JP5178598B2 - 熱式流量計 - Google Patents
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 191
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 56
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 55
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 27
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims description 13
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 40
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 35
- 239000010408 film Substances 0.000 description 32
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 25
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 25
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- 238000001089 thermophoresis Methods 0.000 description 12
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 8
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F5/00—Measuring a proportion of the volume flow
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/684—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow
- G01F1/688—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow using a particular type of heating, cooling or sensing element
- G01F1/69—Structural arrangements; Mounting of elements, e.g. in relation to fluid flow using a particular type of heating, cooling or sensing element of resistive type
- G01F1/692—Thin-film arrangements
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/68—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using thermal effects
- G01F1/696—Circuits therefor, e.g. constant-current flow meters
- G01F1/698—Feedback or rebalancing circuits, e.g. self heated constant temperature flowmeters
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Description
2 基板
3a,3b 電気絶縁膜
4,31 ダイアフラム
5,32 発熱抵抗体
6 空気流
7 加熱温度センサ
8a,8b 上流側温度センサ
9a,9b 下流側温度センサ
10,11,12 感温抵抗体
13 電極パッド部
14 温度分布
15,17 増幅器
16 トランジスタ
18 吸気管路
19 ベース部材
20 吸気
21 副通路
22 回路基板
23 金線ボンディングワイヤー
24 端子
25 アルミボンディングワイヤー
26 従来の発熱抵抗体
27 従来のダイアフラム
28 浮遊性微粒子の付着部
29 空洞部
30a〜n 配線部
Claims (6)
- 内燃機関の吸気管路内に設置し前記吸気管路内を流れる吸気の一部を採り込む通路と、前記通路内に配置され流体の流量を計測するセンサ素子とを備え、前記センサ素子が半導体基板と、前記半導体基板に形成された空洞部と、前記空洞部上に電気絶縁膜を介して形成された発熱抵抗体とを有し、前記発熱抵抗体から被計測流体に放熱することにより前記内燃機関の吸気の流量を計測する熱式流量計において、
前記センサ素子上を流れる流体の流れ方向に対して垂直方向における前記発熱抵抗体の長さをLhとし、前記センサ素子上を流れる流体の流れ方向における前記発熱抵抗体の上流側端部から前記空洞部の周縁までの最近接距離をWd、被計測流体の流れ方向に対して垂直方向における前記発熱抵抗体の端部から前記空洞部の周縁までの最近接距離をLdとするとき、LhとWdとの関係がWd≧0.5Lhであり、LhとLdとの関係がLd≧0.5Lhであることを特徴とする熱式流量計。 - 請求項1に記載の熱式流量計において、WdとLdとの関係がLd≧Wdであることを特徴とする熱式流量計。
- 請求項1または2に記載の熱式流量計において、前記発熱抵抗体の上流側と下流側とにそれぞれ形成された測温抵抗体を備え、被計測流体の流れ方向に対して垂直方向における前記測温抵抗体の長さが被計測流体の流れ方向に対して垂直方向における前記発熱抵抗体の長さ以下であることを特徴とする熱式流量計。
- 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の熱式流量計において、前記空洞部は被計測流体の流れ方向に沿うように形成された短辺と前記短辺に垂直な長辺とを有する長方形に形成され、前記発熱抵抗体は前記長辺に沿う方向に延設されると共に延設方向の端部で折り返すことによって前記電気絶縁膜上に平行に並んだ複数の抵抗体部分を有し、前記抵抗体部分の延設方向における長さが平行に並んだ前記複数の抵抗体部分の全幅よりも大きいことを特徴とする熱式流量計。
- 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の熱式流量計において、前記発熱抵抗体の加熱温度が被計測流体の温度よりも200℃以上高くなるように加熱制御されることを特徴とする熱式流量計。
- 内燃機関の吸気管路内に設置し前記吸気管路内を流れる吸気の一部を採り込む通路と、前記通路内に配置され流体の流量を計測するセンサ素子とを備え、
前記センサ素子は、半導体基板と、前記半導体基板に形成された空洞部と、前記空洞部上に電気絶縁膜を介して形成された発熱抵抗体と、前記流体の流れ方向における前記発熱抵抗体の上流側と下流側とに設けられ前記空洞部上に位置するように前記電気絶縁膜上に形成された測温抵抗体とを有し、
前記空洞部は前記流体の流れ方向に沿うように形成された短辺と前記短辺に垂直な長辺とを有する長方形に形成され、
前記発熱抵抗体は、前記長辺に沿う方向に延設され、延設方向の端部で折り返すことによって前記電気絶縁膜上に平行に並んだ複数の抵抗体部分を有すると共に、前記抵抗体部分の延設方向における長さの方が平行に並んだ前記複数の抵抗体部分の全幅よりも大きくなるように形成され、
前記測温抵抗体は、前記流れ方向に対して垂直方向における長さが前記流体の流れ方向に対して垂直方向における前記発熱抵抗体の長さ以下に形成され、
前記流体の流れ方向に対して垂直方向の前記発熱抵抗体の長さをLhとし、前記流体の流れ方向における前記発熱抵抗体の上流側端部から前記空洞部の周縁までの最近接距離をWdとし、前記流体の流れ方向に対して垂直方向における前記発熱抵抗体の端部から前記空洞部の周縁までの最近接距離をLdとするとき、LhとWdとの関係がWd≧0.5Lhであり、LhとLdとの関係がLd≧0.5Lhであることを特徴とする熱式流量計。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009071127A JP5178598B2 (ja) | 2009-03-24 | 2009-03-24 | 熱式流量計 |
US12/708,387 US8186213B2 (en) | 2009-03-24 | 2010-02-18 | Thermal-type flowmeter |
EP10153913.8A EP2233896B1 (en) | 2009-03-24 | 2010-02-18 | Thermal-type flowmeter |
CN2010101174360A CN101852630B (zh) | 2009-03-24 | 2010-02-20 | 热式流量计 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009071127A JP5178598B2 (ja) | 2009-03-24 | 2009-03-24 | 熱式流量計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010223747A JP2010223747A (ja) | 2010-10-07 |
JP5178598B2 true JP5178598B2 (ja) | 2013-04-10 |
Family
ID=42354628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009071127A Active JP5178598B2 (ja) | 2009-03-24 | 2009-03-24 | 熱式流量計 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8186213B2 (ja) |
EP (1) | EP2233896B1 (ja) |
JP (1) | JP5178598B2 (ja) |
CN (1) | CN101852630B (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9072464B2 (en) * | 2009-07-22 | 2015-07-07 | Koninklijke Philips N.V. | Thermal flow sensor integrated circuit with low response time and high sensitivity |
JP5315304B2 (ja) * | 2010-07-30 | 2013-10-16 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 熱式流量計 |
US20120057136A1 (en) | 2010-09-02 | 2012-03-08 | Panasonic Corporation | Image display apparatus |
US8356514B2 (en) * | 2011-01-13 | 2013-01-22 | Honeywell International Inc. | Sensor with improved thermal stability |
JP5372976B2 (ja) * | 2011-01-31 | 2013-12-18 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 熱式流量センサ |
JP5915026B2 (ja) * | 2011-08-26 | 2016-05-11 | 住友大阪セメント株式会社 | 温度測定用板状体及びそれを備えた温度測定装置 |
JP5675716B2 (ja) * | 2012-06-29 | 2015-02-25 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 熱式空気流量センサ |
CN103592461B (zh) * | 2013-10-31 | 2017-01-11 | 清华大学 | 二维流速矢量测量传感器及其制作方法、信号的处理方法 |
CN104406644B (zh) * | 2014-12-05 | 2018-04-10 | 北京时代民芯科技有限公司 | 一种mems热式流量传感器及其制造方法 |
CN106092234B (zh) * | 2016-06-02 | 2019-05-10 | 苏州容启传感器科技有限公司 | 带有整流结构的镂空热膜式流量传感器及其制作方法 |
JP6884926B2 (ja) * | 2018-05-17 | 2021-06-09 | 日立Astemo株式会社 | 物理量検出装置 |
JP2020085463A (ja) * | 2018-11-15 | 2020-06-04 | 株式会社デンソー | 流量計測装置 |
CN113532561A (zh) * | 2020-04-16 | 2021-10-22 | 纬湃汽车电子(长春)有限公司 | 气体流量传感器 |
WO2023145568A1 (ja) * | 2022-01-26 | 2023-08-03 | ミネベアミツミ株式会社 | 流体センサ |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4914742A (en) * | 1987-12-07 | 1990-04-03 | Honeywell Inc. | Thin film orthogonal microsensor for air flow and method |
US4895616A (en) * | 1987-12-07 | 1990-01-23 | Honeywell Inc. | Method for making thin film orthogonal microsensor for air flow |
DE69112251T2 (de) * | 1990-04-13 | 1996-02-22 | Yamatake Honeywell Co Ltd | Membransensor. |
AU3162297A (en) * | 1996-06-26 | 1998-01-14 | Simon Fraser University | Accelerometer without proof mass |
JP3817497B2 (ja) * | 2002-06-10 | 2006-09-06 | 株式会社日立製作所 | 熱式流量計測装置 |
JP2004061412A (ja) * | 2002-07-31 | 2004-02-26 | Horiba Ltd | 流体センサ |
JP4292026B2 (ja) | 2003-05-30 | 2009-07-08 | 株式会社日立製作所 | 熱式流量センサ |
JP2004361271A (ja) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Hitachi Ltd | 熱式空気流量計 |
DE102005028143A1 (de) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Robert Bosch Gmbh | Thermischer Luftmassenmesser mit geringer Kontaminationsempfindlichkeit |
JP4790405B2 (ja) * | 2005-12-16 | 2011-10-12 | 三菱電機株式会社 | 熱式流量センサ |
JP5210491B2 (ja) * | 2006-02-03 | 2013-06-12 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 熱式流量センサ |
JP2006177972A (ja) * | 2006-02-06 | 2006-07-06 | Yazaki Corp | 雰囲気センサ |
JP4298722B2 (ja) * | 2006-06-09 | 2009-07-22 | 株式会社日立製作所 | エンジン制御装置 |
JP4341651B2 (ja) * | 2006-07-28 | 2009-10-07 | 株式会社日立製作所 | 熱式ガス流量計 |
JP4850105B2 (ja) | 2007-03-23 | 2012-01-11 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 熱式流量計 |
JP4836864B2 (ja) | 2007-05-16 | 2011-12-14 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 熱式流量計 |
-
2009
- 2009-03-24 JP JP2009071127A patent/JP5178598B2/ja active Active
-
2010
- 2010-02-18 US US12/708,387 patent/US8186213B2/en active Active
- 2010-02-18 EP EP10153913.8A patent/EP2233896B1/en active Active
- 2010-02-20 CN CN2010101174360A patent/CN101852630B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101852630B (zh) | 2012-05-09 |
US20100242591A1 (en) | 2010-09-30 |
EP2233896A1 (en) | 2010-09-29 |
JP2010223747A (ja) | 2010-10-07 |
EP2233896B1 (en) | 2017-04-12 |
CN101852630A (zh) | 2010-10-06 |
US8186213B2 (en) | 2012-05-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110209 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
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|
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