JP5165634B2 - ガス分析装置 - Google Patents
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Description
Rs=R×(2×GAIN1×AD2/(AD1+2×GAIN2×AD2)−1)…(1)
GAIN2=GAIN1×R/(R+Rx)…(2)
Ro=(Rmax−Rmin)/4000×カウント+Rmin…(3)
Rmax:ガスセンサが500℃のときの抵抗値
Rmin:ガスセンサが100℃のときの抵抗値
4000:サンプリング回数
カウント:そのときのサンプリング回
n=N,N−m,N−2m,N−3m,…,1
Y[n]:微分値
X[n]:サンプリングデータ
m:間引き率(10)
N:全データ数(4000)
2 リファレンス側のマイクロヒータ
Bs ガスセンサ側のブリッジ回路
Br リファレンス側のブリッジ回路
ap4 計装アンプ
16 DSP
17 DAコンバータ
Claims (1)
- 吸着燃焼式ガスセンサのセンサ出力をサンプリングして、該サンプリングしたセンサ出力を時間微分して微分波形データを取得し、該取得した微分波形データに基づいてガスの分析を行うガス分析装置であって、
前記吸着燃焼式ガスセンサへガスを吸着させるガス吸着工程と、前記吸着燃焼式ガスセンサのヒータに印加する電圧を制御して該ヒータを一定昇温制御しながら前記センサ出力をサンプリングするサンプリング工程とを繰り返し、複数回の該サンプリング工程でサンプリングした同じサンプリングタイミングのセンサ出力を積算し、該積算値により前記微分波形データを取得することを特徴とするガス分析装置。
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