JP5185014B2 - 電磁波検出素子 - Google Patents
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Description
さらに、上記電磁波検出素子は、前記走査配線が、前記共通電極配線が形成された配線層よりも絶縁膜を介して前記電磁波の下流側に形成された配線層により形成されており、前記コンタクトホールが、前記走査配線が形成された領域の前記照射面側の位置に形成されてもことが好ましい。
図1には、第1の実施の形態に係る放射線画像検出装置100の全体構成が示されている。ただし、放射線を光に変換するシンチレータは省略されている。
次に、共通電極配線25を半導体層6よりも電磁波照射面の下流に配置する構造とした場合について説明する。
6 半導体層
7 上部電極(第1電極)
10 電磁波検出素子
14 下部電極(第2電極)
22 コンタクト部(コンタクト)
22A、22B コンタクトホール
22C コンタクトパッド
25 共通電極配線
27 コンタクト部(コンタクト)
27A コンタクトホール
27B コンタクトパッド
101 走査配線
103 センサ部
Claims (12)
- 互いに交差して配設された複数の走査配線及び複数の信号配線の各交差部に対応して設けられ、検出対象とする画像を示す電磁波が照射されることにより電荷が発生する半導体層、前記半導体層の前記電磁波が照射される照射面側に前記電磁波に対して透過性を有する導電性部材により形成され、当該半導体層に対してバイアス電圧を印加する第1電極、及び前記半導体層の前記電磁波に対する非照射面側に形成され、当該半導体層に発生した電荷を収集する第2電極を備え、前記第1電極が隣接する他の何れかの第1電極と電気的に接続された複数のセンサ部と、
前記複数のセンサ部と絶縁膜を介して設けられ、前記バイアス電圧を供給するための共通電極配線と、
前記第1電極が電気的に接続された一群のセンサ部毎に各々前記絶縁膜に設けられ、各一群のセンサ部毎に、当該一群のセンサ部に属するセンサ部の数よりも少ない数の接続箇所で前記絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介して当該一群のセンサ部に属する何れかのセンサ部の第1電極と前記共通電極配線を接続する複数のコンタクトと、
を備えた電磁波検出素子。 - 前記共通電極配線は、前記センサ部よりも前記電磁波の上流側に、前記複数のセンサ部と絶縁膜を介して設けられ、
前記複数のコンタクトは、前記電磁波の上流側から前記絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介して前記第1電極と前記共通電極配線を接続する
請求項1記載の電磁波検出素子。 - 前記共通電極配線は、前記センサ部よりも前記電磁波の下流側に、前記複数のセンサ部と絶縁膜を介して設けられ、
前記複数のコンタクトは、前記電磁波の下流側から前記絶縁膜及び前記センサ部に形成されたコンタクトホールを介して前記第1電極と前記共通電極配線を接続し、
前記センサ部は、前記半導体層及び前記第2電極が前記コンタクトホールから所定距離を隔てて形成されている
請求項1記載の電磁波検出素子。 - 前記複数のセンサ部は、前記走査配線方向又は信号配線方向の一方向に沿って前記第1電極が電気的に接続され、
前記複数のコンタクトは、前記一方向に対してセンサ部所定個分ずつの間隔で、且つ前記走査配線方向又は信号配線方向の他方向に対して1ライン又は複数ライン毎に前記一方向に配置位置をずらして設けられている
請求項1〜請求項3の何れか1項記載の電磁波検出素子。 - 前記複数のコンタクトは、各2個のセンサ部に対して1個の割合で設けられている
請求項1〜請求項4の何れか1項記載の電磁波検出素子。 - 前記複数のセンサ部は、2個ずつ前記半導体層が各2個のセンサ部の境界となる境界線に対して略線対称に形成されている
請求項5記載の電磁波検出素子。 - 前記共通電極配線は、前記信号配線方向に沿って複数配設され、
前記複数のセンサ部は、前記信号配線方向に沿って前記第1電極が電気的に接続され、当該第1電極を電気的に接続する接続部位が前記信号配線と交差しないように配置されている
請求項1〜請求項6の何れか1項記載の電磁波検出素子。 - 前記複数のコンタクトは、前記第1電極を電気的に接続する接続部位に設けられている
請求項1〜請求項7の何れか1項記載の電磁波検出素子。 - 前記複数のセンサ部及び前記複数のコンタクトは、前記走査配線方向及び信号配線方向の2×2個以上のセンサ部の配列を繰り返したパターンで配置されている
請求項1〜請求項8の何れか1項記載の電磁波検出素子。 - 前記共通電極配線は、前記第1電極を形成する導電性部材に対し低抵抗であることを特徴とする請求項1〜請求項9の何れか1項記載の電磁波検出素子。
- 前記導電部材は、Al若しくはCu、又はAl若しくはCuを主体とする合金、あるいは積層膜であることを特徴とする請求項10記載の電磁波検出素子。
- 前記走査配線は、前記共通電極配線が形成された配線層よりも絶縁膜を介して前記電磁波の下流側に形成された配線層により形成されており、
前記コンタクトホールは、前記走査配線が形成された領域の前記照射面側の位置に形成されている
請求項1〜請求項11の何れか1項記載の電磁波検出素子。
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