JP5205582B1 - Method of setting transmission region and invisible region of display device cover plate, and display device cover plate - Google Patents
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Abstract
【課題】マスク体によってマスク処理をして透過領域を形成する際に、透過領域との境界部分の不可視領域の外観に不具合のない表示装置用カバープレートの透過領域及び不可視領域の設定方法並びにそのような透過領域及び不可視領域が設定された表示装置用カバープレートを提供すること。
【解決手段】窓部２及びフレーム部３の境界線に沿ってライン層４を印刷し、ライン層４の上にマスク体の外郭が配置されるように所定のマスク処理を行い、次いで成膜処理を行なって金属光沢層５が成膜された後に記マスク体を除去して窓部２を形成させる。その後、遮蔽層等を形成して表示装置用カバープレートを製造する。
【選択図】図１A method of setting a transmissive region and an invisible region of a cover plate for a display device that does not have a defect in the appearance of an invisible region at a boundary with the transmissive region when mask processing is performed by a mask body, and the method thereof To provide a cover plate for a display device in which a transparent region and an invisible region are set.
A line layer 4 is printed along a boundary line between a window portion 2 and a frame portion 3, a predetermined mask process is performed so that an outline of a mask body is disposed on the line layer 4, and then film formation is performed. After the processing, the metallic gloss layer 5 is formed, and then the mask body is removed to form the window portion 2. Thereafter, a shielding layer or the like is formed to manufacture a display device cover plate.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は例えば携帯端末、デジタルカメラ、ビデオカメラ、パソコンモニター、ＴＶモニター、ナビゲーション装置又は電卓等の表示装置のカバープレートの透過領域及び不可視領域の設定方法並びに表示装置用カバープレートに関するものである。 The present invention relates to a method for setting a transparent region and an invisible region of a cover plate of a display device such as a portable terminal, a digital camera, a video camera, a personal computer monitor, a TV monitor, a navigation device, or a calculator, and a display device cover plate.
ディスプレイ部を備えた表示装置、例えばスマートフォンやタブレットデバイス等の携帯端末では筐体の前面に表示装置用カバープレートとしてのタッチパネルを配置し、透明な透過領域を通してディスプレイ部を目視できるような構成となっている。そして、タッチパネルの周囲は筐体内部に配設されたセンサ等の内蔵機構を隠蔽するための不可視領域とするために従来からスクリーン印刷によって着色が施されている。印刷はパネルの本体となる透明な基板の内蔵機構側となる裏面側に行われる。透過領域は不可視領域に包囲されて窓状の外観をなすこととなる。このようなカバープレートの透過領域を窓状に包囲する不可視領域を形成する技術として特許文献１を挙げる。
ところで、表示装置のデザイン性を向上させるために、不可視領域の色として多様な金属色を配色したいという要請がある。そのために誘電体多層膜からなる誘電体薄膜（多層膜）を不可視領域に成膜して実現させることが想定される。しかし、誘電体薄膜は印刷では成膜できないため、この場合には透過領域をマスク体によってマスク処理をし、蒸着法やスパッタ法によって基板全域に薄膜を成膜させ、成膜後にマスク処理をしたマスク体を除去して透過領域を形成することとなる。
In a display device having a display unit, for example, a mobile terminal such as a smartphone or a tablet device, a touch panel as a display device cover plate is arranged on the front surface of the housing, and the display unit can be viewed through a transparent transparent region. ing. The surroundings of the touch panel are conventionally colored by screen printing so as to be an invisible region for concealing a built-in mechanism such as a sensor disposed inside the housing. Printing is performed on the back side, which is the built-in mechanism side, of the transparent substrate that is the main body of the panel. The transmissive region is surrounded by an invisible region and has a window-like appearance. Patent Document 1 is cited as a technique for forming such an invisible region that surrounds the transmission region of the cover plate in a window shape.
By the way, in order to improve the design of the display device, there is a demand to arrange various metal colors as colors of the invisible region. Therefore, it is assumed that a dielectric thin film (multilayer film) made of a dielectric multilayer film is formed in an invisible region. However, since the dielectric thin film cannot be formed by printing, in this case, the transmissive region was masked with a mask body, a thin film was formed over the entire substrate by vapor deposition or sputtering, and the mask processing was performed after film formation. The transmissive region is formed by removing the mask body.
しかしながら、マスク体を除去する際にいくつかの問題が発生する。マスク体としてはマスクプレート、マスキングテープ又はレジストインキが想定されるが、マスクプレートやマスキングテープを使用した場合にはこれらは厚みがあるため基板との間で段差ができ、これが成膜のムラの原因となって透過領域の周囲に色にじみが発生することがある。また、レジストインキではマスクプレートやマスキングテープに比べて厚みが少ないため色にじみは発生しないものの、剥がす際に不可視領域側の薄膜の一部が剥がれて、透過領域との境界付近が乱れてしまう問題が生じてしまう。
より具体的に説明する。図５（ａ）〜（ｄ）は従来のカバープレートの透過領域及び不可視領域の設定方法を説明するイメージ図である。図５（ａ）のような基板１００上（外方に露出されない内蔵機構側）に例えば図５（ｂ）のようにマスキングテープ１０１を貼着する。そして、図５（ｃ）のように不可視領域から透過領域の間にまたがるように例えば蒸着によって誘電体薄膜１０２を成膜させることとする。この際に図５（ｃ）及び（ｄ）のようにマスキングテープ１０１の厚みがマスキングテープ１０１近傍の蒸着粒子の付着を阻害して透過領域の周囲の誘電体薄膜１０２の厚みが均一にならない不均一部１０３が形成される。不均一部１０３では厚みの違いから光学的に反射色が異なるため不可視領域の周縁で色にじみが生じることとなる。
また、薄膜の一部剥がれについては次の通りである。図６（ａ）のような基板１００上に例えばレジストインキによって図６（ｂ）のようにレジスト膜１０５を成膜させる。そして、図６（ｃ）のように不可視領域から透過領域の間にまたがるように例えば蒸着によって誘電体薄膜１０６を成膜させることとする。このとき、レジスト膜１０５は基板１００との間の段差が比較的小さいため、誘電体薄膜１０６は不可視領域から透過領域の間でつながった連結部分１０７が形成されることがある。透過領域を形成するためにレジスト膜１０５を剥がすとこの連結部分１０７が残って図６（ｄ）のような剥がれ跡１０８が生じることとがある。
これらのような外観上の問題があるため、マスク体によってマスク処理をして透過領域を形成する方式は採用しにくかった。
尚、このような課題は不可視領域に誘電体薄膜を成膜する場合だけでなく、マスク体によってマスク処理をして透過領域を形成しようとする場合全般において生じる可能性のある課題である。
本発明は上記課題を解消するためになされたものであり、その目的は、マスク体によってマスク処理をして透過領域を形成する際に、透過領域との境界部分の不可視領域の外観に不具合のない表示装置用カバープレートの透過領域及び不可視領域の設定方法並びにそのような透過領域及び不可視領域が設定された表示装置用カバープレートを提供することにある。
However, several problems occur when removing the mask body. A mask plate, masking tape, or resist ink is assumed as the mask body. However, when the mask plate or masking tape is used, there is a difference in level between the substrate and the unevenness of film formation. This may cause color bleeding around the transmissive area. In addition, the resist ink has less thickness than the mask plate and masking tape, so color bleeding does not occur, but when peeling, a part of the thin film on the invisible area side is peeled off and the vicinity of the boundary with the transmission area is disturbed Will occur.
This will be described more specifically. FIGS. 5A to 5D are image diagrams for explaining a conventional method for setting a transmission region and an invisible region of a cover plate. For example, as shown in FIG. 5B, the masking tape 101 is attached to the substrate 100 as shown in FIG. 5A (the built-in mechanism side that is not exposed to the outside). Then, as shown in FIG. 5C, the dielectric thin film 102 is formed by, for example, vapor deposition so as to span between the invisible region and the transmissive region. At this time, as shown in FIGS. 5C and 5D, the thickness of the masking tape 101 hinders adhesion of vapor deposition particles in the vicinity of the masking tape 101, and the thickness of the dielectric thin film 102 around the transmission region does not become uniform. A uniform portion 103 is formed. In the non-uniform portion 103, since the reflection color is optically different due to the difference in thickness, color blur occurs at the periphery of the invisible region.
The partial peeling of the thin film is as follows. A resist film 105 is formed on the substrate 100 as shown in FIG. 6A by using, for example, resist ink as shown in FIG. 6B. Then, as shown in FIG. 6C, the dielectric thin film 106 is formed by vapor deposition, for example, so as to span between the invisible region and the transmissive region. At this time, since the level difference between the resist film 105 and the substrate 100 is relatively small, the dielectric thin film 106 may be formed with a connecting portion 107 connected between the invisible region and the transmissive region. When the resist film 105 is peeled off to form a transmissive region, the connecting portion 107 may remain and a peeling trace 108 as shown in FIG.
Because of these appearance problems, it is difficult to adopt a method of forming a transmissive region by masking with a mask body.
Such a problem is a problem that may occur not only when a dielectric thin film is formed in an invisible region but also when a mask region is used to form a transmissive region by masking.
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to provide a defect in the appearance of an invisible region at the boundary with the transmissive region when the transmissive region is formed by performing mask processing with a mask body. Another object of the present invention is to provide a method for setting a transmissive region and an invisible region of a display device cover plate, and a display device cover plate in which such a transmissive region and an invisible region are set.
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明では、透透明あるいは半透明の透過領域と、背景を透過させないように基板の裏面側に薄膜を成膜させた不可視領域とを有する表示装置用カバープレートの透過領域及び不可視領域の設定方法であって、前記透過領域及び不可視領域の境界線に沿って線状印刷を行い、線状印刷面の上にマスク体の外郭が配置されるようにマスク処理を行い、次いで前記透過領域と不可視領域の間にまたがるように誘電体多層膜による成膜処理を行ない、前記誘電体多層膜の薄膜が成膜された後に少なくとも前記不可視領域に対して濃色の遮蔽処理を行い、その後に前記マスク体を除去して透過領域を形成させるようにしたことをその要旨とする。
請求項２に記載の発明では請求項１に記載の発明において、前記カバープレートは前記表示装置のディスプレイ部の前面位置に配置され、前記透過領域を透過して前記ディスプレイ部が目視可能とされることをその要旨とする。
請求項３に記載の発明では請求項１又は２に記載の発明において、前記マスク体はマスクプレート、マスキングテープ又はレジストインキのいずれかであることをその要旨とする。
請求項４に記載の発明では請求項１〜３のいずれかに記載の発明において、前記薄膜は蒸着法、スパッタリング、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、スピンコート法、ディップコート法のいずれかで成膜されることをその要旨とする。
請求項５に記載の発明では請求項１〜４のいずれかに記載の設定方法によって表示装置用カバープレートの透過領域及び不可視領域を設定するようにしたことをその要旨とする。
In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, there is provided a display having a transparent or translucent transparent region and an invisible region in which a thin film is formed on the back side of the substrate so as not to transmit the background. A method for setting a transmissive region and an invisible region of an apparatus cover plate, wherein linear printing is performed along a boundary line between the transmissive region and an invisible region, and an outline of a mask body is disposed on the linear printing surface. Then, a film forming process using a dielectric multilayer film is performed so as to straddle between the transmissive region and the invisible region, and at least the invisible region is formed after the dielectric multilayer film is formed. The gist of the invention is that a dark color shielding process is performed, and then the mask body is removed to form a transmission region.
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the cover plate is disposed at a front position of the display unit of the display device, and the display unit is visible through the transmission region. This is the gist.
The gist of the invention according to claim 3 is that, in the invention according to claim 1 or 2, the mask body is any one of a mask plate, a masking tape, and a resist ink.
According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the thin film is formed by any one of an evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, a CVD method, a spin coating method, and a dip coating method. The gist is to be formed into a film.
The gist of the invention described in claim 5 is that the transmission region and the invisible region of the display device cover plate are set by the setting method according to any one of claims 1 to 4.
上記のような構成とすれば、透過領域と不可視領域の境界線は基板の裏面側において線状印刷面の幅内に配置されることとなり、透過領域に隣接した不可視領域部分に色にじみや薄膜の剥離による乱れがあっても基板の表面側からの目視においてはこれらの症状がでる境界線付近が線状印刷面によって隠されることとなるため外観が良好となる。
ここに、色にじみや薄膜の剥離による乱れの幅はこの種の薄膜技術においては数十μｍ〜数百μｍ程度となるため、線状印刷面はこれ以上の幅であれば十分であるが、あまり幅が広いと線状印刷面が不自然に目立つこととなるため、５０００μｍ（５ｍｍ）より狭いことが好ましく、より好ましくは３００〜６００μｍ程度である。要は基板の表面側からの目視において色にじみや薄膜の剥離による乱れを隠すことが可能であればよい。また、色にじみや薄膜の剥離による乱れをわかりにくくできるのであれば完全に隠れなくともよい。そのため、数十μｍ程度の細幅であっても構わない。
背景となるディスプレイ部はデフォルト状態で濃色であるため、特に目立ちにくくなるため線状印刷面は濃色（例えば黒色）であることが好ましいが、デザイン上必要であれば淡色でも問題ない。背景となるディスプレイ部はデフォルト状態で濃色であるため、特に目立ちにくくなるからである。
線状印刷方法としては例えばスクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、パッド印刷、フレキソ印刷等の凸版印刷や凹版印刷、孔版印刷等の各種版印刷手法によって実行することが可能である。また、インクジェット、レーザー又は熱転写のような無版式印刷やレタリングテープやマスクプレート、マスキングテープによるマスキングでの印刷も可能である。
本発明に使用される基板は特に限定されるものではなく、例えばガラス、ポリカーボネート、ポリメチルメタクレート及びその共重合体、ポリプロピレン、ポリエチレン、塩化ビニル、ＡＢＳ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、ＮＢＲ樹脂、ＡＳ樹脂等が一例として挙げられる。基板は透明又は半透明であってその形状は取り付けられる表示装置に応じて区々であり、必ずしも平板である必要はない。また、デザイン上必要であれば先行して加飾が行われていても問題ない。
With the configuration as described above, the boundary line between the transmissive region and the invisible region is arranged within the width of the linear printed surface on the back surface side of the substrate, and a color blur or thin film is formed in the invisible region portion adjacent to the transmissive region. Even if there is a disturbance due to peeling, the vicinity of the boundary line where these symptoms appear is hidden by the linear printed surface when viewed from the surface side of the substrate, so that the appearance is improved.
Here, the width of disturbance due to color bleeding or thin film peeling is about several tens of μm to several hundreds of μm in this type of thin film technology, so that the width of the linear printed surface is sufficient, If the width is too wide, the linear printed surface becomes unnaturally conspicuous, and therefore it is preferably narrower than 5000 μm (5 mm), more preferably about 300 to 600 μm. In short, it is only necessary to be able to conceal the color bleeding and the disturbance caused by the peeling of the thin film as viewed from the surface side of the substrate. Further, it is not necessary to completely hide the color blur or the disturbance caused by the peeling of the thin film. Therefore, it may be as narrow as several tens of μm.
Since the background display portion is dark in the default state, the line-shaped printed surface is preferably dark (for example, black) because it is particularly inconspicuous. This is because the background display unit is dark in the default state, and thus becomes particularly inconspicuous.
The linear printing method can be executed by various plate printing methods such as relief printing such as screen printing, offset printing, gravure printing, pad printing, flexographic printing, intaglio printing, and stencil printing. Further, plateless printing such as inkjet, laser, or thermal transfer, and printing by masking with a lettering tape, mask plate, or masking tape are also possible.
The substrate used in the present invention is not particularly limited. For example, glass, polycarbonate, polymethyl methacrylate and its copolymer, polypropylene, polyethylene, vinyl chloride, ABS resin, phenol resin, melamine resin, silicone resin, Examples include NBR resin and AS resin. The substrate is transparent or translucent, and its shape varies depending on the display device to which the substrate is attached, and is not necessarily flat. Moreover, there is no problem even if the decoration is performed in advance if necessary for the design.
マスク処理に使用されるマスク体はマスクプレート、マスキングテープ又はレジストインキのいずれかであることが好ましい。
薄膜は蒸着法、スパッタリング、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、スピンコート法、ディップコート法のいずれかで成膜されることが好ましい。薄膜としては金属色を発色する誘電体多層膜だけでなく、不透明な黒色や白色あるいは赤色や青色のような彩度のある薄膜を成膜することも可能である。
また、薄膜が誘電体多層膜である場合において、成膜処理の後に少なくとも前記不可視領域に対して濃色の遮蔽処理を行うことが好ましく、遮蔽処理を行ってからマスク体を除去することが作業効率上好ましい。もちろん、遮蔽処理の前にマスク体を除去するようにしてもよい。
It is preferable that the mask body used for the mask processing is any one of a mask plate, a masking tape, and a resist ink.
The thin film is preferably formed by any of vapor deposition, sputtering, ion plating, CVD, spin coating, and dip coating. As the thin film, it is possible to form not only a dielectric multilayer film that develops a metal color, but also a thin film having a saturation such as opaque black, white, red, or blue.
Further, in the case where the thin film is a dielectric multilayer film, it is preferable to perform a dark color shielding process on at least the invisible region after the film forming process, and removing the mask body after the shielding process is performed It is preferable in terms of efficiency. Of course, the mask body may be removed before the shielding process.
上記各請求項に記載の発明によれば、マスク体によってマスク処理をして表示装置用カバープレートの透過領域を形成する際に、透過領域との境界部分の不可視領域の外観を良好に保つことが可能となる。 According to the invention described in each of the above claims, when forming the transmissive region of the display device cover plate by performing mask processing with the mask body, the appearance of the invisible region at the boundary with the transmissive region is kept good. Is possible.
以下、本発明の表示装置用カバープレートの透過領域及び不可視領域の設定方法並びにそのような透過領域及び不可視領域が設定された表示装置用カバープレートの一実施の形態について図面に基づいて説明する。
図１は本発明の設定方法によって透過領域及び不可視領域が設定された表示装置用カバープレートとしての携帯型情報端末用のタッチパネルである。タッチパネルは透明な硬質ガラスの板体を基板１としており、基板１は縦１１０ｍｍ、横６０ｍｍ、厚み０．５ｍｍの長方形形状に構成されている。基板１の裏面、すなわち携帯型情報端末の内側を向いた面に対して透過領域としての透明な窓部２と、不可視領域としてのフレーム部３が形成されている。フレーム部３によって画定された内部領域が窓部２とされている。
図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、フレーム部３は複数の薄膜層が厚み方向に重複状に配置されて構成されており、基板１側から順にライン層４、金属光沢層５、遮蔽層６、赤外線透過層７が成膜されている。
線状印刷としてのライン層４は印刷によって形成された黒色の印刷であって、窓部２とフレーム部３の境界全周囲にかけて同幅で形成されている。金属光沢層５は基板１の表側（外側）からフレーム部３の形状として目視される誘電体多層膜である。金属光沢層５の上部領域には誘電体多層膜がカットされた楕円形の第１の透孔８と円形の第２の透孔９が形成されている。遮蔽層６は金属光沢層５が若干薄くて背景の内蔵機構が透けてしまうことと、金属光沢層５をより際立たせるために配置される黒色の補助層である。遮蔽層６には第１及び第２の透孔８，９に対応した位置にそれぞれ透孔が形成されている。赤外線透過層７は第１及び第２の透孔８，９を封塞するように部分的に配置されている。赤外線透過層７は可視光域について５０％程度の吸収特性を有し、赤外線透過特性について非常に高い透過率を有する太陽光下で灰色を呈する層である。第１の透孔８の背面位置には赤外線センサの配置を予定しており、第２の透孔９の背面位置には照度センサ及び近接センサの配置を予定している。
Hereinafter, a method for setting a transmission region and an invisible region of a display device cover plate of the present invention and an embodiment of a display device cover plate in which such a transmission region and an invisible region are set will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a touch panel for a portable information terminal as a cover plate for a display device in which a transmissive region and an invisible region are set by the setting method of the present invention. The touch panel uses a transparent hard glass plate as the substrate 1, and the substrate 1 is configured in a rectangular shape with a length of 110 mm, a width of 60 mm, and a thickness of 0.5 mm. A transparent window portion 2 as a transmissive region and a frame portion 3 as an invisible region are formed on the back surface of the substrate 1, that is, the surface facing the inside of the portable information terminal. An internal region defined by the frame portion 3 is a window portion 2.
As shown in FIGS. 2A and 2B, the frame portion 3 is configured by a plurality of thin film layers arranged in an overlapping manner in the thickness direction. The line layer 4 and the metallic luster layer 5 are sequentially formed from the substrate 1 side. A shielding layer 6 and an infrared transmission layer 7 are formed.
The line layer 4 as linear printing is black printing formed by printing, and is formed with the same width over the entire boundary between the window portion 2 and the frame portion 3. The metallic gloss layer 5 is a dielectric multilayer film that is viewed from the front side (outside) of the substrate 1 as the shape of the frame portion 3. In the upper region of the metallic gloss layer 5, an elliptical first through hole 8 and a circular second through hole 9 in which a dielectric multilayer film is cut are formed. The shielding layer 6 is a black auxiliary layer that is arranged to make the metallic gloss layer 5 slightly thin and the built-in mechanism of the background can be seen through, and to make the metallic gloss layer 5 more prominent. Through holes are formed in the shielding layer 6 at positions corresponding to the first and second through holes 8 and 9, respectively. The infrared transmitting layer 7 is partially disposed so as to seal the first and second through holes 8 and 9. The infrared transmission layer 7 is a layer that exhibits an absorption characteristic of about 50% in the visible light region and is gray under sunlight having a very high transmittance with respect to the infrared transmission characteristic. An infrared sensor is planned to be placed at the back position of the first through hole 8, and an illuminance sensor and a proximity sensor are planned to be placed at the back position of the second through hole 9.
次に、上記の構成のようなタッチパネルにおいて窓部２とフレーム部３を製造する方法のについて具体的な実施例として説明する。
（実施例１）
１）ライン層の成膜
実施例１では図３（ａ）に示すように、基板１としてコーニング社製の化学強化済みGorillaガラスを使用した。この基板１上にライン層４をスクリーン印刷機によってスクリーン印刷をした。スクリーン印刷用のインキは、株式会社セイコーアドバンス社製インキ（HF GV2RX01710ブラック）と同社製添加剤CARE182を重量比=１００：２となるように秤量・撹拌を行い、均一になるように混合した。その後、スクリーン印刷に適する粘度になるように同社製T-980溶剤を用いて希釈をしてインキ調製を行った。スクリーン印刷においては、テトロン３００メッシュのスクリーンを使用して実行した。本実施例１では枠線の太さについては５００μｍの線幅とする。スクリーン印刷後、熱風乾燥炉にて１５０℃で３０分間インクの乾燥を行った。
Next, a method for manufacturing the window portion 2 and the frame portion 3 in the touch panel having the above configuration will be described as a specific example.
Example 1
1) Formation of Line Layer In Example 1, a chemically strengthened Gorilla glass manufactured by Corning was used as the substrate 1 as shown in FIG. The line layer 4 was screen printed on the substrate 1 by a screen printer. As the ink for screen printing, Seiko Advance Inc. (HF GV2RX01710 Black) and the additive CARE182 were weighed and stirred so that the weight ratio was 100: 2, and mixed uniformly. Thereafter, ink was prepared by diluting with a T-980 solvent manufactured by the same company so as to have a viscosity suitable for screen printing. Screen printing was performed using a Tetron 300 mesh screen. In the first embodiment, the thickness of the frame line is set to 500 μm. After screen printing, the ink was dried in a hot air drying oven at 150 ° C. for 30 minutes.
２）レジストインキによるマスキング
１）の工程の後に図３（ｂ）に示すように、レジスト膜を形成するために透過領域にレジスト印刷を行った。レジストインキとしては、株式会社野田スクリーン社製レジストインキ（NSMF-7000）をテトロン３００メッシュのスクリーンを使い、ライン層４に上にインキの境界線が載るように位置調整しスクリーン印刷機にて印刷を行った。印刷後、熱風乾燥炉を使用して１８０℃で３０分間乾燥を行いレジスト膜を形成させた。
３）誘電体多層膜の蒸着
２）においてレジストインキでマスキングした基板１を真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度６０℃で太陽光下で赤色を呈する誘電体多層膜を蒸着させた（図３（ｃ）の状態）。膜の構成は、物理膜厚で基板１側から順に酸化ジルコニウム層１２０ｎｍ、二酸化珪素層３３ｎｍ、酸化ジルコニウム層９２ｎｍ、二酸化珪素層１４５ｎｍ、酸化ジルコニウム層７５ｎｍ、二酸化珪素層１５０ｎｍ、酸化ジルコニウム層３３ｎｍ、二酸化珪素層１５０ｎｍ、酸化ジルコニウム層１００ｎｍ、最上層の二酸化珪素層が５０の１０層膜とした。誘電体多層膜は基板１の裏面全域に成膜され、レジストインキの外側に蒸着された領域が金属光沢層５を形成することとなる。この金属光沢層５の光学特性は表１のグラフのＡとされる。
2) Masking with resist ink After the step 1), as shown in FIG. 3B, resist printing was performed on the transmission region in order to form a resist film. As resist ink, resist ink (NSMF-7000) manufactured by Noda Screen Co., Ltd. is used with a Tetron 300 mesh screen, and the position is adjusted so that the boundary line of the ink is placed on the line layer 4 and printed by a screen printer. Went. After printing, drying was performed at 180 ° C. for 30 minutes using a hot air drying oven to form a resist film.
3) Deposition of dielectric multilayer film Substrate 1 masked with resist ink in 2) is set in a vacuum chamber, and a dielectric multilayer film exhibiting red color under sunlight at a substrate temperature of 60 ° C. is deposited by vacuum deposition. (State shown in FIG. 3C). The structure of the film is as follows: in order of physical thickness from the substrate 1 side: zirconium oxide layer 120 nm, silicon dioxide layer 33 nm, zirconium oxide layer 92 nm, silicon dioxide layer 145 nm, zirconium oxide layer 75 nm, silicon dioxide layer 150 nm, zirconium oxide layer 33 nm, A 10-layer film having a silicon layer of 150 nm, a zirconium oxide layer of 100 nm, and an uppermost silicon dioxide layer of 50 was formed. The dielectric multilayer film is formed over the entire back surface of the substrate 1, and the area deposited on the outside of the resist ink forms the metallic gloss layer 5. The optical characteristic of the metallic gloss layer 5 is A in the graph of Table 1.
４）マスキングの除去
粘着テープを使用して２）の工程で形成したレジスト膜を剥がした。このとき、従来と同様に剥がれ跡が生じるが、剥がれ跡はライン層４上に配置されることとなる（図３（ｄ）の状態）。そのため、タッチパネルを使用状態に携帯型情報端末に装着させた際に表側から剥がれ跡が目視されることがない（又は目視されにくい）。レジスト膜を剥がすことで窓部２とフレーム部３（この段階では金属光沢層５のみ）が形成される。
５）遮蔽層の成膜
１）で調整したインキを使用してスクリーン印刷機によってフレーム部３に一致するように遮蔽層６のスクリーン印刷を行った（図３（ｅ）の状態）。
６）赤外線透過層の成膜
第１及び第２の透孔８，９に対応した位置に、赤外線透過層をスクリーン印刷機によって赤外線透過層７のスクリーン印刷を行った（図３（ｆ）の状態）。赤外線透過層用のインキとしては、株式会社セイコーアドバンス社製インキ（HF GV2RX01 IR-BlackNX）と同社の添加剤CARE182を重量比=１００：２となるように秤量・撹拌を行い、均一になるように混合した。その後、スクリーン印刷に適する粘度になるように(株)セイコーアドバンス社製T-980溶剤を用いて希釈をしてインキ調製を行った。調製したインキはテトロン３００メッシュのスクリーンを使用しスクリーン印刷機を用いて印刷を行う。印刷後、熱風乾燥炉にて１５０℃で３０分間乾燥を行った。
4) Removal of masking The resist film formed in the step 2) was peeled off using an adhesive tape. At this time, peeling traces are generated as in the conventional case, but the peeling traces are arranged on the line layer 4 (state shown in FIG. 3D). For this reason, when the touch panel is attached to the portable information terminal in the use state, the trace of peeling is not visually observed from the front side (or is hardly visible). By peeling off the resist film, the window portion 2 and the frame portion 3 (only the metallic gloss layer 5 at this stage) are formed.
5) Film formation of shielding layer Screen printing of the shielding layer 6 was performed using the ink prepared in 1) so as to coincide with the frame portion 3 by a screen printing machine (state shown in FIG. 3E).
6) Film formation of infrared ray transmitting layer The infrared ray transmitting layer 7 was screen-printed by a screen printer at a position corresponding to the first and second through holes 8 and 9 (FIG. 3 (f)). State). As the ink for the infrared transmitting layer, weigh and agitate the ink manufactured by Seiko Advance Co., Ltd. (HF GV2RX01 IR-BlackNX) and our additive CARE182 so that the weight ratio = 100: 2 Mixed. Thereafter, ink was prepared by diluting with a T-980 solvent manufactured by Seiko Advance Co., Ltd. so as to have a viscosity suitable for screen printing. The prepared ink is printed using a Tetron 300 mesh screen using a screen printer. After printing, drying was performed at 150 ° C. for 30 minutes in a hot air drying furnace.
（実施例２）
実施例２では実施例１と異なり、４）マスキングの除去、と５）遮蔽層の成膜の順を変えて実施した。つまり、レジスト膜を剥がす前に先に遮蔽層を成膜したものである。
また、３）誘電体多層膜の蒸着として、実施例と異なり緑色を呈する誘電体多層膜を蒸着させた（図３（ｃ）の状態）。膜の構成は、物理膜厚で基板１側から順に酸化ジルコニウム層５６ｎｍ、二酸化珪素層８６ｎｍ、酸化ジルコニウム層６５ｎｍ、二酸化珪素層９７ｎｍ、酸化ジルコニウム層６８ｎｍ、二酸化珪素層８７ｎｍ、酸化ジルコニウム層４７ｎｍ、二酸化珪素層５０ｎｍの８層膜とした。この金属光沢層５の光学特性は表１のグラフのＢとされる。
(Example 2)
Unlike Example 1, Example 2 was performed by changing the order of 4) removal of masking and 5) film formation of the shielding layer. In other words, the shielding layer is first formed before the resist film is peeled off.
Further, 3) As a vapor deposition of the dielectric multilayer film, a dielectric multilayer film exhibiting a green color was deposited unlike the example (state of FIG. 3C). The structure of the film is as follows: in order of physical thickness from the substrate 1 side: zirconium oxide layer 56 nm, silicon dioxide layer 86 nm, zirconium oxide layer 65 nm, silicon dioxide layer 97 nm, zirconium oxide layer 68 nm, silicon dioxide layer 87 nm, zirconium oxide layer 47 nm, An eight-layer film having a silicon layer of 50 nm was formed. The optical characteristics of the metallic gloss layer 5 are indicated by B in the graph of Table 1.
（実施例３）
１）ライン層の成膜
実施例１及び２と同様である（図４（ａ）の状態）。
２）マスクプレートによるマスキング
基板セット用冶具（マスク冶具）にステンレス製のマスクプレートをセットし、その上に１）においてライン層を成膜させた基板１をセットした。この時マスク版、基板１ともセット用冶具の窪みに当てることで所定の位置に固定されるように調整されているため、ライン層の上にマスクプレートの端面が配置されることとなる。そして、マスクプレートを磁石のような固定手段によってずれないように固定した（図４（ｂ）の状態）。
３）誘電体多層膜の蒸着
２）においてマスクプレートをセットした基板１を真空槽内にセットし、真空蒸着法によって、基板温度６０℃で太陽光下で青色を呈する誘電体多層膜を蒸着させた（図４（ｃ）の状態）。膜の構成は、物理膜厚で基板１側から順に酸化ジルコニウム層４５ｎｍ、二酸化珪素層６８ｎｍ、酸化ジルコニウム層５２ｎｍ、二酸化珪素層６６ｎｍ、酸化ジルコニウム層５０ｎｍ、二酸化珪素層５０ｎｍの６層膜とした。この金属光沢層５の光学特性は表１のグラフのＣとされる。このとき、従来と同様にマスクプレートの周囲であってライン層の上に不均一部ができ色にじみが発生することとなる。
(Example 3)
1) Film formation of line layer It is the same as that of Example 1 and 2 (state of Fig.4 (a)).
2) Masking with a mask plate A stainless steel mask plate was set on a substrate setting jig (mask jig), and a substrate 1 on which a line layer was formed in 1) was set thereon. At this time, since the mask plate and the substrate 1 are both adjusted to be fixed at a predetermined position by being applied to the recess of the setting jig, the end face of the mask plate is disposed on the line layer. Then, the mask plate was fixed by a fixing means such as a magnet so as not to be displaced (state shown in FIG. 4B).
3) Deposition of dielectric multilayer film The substrate 1 on which the mask plate is set in 2) is set in a vacuum chamber, and a dielectric multilayer film exhibiting a blue color under sunlight at a substrate temperature of 60 ° C. is deposited by a vacuum deposition method. (State shown in FIG. 4C). The structure of the film was a six-layer film having a physical film thickness of 45 nm of zirconium oxide layer, 68 nm of silicon dioxide layer, 52 nm of zirconium oxide layer, 66 nm of silicon dioxide layer, 50 nm of zirconium oxide layer, and 50 nm of silicon dioxide layer. The optical characteristic of the metallic gloss layer 5 is C in the graph of Table 1. At this time, as in the conventional case, a non-uniform portion is formed around the mask plate on the line layer, and color bleeding occurs.
４）マスクプレートの除去
２）でセットしたマスクプレートを取り外すことによって窓部２とフレーム部３（この段階では金属光沢層５のみ）が形成されることとなる（図４（ｄ）の状態）。このとき、不均一部はライン層の上にできるため、タッチパネルを使用状態に携帯型情報端末に装着させた際に表側から色にじみが目視されることがない。
５）遮蔽層の成膜
実施例１及び２と同様である（図４（ｅ）の状態）。
６）赤外線透過層の成膜
実施例１及び２と同様である（図４（ｆ）の状態）。
4) Removal of mask plate By removing the mask plate set in 2), the window portion 2 and the frame portion 3 (only the metallic gloss layer 5 at this stage) are formed (the state of FIG. 4D). . At this time, since the non-uniform portion can be formed on the line layer, the color blur is not visually observed from the front side when the touch panel is mounted on the portable information terminal.
5) Film formation of shielding layer The same as in Examples 1 and 2 (state shown in FIG. 4E).
6) Formation of infrared transmission layer The same as in Examples 1 and 2 (state shown in FIG. 4F).
（その他の実施例）
・上記各実施例において５）遮蔽層の成膜と６）赤外線透過層の成膜の順序を入れ替えてもよい。
・上記各実施例において１）ライン層の成膜はスクリーン印刷を使用したが他の印刷方法、例えばインクジェット方式で形成するようにしてもよい。
・遮蔽層や赤外線透過層も線状印刷方法と同様に、スクリーン印刷以外に、例えばオフセット印刷、グラビア印刷、パッド印刷、フレキソ印刷等の凸版印刷や凹版印刷、孔版印刷等の各種版印刷手法によって実行することも可能である。また、インクジェット、レーザー又は熱転写のような無版式印刷やレタリングテープやマスク板、マスキングテープによるマスキングも可能である。
・遮蔽層や赤外線透過層も線状印刷方法と同様に、スクリーン印刷以外に、例えばオフセット印刷、グラビア印刷、パッド印刷等の凹版印刷、フレキソ印刷のような凸版印刷によって実行することも可能である。また、インクジェット、レーザー又は熱転写のような無版式印刷やレタリングテープやマスクプレート、マスキングテープによるマスキングも可能である。
・実施例２において遮蔽層は基板１の全域に行うようにしてもよい。
・上記各実施例における誘電体多層膜の構成は一例である。
・上記各実施例における成膜方法は一例である。
・実施の形態で必要としなければ特に遮蔽層の成膜や赤外線透過層の成膜の工程は不要である。
・上記実施の形態では表示装置用カバープレートとして携帯型情報端末用のタッチパネルを一例として挙げたが、タッチパネル以外にも例えば、所定の表示部分を保護するカバープレートをして使用することも可能である。
その他本発明の趣旨を逸脱しない態様で実施することは自由である。
(Other examples)
In each of the above embodiments, the order of 5) film formation of the shielding layer and 6) film formation of the infrared transmission layer may be interchanged.
In each of the above embodiments, 1) the line layer is formed by screen printing, but may be formed by another printing method, for example, an inkjet method.
・ Similar to the linear printing method, the shielding layer and infrared ray transmitting layer are not only screen printed, but also by various plate printing methods such as offset printing, gravure printing, pad printing, flexographic printing, etc. It is also possible to execute. Further, plateless printing such as ink jet, laser or thermal transfer, masking with a lettering tape, a mask plate and a masking tape is also possible.
As with the linear printing method, the shielding layer and the infrared transmission layer can also be executed by, for example, intaglio printing such as offset printing, gravure printing, pad printing, and letterpress printing such as flexographic printing in addition to screen printing. . Further, plateless printing such as inkjet, laser or thermal transfer, masking with a lettering tape, a mask plate, and a masking tape are possible.
In Example 2, the shielding layer may be formed on the entire area of the substrate 1.
The configuration of the dielectric multilayer film in each of the above embodiments is an example.
-The film-forming method in each said Example is an example.
Unless particularly required in the embodiment, the process of forming a shielding layer and an infrared transmitting layer is not necessary.
In the above embodiment, a touch panel for a portable information terminal is given as an example of a cover plate for a display device. However, other than a touch panel, for example, a cover plate that protects a predetermined display portion can be used. is there.
In addition, it is free to implement in a mode that does not depart from the spirit of the present invention.
１…基板、２…透過領域としての窓部、３…不可視領域としてのフレーム部、４…線状印刷としてのライン層。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate, 2 ... Window part as transmissive area | region, 3 ... Frame part as invisible area | region, 4 ... Line layer as linear printing.
Claims (5)
前記透過領域及び不可視領域の境界線に沿って線状印刷を行い、線状印刷面の上にマスク体の外郭が配置されるようにマスク処理を行い、次いで前記透過領域と不可視領域の間にまたがるように誘電体多層膜による成膜処理を行ない、前記誘電体多層膜の薄膜が成膜された後に少なくとも前記不可視領域に対して濃色の遮蔽処理を行い、その後に前記マスク体を除去して透過領域を形成させるようにしたことを特徴とする表示装置用カバープレートの透過領域及び不可視領域の設定方法。 A method for setting a transmissive region and an invisible region of a cover plate for a display device having a transparent or translucent transmissive region and an invisible region in which a thin film is formed on the back side of the substrate so as not to transmit the background,
Line printing is performed along the boundary line between the transparent area and the invisible area, mask processing is performed so that the outline of the mask body is disposed on the linear printing surface, and then between the transparent area and the invisible area. A film forming process using a dielectric multilayer film is performed so as to straddle, and after the thin film of the dielectric multilayer film is formed , a dark color shielding process is performed on at least the invisible region, and then the mask body is removed. A method for setting a transmissive region and an invisible region of a cover plate for a display device, wherein the transmissive region is formed.
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