を覆うことにより、有機ＥＬディスプレイ２が完成する。   As described above, the organic EL element 51 is formed at the center of the glass substrate 10, and the current driving TFT 12, the horizontal driving circuit 13, and the vertical driving circuit are formed on the portion above the insulating layer 11B where the anode 51E is not formed. 14 is formed. Further, the organic EL display 2 is completed by covering the organic EL element 51, the current driving TFT 12, the horizontal driving circuit 13, and the vertical driving circuit 14 with the sealing layer 16.

この封止層１６は、ガラス板から成り、その下面には、有機ＥＬ素子５１との間に、０．３〜０．５ｍｍの隙間が生じるように、乾燥剤が取り付けられている。封止層１６を取り付ける際には、その隙間に、窒素ガスを封入する。   The sealing layer 16 is made of a glass plate, and a desiccant is attached to the lower surface thereof so that a gap of 0.3 to 0.5 mm is generated between the sealing layer 16 and the organic EL element 51. When the sealing layer 16 is attached, nitrogen gas is sealed in the gap.

以上、本実施形態の表示装置の製造方法によれば、第一実施形態の製造方法と同様に、表示用組成物及び溶媒を含むインク２１を、画素を形成すべき場所に塗布することにより、発光層１１Ｃの形成と、発光層１１Ｃを隔てる隔壁１１Ｄの形成とを、同時に行うことができる。そのため、従来の有機ＥＬ素子の製造方法のように、有機ＥＬ膜間の隔壁を形成するために、露光、エッチング等の独立した工程を行う必要がない。よって、製造工程を短縮することができ、製造コストを低くすることができる。   As described above, according to the manufacturing method of the display device of the present embodiment, as in the manufacturing method of the first embodiment, by applying the ink 21 containing the display composition and the solvent to the place where the pixel is to be formed, The formation of the light emitting layer 11C and the formation of the partition wall 11D separating the light emitting layer 11C can be performed simultaneously. Therefore, unlike the conventional method of manufacturing an organic EL element, it is not necessary to perform independent processes such as exposure and etching in order to form a partition between organic EL films. Therefore, the manufacturing process can be shortened and the manufacturing cost can be reduced.

また、有機ＥＬディスプレイ２の発光層１１Ｃに電圧が印加されると、発光層１１Ｃが発光する。この有機ＥＬディスプレイ２では、発光層１１Ｃから上方向（図１１における上方向）に光が出射されることで、利用者は、有機ＥＬディスプレイ２の表示を視認することが可能となる。図１１に示すように、この有機ＥＬディスプレイ２において、発光層１１Ｃが発する光の一部である光８１は、上方向に向けて出射されている。発光層１１Ｃから光反射面５１１の方向に発せられた光８２は、光反射面５１１で反射されて、上方向に向けて出射される。また、発光層１１Ｃから隔壁１１Ｄの方向に発せられた光８３は、隔壁１１Ｄに含有された蛍光材料を励起する。これによって隔壁１１Ｄの蛍光材料が発する光の一部である光８４は、上方向に向けて出射される。また、蛍光材料が光反射面５１１の方向に向けて出射した光８５は、光反射面５１１で反射されて、上方向に向けて出射される。このように、上方向に出射される光の量が多くなるため、有機ＥＬディスプレイ２の輝度を大きくすることができる。   Further, when a voltage is applied to the light emitting layer 11C of the organic EL display 2, the light emitting layer 11C emits light. In the organic EL display 2, light is emitted upward from the light emitting layer 11C (upward in FIG. 11), so that the user can visually recognize the display on the organic EL display 2. As shown in FIG. 11, in this organic EL display 2, light 81 that is a part of light emitted from the light emitting layer 11C is emitted upward. The light 82 emitted from the light emitting layer 11C in the direction of the light reflecting surface 511 is reflected by the light reflecting surface 511 and emitted upward. Moreover, the light 83 emitted from the light emitting layer 11C in the direction of the partition wall 11D excites the fluorescent material contained in the partition wall 11D. Thereby, the light 84 which is a part of the light emitted from the fluorescent material of the partition wall 11D is emitted upward. Further, the light 85 emitted from the fluorescent material toward the light reflecting surface 511 is reflected by the light reflecting surface 511 and emitted upward. Thus, since the amount of light emitted upward increases, the luminance of the organic EL display 2 can be increased.

また、本実施形態では、光反射面５１１が平面に形成される。このため、光反射面５１１によって反射された光が、上方向に反射されやすい。よって、有機ＥＬディスプレイ１の輝度が大きくなる。   Moreover, in this embodiment, the light reflection surface 511 is formed in a plane. For this reason, the light reflected by the light reflecting surface 511 is easily reflected upward. Therefore, the brightness of the organic EL display 1 is increased.

以上説明したように、本実施形態では、輝度の大きい有機ＥＬディスプレイ２を製造することができる。このため、仮に、隔壁１１Ｄに蛍光材料を含有しない場合と同じ発光輝度で像を表示した場合には、隔壁１１Ｄに蛍光材料を含有しない場合と比べて消費電力を小さくすることができるとともに、有機ＥＬディスプレイ２の使用時間の寿命を延ばすことができる。   As described above, in the present embodiment, the organic EL display 2 having a high luminance can be manufactured. For this reason, if an image is displayed with the same emission luminance as that in the case where the partition 11D does not contain a fluorescent material, the power consumption can be reduced as compared with the case where the partition 11D does not contain a fluorescent material. The service life of the EL display 2 can be extended.

また、陰極５１Ａの面が光反射面５１１となっているため、陰極５１Ａと光反射面を有する部材とを別々に形成する場合に比べて、製造工程が少なくなる。また、光反射面を構成するための材料を別途使用する必要がない。このため、低コストで有機ＥＬディスプレイ２を製造することができる。つまり、本実施形態における有機ＥＬディスプレイ２は、低コストで製造でき、且つ輝度を大きくすることができる。   Further, since the surface of the cathode 51A is the light reflecting surface 511, the number of manufacturing steps is reduced as compared with the case where the cathode 51A and the member having the light reflecting surface are formed separately. Further, it is not necessary to separately use a material for constituting the light reflecting surface. For this reason, the organic EL display 2 can be manufactured at low cost. That is, the organic EL display 2 in the present embodiment can be manufactured at a low cost and the luminance can be increased.

また、発光層１１Ｃが発光する色と、隔壁１１Ｄの蛍光材料が蛍光する色とを異なる色にすることで、第一実施形態の場合と同様に、有機ＥＬディスプレイ２の色を調整することができる。また、２つの発光層を作成して色を調整する場合に対して、本実施形態では、一つの発光層１１Ｃを形成するのみで色を調整することができるため、製造工程が少なくなり、低コストで有機ＥＬディスプレイ２を製造することができる。   Moreover, the color of the organic EL display 2 can be adjusted similarly to the case of the first embodiment by making the color emitted from the light emitting layer 11C different from the color emitted by the fluorescent material of the partition wall 11D. it can. Further, in contrast to the case where the color is adjusted by creating two light emitting layers, in the present embodiment, the color can be adjusted only by forming one light emitting layer 11C. The organic EL display 2 can be manufactured at a low cost.

なお、本発明は本実施形態に限定されるものではなく、種々の変更が可能である。例えば、上記第一、第二実施形態における発光中心形成化合物としては、クマリンに限らない。発光中心形成化合物を変更することによって、発光中心形成化合物に応じた色の光を発することができる表示装置を製造することができる。発光中心形成化合物としては、例えば、ヘテロ芳香族化合物、スチルベン系化合物の蛍光、燐光物質の中から選ばれる１または２以上の物質を使用することができる。低分子材料では、例えば、ペリレン、ルブレン、ナイルレッド、ＤＣＭ（４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−ジメチルアミノスチリル−４−ピラン）、ＤＣＪＴＢ（４−ジシアノメチレン−６−シーピージュロリジノスチリル−２−ターシャルブチル−４Ｈ−ピラン）、ＴＰＢ（テトラフェニルブタジエン）、スクアリリウム、アルミニウム錯体（例えばＡｌＱ３）等を用いることができる。また、燐光材料では、例えば、緑色Ｉｒ（ＰＰｙ）３、青色ＦＩｒｐｉｃ、赤色ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）を用いることができる。また、塗布化できる高分子材料では、例えば、インク化できる高分子系発光材料を用いることができる。具体的には、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリチオフェン誘導体等を用いることができる。   In addition, this invention is not limited to this embodiment, A various change is possible. For example, the emission center forming compound in the first and second embodiments is not limited to coumarin. By changing the emission center forming compound, a display device capable of emitting light of a color corresponding to the emission center forming compound can be manufactured. As the luminescent center-forming compound, for example, one or more substances selected from heteroaromatic compounds, fluorescence of stilbene compounds, and phosphorescent substances can be used. Examples of the low molecular weight material include perylene, rubrene, Nile red, DCM (4-dicyanomethylene-2-methyl-6-dimethylaminostyryl-4-pyran), and DCJTB (4-dicyanomethylene-6-cypidurolidinostyryl). -2-tertiarybutyl-4H-pyran), TPB (tetraphenylbutadiene), squarylium, aluminum complex (for example, AlQ3) and the like can be used. As the phosphorescent material, for example, green Ir (PPy) 3, blue FIrpic, and red btp2Ir (acac) can be used. In addition, as the polymer material that can be applied, for example, a polymer light emitting material that can be converted into an ink can be used. Specifically, polyparaphenylene vinylene derivatives, polyfluorene derivatives, polythiophene derivatives, and the like can be used.

また、インクを構成するポリマーとしては、カルバゾール誘導体を主鎖あるいは側鎖に有する高分子（ＰＶＫ）の代わりに、トリフェニルアミン誘導体を主鎖あるいは側鎖に有する高分子（例えばＰＴＰＤＥＳ（含テトラフェニルジアミン−ポリ（アリレンエステルスルフォン））等のホール輸送性ポリマーや、オキサジアゾール誘導体を主鎖あるいは側鎖に有する高分子（例えばＰＶＭＯＸＤ（ポリビニルメチルオキサジアゾール））等の電子輸送性ポリマーを用いることができる。   In addition, as a polymer constituting the ink, instead of a polymer (PVK) having a carbazole derivative in the main chain or side chain, a polymer having a triphenylamine derivative in the main chain or side chain (for example, PTPDES (containing tetraphenyl) Hole transporting polymers such as diamine-poly (arylene ester sulfone)) and electron transporting polymers such as polymers having an oxadiazole derivative in the main chain or side chain (for example, PVMOXD (polyvinylmethyloxadiazole)) Can be used.

また、電子輸送材料としては、ＢＮＤに限られない。例えば、オキサジアゾール系、オキサゾール系、トリフェニルメタン系、ヒドラゾリン系、アリールアミン系、ヒドラゾン系、スチルベン系、シロール系の中から選ばれる１又は２以上のホール輸送材料、又は、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、アルミニウム錯体、シロール系の中から選ばれる１又は２以上の電子輸送材料を用いることができる。具体的には、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ'−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ'−ジフェニルベンジジン）、α−ＮＰＤ（Ｎ，Ｎ'−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ'ジフェニルベンジジン）、ＴＡＰＣ（１，１−ビス（ジ４トリルアミノフェニル）−シクロヘキサン）、ＰＰＤ（Ｎ，Ｎ'−ジ（９−フェナントリル）−Ｎ，Ｎ'−ジフェニルベンジジン）、ＴＲＰ、ＮＰＢ（α−ＮＰＤの２量体）、ｔＢｕ−ＰＢＤ（２−（４−ビフェニル）−５−（パラ−ターシャル−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール）、ＴＡＺ（３−（４'−ターシャル−ブチルフェニル）−４−フェニル−５−（４''−ビフェニル）−１，２，４−トリアゾール）、ＡｌＱ３（トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（III））、Ｂｐｈｅｎ（バソフェナントロリン）、Ｐ−ＥｔＴＡＺ（３−（４'−ターシャル−ブチルフェニル）−４−（パラエチルフェニル）−５−（４''−ビフェニル）−１，２，４トリアゾール）等を用いることができる。   Further, the electron transport material is not limited to BND. For example, one or more hole transport materials or oxadiazole derivatives selected from oxadiazole, oxazole, triphenylmethane, hydrazoline, arylamine, hydrazone, stilbene, and silole In addition, one or more electron transport materials selected from triazole derivatives, aluminum complexes, and siloles can be used. Specifically, TPD (N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-diphenylbenzidine), α-NPD (N, N′-di (1-naphthyl) -N, N′diphenyl) Benzidine), TAPC (1,1-bis (di4tolylaminophenyl) -cyclohexane), PPD (N, N′-di (9-phenanthryl) -N, N′-diphenylbenzidine), TRP, NPB (α- NPD dimer), tBu-PBD (2- (4-biphenyl) -5- (para-tertiary-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole), TAZ (3- (4′-tertial) -Butylphenyl) -4-phenyl-5- (4 ''-biphenyl) -1,2,4-triazole), AlQ3 (tris (8-quinolinolato) aluminum (III)), Bphen (vasophenanthroline), P-EtTAZ (3- (4′-tert-butylphenyl) -4- (paraethylphenyl) -5- (4 ″ -biphenyl) -1,2,4 triazole) and the like can be used.

また、絶縁層には、シクロオレフィンの代わりに、ＰＶＫ（ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール））、ポリスチレン、ナイロン、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキシド、ポリメタクリル酸メチル、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミドイミド、ポリイミド、フッ素樹脂の中から選ばれる１又は２以上の物質を用いることができる。これらの物質は、光透過性が高い。例えば、絶縁層の厚みが１００ｎｍ程度である場合、光透過性は８０％以上である。このため、蛍光材料が発する光を、効率的に隔壁の外部に向けて出射することができる。   In addition, instead of cycloolefin, PVK (poly (N-vinylcarbazole)), polystyrene, nylon, polyacetal, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene oxide, polymethyl methacrylate, polyarylate, One or more substances selected from polysulfone, polyphenylene sulfide, polyamideimide, polyimide, and fluororesin can be used. These substances are highly light transmissive. For example, when the thickness of the insulating layer is about 100 nm, the light transmittance is 80% or more. For this reason, the light which fluorescent material emits can be radiate | emitted toward the exterior of a partition efficiently.

また、インク２１を構成する溶媒としては、炭化水素系溶媒の代わりに、ハロゲン炭化水素系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン、アルデヒド、ドデシルベンゼン、テトラリン、ジクロルエタン、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノエチルエーテルの中から選ばれる１又は２以上の物質を用いることができる。   In addition, as a solvent constituting the ink 21, instead of a hydrocarbon solvent, a halogen hydrocarbon solvent, an alcohol solvent, a ketone, an aldehyde, dodecylbenzene, tetralin, dichloroethane, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monoethyl are used. One or more substances selected from ethers can be used.

また、基板の材料としては、ガラスの代わりに、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等を用いることができる。   Moreover, as a material for the substrate, polyimide, polycarbonate, polyester, polypropylene, polyethylene terephthalate (PET), or the like can be used instead of glass.

また、例えば、図１２に示すように、第一実施形態におけるガラス基板１０の代わりに高屈折率フィルム１０１を使用してもよい。ガラス基板１０を用いた場合には、空気の屈折率Ｎ１と有機ＥＬディスプレイ１のガラス基板１０の屈折率Ｎ２と透明な陽極１１Ａの屈折率Ｎ３との大小関係は、Ｎ１＜Ｎ２＜Ｎ３となっている。このような屈折率の関係の場合、有機ＥＬディスプレイ１の発光層１１Ｃから発せられた光の内の一部は、透明な陽極１１Ａ、ガラス基板１０、または発光層１１Ｃ内に、反射により閉じ込められ、多重反射を繰り返した後、端部から放出されるか減衰して消失する。このため、発光層１１Ｃからの光を外部に透過させる効率（以下、光取出し効率という。）が低下する。   For example, as shown in FIG. 12, you may use the high refractive index film 101 instead of the glass substrate 10 in 1st embodiment. When the glass substrate 10 is used, the magnitude relationship between the refractive index N1 of air, the refractive index N2 of the glass substrate 10 of the organic EL display 1, and the refractive index N3 of the transparent anode 11A is N1 <N2 <N3. ing. In the case of such a refractive index relationship, a part of the light emitted from the light emitting layer 11C of the organic EL display 1 is confined by reflection in the transparent anode 11A, the glass substrate 10, or the light emitting layer 11C. After repeated multiple reflections, the light is emitted from the end or attenuates and disappears. For this reason, the efficiency of transmitting light from the light emitting layer 11C to the outside (hereinafter referred to as light extraction efficiency) decreases.

しかし、高屈折率フィルム１０１を用いることによって、ガラス基板１０を用いた場合よりも、光取出し効率を大きくすることができ、有機ＥＬディスプレイ１の輝度をさらに大きくすることができる。   However, by using the high refractive index film 101, the light extraction efficiency can be increased as compared with the case where the glass substrate 10 is used, and the luminance of the organic EL display 1 can be further increased.

高屈折率フィルム１０１の屈折率Ｎ４は、透明な陽極１１Ａの屈折率Ｎ３、及び有機ＥＬディスプレイ１の外部の空気の屈折率Ｎ１よりも大きくなるように形成されている。これによって、屈折率の大小関係は、Ｎ１＜Ｎ４＞Ｎ３となっている。   The refractive index N4 of the high refractive index film 101 is formed so as to be larger than the refractive index N3 of the transparent anode 11A and the refractive index N1 of air outside the organic EL display 1. Thereby, the magnitude relationship of the refractive index is N1 <N4> N3.

屈折率の高い高屈折率フィルム１０１を用いることによって、陽極１１Ａから、高屈折率フィルム１０１に入る光の屈折角を小さくすることができる。これによって、高屈折率フィルム１０１と空気との境目への光の入射角を大きくすることができる。つまり、高屈折率フィルム１０１と空気との境目の面に対する光の角度が、高屈折率フィルム１０１を使用しない場合に比べてより垂直に近くなり、高屈折率フィルム１０１と空気との境目を光が通過しやすくなる。つまり、高屈折率フィルム１０１内に閉じ込められる光の量が少なくなる。このため、光取出し効率が向上し、有機ＥＬディスプレイ１の輝度がさらに大きくなる。   By using the high refractive index film 101 having a high refractive index, the refraction angle of light entering the high refractive index film 101 from the anode 11A can be reduced. Thereby, the incident angle of light at the boundary between the high refractive index film 101 and air can be increased. That is, the angle of light with respect to the boundary surface between the high refractive index film 101 and the air becomes closer to the vertical as compared with the case where the high refractive index film 101 is not used, and the boundary between the high refractive index film 101 and the air is light. Becomes easier to pass. That is, the amount of light confined in the high refractive index film 101 is reduced. For this reason, the light extraction efficiency is improved, and the luminance of the organic EL display 1 is further increased.

また、この高屈折率フィルム１０１における下面（図１２における下面）であるフィルム下面１０２には、微細な突起１０３が複数形成されている。突起１０３によって、フィルム下面１０２の全体に凹凸が形成される。   A plurality of fine protrusions 103 are formed on the film lower surface 102 which is the lower surface (the lower surface in FIG. 12) of the high refractive index film 101. The protrusion 103 forms unevenness on the entire lower surface 102 of the film.

突起１０３が設けられていない場合に高屈折率フィルム１０１と空気との境目において全反射されていた光は、突起１０３が設けられた場合には、突起１０３に入射されることによって、突起１０３の側面から外部に出射される。つまり、高屈折率フィルム１０１内に閉じ込められる光の量がさらに少なくなる。このため、光取出し効率が向上し、有機ＥＬディスプレイ１の輝度がさらに大きくなる。なお、突起１０３は、例えば、微細な構造を形成することが可能なナノインプリント用金型（例えば、特開２００９−２２０３２９及び特開２００７−４４８３１に記載）を用いて高屈折率フィルム１０１のフィルム下面１０２に形成される。   When the projection 103 is not provided, the light totally reflected at the boundary between the high refractive index film 101 and the air when the projection 103 is not provided is incident on the projection 103 when the projection 103 is provided. The light is emitted from the side surface to the outside. That is, the amount of light confined in the high refractive index film 101 is further reduced. For this reason, the light extraction efficiency is improved, and the luminance of the organic EL display 1 is further increased. The protrusion 103 is formed on the lower surface of the high refractive index film 101 using, for example, a nanoimprint mold capable of forming a fine structure (for example, described in JP2009-220329A and JP2007-44831A). 102.

なお、上記実施形態において、図３のＳ１１、Ｓ１２の工程が本発明の「第一電極形成工程」に相当し、図３のＳ１７の工程が本発明の「第二電極形成工程」に相当する。図９のＳ２１の工程が本発明の「第三電極形成工程」に相当し、図９のＳ２５の工程が本発明の「第四電極形成工程」に相当する。   In the above embodiment, the steps S11 and S12 in FIG. 3 correspond to the “first electrode forming step” of the present invention, and the step S17 in FIG. 3 corresponds to the “second electrode forming step” in the present invention. . The process of S21 in FIG. 9 corresponds to the “third electrode formation process” of the present invention, and the process of S25 of FIG. 9 corresponds to the “fourth electrode formation process” of the present invention.

１ 有機ＥＬディスプレイ
２ 有機ＥＬディスプレイ
１０ ガラス基板
１１ 有機ＥＬ素子
１１Ａ 陽極
１１Ｂ 絶縁層
１１Ｃ 発光層
１１Ｄ 隔壁
１１Ｅ 陰極
２１ インク
５１ 有機ＥＬ素子
５１Ａ 陰極
５１Ｅ 陽極
１０１ 高屈折率フィルム
１０２ フィルム下面
１０３ 突起
１１１ 光反射面
５１１ 光反射面
Ｎ２ 屈折率
Ｎ３ 屈折率
Ｎ４ 屈折率 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic EL display 2 Organic EL display 10 Glass substrate 11 Organic EL element 11A Anode 11B Insulating layer 11C Light emitting layer 11D Partition 11E Cathode 21 Ink 51 Organic EL element 51A Cathode 51E Anode 101 High refractive index film 102 Film lower surface 103 Projection 111 Light reflection Surface 511 Light reflecting surface N2 Refractive index N3 Refractive index N4 Refractive index

Claims (14)

板状の基板と、
前記基板の一の面側に設けられた複数の電極である第一電極と、
前記各第一電極における前記基板に対向する面の反対面側に各々設けられ、電圧の印加によって発光する表示用組成物と、
前記各表示用組成物の間を絶縁し、前記表示用組成物が発する光によって励起されて蛍光する蛍光材料を含有した隔壁と、
前記表示用組成物の表面と前記隔壁の端面とによって形成される面に接触して設けられ、前記表示用組成物と前記隔壁とに対向する面が、前記蛍光材料と前記表示用組成物とが発する光を反射する光反射面で構成された電極である第二電極と
を備え、
前記隔壁に含有される前記蛍光材料は、前記表示用組成物が発する光の色と異なる色を蛍光することを特徴とする表示装置。 A plate-like substrate;
A first electrode which is a plurality of electrodes provided on one surface side of the substrate;
A display composition that is provided on each side of the first electrode opposite to the surface facing the substrate and emits light by application of a voltage;
Partitions containing a fluorescent material that insulates between the display compositions and is excited by light emitted from the display composition to fluoresce,
Provided in contact with the surface formed by the surface of the display composition and the end face of the partition wall, and the surface facing the display composition and the partition wall includes the fluorescent material and the display composition. A second electrode that is an electrode composed of a light reflecting surface that reflects light emitted by
The display device, wherein the fluorescent material contained in the partition wall fluoresces a color different from a color of light emitted from the display composition . 板状の基板と、
前記基板の一の面側に設けられ、前記基板に対向する面の反対面が光を反射する光反射面で構成された電極である第三電極と、
前記第三電極の前記光反射面側に設けられ、電圧の印加によって発光する複数の表示用組成物と、
前記各表示用組成物の間を絶縁し、前記表示用組成物が発する光によって励起されて蛍光する蛍光材料を含有した隔壁と、
前記各表示用組成物における前記光反射面に対向する面の反対面にそれぞれ設けられた電極である第四電極と
を備え、
前記隔壁に含有される前記蛍光材料は、前記表示用組成物が発する光の色と異なる色を蛍光することを特徴とする表示装置。 A plate-like substrate;
A third electrode which is an electrode provided on one surface side of the substrate, the opposite surface of the surface facing the substrate being a light reflecting surface that reflects light;
A plurality of display compositions provided on the light reflecting surface side of the third electrode and emitting light by application of a voltage;
Partitions containing a fluorescent material that insulates between the display compositions and is excited by light emitted from the display composition to fluoresce,
A fourth electrode that is an electrode provided on the opposite surface of the surface facing the light reflecting surface in each display composition ,
The display device, wherein the fluorescent material contained in the partition wall fluoresces a color different from a color of light emitted from the display composition . 前記蛍光材料は、クマリン、ルブレン、ナイルレッド、ＤＣＭ、及びＤＣＪＴＢのうちの少なくとも一種であることを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the fluorescent material is at least one of coumarin, rubrene, Nile red, DCM, and DCJTB. 前記隔壁は、ＰＶＫ、ポリスチレン、ナイロン、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキシド、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミドイミド、ポリイミド、及びフッ素樹脂のうちの少なくとも一種と、前記蛍光材料との混合物であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の表示装置。   The partition wall is made of PVK, polystyrene, nylon, polyacetal, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene oxide, polymethyl methacrylate, cycloolefin, polyarylate, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyamideimide, polyimide, and fluorine resin. The display device according to claim 1, wherein the display device is a mixture of at least one of the above and the fluorescent material. 前記表示用組成物は、ヘテロ芳香族化合物、スチルベン化合物、及び燐光物質のうちの少なくとも一種を含有したことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the display composition contains at least one of a heteroaromatic compound, a stilbene compound, and a phosphorescent substance. 前記基板の光の屈折率は、前記第一電極の光の屈折率より大きいことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein a refractive index of light of the substrate is larger than a refractive index of light of the first electrode. 前記基板における前記第一電極と接触する面の反対面に、複数の突起が備えられたことを特徴とする請求項６に記載の表示装置。   The display device according to claim 6, wherein a plurality of protrusions are provided on a surface of the substrate opposite to a surface in contact with the first electrode. 板状の基板の一の面側に複数の電極である第一電極を形成する第一電極形成工程と、
電圧の印加によって発光する表示用組成物が発する光によって励起されて蛍光する蛍光材料であって、前記表示用組成物が発する光と異なる色で蛍光する前記蛍光材料を含有した絶縁層を、前記第一電極形成工程において形成された前記第一電極を覆うように形成する絶縁層形成工程と、
前記絶縁層形成工程において形成された前記絶縁層上の前記第一電極に対向する位置に、前記絶縁層を溶解する溶媒及び前記表示用組成物を含有するインク溶液を塗布するインク溶液塗布工程と、
前記インク溶液塗布工程において塗布された前記インク溶液が前記絶縁層を溶解した後に、前記インク溶液の前記溶媒を蒸発させ、前記第一電極と接触するように前記表示用組成物を形成する表示用組成物形成工程と、
前記インク溶液によって溶解された後の前記絶縁層である隔壁と前記表示用組成物とに対向する面が、前記隔壁における前記蛍光材料と前記表示用組成物とが発する光を反射する光反射面として構成された電極である第二電極を、前記表示用組成物の表面と前記隔壁の端面とに接するように形成する第二電極形成工程と
を備えたことを特徴とする表示装置の製造方法 A first electrode forming step of forming a first electrode which is a plurality of electrodes on one surface side of a plate-like substrate;
A fluorescent material that is excited by light emitted from a display composition that emits light by application of a voltage and fluoresces , the insulating layer containing the fluorescent material that emits fluorescence in a color different from the light emitted from the display composition ; An insulating layer forming step for covering the first electrode formed in the first electrode forming step;
An ink solution applying step of applying an ink solution containing a solvent for dissolving the insulating layer and the display composition at a position facing the first electrode on the insulating layer formed in the insulating layer forming step; ,
After the ink solution applied in the ink solution application step dissolves the insulating layer, the solvent of the ink solution is evaporated to form the display composition so as to come into contact with the first electrode A composition forming step;
The light-reflecting surface that reflects the light emitted from the fluorescent material and the display composition in the partition, the surface facing the partition that is the insulating layer after being dissolved by the ink solution and the display composition And a second electrode forming step of forming a second electrode, which is an electrode configured as described above, in contact with the surface of the display composition and an end face of the partition wall, 板状の基板の一の面側に、前記基板に対向する面の反対側面が光を反射する光反射面で構成された電極である第三電極を形成する第三電極形成工程と、
電圧の印加によって発光する表示用組成物が発する光によって励起されて蛍光する蛍光材料であって、前記表示用組成物が発する光と異なる色で蛍光する前記蛍光材料を含有した絶縁層を、前記第三電極形成工程において形成された前記第三電極を覆うように形成する絶縁層形成工程と、
前記絶縁層形成工程において形成された前記絶縁層上の複数の位置に、前記絶縁層を溶解する溶媒及び前記表示用組成物を含有するインク溶液を塗布するインク溶液塗布工程と、
前記インク溶液塗布工程において塗布された前記インク溶液が前記絶縁層を溶解した後に、前記インク溶液の前記溶媒を蒸発させ、前記第三電極と接触するように前記表示用組成物を形成する表示用組成物形成工程と、
前記表示用組成物形成工程において形成された前記表示用組成物と接触するように、電極である第四電極を形成する第四電極形成工程と
を備えたことを特徴とする表示装置の製造方法。 A third electrode forming step of forming, on one surface side of the plate-like substrate, a third electrode that is an electrode constituted by a light reflecting surface on which the opposite surface of the surface facing the substrate reflects light;
A fluorescent material that is excited by light emitted from a display composition that emits light by application of a voltage and fluoresces , the insulating layer containing the fluorescent material that emits fluorescence in a color different from the light emitted from the display composition ; An insulating layer forming step for covering the third electrode formed in the third electrode forming step;
An ink solution applying step of applying an ink solution containing a solvent for dissolving the insulating layer and the display composition at a plurality of positions on the insulating layer formed in the insulating layer forming step;
After the ink solution applied in the ink solution application step dissolves the insulating layer, the solvent of the ink solution is evaporated to form the display composition so as to come into contact with the third electrode A composition forming step;
And a fourth electrode forming step of forming a fourth electrode as an electrode so as to come into contact with the display composition formed in the display composition forming step. . 前記蛍光材料は、クマリン、ルブレン、ナイルレッド、ＤＣＭ、及びＤＣＪＴＢのうちの少なくとも一種であることを特徴とする請求項８または９に記載の表示装置の製造方法。   10. The method for manufacturing a display device according to claim 8, wherein the fluorescent material is at least one of coumarin, rubrene, Nile red, DCM, and DCJTB. 前記絶縁層は、ＰＶＫ、ポリスチレン、ナイロン、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキシド、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミドイミド、ポリイミド、及びフッ素樹脂のうちの少なくとも一種と、前記蛍光材料との混合物であることを特徴とする請求項８から１０のいずれかに記載の表示装置の製造方法。   The insulating layer is made of PVK, polystyrene, nylon, polyacetal, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene oxide, polymethyl methacrylate, cycloolefin, polyarylate, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyamideimide, polyimide, and fluorine resin. The method for manufacturing a display device according to claim 8, wherein the display device is a mixture of at least one of them and the fluorescent material. 前記表示用組成物は、ヘテロ芳香族化合物、スチルベン系化合物、及び燐光物質のうちの少なくとも一種を含有したことを特徴とする請求項８から１１のいずれかに記載の表示装置の製造方法。   The method for manufacturing a display device according to claim 8, wherein the display composition contains at least one of a heteroaromatic compound, a stilbene compound, and a phosphorescent substance. 前記基板の光の屈折率は、前記第一電極の光の屈折率より大きいことを特徴とする請求項８に記載の表示装置の製造方法。   The method of manufacturing a display device according to claim 8, wherein a refractive index of light of the substrate is larger than a refractive index of light of the first electrode. 前記基板における前記第一電極と接触する面の反対面に、複数の突起が備えられたことを特徴とする請求項１３に記載の表示装置の製造方法。   The method for manufacturing a display device according to claim 13, wherein a plurality of protrusions are provided on a surface of the substrate opposite to a surface in contact with the first electrode.
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CN104025333A (en) * 2011-11-28 2014-09-03 海洋王照明科技股份有限公司 Polymeric electroluminescent device and method for preparing same
US20150028311A1 (en) * 2011-11-28 2015-01-29 Ocean's King Lighting Science & Technology Co., Lt Doped organic electroluminescent device and method for preparing same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000323042A (en) * 1999-05-07 2000-11-24 Toshiba Corp Discharge type flat display device
JP4648594B2 (en) * 2001-09-07 2011-03-09 ブラザー工業株式会社 Manufacturing method of display device
JP4226835B2 (en) * 2002-03-29 2009-02-18 三星エスディアイ株式会社 LIGHT EMITTING ELEMENT, ITS MANUFACTURING METHOD, AND DISPLAY DEVICE USING THE SAME
JP4378767B2 (en) * 2002-09-26 2009-12-09 セイコーエプソン株式会社 LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
JP3984183B2 (en) * 2003-03-20 2007-10-03 株式会社 日立ディスプレイズ Organic EL display device
JP2004342513A (en) * 2003-05-16 2004-12-02 Toyota Industries Corp Self-luminous device
JP4646702B2 (en) * 2004-06-03 2011-03-09 株式会社半導体エネルギー研究所 Illumination device and manufacturing method thereof
JP5090227B2 (en) * 2008-03-26 2012-12-05 学校法人金沢工業大学 Organic electroluminescence element, lighting device and display device
JP2010032750A (en) * 2008-07-29 2010-02-12 Brother Ind Ltd Method of manufacturing display device

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