JP5198420B2 - 画像処理装置、及び、測定/検査システム、並びに、プログラム - Google Patents
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Description
<計測/検査装置の構成>
図1は、本発明の実施形態による計測/検査システム(「画像観察システム」ともいう)1の概略構成を示す図である。本実施形態では半導体パターンのSEM画像を用いて画像処理することを説明しているが、半導体パターンに限られるものではなく、観察対象になりうる試料であれば何でも良い。
図2はデザインデータの一例を示している。ここでは便宜上、白い部分をパターン内部、黒い部分をパターン外部と決めておく。また、図3はこのデザインデータから作成された半導体パターンのSEM画像を示している。
パターン内外規定情報とエッジ強調画像からパターン内外分離情報を生成する部分(パターン内外分離部)は、MCWS(Marker Controlled Watershed Segmentation)に従って処理を行っている。まず、MCWSの説明に先立って、その基となっているWatershed Segmentationについて説明する。
Watershed Segmentationでは、元画像(例えばSEM画像)の各画素におけるエッジらしさを画素値で表現したエッジ強調画像に対して領域分割を行う。エッジ強調画像を(画素の輝度値を高さとみなした)地形情報と考えると、エッジ部分は高い山脈、それ以外はエッジの山脈によって区切られた盆地のようになっている。このような地形に対して、水位(画素の輝度値に相当)が画像全体で等しくなるように保ちながら浸水させていくと、水位が上昇する毎にたくさんの池が出来て、それらが繋がって、最後には地形全体が浸水する。この過程で新たな池が出来る毎にその池に異なるラベルを付与し、各池に属する画素はその池のラベルで特定される領域に分類される。水位が上がるに従って池は広くなり、いつか隣の池と繋がるが、その繋がった位置が領域の境界となる。領域の境界は山脈の嶺を繋いだ形状となる。この嶺が池を分けていることから、この領域分割の手法をWatershed(分水嶺)と呼んでいる。
STEP2:浸水線上の隣り合った画素に同じラベルを拡大する。
STEP3:STEP1,2で対象外の画素(盆地の底、新たな池)には新たなラベルを付与する。Watershed Segmentationにおいて水位が上がっていく様子を想像するには、「雨が降って水が溜まっていく」様子よりも「スポンジで出来た地形を浴槽にゆっくり浸していく」様子、或いは「盆地の底に小さな穴の開いた地表型の凹凸プラスチック板を浴槽にゆっくり浸していく」様子の方が近い。雨では水位が一定となる保証がないからである。Watershed Segmentationは必要以上に細かい領域分割を行うため、このままでは輪郭線の作成に適用することは出来ない。
通常のWatershed Segmentationの知識を基に、続いてMCWSについて説明する。MCWSは、Watershed Segmentationを改善してマーカによって領域の分割の仕方をコントロールできるようにしたものである。Watershed Segmentationにおいて水位が上がっていく様子を「スポンジで出来た地形を浴槽にゆっくり浸していく」様子と考えた場合、MCWSではマーカ部(内外規定情報の線分に相当)だけがスポンジで出来ていて、それ以外は水を通さない部材(例えばプラスチック)で出来ている状況を考えればよい。また、Watershed Segmentationにおいて水位が上がっていく様子を盆地の底に小さな穴の開いた地表型の凹凸プラスチック板を浴槽にゆっくり浸していく」様子と考えた場合、MCWSではマーカと同形の穴が開いているだけでそれ以外に(たとえ盆地の底でも)穴はない状況を考えればよい。
STEP2:隣の画素が池なら、その画素にも隣の池のラベルを付与する。
STEP3:浸水線上若しくは高さが水位以下でラベルが未付与の隣り合った画素に同じラベルを拡大する。
第2の実施形態は、パターン内外規定情報生成部の別の形態に係るものである。他の構成及び動作については第1の実施形態と同様であるので説明は省略する。
第3の実施形態は、エッジ強調部の別の形態に係るものである。他の構成及び動作については第1の実施形態と同様であるので説明は省略する。
第4の実施形態は、輪郭線作成部105の処理において、MCWSで得られたエネルギー関数を動的輪郭抽出処理に適用するものである。ここでは、動的輪郭出処理の例として、スネーク法とレベルセット法を挙げている。
本発明では、検査対象試料(例えば、半導体ウェハ)を生成するためのデザインデータに対して細線化処理を行い、対象試料上に形成されたパターン(半導体パターン)の内側と外側を規定するパターン内外規定情報(これが初期領域になる)を生成する。そして、対象試料画像のエッジ強調画像の画素値(輝度値)を参照しながら、パターン内外規定情報で示される領域を膨張させ(初期領域を領域成長させる)、パターンの内側領域と外側領域が繋がった箇所をパターンの境界として領域分割を行い、対象試料のパターン輪郭線を生成する。このようにすることにより、輪郭線の途切れや余剰、重複またはヒゲなどのないパターンの輪郭線を得ることが出来る。
10…画像処理部
20…電子顕微鏡本体部
30…SEM画像生成部
40…制御用計算機
50…入力部
60…表示装置
Claims (9)
- 計測又は検査の対象となっている試料上に形成されたパターンの輪郭線を抽出する画像処理装置であって、
対象試料を生成するためのデザインデータに対して細線化処理を行い、前記対象試料上に形成されたパターンの内側と外側を規定するパターン内外規定情報を生成するパターン内外規定情報生成部と、
前記対象試料に対して電子線を照射して得られた対象試料画像のエッジ強調画像を生成するエッジ強調部と、
前記エッジ強調画像の画素値を参照しながら、前記パターン内外規定情報で示される領域を膨張させることにより領域分割を行い、前記対象試料のパターン輪郭線を生成する輪郭線生成部と、
を備えることを特徴とする画像処理装置。 - 請求項1において、
前記輪郭線生成部は、前記パターン内外規定情報で示される領域を膨張させ、前記パターンの内側の領域が前記エッジ強調画像で示されるエッジ部分と重なるように領域分割することを特徴とする画像処理装置。 - 請求項2において、
前記輪郭線生成部は、Marker Controlled Watershed Segmentation法に基づいて、領域分割を行うことを特徴とする画像処理装置。 - 請求項2において、
前記輪郭線生成部は、前記パターン内外規定情報からパターン内部領域を示す外部エネルギーとパターン外部領域を示す外部エネルギーを用いて動的輪郭抽出処理を実行することにより、前記対象試料のパターン輪郭線を生成することを特徴とする画像処理装置。 - 請求項1において、
前記パターン内外規定情報生成部は、前記対象試料画像と前記デザインデータとをマッチング処理することにより取得した位置合せ情報を参照して、前記デザインデータにおける前記パターンの内部領域及び外部領域の画像に対してピーリング処理を行い、前記パターン内外規定情報を生成することを特徴とする画像処理装置。 - 請求項1において、
前記パターン内外規定情報生成部は、前記対象試料画像と前記デザインデータとをマッチング処理することにより取得した位置合せ情報を参照して、前記デザインデータが前記対象試料画像を包含するように前記デザインデータを変形させ、変形後のデザインデータから前記パターン内外規定情報を生成することを特徴とする画像処理装置。 - 請求項1において、
前記エッジ強調部は、前記試料画像に対して複数のフィルタ処理を施し、それぞれのフィルタ処理画像を合成することにより、前記エッジ強調画像を生成することを特徴とする画像処理装置。 - 計測又は検査の対象となっている試料に対して電子線を照射して得られた情報から、対象試料画像を生成する電子顕微鏡装置と、
請求項1に記載の画像処理装置と、
を備えることを特徴とする測定/検査システム。 - コンピュータを請求項1に記載の画像処理装置として機能させるためのプログラム。
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