JP5192164B2 - レンズホルダ - Google Patents

Description

本発明は、眼鏡レンズの縁摺り加工に用いられるレンズホルダに関するものである。

眼鏡レンズの縁摺り加工装置は、通常レンズ保持軸と加工具回転軸とを備え、レンズ保持軸に加工治具（レンズホルダとレンズ押え）を介して未加工の円形レンズ（以下、被加工レンズともいう）を装着し、加工具回転軸に取付けた研削砥石等の加工具によって被加工レンズの周面を加工し、眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状に形成するようにしている。レンズ保持軸は、同軸に配置された第１、第２のレンズ保持軸を有し、その対向端面にそれぞれ取付けたレンズホルダとレンズ押えとで被加工レンズの加工中心部を挟持するようにしている。

このような縁摺り加工装置に用いられるレンズホルダとしては、例えば特許文献１〜３等に開示されているレンズホルダが知られている。

特許文献１に記載されているレンズホルダは、レンズ保持軸に取付けられるクランプ軸と、このクランプ軸に取付けられ被加工レンズの凸側光学面を保持する弾性シールとを備え、クランプ軸のシール取付面に鋸歯状の歯を形成し、この歯を弾性シールに食い込ませることにより、縁摺り加工時の加工抵抗による被加工レンズの軸ずれを防止するようにしたものである。

特許文献２に記載されているレンズホルダは、特許文献１に記載されているレンズホルダと同様に被加工レンズの凸側光学面に圧接する凹球面状のレンズ保持面に、接着パッドとの密着結合力を増大させるために微小凹凸を多数形成したものである。ただし、この微小凹凸は、レンズ保持軸の回転方向前側の壁面と後側の壁面とを略同一角度の傾斜面からなる山形断面形状に形成されている。このようなレンズホルダによれば、微小凹凸の両方の斜面に接着パッドが均等に密着するため接触面積が増大してレンズ保持力が増大し、また接着パッドが両方の斜面に均等に圧接するので、接着パッドに無用な回転力が発生せず、被加工レンズの軸ずれを防止することができるとしている。

特許文献３に記載されているレンズホルダも上述した特許文献２に記載されているレンズホルダと同様に山形断面形状の歯を備えている。

実開平６−２４８５２号公報 特開２００１−４７３４７号公報 特開２００５−２７１２０３号公報

しかしながら、上記した従来のレンズホルダは、いずれもレンズを保持するレンズ保持面の中央部を凹部（または穴）の形成によって非接触部とし（光学的に最も重要度の高い部分を傷つけないようにするため）、外周縁部をレンズに接触させているため、被加工レンズに形成されているコーティング膜層の表面にレンズホルダの外周縁に沿ってエッジングクラックが発生するという問題があった。また、レンズホルダの微小凹凸（または歯）の頂部は、厚さが１〜２ｍｍ程度の薄い弾性シールを介して被加工レンズの光学面に強く接触するため、この点からもコーティング膜層にクラックを生じさせ易いという問題があった。

特に、近年超撥水膜層を形成したレンズの普及により滑り易い上に、レンズ自体が小さくなってきている。このため、レンズホルダを必然的に小さくしなければならないが、レンズ保持面全体をレンズに密着させて接触面積を可及的広くし大きなレンズ保持力が得られるようにする必要がある。

本発明は上記した従来の問題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、レンズ保持面全体をレンズ表面に略均等な押し付け力で押し付けることができ、レンズ表面のコーティング膜層にクラックが生じたり、加工時の被加工レンズの軸ずれが生じたりするのを防止するようにしたレンズホルダを提供することにある。

上記目的を達成するために本発明は、被加工レンズの一方の光学面の加工中心部を保持して縁摺り加工装置のレンズ保持軸に装着されるレンズホルダにおいて、前記レンズホルダを、前面の中央に凹陥部が形成された金属製のホルダ本体と、このホルダ本体に設けられ前記被加工レンズの加工中心部を保持する弾性部材とで構成し、前記弾性部材を、貫通孔を有しかつ前記凹陥部に嵌め込み固定された軟質弾性体層と、この軟質弾性体層の外側に設けられかつ該軟質弾性体層の外周側で前記前面に固定された硬質弾性体層とで構成したものである。

また、本発明は、前記弾性体層の表面の曲率半径を２種以上の加工対象レンズを含む被加工レンズ群の凸側光学面の曲率半径の平均値と略等しいかこれより大きくしたものである。

また、本発明は、前記弾性体層の表面の曲率半径を被加工レンズの凸側光学面の曲率半径と略等しいかこれより大きくしたものである。

また、本発明は、前記弾性部材を二色成形法によって一体に形成したものである。

また、本発明は、前記硬質弾性体層が前記軟質弾性体層の表面を覆い、中央に前記貫通孔と連通する孔が形成されているものである。

さらに、本発明は、前記弾性部材の軟質弾性体層のゴム硬度Ｓが６０〜８０°で、前記硬質弾性体層のゴム硬度Ｈが８０〜１００°で、Ｓ＜Ｈの条件を満たすものである。

本発明においては、弾性部材の中心部側を軟質弾性体層とし、外側を硬質弾性体層としたので、弾性部材を被加工レンズの凸側光学面に押し付けたとき、弾性部材の中央部と外側部分が被加工レンズの凸側光学面に対して略同時に接触する場合、凸側光学面に対する弾性部材の接触面積が増大する。軟質弾性体層は圧縮変形量が硬質弾性体層の圧縮変形量に比べて大きく、接触圧を分散させる。したがって、弾性部材の表面が全面にわたって略均等な接触圧で凸側光学面に接触して大きな保持力が得られる。弾性部材の中央部が凸側光学面に押し付けられ、次いで硬質弾性体層が押し付けられた場合も同様に、軟質弾性体層の圧縮変形量が硬質弾性体層の圧縮変形量に比べて大きく、接触圧を分散させるため、弾性部材の表面が全面にわたって略均等な接触圧で凸側光学面に接触して大きな保持力が得られる。したがって、レンズ表面に局部的に大きな力が加わらずコーティング膜層にクラックが生じるおそれがない。また、保持力が大きくなれば、被加工レンズを確実に保持することができるため、縁摺り加工時に被加工レンズが軸ずれするのを防止することができる。

弾性部材の表面の曲率半径を２種以上の加工対象レンズを含む被加工レンズ群の凸側光学面の曲率半径の平均値と略等しいかこれより大きくするか、または弾性部材の表面の曲率半径を被加工レンズの凸側光学面の曲率半径と略等しいかこれより大きくした発明においては、弾性部材の全面を凸側光学面に接触させることができ、良好なレンズ保持力が得られる。

弾性部材を二色成形法で形成した発明においては、弾性部材の製作が容易である。

弾性部材の軟質弾性体層のゴム硬さＳ（国際ゴム硬度：ＩＲＨＤ）としては、６０〜８０°の範囲内であると、軟質弾性体層がレンズに押し付けられたとき良好に弾性変形し、６０°以下であると柔らかすぎてレンズ保持力が弱く、８０°以上であると硬すぎて好ましくない。より好ましい値としては６５〜７５°である。弾性部材の硬質弾性体層のゴム硬さＨ（ＩＲＨＤ）としては、８０〜１００°の範囲内であると、レンズを良好に保持することができ、８０°以下であると柔らかすぎて保持力が弱く、１００°以上であると硬すぎて外周縁部が凸側光学面に強く接触してコーティング膜層にクラックを生じるため好ましくない。より好ましい値としては８５〜９５°である。

以下、本発明を図面に示す実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図１は本発明に係るレンズホルダの分解斜視図、図２（ａ）は弾性部材の正面図、（ｂ）は弾性部材の断面図、図３（ａ）はレンズ保持軸に被加工レンズを装着する前の状態を示す断面図、（ｂ）はレンズ保持軸に被加工レンズを装着した状態を示す断面図、図４はレンズホルダの他の実施の形態を示す断面図、図５は被加工レンズの縁摺り加工を説明するための図である。これらの図において、１は縁摺り加工装置で、平行に配置されたレンズ保持軸２と加工具回転軸３とを備えている。レンズ保持軸２は、軸線を一致させて配置された第１、第２のレンズ保持軸５、６とで構成され、これらのレンズ保持軸５、６の対向面間に被加工レンズ７がレンズホルダ８とレンズ押え９に挟持されて装着されている。加工具回転軸３には、被加工レンズ７の外周面７ｃを縁刷り加工する加工具としての研削砥石１０が装着されている。研削砥石１０は、荒加工用の研削砥石１０Ａと仕上げ加工用の研削砥石１０Ｂとで構成され、研削砥石１０Ｂの周面にはヤゲン用溝１１が形成されている。

前記被加工レンズ７は、注型重合法によって形成された円形（例えば、直径８０φｍｍ）のプラスチック製マイナスレンズからなり、表面全体に保護膜層と撥水膜層が積層形成されている。保護膜層は、レンズの光学特性、耐久性、耐擦傷性等を向上させるために形成されるもので、通常ハードコート膜層と反射防止膜層とで構成されている。撥水膜層は、凸側光学面７ａと凹側光学面７ｂの平滑度を高めて防汚性を向上させるとともに、水やけを防止するために形成されるもので、最近では滑り性のよい超撥水レンズが普及しつつある。撥水材としては、例えばフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水原料等が用いられている。

前記レンズホルダ８は、アルミニウム合金、ステンレス、鉄等からなる金属製のホルダ本体１２と、このホルダ本体１２に設けられ前記被加工レンズ７の凸側光学面７ａの加工中心部１３を保持する弾性部材１４とで構成されている。前記ホルダ本体１２は、前記第１のレンズ保持軸５の嵌合孔１６に嵌合される円筒状の嵌合軸部１２Ａと、この嵌合軸部１２Ａの前端に一体に設けられた弾性部材取付部１２Ｂとで構成されている。

弾性部材取付部１２Ｂは、例えば長さ２４ｍｍ、高さ１６ｍｍ、奥行き１３ｍｍ程度で、両側面が凸曲面に形成された略直方体のブロックからなり、前面１８が被加工レンズ７の凸側光学面７ａのレンズカーブと略等しいかまたはレンズカーブより浅い（曲率半径が大）カーブの凹球面に形成されている。また、前面１８の中央には貫通孔１９と矩形の凹陥部２０が形成されている。貫通孔１９は、例えば半径３ｍｍ程度で、ホルダ本体１２の後端面に開放している。また、ホルダ本体１２の両側面後端側には、前記第１のレンズ保持軸５の前端面に突設された回転防止用の突起部２１に係合する係合凹部２２がそれぞれ形成されている。

前記弾性部材１４は、凹陥部２０に嵌め込み固定される矩形板状の軟質弾性体層１４Ａと、この軟質弾性体層１４Ａの前面に一体に設けられた硬質弾性体層１４Ｂとからなり、焼き付け、インサート成形またはアウトサート成形によって前記ホルダ本体１２の前面１８に設けられている。弾性部材１４の材質としては、ＮＢＲ（ニトリルゴム）、ウレタン、エラストマー、ＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエンゴム）等の弾性体が好ましいが、特に主成分のＮＢＲにＰＶＣ（塩化ビニル）を添加した弾性体が好適である。

前記軟質弾性体層１４Ａは、幅が２〜４ｍｍ、厚さが１．５〜３．５ｍｍ程度で、中央に貫通孔２５を有し、硬質弾性体層１４ｂの背面中央に設けられている。軟質弾性体層１４Ａのゴム硬度（国際ゴム硬度）Ｓとしては、６０〜８０°、より好ましい値としては６５〜７５°の範囲内である。

前記硬質弾性体層１４Ｂは、厚さが０．５〜２．５ｍｍ程度で、前記ホルダ本体１２の前面１８と同一の大きさを有している。また、硬質弾性体層１４Ｂは、ホルダ本体１２の前面１８の凹球面と同一の曲率半径で湾曲した矩形板状に形成されることにより、前面が被加工レンズ７のレンズカーブと略等しいかまたはこれより浅いカーブの凹球面からなるレンズ保持面２４を形成している。

この場合、硬質弾性体層１４Ｂ、言い換えれば弾性部材１４の表面の曲率半径は、被加工レンズ７の凸側光学面７ａの曲率半径と略等しいかこれより大きい、さらに言えば２種以上の加工対象レンズを含む被加工レンズ群の凸側光学面７ａの曲率半径の平均値と略等しいかこれより大きいことが望ましい。

このような弾性部材１４の選択基準は、被加工レンズの小さいカーブに対応して選択することが好ましい。例えば、被加工レンズ７の表面カーブが０．５〜１０カーブである場合、硬質弾性体層１４Ｂのレンズ保持面２４の表面カーブは０．１〜５カーブ程度が好適であり、特に好ましくは４〜５カーブである（眼鏡レンズの受注頻度も考慮して)。一方、加工対象レンズが０．５〜５カーブの場合は、レンズ保持面２４の表面カーブは０．１〜３カーブ程度が好適である。

さらに、硬質弾性体層１４Ｂの表面中央には、軟質弾性体層１４Ａの貫通孔２５と連通する孔２５Ａが形成されている。貫通孔２５と孔２５Ａは同一の穴径を有している。これらの孔２５，２５Ａは、弾性シール２６を介して被加工レンズ７を保持したとき、リープテープ２６に皺が生じないようにするために必要とされる。硬質弾性体層１４Ｂのゴム硬度Ｈとしては、同じく国際ゴム硬度で８０〜１００°、より好ましい値は８５〜９５°の範囲である。ただし、ゴム硬度Ｓ、Ｈは、Ｓ＜Ｈの条件を満たすように設定される。

このようなゴム硬度Ｓ、Ｈの範囲内であると、弾性部材１４を被加工レンズ７の凸側光学面７ａの加工中心部１３に押し付けたとき、レンズカーブに沿って良好に弾性変形するため、レンズ保持面２４を全面にわたって凸側光学面７ａに略均等な接触圧で押し付けることができ、被加工レンズ７を良好に保持することができる。すなわち、弾性部材１４を被加工レンズ７の凸側光学面７ａに押し付けたとき、凸側光学面７ａのレンズカーブと硬質弾性体層１４Ｂの表面のカーブが略同じ場合は、軟質弾性体層１４Ａと硬質弾性体層１４Ｂが凸側光学面７ａに対して略同時に接触して圧縮されるため、凸側光学面７ａに対する弾性部材１４の接触面積が増大する。また、軟質弾性体層１４Ａは、圧縮変形量が硬質弾性体層の圧縮変形量に比べて大きく、接触圧を分散させる。したがって、弾性部材１４の表面が全面にわたって略均等な接触圧で凸側光学面７ａに接触して大きな保持力が得られる。

弾性部材１４の表面カーブが凸側光学面７ａのレンズカーブより浅い場合は、質弾性体層１４Ａが凸側光学面７ａに接触し、次いで硬質弾性体層１４Ｂが接触する。この場合、軟質弾性体層１４Ａの圧縮変形量が硬質弾性体層１４Ｂの圧縮変形量に比べて大きく、カーブが同じ場合に比べて接触圧をより一層分散させる。したがって、この場合も弾性部材１４の表面が全面にわたって略均等な接触圧で凸側光学面７ａに接触して大きな保持力が得られる。したがって、レンズ表面に局部的に大きな力が加わらずコーティング膜層にクラックが生じるおそれがない。また、大きな保持力が得られれば、被加工レンズ７を確実に保持することができるため、縁摺り加工時に被加工レンズ７が軸ずれするのを防止することができる。

このような弾性部材１４は、従来公知の二色成形法によって前記ホルダ本体１２と一体に形成されることにより、ゴム硬度Ｓ、Ｈの異なる軟質弾性体層１４Ａと硬質弾性体層１４Ｂを一体形成することができる。すなわち、第１の成形工程でゴム硬さが低い素材を加熱溶融してホルダ本体１２が装填されている鋳型内に注入することにより、軟質弾性体層１４Ａをレンズホルダ１２と一体に形成する。次いで、第２の成形工程でゴム硬さが高い素材を加熱溶融して鋳型に注入することにより、硬質弾性体層１４Ｂを軟質弾性体層１４Ａおよびレンズホルダ１２と一体に形成すればよい。

また、弾性部材１４を二色成形によって一体に形成した後、ホルダ本体１２に焼き付けによって固定してもよい。

ここで、図２では、軟質弾性体層１４Ａを硬質弾性体層１４Ｂの裏面中央に設けた例を示したが、これに限らず図４に示すように軟質弾性体層１４Ａの前端部を硬質弾性体層１４Ｂの表面側に露呈させた構造の弾性部材１４’を用いてもよい。この場合は、軟質弾性体層１４Ａ’と硬質弾性体層１４Ｂの表面を同一のカーブからなる凹球面に形成すればよい。

次に、図５に基づいて被加工レンズの縁摺り加工について説明する。
先ず、レンズホルダ８に被加工レンズ７をリープテープ２６を介して取付ける。リープテープ２６は、両面に粘着剤が塗布されており、レンズホルダ８のレンズ保持面２４に予め貼付されている。そして、このリープテープ２６を被加工レンズ７の凸側光学面７ａの加工中心部１３に押しつけると、被加工レンズ７はレンズホルダ８によりリープテープ２６を介して保持される。被加工レンズ７の加工中心は、眼鏡枠のフレームセンターまたはレンズの光学中心である。

次に、被加工レンズ７をレンズ保持軸２に装着する。レンズ保持軸２への装着に際しては、先ず被加工レンズ７を保持しているレンズホルダ８を第１のレンズ保持軸５に装着する。このレンズホルダ８の装着は、嵌合軸部１２Ａを第１のレンズ保持軸５の先端面に形成されている嵌合孔１６に嵌合し、係合凸部２１と係合凹部２２（図１）を互いに係合させることにより行なうことができる。

次に、第２のレンズ保持軸６を前進させて当該保持軸６の先端に取付けられているレンズ押え９を被加工レンズ７の凹側光学面７ｂに弾性部材２７を介して押し付ける。これにより、被加工レンズ７の凸側と凹側の光学面７ａ、７ｂの加工中心部１３がレンズホルダ８とレンズ押え９とによって挟持保持され、レンズ保持軸２へのレンズの装着が終了する。

次に、レンズ保持軸２と加工具回転軸３をそれぞれ回転させるととともにレンズ保持軸２をレンズ枠形状データに基づいて軸線と直交する方向（矢印Ｙ方向）に移動させ、被加工レンズ７の周面７ｃを荒加工する。この荒加工は、荒加工用研削砥石１０Ａによって行い、周面７ｃを所定形状に荒加工した後、仕上げ加工用砥石１０Ｂによって眼鏡フレームの枠形状に適合する玉型形状に仕上げ加工し、縁摺り加工を終了する。この仕上げ加工時に、ヤゲン用溝１１により被加工レンズ７の周面にはＶ字状の突状体からなるヤゲンが形成される。

前記被加工レンズ７の光学基材としては、例えば、メチルメタクリレートと一種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチルグリコールビスアリルカーボネートと一種以上の他のモノマーとの共重合体、ポリカーボネート、ウレタン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、エン−チオール反応を利用したスルフィド、硫黄を含むビニル重合体等が挙げられ、中でもウレタン系光学基材とアリル系光学基材が好適であるが、これに限定されるものではない。また、本発明における光学基材としては、プラスチック光学基材であると好ましく、眼鏡用プラスチック光学基材であるとさらに好ましい。

本実施の形態においては、図６に示すように各光学面７ａ、７ｂに保護膜層４０を形成することにより前記被加工レンズ７が製造される。

前記保護膜層４０は、最下層のハードコート膜層４１と、中間層の反射防止膜層４２および最上層の撥水膜層４３とで構成されている。

最下層のハードコート膜層４１は、眼鏡レンズ自体の硬度を高めるとともに耐擦傷性を向上させるために形成されるものであり、材料としては、例えば、シリコン系樹脂などの有機物質が用いられる。ハードコート膜層４１は、溶剤からなるシリコン系樹脂を浸漬法またはスピンコート法によって塗布した後、加熱炉によって加熱硬化させることにより形成される。このようなハードコート膜層４１の形成方法は、従来公知である。

中間層の反射防止膜層４２は、反射防止効果と耐擦傷効果を高めるために形成されるものである。また、この反射防止膜層４２は、異なった複数の材質によって形成されることにより、多層の反射防止膜層を形成している。反射防止用材料としては、例えば、Ｚｒ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ｓｉ，Ｉｎ，Ａｌ等の金属酸化物または珪素酸化物やＭｇＦ₂ が用いられる。このような多層反射防止膜層４２は、例えば上記した特許文献３に記載の真空蒸着法によって形成される。

また、多層反射防止膜層４２としては、良好な膜強度および密着性を得るためイオンアシスト法で形成されることが好ましい。該反射防止膜のハイブリッド層以外の膜構成層は、良好な反射防止効果、耐擦傷性等の物性を得るため、高屈折率層として酸化タンタル（Ta₂Ｏ₅）層とする。該酸化タンタル層は各層中にそれぞれ酸化タンタルを少なくとも５０重量％含有し、さらに、８０重量％以上含有することが好ましい。

イオンアシスト法において、出力に関し好ましい範囲は、特に、良好な反応を得る観点から、加速電圧５０〜７００Ｖ、 加速電流３０〜２５０ｍＡである。前記イオンアシスト法を実施する際に使用されるイオン化ガスは、成膜中の反応性、酸化防止の点からアルゴン（Ａｒ）、またはアルゴンと酸素の混合ガスを用いるのが好ましい。

本発明における、ハイブリッド層に使用される無機物質としては、二酸化ケイ素を含有することが必要であり、その他、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化イットリウムおよび酸化ニオブから選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。複数の無機物質を用いる場合は、それらを物理的に混合してもよいし、また複合酸化物であってもよく、具体的にはＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃ 等がある。これらのうち二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）単独、二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂ ）および酸化アルミニウム（Ａl₂Ｏ₃）から選ばれる少なくとも１種類の無機酸化物が好ましい。

本発明における、ハイブリッド層に使用される有機物質としては、膜厚の制御、蒸着速度の制御の観点から、常温、常圧下で、液体状態にある有機ケイ素化合物及び／又は常温、常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物が用いられる。

前記有機ケイ素化合物としては、例えば、以下の一般式（ａ）〜（ｄ）で表されるいずれかの構造を有することが好ましい。

一般式（ａ）：シラン・シロキサン化合物

一般式（ｂ）：シラザン化合物

一般式（ｃ）：シクロシロキサン化合物

一般式（ｄ）：シクロシラザン化合物

前記一般式（ａ）〜（ｄ）において、式中のｍ、ｎは、それぞれ独立に０以上の整数を表す。また、Ｘ₁〜Ｘ₈はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜６の炭化水素基（飽和・不飽和双方を含む）、−ＯＲ¹基、−ＣＨ₂ＯＲ²基、−ＣＯＯＲ³基、−ＯＣＯＲ⁴基、−ＳＲ₅基、−ＣＨ₂ＳＲ⁶ 基、−ＮＲ⁷ ₂基、または、−ＣＨ₂ＮＲ⁸ ₂基（Ｒ¹〜Ｒ⁸は水素または炭素数１〜６の炭化水素基（飽和・不飽和双方を含む））を表し、Ｘ₁〜Ｘ₈は上記の任意の官能基であればよく、すべて同じ官能基でもよいし、すべて異なるものでもよく限定されない。

前記Ｒ¹〜Ｒ⁸で示される炭素数１〜６の炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、フェニル基、シクロヘキシル基、プロピニル基、イソプロペニル基等が挙げられる。

一般式（ａ）で表せる具体的な化合物としては、トリメチルシラノール、テトラメチルシラン、ジエチルシラン、ジメチルエトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、メルカプトメチルトリメチルシラン、アミノメチルトリメチルシラン、ジメチルジメチルアミノシラン、エチニルトリメチルシラン、ジアセトキシメチルシラン、アリルジメチルシラン、トリメチルビニルシラン、メトキシジメチルビニルシラン、アセトキシトリメチルシラン、トリメトキシビニルシラン、ジエチルメチルシラン、エチルトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、ジエトキシメチルシラン、エチルトリメトキシシラン、ジメチルアミノトリメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルシラン、フェニルシラン、ジメチルジビニルシラン、2-プロピニロキシトリメチルシラン、ジメチルエトキシエチニルシラン、ジアセトキシジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、アリロキシトリメチルシラン、エトキシジメチルビニルシラン、イソプロペノキシトリメチルシラン、アリルアミノトリメチルシラン、トリメチルプロピルシラン、トリメチルイソプロピルシラン、トリエチルシラン、ジエチルジメチルシラン、ブチルジメチルシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルイソプロポキシシラン、トリエチルシラノール、ジエトキシジメチルシラン、プロピルトリメトキシシラン、ジエチルアミノジメチルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、トリ（ジメチルアミノ）シラン、メチルフェニルシラン、メチルトリビニルシラン、ジアセトキシメチルビニルシラン、メチルトリアセトキシシラン、アリロキシジメチルビニルシラン、ジエチルメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ブチルジメチルヒドロキシメチルシラン、1-メチルプロポキシトリメチルシラン、イソブトキシトリメチルシラン、ブトキシトリメチルシラン、ブチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、イソプロピルアミノメチルトリメチルシラン、ジエチルアミノトリメチルシラン、メチルトリ（ジメチルアミノ）シラン、ジメチルフェニルシラン、テトラビニルシラン、トリアセトキシビニルシラン、テトラアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ジアリルジメチルシラン、1,1-ジメチルプロピニロキシトリメチルシラン、ジエトキシジビニルシラン、ブチルジメチルビニルシラン、ジメチルイソブトキシビニルシラン、アセトキシトリエチルシラン、トリエトキシビニルシラン、テトラエチルシラン、ジメチルジプロピルシラン、ジエトキシジエチルシラン、ジメチルジプロポキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルフェニルビニルシラン、フェニルトリメチルシラン、ジメチルヒドロキシメチルフェニルシラン、フェノキシトリメチルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、フェニルトリメトキシシラン、アニリノトリメチルシラン、1-シクロヘキセニロキシトリメチルシラン、シクロヘキシロキシトリメチルシラン、ジメチルイソペンチロキシビニルシラン、アリルトリエトキシシラン、トリプロピルシラン、ブチルジメチル−３−ヒドロキシプロピルシラン、ヘキシロキシトリメチルシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ジメチルフェニルビニルシラン、トリメチルシリルベンゾネート、ジメチルエトキシフェニルシラン、メチルトリイソプロペノキシシラン、メトキシトリプロピルシラン、ジブトキシジメチルシラン、メチルトリプロポキシシラン、ビス（ブチルアミノ）ジメチルシラン、ジビニルメチルフェニルシラン、ジアセトキシメチルフェニルシラン、ジエチルメチルフェニルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、トリイソプロポキシビニルシラン、２−エチルヘキシロキシトリメチルシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ジフェニルシラン、ジフェニルシランジオールフェニルトリビニルシラン、トリエチルフェニルシラン、フェニルトリエトキシシラン、テトラアリロキシシラン、フェニルトリ（ジメチルアミノ）シラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、ジフェニルメチルシラン、ジアリルメチルフェニルシラン、ジメチルジフェニルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジアニリノジメチルシラン、ジフェニルエトキシメチルシラン、トリペンチロキシシラン、ジフェニルジビニルシラン、ジアセトキシジフェニルシラン、ジエチルジフェニルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジフェニルシラン、テトラブチルシラン、テトラブトキシシラン、トリフェニルシラン、ジアリルジフェニルシラン、トリヘキシルシラン、トリフェノキシビニルシラン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ペンタメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、１，３−ジメトキシテトラメチルジシロキサン、１，３−ジエチニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３−ジエトキシテトラメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、１，３−ジブチル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンなどの化合物が挙げられる。

一般式（ｂ）で表される具体的な化合物としては、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザンなどの化合物が挙げられる。

一般式（ｃ）で表される具体的な化合物としては、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなどの化合物が挙げられる。

一般式（ｄ）で表される具体的な化合物としては、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルシクロトリシラザン、１，１，３，３，５，５，７，７−オクタメチルシクロテトラシラザンなどの化合物が挙げられる。

これらの有機ケイ素化合物の数平均分子量は、ハイブリッド膜中の有機成分の制御、膜自体の強度の点から、好ましくは、４８〜６００、特に好ましくは、１４０〜５００である。

さらに、前記ハイブリッド層を構成するケイ素非含有有機化合物は、その側鎖または末端に反応性基を含有する炭素および水素を必須成分とするものが好ましく、より具体的には一般式（e）〜(g)で表される化合物が好ましく用いられる。

一般式（ｅ）：片末端にエポキシ基を有する炭素および水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物

一般式（ｆ）：両末端にエポキシ基を有する炭素および水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物

一般式（ｇ）：二重結合を含む、炭素および水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物
ＣＸ₉Ｘ₁₀＝ＣＸ₁₁Ｘ₁₂ ・・・（ｇ）

一般式（ｅ）、（ｆ）において、Ｒ⁹は水素、または酸素を含んでいてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｒ¹⁰は、酸素を含んでいてもよい炭素数１〜７の二価の炭化水素基を表す。一般式（ｇ）において、Ｘ₉〜Ｘ₁₂はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜１０の炭化水素基、または炭素数１〜１０の炭素、水素を必須成分とし、さらに酸素および窒素の少なくとも一方を必須成分とする有機基を表す。

一般式（ｅ）の化合物の具体例としては、メチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、デジルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｓｅｃ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、２−メチルオクチルグリシジルエーテル、グリシドール、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。

一般式（ｆ）の化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。

一般式（ｇ）の具体例としてはエチレン、プロピレン、塩化ビニル、フッ化ビニル、アクリルアミド、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、メタクリル酸、グリシジルメタクリレート、酢酸ビニル、スチレンなどがあげられる。

また、前記一般式（ｅ）〜（ｇ）で表される化合物の数平均分子量は、ハイブリッド膜中の有機成分の制御およびハイブリッドの膜強度を考慮して、好ましくは、２８〜４０００、特に好ましくは、１４０〜３６０である。

本発明における常温、常圧下で液体である有機ケイ素化合物及び／又は常温、常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物（以下「有機物質」ということがある）の成膜方法としては、ハイブリッド層を形成する際には、無機物質、有機物質それぞれを別の蒸着源にて同時に蒸着して成膜するのが好ましい。具体的には、無機物質を電子銃等を用いて加熱することにより気化させ、有機物質を外部タンクに貯蔵し、該タンク内で該有機物質を気化させ、無機物質と有機物質を同時に蒸着させる方法が好ましい。

なお、蒸着速度の制御の観点から、有機物質を貯蔵する外部タンクを加熱・減圧して該有機物質をチャンバー内に供給し、酸素ガス及び／またはアルゴンガスを用いイオンアシスト成膜するのが好ましい。さらに、本発明では有機物質が常温・常圧で液体であり、溶媒を使用する必要がなく、直接加熱して蒸着することができる。また、有機物質の導入口は、無機物質蒸発源真上に設けるのが対衝撃性、対摩耗性向上に効果的であり、有機ケイ素化合物を下部より、その側鎖または末端に反応性基を含有する炭素及び水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物を上部より供給するのが好ましい。

外部タンクの加熱温度は、その有機物質の蒸発温度により異なるが、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃とすることが適当な蒸着速度を得るという点から好ましい。

本発明におけるハイブリッド層の有機物質の好ましい膜内含有率は、特に良好な物性改質効果が得られる点を考慮して、０．０２０〜２５重量％である。

本発明における好ましい膜厚および屈折率の範囲は以下の通りである。なお、ここでλは光の波長を示す。
第１層 ０．００５λ〜１．２５λ １．４１〜１．５０
第２層 ０．００５λ〜０．１０λ ２．００〜２．３５
第３層 ０．００５λ〜１．２５λ １．４１〜１．５０
第４層 ０．０５λ〜０．４５λ ２．００〜２．３５
第５層 ０．００５λ〜０．１５λ １．４１〜１．５０
第６層 ０．０５λ〜０．４５λ ２．００〜２．３５
第７層 ０．２λ〜０．２９λ １．４１〜１．５０
かかる膜構成にすることにより、目的とする物性が容易に得られる。

最上層の撥水膜層４３は、レンズ表面の平滑度を高めて防汚性能を高めるとともに、水やけを防止するために形成されるものである。このような撥水膜層４３は、前記多層反射防止膜層４２の第７層上に、例えばフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を原料として用い真空蒸着法により形成される。

その原料および形成方法は、前記特許文献３、４、１２、１３、１４等に記載されている方法を用いることが好ましい。その方法としては、溶媒で希釈したフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を減圧下、該有機ケイ素化合物の蒸着開始温度以上から該有機ケイ素化合物の分解温度を超えない範囲で、加熱開始から蒸着を９０秒以内、好ましくは１０秒以内に完結させることが好ましい。かかる蒸着時間を達成する方法としては、前記有機ケイ素化合物に電子ビームを照射する方法が好ましく用いられる。

フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物としては、下記一般式（ｈ）で表されるもの、または下記単位式（ｉ）で表されるものが好ましい。

式中、ＲＦは炭素数１〜１６の直鎖状のパーフルオロアルキル基、Ｘは水素または炭素数１〜５の低級アルキル基、Ｒ¹¹は加水分解可能な基、ｋは１〜５０の整数、ｒは０〜２の整数、ｐは１〜１０の整数である。
ＣｑＦ₂ｑ+１ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＮＨ₂）₃ ・・・（ｉ）
ただし、ｑは１以上の整数である。

ここで、上記Ｒ¹¹で示される加水分解可能な基としてはアミノ基、アルコキシ基、特にアルキル部が炭素数１〜２であるアルコキシ基、塩素原子等が挙げられる。

また、上記式（ｉ）で表される化合物の具体例としては、ｎ−ＣＦ₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉSi（ＮＨ₂）₃；ｎ−トリフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）プロピルシラザン、ｎ−Ｃ₃Ｆ₇ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＮＨ₂）₃；ｎ−ヘプタフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）ペンチルシラザン、ｎ−Ｃ₄Ｆ₉ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＮＨ₂）₃；ｎ−ノナフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）ヘキシルシラザン、ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ₂（ＮＨ₂）₃；ｎ−トリデオフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）オクチルシラザン、ｎ−Ｃ₈Ｆ₁₇ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＮＨ₂）₃；ｎ−ヘプタデカフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）デシルシラザン等を例示することができる

また、撥水膜層４３の原料として、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物と、ケイ素非含有のパーフルオロポリエーテルとの２成分を主成分とする原料を用いることもでき、さらにはこれらの原料からなる第１層を形成し、該第１層上に接して、ケイ素非含有のパーフルオロポリエーテルを主成分とする原料を用いて第２層を形成することにより、撥水膜層を形成することも好適である。

ケイ素非含有のパーフルオロポリエーテルは、ケイ素を含有しない以下の構造式（ｊ）
−（Ｒ¹²Ｏ）− ・・・（ｊ）
（式中、Ｒ¹²は炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基である）
で表される単位からなるものが好ましく用いられ、平均分子量が１０００〜１００００、特に２０００〜１００００のものが好ましい。Ｒは炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基であり、具体的にはＣＦ₂、ＣＦ₂−ＣＦ₂、ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂、ＣＦ（ＣＦ₂）ＣＦ₂等の基が挙げられる。これらのパーフルオロポリエーテルは常温で液状であり、いわゆるフッ素オイルと称されるものである。

また、本発明の眼鏡レンズは、反射防止膜層の下に、密着性を向上させるために、下地層として、後述するハイブリッド層形成の際に触媒作用のある金属、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）、ニオブ（Ｎｂ）およびチタニウム（Ｔｉ）から選ばれる少なくとも１種類からなる層を施すことができる。特に好ましい下地層は、より良好な耐衝撃性を付与させるために、ニオブからなる金属層である。金属層を下地層として用いた場合、下地層の上に設けられるハイブリッド層の反応が進みやすくなり、分子内編み目構造を有する物質が得られ、耐衝撃性が向上する。

本発明で使用するプラスチック基材の材質は、特に限定されず、例えば、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノマーとの共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、エピチオ基を有する化合物を原料とする重合体などが挙げられる。

エピチオ基を有する化合物の例としては、ビス（β−エピチオプロピルチオ）メタン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルチオ）エタン、１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオ）プロパン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルチオ）プロパン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−２−（β−エピチオプロピルチオメチル）プロパン、１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ブタン、１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ブタン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−３−（β−エピチオプロピルチオメチル）ブタン、１，５−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ペンタン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−４−（β−エピチオプロピルチオメチル）ペンタン、１，６−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ヘキサン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−５−（β−エピチオプロピルチオメチル）ヘキサン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−２−〔（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオ〕エタン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−２−［〔２−（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオエチル〕チオ］エタン等の鎖状有機化合物等が挙げられる。また、テトラキス（β−エピチオプロピルチオメチル）メタン、１，１，１−トリス（β−エピチオプロピルチオメチル）プロパン、１，５−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−２−（β−エピチオプロピルチオメチル）−３−チアペンタン、１，５−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−２，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３−チアペンタン、１−（β−エピチオプロピルチオ）−２，２−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−４−チアヘキサン、１，５，６−トリス（β−エピチオプロピルチオ）−４−（β−エピチオプロピルチオメチル）−３−チアヘキサン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４−（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４，５ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−２，４，５−トリス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，８−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６−ジチアオクタン、１，９−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−５−（β−エピチオプロピルチオメチル）−５−〔（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオメチル〕−３，７−ジチアノナン、１，１０−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−５，６−ビス〔（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオ〕−３，６，９−トリチアデカン、１，１１−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４，８−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１１−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−５，７−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１１−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−５，７−〔（２−β−エピチオプロピルチオエチル）チオメチル〕−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１１−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−４，７−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−３，６，９−トリチアウンデカン等の分岐状有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基の水素の少なくとも１個がメチル基で置換された化合物等が挙げられる。さらには１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキサン、１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）シクロヘキサン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕メタン、２，２−ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕プロパン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕スルフィド、２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオエチルチオメチル）−１，４−ジチアン等の環状脂肪族有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基の水素の少なくとも１個がメチル基で置換された化合物、および１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ベンゼン、１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）ベンゼン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕メタン、２，２−ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕プロパン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕スルフィド、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕スルフォン、４，４’−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ビフェニル等の芳香族有機化合物およびこれらの化合物のエピスルフィド基の水素の少なくとも１個がメチル基で置換された化合物等が挙げられる。

本発明の眼鏡レンズは、前記プラスチック基材と前記下地層との間に、硬化層を有してもよい。硬化層の形成には、通常、金属酸化物コロイド粒子と下記一般式（ｋ）
（Ｒ¹³）ａ (Ｒ¹⁴)ｂＳｉ（ＯＲ¹⁵）_4-(a+b) ・・・（ｋ）
で表される有機ケイ素化合物とからなる組成物が使用される。
上式中、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、それぞれ独立に、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜８のアルケニル基、炭素数６〜８のアリール基、炭素数１〜８のアシル基、ハロゲン基、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基、フェニル基、メルカプト基、メタクリロキシ基およびシアノ基の中から選ばれる有機基を示し、Ｒ¹³は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアシル基および炭素数６〜８のフェニル基の中から選ばれる有機基を示し、ａおよびｂは、それぞれ独立に０または１の整数である。

前記金属酸化物コロイド粒子としては、例えば、酸化タングステン（ＷＯ₃）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）、酸化チタニウム（ＴｉＯ₂）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）、酸化スズ（ＳｎＯ₂）、酸化ベリリウム（ＢｅＯ）または酸化アンチモン（Ｓｂ₂Ｏ₅）等が挙げられ、単独または２種以上を併用することができる。

前記硬化層を作るコーティング液には、従来知られている方法で、液の調製を行うことができる。所望により、硬化触媒、塗布時における濡れ性を向上させ、硬化層の平滑性を向上させる目的で各種の有機溶剤や界面活性剤を含有させることもできる。さらに、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤老化防止剤等もコーティング組成物および硬化被膜の物性に影響を与えない限り添加することができる。

コーティング組成物の硬化は、熱風乾燥または活性エネルギー線照射によって行い、硬化条件としては、７０〜２００℃の熱風中にて行うのがよく、特に好ましくは９０〜１５０℃である。なお活性エネルギー線としては遠赤外線等があり、熱による損傷を低く抑えることができる。

また、コーティング組成物よりなる硬化層を基材上に形成する方法としては、上述したコーティング組成物を基材に塗布する方法が挙げられる。塗布手段としてはディッピング法、スピンコーティング法、スプレー法等の通常行われる方法が適用できるが、面精度の面からディッピング法、スピンコーティング法が特に好ましい。

また、プラスチック基材と下地層との密着性確保または蒸着物質の初期膜形成状態の均一化を図るために、硬化層表面にイオン化ガス処理してもよい。イオン銃前処理におけるイオン化ガスは、酸素、アルゴン（Ａｒ）などを用いることができ、出力で好ましい範囲は、特に良好な密着性、耐摩耗性を得る観点から加速電圧５０〜７００Ｖ 、加速電流５０〜２５０ｍＡである。

なお、本発明においては、特開昭６３−１４１００１号公報などに記載されている、プラスチック基材と反射防止膜層との間に有機化合物よりなるプライマー層を施すことを否定するものでなく、更なる耐衝撃性向上のため、プラスチック基材と多層反射防止膜層４２との間、またはプラスチック基材と硬化層との間に、有機化合物を原料とするプライマー層を施してもよい。

このプライマー層の例としては、ポリイソシアネートとポリオールを原料として、ウレタン系の膜を形成するものが挙げられる。ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、４，４’−シクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネートのそれぞれ数分子を種々の方法で結合させた付加物、イソシアヌレート、アロファネート、ビュウレット、カルボジイミドをアセト酢酸、マロン酸、メチルエチルケトオキシムなどでブロックしたものなどが挙げられ、一方、ポリオールとしては、水酸基を１分子内に複数個有するポリエステル、ポリエーテル、ポリカプロラクトン、ポリカーボネート、ポリアクリレートなどが挙げられる。また、プライマー膜の屈折率向上のため、酸化チタン微粒子などの酸化金属微粒子をプライマー層に含有することができる。

特に、屈折率が１．６８〜１．７６程度のエピチオ基を有する化合物を原料とするプラスチック基材にプライマー層を施し、さらに本発明の多層反射防止膜層４２を施すことにより、基材の中心厚を小さくしても耐衝撃性、密着性、耐擦傷性に優れた眼鏡レンズを得ることができる。

屈折率（ne）１．６０の素材にハードコートおよび反射防止コート、撥水コートが施されたプラスチック眼鏡レンズを実施例の保持方法にて保持し、荷重をかけて剥がれる時の荷重を測定した。なお比較例は弾性部材に代えてリープテープ（住友３Ｍ社製リープ３）を用いた。比較例のその他条件は実施例と同じである。また比較例、実施例共に縁摺加工を行い玉型形状のレンズを得た。加工後のレンズに対して視覚的な検査（目視）を実施して軸ずれおよびコート膜破断（クラック）の有無を判定した。

測定装置
引張荷重測定器（ＡＩＫＯＨ製 9500series）
測定方法
１．各テストの前にレンズおよびレンズホルダの貼り付け面はアセトンにて表面の異物や油分等を除去する。
２．レンズの光学中心でかつレンズの光軸と平行にレンズホルダを装着してレンズを保持後５分間放置する。
３．レンズホルダのレンズより８ｍｍ離間した位置に引張り荷重測定器を引っ掛ける。
４．レンズの光軸と垂直方向に引張り荷重測定器を引っ張る。
５．レンズとレンズホルダが剥がれた瞬間の荷重圧（Ｎ）を最大荷重として測定する。

レンズ
加工テストレンズ：ＨＯＹＡ（株）製ハイルックス１．６VPコート付きハイビジョン（単焦点プラスチックレンズ）
平均屈折力：−８．００〜＋４．００Ｄ（外径６５φ〜７５φ）
凸面側表面カーブ（苦節率1.530換算）：２〜６．５０カーブ

レンズホルダおよび弾性体保持部形状
比較例に用いたレンズホルダは、表１に示す２種類である（なお、カーブと曲率半径の変換は屈折率1.530 にて行なった）。

本発明の実施例と比較例の結果を表２に示す。

下記基準により表２の結果を評価すると表３のようになる。
○ １９以上 相当な力を加えれば剥がれる（加工負荷の上限クリア）。→合格
△ １５〜１９ 少し力を加えれば剥がれる（加工負荷の上限付近）→難あり
× １５以下 簡単に剥がれる→不可

表３より本発明の実施例では全カーブ（レンズ全種）にて加工負荷に抗する十分な保持力を得ることができた。一方、比較例では一部のカーブで保持力不足が発生していた。一方、縁摺加工を実施したところ表２の○では軸すれは発生しなかったが、△および×では全て軸ずれが発生していた。また同時にクラック（ハードコート膜の破断）の発生を目視で評価した。比較例ではいずれも一部にクラックを確認したが、実施例ではクラックは確認されなかった。

なお、上記した実施の形態においては被加工レンズ７としてマイナスレンズを示したが、プラスレンズにも適用することができる。

本発明に係るレンズホルダの分解斜視図である。 （ａ）は弾性部材の正面図、（ｂ）は弾性部材の断面図である。 （ａ）はレンズ保持軸に被加工レンズを装着する前の状態を示す断面図、（ｂ）はレンズ保持軸に被加工レンズを装着した状態を示す断面図である。 レンズホルダの他の実施の形態を示す断面図である。 被加工レンズの縁摺り加工を説明するための図である。 被加工レンズの保護膜層を示す要部の拡大断面図である。

符号の説明

１…縁摺り加工装置、２…レンズ保持軸、３…加工具回転軸、５…第１のレンズ保持軸、６…第２のレンズ保持軸、７…被加工レンズ、８…レンズホルダ、１２…ホルダ本体、１２Ａ…嵌合軸部、１２Ｂ…弾性部材取付部、１３…加工中心部、１４…弾性部材、１４Ａ、１４Ａ’…軟質弾性体層、１４Ｂ…硬質弾性体層、１６…嵌合孔、１８…レンズ保持面、２０…凹陥部。

Claims (6)

1. 被加工レンズの凸側光学面の加工中心部を保持して縁摺り加工装置のレンズ保持軸に装着されるレンズホルダにおいて、
   前記レンズホルダを、前面の中央に凹陥部が形成された金属製のホルダ本体と、このホルダ本体の前面に設けられ前記被加工レンズの加工中心部を保持する弾性部材とで構成し、
   前記弾性部材を、貫通孔を有しかつ前記凹陥部に嵌め込み固定された軟質弾性体層と、この軟質弾性体層の外側に設けられかつ該軟質弾性体層の外周側で前記前面に固定された硬質弾性体層とで構成したことを特徴とするレンズホルダ。
2. 請求項１記載のレンズホルダにおいて、
   前記弾性部材の表面の曲率半径を２種以上の加工対象レンズを含む被加工レンズ群の凸側光学面の曲率半径の平均値と略等しいかこれより大きくしたことを特徴とするレンズホルダ。
3. 請求項１記載のレンズホルダにおいて、
   前記弾性部材の表面の曲率半径を被加工レンズの凸側光学面の曲率半径と略等しいかこれより大きくしたことを特徴とするレンズホルダ。
4. 請求項１〜３のうちのいずれか１つに記載のレンズホルダにおいて、
   前記弾性部材を二色成形法によって一体に形成したことを特徴とするレンズホルダ。
5. 請求項１〜４のうちのいずれか１つに記載のレンズホルダにおいて、
   前記硬質弾性体層が前記軟質弾性体層の表面を覆い、中央に前記貫通孔と連通する孔が形成されていることを特徴とするレンズホルダ。
6. 請求項１〜５のうちのいずれか１つに記載のレンズホルダにおいて、
   前記弾性部材の軟質弾性体層のゴム硬度Ｓが６０〜８０°で、前記硬質弾性体層のゴム硬度Ｈが８０〜１００°で、Ｓ＜Ｈの条件を満たすことを特徴とするレンズホルダ。

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