JP5206915B2 - Blindfold device and method for manufacturing blindfold device - Google Patents

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Description

本発明は、透過する背景が鮮明に見えない目隠し装置において、特に位相型フーリエ変換ホログラムを用いて、所定位置を通して点光源を観察すると点光源の位置付近に所定の画像又はメッセージが観察できる目隠し装置及び目隠し装置の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a blindfolding device in which a transmitted background cannot be clearly seen, and in particular, when a point light source is observed through a predetermined position using a phase type Fourier transform hologram, a predetermined image or message can be observed near the position of the point light source. And a method for manufacturing the blindfold device.

従来、目隠し装置としては、すりガラス、型ガラス、ブラインド、ロールスクリーン等がある。   Conventionally, as a blindfold device, there are ground glass, mold glass, blinds, roll screens and the like.

また、特許文献１においてはホログラムメガネが提案されている。このホログラムメガネは、図９（ａ）に斜視図を示すような構成になっている。すなわち、メガネフレーム３１の両眼用の枠内には、２つの透過型ホログラム３２、３３が嵌め込まれている。この透過型ホログラム３２、３３を用いたメガネを掛けて図９（ｂ）に示すような小面積の光源３４、３５、３６、３７を含むシーンを見ると、例えば図９（ｃ）に示すように見える。あるいは、光源３４、３５、３６、３７の近傍にパターン「ＮＯＥＬ」３８、３９、４０、４１が重なって見える。すなわち図９（ｂ）の実際のシーンにおける小面積の光源がそれぞれ予め選択されたパターン「ＮＯＥＬ」３８、３９、４０、４１に置き換わったシーンとして見える。このような特性を持つ透過型ホログラム３２、３３としては、計算機ホログラムとして構成された上記パターン「ＮＯＥＬ」のフーリエ変換ホログラム（フラウンホーファーホログラム）が用いられる。   In Patent Document 1, hologram glasses are proposed. The hologram glasses are configured as shown in a perspective view in FIG. That is, two transmission holograms 32 and 33 are fitted in the eyeglass frame 31 for both eyes. When a scene including light sources 34, 35, 36, and 37 having a small area as shown in FIG. 9B is viewed by wearing glasses using the transmission holograms 32 and 33, for example, as shown in FIG. 9C. Looks like. Alternatively, the pattern “NOEL” 38, 39, 40, 41 appears to overlap in the vicinity of the light sources 34, 35, 36, 37. That is, the light source having a small area in the actual scene shown in FIG. 9B is seen as a scene in which the patterns “NOEL” 38, 39, 40, and 41 are selected in advance. As the transmission holograms 32 and 33 having such characteristics, a Fourier transform hologram (Fraunhofer hologram) having the pattern “NOEL” configured as a computer generated hologram is used.

図１０（ａ）はこのような透過型ホログラムの一つの作成方法を示すフローチャートである（特許文献２）。図１０（ｂ）はそのフローチャートを説明するための模式図である。ステップ１０１において、原画像５１が作成される。次に、ステップ１０２において、原画像のフーリエ変換像５２を、計算機を用いて作成する。次に、ステップ１０３で、フーリエ変換像５２を二値以上に多値化して、多値化したフーリエ変換像５３を作成する。そして、ステップ１０４で、再生像のシミュレーションを行う。このシミュレーションは多値化したフーリエ変換像５３に逆フーリエ変換を施し、再生像５４を得て、上述の各工程での処理が適正に行われていたかをチェックするものである。次に、ステップ１０５で、得られた多値化したフーリエ変換像を希望の範囲まで配列する。例えば、二値化されたフーリエ変換像５３を４つ並べて、計算機ホログラム５５を得る。なお、実際には最小単位の画像５３を例えば、縦、横に１０個ずつ配列したりする。次いで、ステップ１０６で、このようにして配列された計算機ホログラム５５の複製用原版を例えば半導体プロセス（フォトリソグラフィとエッチング）を用いて作成する。そして、ステップ１０７で、その複製用原版の凹凸レリーフパターンを例えば紫外線硬化樹脂等に複製して透過型ホログラム３２、３３が得られる。   FIG. 10A is a flowchart showing one method for creating such a transmission hologram (Patent Document 2). FIG. 10B is a schematic diagram for explaining the flowchart. In step 101, an original image 51 is created. Next, in step 102, a Fourier transform image 52 of the original image is created using a computer. Next, in step 103, the Fourier transform image 52 is multi-valued to a binary value or more to create a multi-valued Fourier transform image 53. In step 104, a reproduced image is simulated. In this simulation, an inverse Fourier transform is performed on the multi-valued Fourier transform image 53 to obtain a reconstructed image 54, and it is checked whether or not the processing in each of the above steps has been performed appropriately. Next, in step 105, the obtained multi-valued Fourier transform image is arranged to a desired range. For example, a computer generated hologram 55 is obtained by arranging four binarized Fourier transform images 53. Actually, for example, ten minimum unit images 53 are arranged vertically and horizontally. Next, in step 106, a master for duplication of the computer generated hologram 55 arranged in this way is produced using, for example, a semiconductor process (photolithography and etching). In step 107, the concave / convex relief pattern of the original for duplication is duplicated on, for example, an ultraviolet curable resin to obtain the transmission holograms 32 and 33.

また、計算機ホログラム（上記多値化したフーリエ変換像５３に対応するＣＧＨ）の作成方法として、例えば、非特許文献１に記載されたようなＧｅｒｃｈｂｅｒｇ−Ｓａｘｔｏｎ反復計算法が知られている。この方法を図１１乃至図１３を参照にして簡単に説明する。   As a method for creating a computer generated hologram (CGH corresponding to the multi-valued Fourier transform image 53), for example, a Gerchberg-Saxton iterative calculation method as described in Non-Patent Document 1 is known. This method will be briefly described with reference to FIGS.

図１１は、計算機ホログラム６０とそれから再現される像領域７０とを模式的に示す図である。計算機ホログラム６０はフーリエ変換ホログラムであり、碁盤目状に配置された縦方向（ｙ軸方向）のピッチ寸法δy 、横方向（ｘ軸方向）のピッチ寸法δx の微小なセル６１の集合体からなり、各セル６１は位相情報のみを持つ。セル６１はｘ軸方向に２m 個、ｙ軸方向に２n 個配置されている。 FIG. 11 is a diagram schematically showing a computer generated hologram 60 and an image region 70 reproduced therefrom. The computer generated hologram 60 is the Fourier transform hologram, small collection of cells 61 of the pitch dimension [delta] x of the pitch dimension [delta] y, the horizontal direction (x-axis direction) of the longitudinally arranged in a grid pattern (y-axis direction) Each cell 61 has only phase information. 2 m cells 61 are arranged in the x-axis direction and 2 n cells 61 are arranged in the y-axis direction.

一方、この計算機ホログラム６０から十分に遠方に配置される像領域７０は、計算機ホログラム６０に対応してｘ軸方向に同じ２m 個、ｙ軸方向に同じ２n 個配置されたセル７１の集合体からなり、各セル７１は縦方向（ｙ軸方向）寸法Δy 、横方向（ｘ軸方向）寸法Δx であり、像領域７０全体のｘ軸方向長さはＬx 、ｙ軸方向長さはＬy である。 On the other hand, the image region 70 arranged sufficiently far from the computer generated hologram 60 is a set of cells 71 arranged in the same 2 m pieces in the x-axis direction and the same 2 n pieces in the y-axis direction corresponding to the computer generated hologram 60. Each cell 71 has a vertical direction (y-axis direction) dimension Δ y and a horizontal direction (x-axis direction) dimension Δ x , and the length of the entire image region 70 in the x-axis direction is L x and the length in the y-axis direction. it is is a L y.

なお、像領域７０のｘ軸方向長さＬx 、ｙ軸方向長さＬy は、計算機ホログラム６０のセル６１のそれぞれｘ軸方向寸法δx 、ｙ軸方向寸法δy と関係しており、計算機ホログラム６０からの回折角で表すと（計算機ホログラム６０から十分に遠方の位置に像領域７０があるので、Ｌx 、Ｌy は角度で表現した方がよい。）、Ｌx は空間周波数１／（２δx ）の回折格子の±１次回折光で挟まれる範囲に対応し、Ｌy は空間周波数１／（２δy ）の回折格子の±１次回折光で挟まれる範囲に相当する。これは、計算機ホログラム６０に記録される最大空間周波数がｘ軸方向で１／（２δx ）、ｙ軸方向で１／（２δy ）であることに対応している。 The x-axis direction length L x and the y-axis direction length L y of the image region 70 are related to the x-axis direction dimension δ x and the y-axis direction dimension δ y of the cell 61 of the computer generated hologram 60, respectively. (because the computer generated hologram 60 well there is the image area 70 to a distant location, L x, L y is better expressed in angle.) is represented by the diffraction angle from the computer generated hologram 60, L x is the spatial frequency 1 / corresponds to ± 1 range sandwiched by order diffracted light of the diffraction grating (2δ x), L y corresponds to a range sandwiched by ± 1-order diffracted light of the diffraction grating spatial frequency 1 / (2δ y). This corresponds to the maximum spatial frequency recorded in the computer generated hologram 60 being 1 / (2δ x ) in the x-axis direction and 1 / (2δ y ) in the y-axis direction.

このような配置関係で、計算機ホログラム６０の正面から所定波長の平行光８０が入射すると、計算機ホログラム６０の裏面側に回折光８１が生じ、遠方の像領域７０に計算機ホログラム６０に記録されたパターンが再生される。   With this arrangement relationship, when parallel light 80 having a predetermined wavelength is incident from the front of the computer generated hologram 60, diffracted light 81 is generated on the back side of the computer generated hologram 60, and the pattern recorded on the computer generated hologram 60 in the distant image area 70. Is played.

ここで、分かりやすくするため、再生像面７０での原画の振幅分布（画素値）をＡIMG （ｘ，ｙ）、再生像面７０での原画の位相分布をφIMG （ｘ，ｙ）、ホログラム面６０での振幅分布をＡHOLO（ｕ，ｖ）、ホログラム面６０での位相分布をφHOLO（ｕ，ｖ）とする。図１２に示すように、ステップ２０１において、再生像面７０領域で、記録する原画の画素値をＡIMG （ｘ，ｙ）として与え、原画の位相分布をランダムな値に初期化して、ステップ２０２で、その初期化した値にフーリエ変換を施す。ステップ２０３で、フーリエ変換で得られたホログラム面６０での振幅分布ＡHOLO（ｕ，ｖ）を１にし、位相分布φHOLO（ｕ，ｖ）を所定の多値化（量子化）する束縛条件が付与される。そのような束縛条件が付与された後、ステップ２０４で、その束縛条件を付与した振幅分布ＡHOLO（ｕ，ｖ）と位相分布φHOLOにフーリエ逆変換が施される。ステップ２０５で、そのフーリエ逆変換で得られた再生像面７０での振幅分布ＡIMG （ｘ，ｙ）が原画の画素値と略等しいと収束判定された場合に、ステップ２０３で多値化（量子化）された位相分布φHOLO（ｕ，ｖ）が計算機ホログラム６０のセル６１に与えられる位相分布となる。ステップ２０５の収束判定で、フーリエ逆変換で得られた振幅分布ＡIMG （ｘ，ｙ）が原画の画素値と等しくないと判定されると、ステップ２０６で、そのフーリエ逆変換で得られた振幅分布ＡIMG （ｘ，ｙ）の代わりに原画の画素値を与え、フーリエ逆変換で得られた位相分布φIMG （ｘ，ｙ）はそのままとする束縛条件が付与される。そのような束縛条件が付与された後、ステップ２０２→２０３→２０４→２０５→２０６のループがステップ２０５の条件が満足されるまで（収束するまで）繰り返され、最終的な所望の計算機ホログラム６０が得られる。 Here, for easy understanding, the amplitude distribution (pixel value) of the original image on the reproduced image plane 70 is A IMG (x, y), and the phase distribution of the original image on the reproduced image plane 70 is φ IMG (x, y), The amplitude distribution on the hologram surface 60 is A HOLO (u, v), and the phase distribution on the hologram surface 60 is φ HOLO (u, v). As shown in FIG. 12, in step 201, the pixel value of the original image to be recorded is given as A IMG (x, y) in the reproduction image plane 70 region, and the phase distribution of the original image is initialized to a random value. The Fourier transform is applied to the initialized value. In step 203, the constraint condition that the amplitude distribution A HOLO (u, v) on the hologram surface 60 obtained by Fourier transform is set to 1 and the phase distribution φ HOLO (u, v) is multi-valued (quantized) in a predetermined manner. Is granted. After such a constraint condition is given, in step 204, an inverse Fourier transform is performed on the amplitude distribution A HOLO (u, v) and the phase distribution φ HOLO to which the constraint condition is given. When it is determined in step 205 that the amplitude distribution A IMG (x, y) on the reproduced image plane 70 obtained by the inverse Fourier transform is substantially equal to the pixel value of the original image, the multivalue conversion (step 203) The quantized phase distribution φ HOLO (u, v) is the phase distribution given to the cell 61 of the computer generated hologram 60. If it is determined in step 205 that the amplitude distribution A IMG (x, y) obtained by the inverse Fourier transform is not equal to the pixel value of the original image, the amplitude obtained by the inverse Fourier transform is obtained in step 206. Instead of the distribution A IMG (x, y), a constraint condition is given in which the pixel value of the original image is given and the phase distribution φ IMG (x, y) obtained by inverse Fourier transform is left as it is. After such a binding condition is applied, the loop of step 202 → 203 → 204 → 205 → 206 is repeated until the condition of step 205 is satisfied (until convergence), and the final desired computer generated hologram 60 is obtained. can get.

なお、ステップ２０３で位相分布φHOLO（ｕ，ｖ）を多値化する処理を行わず、ステップ２０５の条件が満足された後に、所定の多値化する処理を行うようにしてもよい。 It should be noted that the processing for multileveling the phase distribution φ HOLO (u, v) in step 203 may not be performed, and the predetermined multilevel processing may be performed after the condition in step 205 is satisfied.

このようにして求めた多値化した位相分布φHOLO（ｕ，ｖ）から、実際のホログラムの深さ分布を求める。位相分布φHOLO（ｕ，ｖ）を、次の式（１）に基づいて、計算機ホログラム６０の深さＤ（ｕ，ｖ）に変換する。 The actual hologram depth distribution is obtained from the multivalued phase distribution φ HOLO (u, v) obtained in this way. The phase distribution φ HOLO (u, v) is converted into the depth D (u, v) of the computer generated hologram 60 based on the following equation (1).

Ｄ（ｕ，ｖ）＝λφHOLO（ｕ，ｖ）／｛２π（ｎ1 −ｎ0 ）｝・・・（１）
ここで、λは使用中心波長、ｎ1 ，ｎ0 は透過型ホログラムを構成する２つの材質の屈折率である。透過型の場合、図１３に断面図を示すように、上記式（１）で求めたＤ（ｕ，ｖ）の深さのレリーフパターン８３を形成することによって計算機ホログラム６０が得られる。図１３の場合は、φHOLO（ｕ，ｖ）を０，π／２，π，３π／２の４段階に多値化した例である。なお、上記のホログラム面６０での座標（ｕ，ｖ）は、再生像面７０での座標（ｘ，ｙ）と区別するためのものであり、座標軸の方向としては、ｕ軸方向はｘ軸方向に、ｖ軸方向はｙ軸方向に対応する。
米国特許第５５４６１９８号明細書 特開平１０−１５３９４３号公報 日本光学会（応用物理学会）主催 第２２回冬期講習会テキスト「ホログラムと回折型光学素子−基礎理論から産業応用まで−」ｐｐ．３６〜３９ 辻内順平著「物理学選書２２．ホログラフィー」ｐｐ．３３〜３６（（株）裳華房発行（１９９７年１１月５日）） D (u, v) = λφ HOLO (u, v) / {2π (n 1 −n 0 )} (1)
Here, λ is a use center wavelength, and n 1 and n 0 are refractive indexes of two materials constituting the transmission hologram. In the case of the transmission type, as shown in a sectional view in FIG. 13, a computer generated hologram 60 is obtained by forming a relief pattern 83 having a depth of D (u, v) obtained by the above equation (1). In the case of FIG. 13, φ HOLO (u, v) is an example of multi-leveling in four stages of 0, π / 2, π, and 3π / 2. The coordinates (u, v) on the hologram surface 60 are for distinction from the coordinates (x, y) on the reproduced image plane 70. As the direction of the coordinate axis, the u-axis direction is the x axis. Direction, the v-axis direction corresponds to the y-axis direction.
US Pat. No. 5,546,198 Japanese Patent Laid-Open No. 10-153943 Textbook "Holograms and diffractive optical elements-from basic theory to industrial application" sponsored by The Optical Society of Japan (Applied Physics Society) pp. 36-39 Junpei Kajiuchi, “Physics Selections 22. Holography” pp. 33-36 (published by Hankabo Co., Ltd. (November 5, 1997))

しかしながら、これまでに提案されている上記従来の目隠し装置では、光学的に、意匠性を備えたものではなく、ただ単に透過する背景が鮮明に見えないようにした単一目的のものであり、見た目に平凡で面白みのないものが多い。また光学的な情報の伝達も不可能であった。   However, the conventional blindfold device proposed so far is not optically designed but has a single purpose so that a transparent background cannot be clearly seen. Many of them look mediocre and uninteresting. Also, optical information transmission was impossible.

また、目隠し装置にホログラムを用いて点光源を所望のパターンに変換するものにおいては、大型化が極めて難しいため現在大型のものは作成されておらず、その製造方法も確立されていない。   In addition, in a device that converts a point light source into a desired pattern using a hologram in a blindfold device, it is extremely difficult to increase the size, so that a large size has not been created and a manufacturing method has not been established.

本発明は従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、光学的に、意匠性を備え、見た目に面白みがあり、また光学的な情報の伝達も可能となり、様々な用途に適用できる目隠し装置及び目隠し装置の製造方法を提供することである。   The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and the purpose thereof is optically, has a design property, is visually interesting, and enables transmission of optical information. To provide a blindfold device applicable to various uses and a method of manufacturing the blindfold device.

本発明の目隠し装置は、上記課題を解決するものであって、０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、を用いたことを特徴とする。 The blindfolding apparatus of the present invention solves the above-mentioned problem, and blinds the background transmitted through when viewed from the light source side by making the diffraction efficiency of the 0th-order light 30% or less so as not to be seen clearly. At the same time, when the point light source on the light source side is seen through from the side opposite to the light source and when the point light source on the side opposite to the light source is seen through from the light source side, it is converted into a desired pattern. one relief Fourier transform hologram, characterized by using the.

また、前記フーリエ変換ホログラムは、位相型の計算機ホログラムとして構成されていることを特徴とする。   Further, the Fourier transform hologram is configured as a phase-type computer generated hologram.

また、前記フーリエ変換ホログラムは、窓に貼付されることを特徴とする。   The Fourier transform hologram is affixed to a window.

また、前記フーリエ変換ホログラムは、２枚の透明板で構成した窓の間に挟持されることを特徴とする。   Further, the Fourier transform hologram is sandwiched between windows constituted by two transparent plates.

また、前記フーリエ変換ホログラムは、出入自在に窓を覆うことが可能なスライド式であること特徴とする。   Further, the Fourier transform hologram is a slide type capable of covering a window so as to freely enter and exit.

また、前記フーリエ変換ホログラムは、出入自在に窓を覆うことが可能なロールスクリーン式であることを特徴とする。   Further, the Fourier transform hologram is a roll screen type capable of covering a window so as to freely enter and exit.

また、前記フーリエ変換ホログラムは、２０μｍピッチ以下であることを特徴とする。   Further, the Fourier transform hologram has a pitch of 20 μm or less.

さらに、本発明は、上記課題を解決する方法であって、０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、を用いた目隠し装置の製造方法であって、前記フーリエ変換ホログラムは、原版のスタンパーを用いて複製することによって作製されることを特徴とする。 Furthermore, the present invention is a method for solving the above-mentioned problems, and by concealing the background transmitted through when viewed from the light source side by making the diffraction efficiency of 0th-order light 30% or less , it is blinded. When the point light source on the light source side is seen through from the side opposite to the light source and when the point light source on the side opposite to the light source is seen through from the light source side, it is converted into a desired pattern 1 A method for manufacturing a blindfolding device using a relief-type Fourier transform hologram , wherein the Fourier transform hologram is produced by duplication using an original stamper.

また、０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、を用いた目隠し装置の製造方法であって、前記フーリエ変換ホログラムは、原版をＵＶ樹脂に複製することによって作製されることを特徴とする。 Moreover, a side opposite to the light source with the point light source of the light source side blindfolded as background passes is not visible clearly when viewed from the light source side by the diffraction efficiency of 0-order light to 30% or less Blindfolding device using one relief-type Fourier transform hologram that converts a point light source opposite to the light source into a desired pattern when viewed from the light source side. The Fourier transform hologram is manufactured by replicating an original plate on a UV resin.

また、０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、を用いた目隠し装置の製造方法であって、前記フーリエ変換ホログラムは、原画をフーリエ変換したフーリエ変換像をステップアンドリピートで露光することによって作製されることを特徴とする。 Moreover, a side opposite to the light source with the point light source of the light source side blindfolded as background passes is not visible clearly when viewed from the light source side by the diffraction efficiency of 0-order light to 30% or less Blindfolding device using one relief-type Fourier transform hologram that converts a point light source opposite to the light source into a desired pattern when viewed from the light source side. The Fourier transform hologram is manufactured by exposing a Fourier transform image obtained by Fourier transforming an original image in a step-and-repeat manner.

本発明の目隠し装置によれば、０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、を用いたので、光学的に、意匠性を備え、見た目に面白みがあり、また光学的な情報の伝達も可能となる。 According to the blindfold device of the present invention, the diffraction efficiency of 0th-order light is set to 30% or less so that the transmitted background is not clearly seen when viewed from the light source side, and the point light source on the light source side is provided. Relief type Fourier transform that transforms into a desired pattern when viewed from the opposite side of the light source and when viewed from the point light source opposite to the light source from the light source side holograms, so using, optically, comprising a design property, there are interesting visually, also enables the transmission of optical information.

また、本発明は、０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、を用いた目隠し装置の製造方法であって、前記フーリエ変換ホログラムは、原版のスタンパーを用いて複製する、原版をＵＶ樹脂に複製する、又は原画をフーリエ変換したフーリエ変換像をステップアンドリピートで露光することによって作製されるので、大型の目隠し装置が作成できるようになり、用途が拡大し、様々なものに適用できるようになる。 Further, the present invention conceals the background transmitted through when viewed from the light source side by making the diffraction efficiency of the 0th-order light 30% or less, and the point light source on the light source side is the light source. A relief-type Fourier transform hologram that is converted into a desired pattern when viewed from the side opposite to the light source and when viewed from the point light source opposite to the light source from the light source side , The method of manufacturing a blindfolding apparatus, wherein the Fourier transform hologram is duplicated using a stamper of the original, the original is duplicated on a UV resin, or the Fourier transform image obtained by Fourier transforming the original is exposed in a step-and-repeat manner. Therefore, a large-scale blindfold device can be created, and the application can be expanded and applied to various devices.

図１は、本発明の目隠し装置の実施形態を示す図である。図１において、１はホログラム、２は基材、３は粘着層、４は窓ガラス、Ｉは室内、Ｏは屋外、Ｍ１は遮蔽対象を構成する室内にいる人、Ｚは人とホログラムとの距離、θは回折角である。通常、目隠し装置はホログラム１と基材２とから構成され、粘着層３で窓ガラス４に貼付し、屋外Ｏから室内の人Ｍ１が鮮明に見えないようにするために使用するものである。   FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a blindfold device of the present invention. In FIG. 1, 1 is a hologram, 2 is a base material, 3 is an adhesive layer, 4 is a window glass, I is indoors, O is outdoor, M1 is a person in a room constituting a shielding object, Z is a person and a hologram The distance, θ, is the diffraction angle. Usually, the blindfold device is composed of a hologram 1 and a base material 2 and is attached to the window glass 4 with an adhesive layer 3 and used to prevent the indoor person M1 from being clearly seen from the outdoor O.

ホログラム１は、本実施形態では、位相型のフーリエ変換ホログラムである。フーリエ変換ホログラムは計算機ホログラムでも良いし、また、表面レリーフ型、振幅型、体積型であっても良い。体積型ホログラムにおいては角度選択性により目隠しの角度をコントロールすることができる。さらに、フーリエ変換ホログラムは液晶等の空間変調器を用いて構成し、目隠しの程度を装置全体または部分的にコントロールすることができるようにしても良い。また、０次光（非回折光）の回折効率が３０％、好ましくは１０％以下であるフーリエ変換ホログラムであってもよい。   In this embodiment, the hologram 1 is a phase type Fourier transform hologram. The Fourier transform hologram may be a computer generated hologram, or may be a surface relief type, an amplitude type, or a volume type. In the volume hologram, the blinding angle can be controlled by the angle selectivity. Furthermore, the Fourier transform hologram may be configured using a spatial modulator such as a liquid crystal so that the degree of blinding can be controlled entirely or partially. Further, it may be a Fourier transform hologram in which the diffraction efficiency of zero-order light (non-diffracted light) is 30%, preferably 10% or less.

窓ガラス４の屋外Ｏから目隠し装置１を通して室内を見た場合、Ｚを遮蔽対象である人Ｍ１とホログラム１との距離、θを回折角とすると、２Ｚｔａｎθの範囲の画像が混在し、鮮明に見えなくなる。本実施形態では、レストラン等に座っている人を想定して、室内にいる人Ｍ１とホログラム１との距離Ｚを５００ｍｍに設定する。また、人間の目の画像が混在すれば人間の認識ができないと想定し、人間の目の大きさを約３０ｍｍとして、２Ｚｔａｎθを３０ｍｍに設定する。すると、２×５００ｍｍ×ｔａｎθ＝３０ｍｍとなり、θ＝arctan（３０／２／５００）＝１．７１８degreeとなる。ここで、ホログラム１を計算機ホログラムとして構成した場合のピッチをｄとすると、ｄ＝λ／ｓｉｎθ、λ＝６００ｎｍの場合（λは波長）、ｄ＝６００ｎｍ／ｓｉｎ１．７１８degree＝約２０μｍとなる。すなわち、ホログラム１のセルは約２０μｍピッチ以下のものとする。基材２はＰＥＴ、ポリカーボネート等の透明な部材であればよい。また、粘着層３及び窓ガラス４も透明な部材であればよい。

When the room is viewed from the outdoor O of the window glass 4 through the blindfold device 1, if Z is the distance between the person M1 to be shielded and the hologram 1 and θ is the diffraction angle, images in the range of 2Z tan θ are mixed and clear. Become invisible. In the present embodiment, assuming a person sitting in a restaurant or the like, the distance Z between the person M1 in the room and the hologram 1 is set to 500 mm. Further, assuming that human eyes cannot be recognized if images of human eyes are mixed, the size of human eyes is set to about 30 mm, and 2Z tan θ is set to 30 mm. Then, 2 × 500 mm × tan θ = 30 mm, and θ = arctan (30/2/500) = 1.718 degrees. Here, when the pitch when the hologram 1 is configured as a computer generated hologram is d, when d = λ / sin θ and λ = 600 nm (λ is a wavelength), d = 600 nm / sin 1.718 degree = about 20 μm. That is, the cell of the hologram 1 has a pitch of about 20 μm or less. The base material 2 should just be transparent members, such as PET and a polycarbonate. Moreover, the adhesion layer 3 and the window glass 4 should just be a transparent member.

図２は、本実施形態の目隠し装置を通して点光源Ｌを見た場合の図を示す。Ｌ１は室内の点光源、Ｌ２は屋外の点光源、ＩＭＧ１は室内のパターン、ＩＭＧ２は屋外のパターン、Ｍ２は屋外にいる人である。まず、図１で説明したように屋外にいる人Ｍ２から室内にいる人Ｍ１は認識できない。次に、屋外にいる人Ｍ２が室内の点光源Ｌ１を見た場合、室内の点光源Ｌ１と共に室内のパターンＩＭＧ１が浮かび上がるように観察される。また、室内にいる人Ｍ１が屋外の点光源Ｌ２を見た場合、屋外の点光源Ｌ２と共に屋外のパターンＩＭＧ２が浮かび上がるように観察される。   FIG. 2 shows a view when the point light source L is viewed through the blindfold device of the present embodiment. L1 is an indoor point light source, L2 is an outdoor point light source, IMG1 is an indoor pattern, IMG2 is an outdoor pattern, and M2 is a person outdoors. First, as described with reference to FIG. 1, the person M1 who is indoors cannot be recognized from the person M2 who is outdoors. Next, when a person M2 who is outdoors looks at the indoor point light source L1, the indoor pattern IMG1 is observed to emerge along with the indoor point light source L1. In addition, when the person M1 in the room looks at the outdoor point light source L2, the outdoor pattern IMG2 is observed to emerge along with the outdoor point light source L2.

なお、ホログラム１は、ガラス窓４を２枚の透明板で構成し、その間に挟持することで取付が容易になるようにしてもよい。さらに、ホログラム１は、出入自在に窓を覆うことが可能なスライド式やロールスクリーン式にすることで、必要なときだけ使用することができるようにしてもよい。その際、壁に収納できるようにしてもよい。   In addition, the hologram 1 may be configured so that the glass window 4 is configured by two transparent plates and is sandwiched between them to facilitate attachment. Furthermore, the hologram 1 may be used only when necessary by using a slide type or a roll screen type that can cover the window so as to freely enter and exit. In that case, you may enable it to store in a wall.

また、ホログラム１のピッチｄは、認識できない位置をどこに設定するかによって変更可能とし、室内と屋外を分離する窓だけではなく、車両、電車、航空機、船舶等の乗り物、衝立、ショーウインドウ等の様々な場所に適応できるようにしてもよい。特に、２０μｍピッチ以下にすると、レストラン、車両等の窓に最適なものとなる。また、乗り物に適用する際は、該乗り物に点光源を備えるようにしてもよい。   Further, the pitch d of the hologram 1 can be changed depending on where the unrecognizable position is set, and it is not only a window that separates the room from the outside, but also vehicles such as vehicles, trains, aircraft, ships, partitions, show windows, etc. You may make it adaptable to various places. In particular, when the pitch is 20 μm or less, the window is optimal for restaurants, vehicles, and the like. When applied to a vehicle, the vehicle may be provided with a point light source.

以下、図面を参照にして、本発明の目隠し装置に使用するホログラム１の製造方法を説明する。図３は、本発明のホログラムの原版の製造方法を実施する工程を示す図である。５は原画、６はフーリエ変換像、７は基板、８はクロム層、９はフォトレジスト、１０は原版である。なお、基板７は、ガラスやシリコン原板等である。   Hereinafter, with reference to the drawings, a method of manufacturing the hologram 1 used in the blindfold device of the present invention will be described. FIG. 3 is a diagram showing steps for carrying out the method for producing a hologram original plate according to the present invention. 5 is an original image, 6 is a Fourier transform image, 7 is a substrate, 8 is a chromium layer, 9 is a photoresist, and 10 is an original. The substrate 7 is glass or a silicon original plate.

まず、ステップ（１）において、原画５を作成し、次に、ステップ（２）において、原画５のフーリエ変換像６を、計算機でＦＦＴ等の計算をして作成する。フーリエ変換像６は二値以上に多値化したフーリエ変換像６である。次に、ステップ（３）において、基板７上に、クロム層８、フォトレジスト９を積層したものに電子ビーム描画露光やマスク露光等を施し、凹凸パターンの潜像をフォトレジスト９に形成する。次に、ステップ（４）において、フォトレジストの潜像をポジ現像する。次に、ステップ（５）において、フォトレジストパターンにあわせてウェットエッチングによりクロム層８をエッチングし、余分なクロムを除去する。続いて、ステップ（６）において、ドライエッチングにより基板７を所定深さエッチングし、除去する。次に、ステップ（７）において、残りのフォトレジスト９を剥離する。   First, in step (1), the original image 5 is created. Next, in step (2), the Fourier transform image 6 of the original image 5 is created by calculation such as FFT with a computer. The Fourier transform image 6 is a Fourier transform image 6 that is multi-valued into two or more values. Next, in step (3), electron beam drawing exposure, mask exposure, or the like is performed on the substrate 7 on which the chromium layer 8 and the photoresist 9 are laminated, and a latent image of the uneven pattern is formed on the photoresist 9. Next, in step (4), the latent image of the photoresist is positively developed. Next, in step (5), the chromium layer 8 is etched by wet etching in accordance with the photoresist pattern to remove excess chromium. Subsequently, in step (6), the substrate 7 is etched by a predetermined depth by dry etching and removed. Next, in step (7), the remaining photoresist 9 is stripped.

次に、ステップ（８）において、全面にフォトレジスト９を再塗布する。次にステップ（９）において電子ビーム描画露光やマスク露光を施し、ステップ（１０）において現像する。続いて、ステップ（１１）において、フォトレジストパターンにあわせてウェットエッチングによりクロム層８をエッチングする。次に、ステップ（１２）において、ドライエッチングにより基板７をエッチングする。この際、ステップ（６）でしたエッチングの半分の深さだけ行う。続いて、ステップ（１３）において、残りのフォトレジストを剥離し、ステップ（１４）において、残りのクロムを全て除去する。このような処理を施すことで、原版１０が得られる。   Next, in step (8), a photoresist 9 is applied again on the entire surface. Next, in step (9), electron beam drawing exposure and mask exposure are performed, and development is performed in step (10). Subsequently, in step (11), the chromium layer 8 is etched by wet etching in accordance with the photoresist pattern. Next, in step (12), the substrate 7 is etched by dry etching. At this time, the etching is carried out only for half the depth of the etching performed in step (6). Subsequently, in step (13), the remaining photoresist is stripped, and in step (14), all the remaining chromium is removed. By performing such processing, the original plate 10 is obtained.

図４乃至図７は、本発明のフーリエ変換ホログラムを作製する方法を示す図である。図４及び図５は、第１実施形態としてスタンパーを用いる場合を示す。図４は、スタンパーを作製する工程を示す図である。１０は原版、１１は導電性膜、１２はスタンパーである。まず、ステップ（１５ａ）において、ステップ（１４）で得られた原版１０に導電性膜１１を蒸着する。次に、ステップ（１６ａ）において、ニッケルメッキ（電鋳）を行い、ステップ（１７ａ）において、原版１０をはがしてスタンパー１２としての金型を形成する。   4 to 7 are diagrams showing a method for producing a Fourier transform hologram of the present invention. 4 and 5 show a case where a stamper is used as the first embodiment. FIG. 4 is a diagram illustrating a process of manufacturing a stamper. 10 is an original plate, 11 is a conductive film, and 12 is a stamper. First, in step (15a), the conductive film 11 is deposited on the original plate 10 obtained in step (14). Next, in step (16a), nickel plating (electroforming) is performed, and in step (17a), the original plate 10 is peeled off to form a mold as the stamper 12.

次に、図５は、図４で作成したスタンパーによりフーリエ変換ホログラムを大型化する工程を示す。１２はスタンパー、１３は熱可塑性樹脂である。ステップ（１８ａ）において、ステップ（１７ａ）で作成したスタンパー１２により、熱可塑性樹脂１３に押圧スタンプを行い、スタンパー１２の幅だけ熱可塑性樹脂１３を搬送して止める。ステップ（１９ａ）において、熱可塑性樹脂１３のステップ（１８ａ）で押圧スタンプされた部分の隣接部分に別に押圧スタンプを行い、再度スタンパー１２の幅だけ熱可塑性樹脂１３を搬送して止める。これを繰り返すことで、大型化することができる。   Next, FIG. 5 shows a process of enlarging the Fourier transform hologram with the stamper created in FIG. 12 is a stamper, and 13 is a thermoplastic resin. In step (18a), the stamper 12 created in step (17a) is used to press stamp the thermoplastic resin 13, and the thermoplastic resin 13 is conveyed by the width of the stamper 12 and stopped. In step (19a), a separate stamp is applied to the portion adjacent to the portion stamped in step (18a) of the thermoplastic resin 13, and the thermoplastic resin 13 is conveyed again by the width of the stamper 12 and stopped. By repeating this, the size can be increased.

図６及び図７は第２実施形態としてのＵＶ複製原版を使用する場合を示す。図６は、ＵＶ複製原版を作成する工程を示す図である。１０は原版、１４は複製原版用基板、１５はＵＶ硬化樹脂、１６はＵＶ複製原版である。まず、ステップ（１５ｂ）において、ステップ（１４）で得られた原版１０にＵＶ硬化樹脂１５を塗布し、その上に複製原版用基板１４を押し付ける。複製原版用基板１４は、ＰＥＴフィルム又はポリカーボネートフィルム等を使用する。次に、ステップ（１６ｂ）において、ＵＶ照射をし、ＵＶ硬化樹脂１５を硬化させる。続いて、ステップ（１７ｂ）において、原版１０をはがすと、ＵＶ複製原版１６が形成される。   6 and 7 show a case where the UV replication original plate as the second embodiment is used. FIG. 6 is a diagram showing a process of creating a UV replication original plate. 10 is an original plate, 14 is a substrate for a replication original plate, 15 is a UV curable resin, and 16 is a UV replication original plate. First, in step (15b), the UV curable resin 15 is applied to the original plate 10 obtained in step (14), and the replica original substrate 14 is pressed thereon. The replica original substrate 14 uses a PET film or a polycarbonate film. Next, in step (16b), UV irradiation is performed to cure the UV curable resin 15. Subsequently, in step (17b), when the original 10 is peeled off, the UV replication original 16 is formed.

次に、図７は図６で作成したＵＶ複製原版１６によりフーリエ変換ホログラムを大型化する工程を示す。１６はＵＶ複製原版、１７はエンボスローラ、１８はＵＶ硬化樹脂を塗布した基材、１９はＵＶ照射装置である。ステップ（１８ｂ）において、ステップ（１７ｂ）で作成したＵＶ複製原版１６をエンボスローラ１７の周囲に配置する。続いて、ステップ（１９ｂ）において、ＵＶ複製原版１６を周囲に配置したエンボスローラ１７と、エンボスローラ１７の下に設けた他のローラとでＵＶ硬化樹脂を塗布した基材１８を挟持し、エンボスローラ１７を回転させることで、ＵＶ硬化樹脂を塗布した基材１８はエンボスパターンが形成されながら搬送され、その下流でＵＶ照射装置によりＵＶ照射され、硬化され、大型化される。   Next, FIG. 7 shows a process of enlarging the Fourier transform hologram with the UV replication original plate 16 created in FIG. 16 is a UV replication original plate, 17 is an embossing roller, 18 is a substrate coated with a UV curable resin, and 19 is a UV irradiation apparatus. In step (18 b), the UV replication original plate 16 created in step (17 b) is arranged around the embossing roller 17. Subsequently, in step (19b), the substrate 18 coated with the UV curable resin is sandwiched between the embossing roller 17 around which the UV replication original plate 16 is disposed and the other roller provided below the embossing roller 17, and the embossing is performed. By rotating the roller 17, the base material 18 coated with the UV curable resin is conveyed while an emboss pattern is formed, and is irradiated with UV by a UV irradiation device downstream thereof, cured, and enlarged.

次に、図８において他の大型化の実施形態を説明する。図８は、原版１０を作成せずに、直接大型化するステップアンドリピートの方法を示す図である。２０は大型の基板である。ステップ（１）及びステップ（２）は前記図３で説明したものと同様な工程であり、フーリエ変換像６を作成する。ＵＶ複製原版１６として、図５のステップ（１９ａ）で得られた大型化されたフーリエ変換ホログラムを用いても良い。   Next, another embodiment of an increase in size will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a diagram showing a step-and-repeat method for directly increasing the size without creating the original plate 10. Reference numeral 20 denotes a large substrate. Step (1) and step (2) are the same steps as those described with reference to FIG. 3, and the Fourier transform image 6 is created. As the UV replication original plate 16, the enlarged Fourier transform hologram obtained in step (19a) of FIG. 5 may be used.

次に、ステップ（３−１）において、大型の基板２０には、前記図３のステップ（３）で示したのと同様にクロム層８、フォトレジスト９が塗布されており、大型の基板２０に、電子ビーム描画露光やマスク露光等を施し、凹凸パターンの潜像をフォトレジストに形成し、次いで、大型の基板２０をフーリエ変換像６の幅の寸法分搬送し止める。続いてステップ（３−２）において、再度大型の基板２０に、電子ビーム描画露光やマスク露光等を施し、凹凸パターンの潜像をフォトレジストに形成し、次いで、大型の基板２０をフーリエ変換像６の幅の寸法分搬送し止める。これを繰り返すことで大型の基板２０に露光する。   Next, in step (3-1), the chrome layer 8 and the photoresist 9 are applied to the large substrate 20 in the same manner as in step (3) in FIG. Then, an electron beam drawing exposure, a mask exposure, etc. are performed to form a latent image of a concavo-convex pattern on the photoresist, and then the large substrate 20 is stopped to be conveyed by the width of the Fourier transform image 6. Subsequently, in step (3-2), the large substrate 20 is again subjected to electron beam drawing exposure, mask exposure, and the like to form a latent image of the concavo-convex pattern on the photoresist, and then the large substrate 20 is subjected to Fourier transform image. Stop feeding for the width of 6. By repeating this, the large substrate 20 is exposed.

次に、図３で示したステップ（４）からステップ（１４）までの工程を大型の基板２０に施すことで大型化される。したがって、大型の目隠し装置が作成できるようになり、用途が拡大し、様々なものに適用できるようになる。   Next, the size is increased by applying the steps from step (4) to step (14) shown in FIG. Therefore, a large-scale blindfold device can be created, and the application can be expanded and applied to various things.

本発明の目隠し装置の実施形態を示す図The figure which shows embodiment of the blindfold apparatus of this invention 本発明の目隠し装置の有する他の機能を示す図The figure which shows the other function which the blindfold device of this invention has 本発明の目隠し装置の原版の製造方法を示す図The figure which shows the manufacturing method of the original plate of the blindfold apparatus of this invention 本発明のスタンパーの製造方法を示す図The figure which shows the manufacturing method of the stamper of this invention 本発明の大型化した目隠し装置の第一の製造方法を示す図The figure which shows the 1st manufacturing method of the enlarged blindfold apparatus of this invention. 本発明のＵＶ複製の製造方法を示す図The figure which shows the manufacturing method of UV replication of this invention 本発明の大型化した目隠し装置の第二の製造方法を示す図The figure which shows the 2nd manufacturing method of the enlarged blindfold apparatus of this invention. 本発明の大型化した目隠し装置の他の製造方法を示す図The figure which shows the other manufacturing method of the blindfolded apparatus which enlarged the present invention. 従来のホログラムを示す図Figure showing a conventional hologram 従来の複製の製造方法を示す図The figure which shows the manufacturing method of conventional copying 従来の計算機ホログラムとそれから再現される像領域とを模式的に示す図A diagram schematically showing a conventional computer generated hologram and the image area reproduced from it 従来の計算機ホログラムを得るためのフローチャートを示す図The figure which shows the flowchart for obtaining the conventional computer generated hologram 従来の計算機ホログラムの構成例を示す断面図Sectional drawing which shows the structural example of the conventional computer hologram

符号の説明Explanation of symbols

１…ホログラム、２…基材、３…粘着層、４…窓ガラス、５…原画、６…フーリエ変換像、７…基板、８…クロム、９…フォトレジスト、１０…原版、１１…導電性膜、１２…スタンパー、１３…熱可塑性樹脂、１４…複製原版用基板、１５…ＵＶ硬化樹脂、１６…ＵＶ複製原版、１７…エンボスローラ、１８…ＵＶ硬化樹脂を塗布した基材、１９…ＵＶ照射装置、２０…大型の基板、Ｉ…室内、Ｏ…屋外、Ｚ…人とホログラムとの距離、θ…回折角、Ｌ１…室内の点光源、Ｌ２…屋外の点光源、ＩＭＧ１…室内のパターン、ＩＭＧ２…屋外のパターン、Ｍ１…室内にいる人、Ｍ２…屋外にいる人 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Hologram, 2 ... Base material, 3 ... Adhesive layer, 4 ... Window glass, 5 ... Original image, 6 ... Fourier transform image, 7 ... Substrate, 8 ... Chrome, 9 ... Photoresist, 10 ... Original plate, 11 ... Conductivity Membrane, 12 ... Stamper, 13 ... Thermoplastic resin, 14 ... Substrate for replication master, 15 ... UV curable resin, 16 ... UV replication master, 17 ... Embossing roller, 18 ... Substrate coated with UV curable resin, 19 ... UV Irradiation device, 20 ... large substrate, I ... indoor, O ... outdoor, Z ... distance between person and hologram, .theta .... diffraction angle, L1 ... indoor point light source, L2 ... outdoor point light source, IMG1 ... indoor pattern , IMG2 ... outdoor pattern, M1 ... indoors, M2 ... outdoors

Claims (10)

０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、
を用いたことを特徴とする目隠し装置。 The diffraction efficiency of 0-order light while blindfolded as background passes when viewed from the light source side is not visible clearly by 30% or less, transmitting a point light source of the light source side from the side opposite to the light source A relief-type Fourier transform hologram for converting into a desired pattern when viewed as a point light source opposite to the light source and viewed from the light source side ,
A blindfolding device characterized by using. 前記フーリエ変換ホログラムは、位相型の計算機ホログラムとして構成されていることを特徴とする請求項１に記載の目隠し装置。   The blindfolding device according to claim 1, wherein the Fourier transform hologram is configured as a phase-type computer generated hologram. 前記フーリエ変換ホログラムは、窓に貼付されることを特徴とする請求項１又は２に記載の目隠し装置。   The blindfolding device according to claim 1, wherein the Fourier transform hologram is attached to a window. 前記フーリエ変換ホログラムは、２枚の透明板で構成した窓の間に挟持されることを特徴とする請求項１又は２に記載の目隠し装置。   The blindfolding device according to claim 1 or 2, wherein the Fourier transform hologram is sandwiched between windows configured by two transparent plates. 前記フーリエ変換ホログラムは、出入自在に窓を覆うことが可能なスライド式であること特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の目隠し装置。   The blindfolding device according to any one of claims 1 to 4, wherein the Fourier transform hologram is a slide type capable of covering a window so as to freely enter and exit. 前記フーリエ変換ホログラムは、出入自在に窓を覆うことが可能なロールスクリーン式であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の目隠し装置。   The blindfolding device according to any one of claims 1 to 4, wherein the Fourier transform hologram is a roll screen type capable of covering a window so as to freely enter and exit. 前記フーリエ変換ホログラムのセルは、２０μｍピッチ以下であることを特徴とする請求項２乃至６のいずれかに記載の目隠し装置。 The blindfolding device according to any one of claims 2 to 6, wherein the cells of the Fourier transform hologram have a pitch of 20 µm or less. ０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、
を用いた目隠し装置の製造方法であって、
前記フーリエ変換ホログラムは、原版のスタンパーを用いて複製することによって作製される
ことを特徴とする目隠し装置の製造方法。 The diffraction efficiency of 0-order light while blindfolded as background passes when viewed from the light source side is not visible clearly by 30% or less, transmitting a point light source of the light source side from the side opposite to the light source A relief-type Fourier transform hologram for converting into a desired pattern when viewed as a point light source opposite to the light source and viewed from the light source side ,
A method of manufacturing a blindfold device using
The method of manufacturing a blindfold device, wherein the Fourier transform hologram is manufactured by duplicating using a stamper of an original plate. ０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合には透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、
を用いた目隠し装置の製造方法であって、
前記フーリエ変換ホログラムは、原版をＵＶ樹脂に複製することによって作製される
ことを特徴とする目隠し装置の製造方法。 When viewed from the light source side by setting the diffraction efficiency of the 0th-order light to 30% or less , the transmitted light background is hidden so that the transmitted background is not clearly visible, and the point light source on the light source side is viewed from the side opposite to the light source. One relief-type Fourier transform hologram that converts to a desired pattern when viewed through and when viewed from the point light source opposite to the light source through the light source ,
A method of manufacturing a blindfold device using
The method of manufacturing a blindfold device, wherein the Fourier transform hologram is produced by replicating an original plate on a UV resin. ０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、
を用いた目隠し装置の製造方法であって、
前記フーリエ変換ホログラムは、原画をフーリエ変換したフーリエ変換像をステップアンドリピートで露光することによって作製される
ことを特徴とする目隠し装置の製造方法。 The diffraction efficiency of 0-order light while blindfolded as background passes when viewed from the light source side is not visible clearly by 30% or less, transmitting a point light source of the light source side from the side opposite to the light source A relief-type Fourier transform hologram for converting into a desired pattern when viewed as a point light source opposite to the light source and viewed from the light source side ,
A method of manufacturing a blindfold device using
The Fourier transform hologram is produced by exposing a Fourier transform image obtained by Fourier transforming an original image in a step-and-repeat manner.
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