JP5176903B2 - イオン注入装置 - Google Patents
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Description
なお、図2(a)〜図2(c)でのシミュレーション条件は、イオンビームIBの引き出し電圧を30kVとし、加速時には60keV、通常時には30keV、減速時には1keVといった所望のエネルギーとなるようにイオンビームIBを静電加速管A3によって加減速した後、ターゲットTの面に対して垂直にイオンビームが照射されるように設定されている。
1・・・イオン源
5・・・偏向電極
51・・・第1偏向電極
52・・・第2偏向電極
521・・・上流側電極
522・・・下流側電極
IB・・・イオンビーム
T・・・ターゲット
Claims (6)
- イオン源から引き出されたイオンビームを所望のエネルギーにするとともに、偏向させてターゲットに入射させる静電加速管を具備したイオン注入装置において、
前記静電加速管の一部を構成する偏向電極が、前記イオンビームを挟んで設けられ、互いに異なる電位が設定される第1偏向電極と第2偏向電極とを備えたものであって、
前記第2偏向電極は、イオンビームが偏向される側に設けられるものであり、前記イオンビームの上流側に設けられる上流側電極と、その上流側電極から下流側に離間して設けられる下流側電極とを具備し、前記上流側電極及び前記下流側電極はそれぞれ独立に電位を設定可能に構成されており、
前記静電加速管の一部を構成する偏向電極において、前記第1偏向電極が設けられている側の電極の数と、前記第2偏向電極が設けられている側の電極の数とが異なることを特徴とするイオン注入装置。 - 前記イオンビームが正の電荷を有したものであり、
前記イオンビームを減速して、引き出された時のエネルギーよりも低くする場合には、前記下流側電極は、前記上流側電極よりも高い電位に設定される請求項1記載のイオン注入装置。 - 前記イオンビームを加速して、引き出された時のエネルギーよりも高くする場合には、前記下流側電極は、前記上流側電極と略同電位かそれよりも低い電位に設定される請求項1又は2記載のイオン注入装置。
- 前記第1偏向電極及び前記上流側電極は、偏向される前のイオンビームの進行方向と平行に延伸するものであり、
前記下流側電極は、偏向された後のイオンビームの進行方向と平行に延伸するものである請求項1、2又は3記載のイオン注入装置。 - 前記上流側電極が偏向される前のイオンビームの進行方向に延伸する長さ寸法が、前記下流側電極が偏向された後のイオンビームの進行方向に延伸する長さ寸法よりも長い請求項4記載のイオン注入装置。
- イオン源から引き出されたイオンビームを所望のエネルギーにするとともに、偏向させてターゲットに入射させる静電加速管の一部を構成する偏向電極において、
前記偏向電極が、前記イオンビームを挟んで設けられ、互いに異なる電位が設定される第1偏向電極と第2偏向電極とを備えたものであって、
前記第2偏向電極は、荷電粒子ビームの上流側に設けられる上流側電極体と、その上流側電極から下流側に離間して設けられる下流側電極体とを具備し、前記上流側電極体及び前記下流側電極体はそれぞれ独立に電位を設定可能に構成されており、
前記静電加速管の一部を構成する偏向電極において、前記第1偏向電極が設けられている側の電極の数と、前記第2偏向電極が設けられている側の電極の数とが異なることを特徴とする偏向電極。
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