JP5163544B2 - 半導体装置 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体装置に関し、特に、携帯電話機などの移動体通信機器に使用される半導体装置に適用して有効な技術に関するものである。
特開2008−135822号公報(特許文献1)には、送信信号を増幅する電力増幅器の構成が記載されている。この特許文献1に記載されている電力増幅器は、互いに90度の位相差を有する送信信号が伝達する2つの増幅経路を有している。つまり、特許文献1に記載されている電力増幅器は、90度の位相差を有する送信信号をそれぞれ増幅し、その後、電力結合器でそれぞれの送信信号の電力を結合して出力する電力増幅器であり、いわゆるバランスアンプの構成が記載されている。
特開2008−135822号公報
近年、GSM(Global System for Mobile Communications)方式、PCS(Personal Communication Systems)方式、PDC(Personal Digital Cellular)方式、およびCDMA(Code Division Multiple Access)方式といった通信方式に代表される移動体通信機器(例えば、携帯電話機)が世界的に普及している。一般に、この種の移動体通信機器は、電波の放射と受信をするアンテナ、アンテナでの送受信を切り替えるアンテナスイッチ、電力変調された高周波信号を増幅してアンテナへ供給する電力増幅器(PAモジュール)、アンテナで受信した高周波信号を信号処理する受信部、これらの制御を行う制御部、そしてこれらに電源電圧を供給する電池(バッテリー)で構成される。
携帯電話機に含まれる電力増幅器は、例えば、送信信号を増幅する増幅経路が単一であるシングルアンプから構成されている。すなわち、シングルアンプでは、送信信号を入力して増幅した後、増幅した送信信号を出力するものであるが、この送信信号を入力して増幅した後に出力する経路が単一経路となっている。このとき、シングルアンプでは、シングルアンプで電力を増幅された送信信号がアンテナに向かって出力される。シングルアンプでは、シングルアンプに接続されている負荷の変動によりシングルアンプから出力される送信信号の変動が生じやすいという問題点がある。すなわち、アンテナを金属物質に接触させたり、アンテナを手で持つなどの動作が加わると、シングルアンプの出力に接続されている負荷が変動する。この負荷変動により、負荷のインピーダンスが変化する。これにより、シングルアンプから出力される送信信号の電力が変動することになる。例えば、電力の変動によりシングルアンプから出力される送信信号の電力が規定範囲よりも大きくなると、移動体通信機器を使用している人の体に悪影響を及ぼすことになる。一方、電力の変動により、シングルアンプから出力される送信信号の規定範囲よりも小さくなると、移動体通信機器の送信が途切れることになる。
そこで、本発明者らは、電力増幅器より出力される送信信号の電力が負荷の変動に影響されにくくするため、電力増幅器をバランスアンプから構成することを検討した。バランスアンプは、互いに90度の位相差を有する送信信号が伝達する2つの増幅経路を有しており、最終的に、この2つの増幅経路を伝達するそれぞれの送信信号を電力結合器によって単一の出力とするものである。このバランスアンプによれば、2つの増幅経路を伝達する送信信号の位相が90度ずれているので、バランスアンプの出力端子に接続されている負荷の変動があってもバランスアンプからの出力をほぼ一定に制御できる利点がある。つまり、バランスアンプでは、2つの増幅経路のうち一方の増幅経路が負荷変動によって高インピーダンスに変化する場合、他方の増幅経路が負荷変動に対して低インピーダンスに変化する。このため、2つの増幅経路を伝達する送信信号を結合すると、互いに負荷変動に対する送信信号の電力の変化を補完し合うことができる。この結果、バランスアンプから出力される送信信号の電力は、負荷変動に左右されずにほぼ一定にすることができる。したがって、電力増幅器をバランスアンプから構成することにより、負荷変動に強い電力増幅器を構成することが可能となる。
ここで、近年の携帯電話機では音声通話機能だけでなく様々なアプリケーション機能が追加されている。すなわち、携帯電話機を用いた配信音楽の視聴、動画伝送、データ転送などの音声通話機能以外の機能が携帯電話機に追加されている。このような携帯電話機の多機能化に伴い、世界各国での周波数帯(GSM(Global System for Mobile communications)帯、PCS(Personal Communication Services)帯など)や変調方式(GSM、EDGE(Enhanced Data rates for GSM Evolution)、WCDMA(Wideband Code Division Multiplex Access)など)が多数存在することになっている。したがって、携帯電話機では、複数の異なる周波数帯や異なる変調方式に対応した送受信信号に対応する必要がある。このことから、携帯電話機内に存在する電力増幅器にもそれぞれ異なる周波数帯の信号を増幅する機能が求められており、電力増幅器を構成する1つの半導体チップ内に異なる周波数帯の送信信号を増幅できるように構成することが行なわれている。すなわち、例えば、異なる2つの周波数帯の送信信号(ローバンド信号とハイバンド信号と呼ぶ)を増幅する場合を考えると、ローバンド信号用の増幅回路と、ハイバンド信号用の増幅回路を1つの半導体チップに形成することになる。この場合、ローバンド信号用の増幅経路と、ハイバンド信号用の増幅経路が近接した配線間を伝達する場合、近接した配線間のカップリング容量が大きくなり、ローバンド信号とハイバンド信号の間のクロストークが問題として顕在化する。デュアルバンド対応の電力増幅器の増幅経路をそれぞれバランスアンプから構成する場合も、ローバンド信号と、ハイバンド信号とのクロストークが問題となる。さらに、バランスアンプの特性を向上するためには、互いに位相の90度異なる送信信号を伝送する2つの増幅経路の配置を工夫する必要がある。
本発明の目的は、携帯電話機などの移動体通信機器に搭載される電力増幅器をバランスアンプから構成する場合に、バランスアンプの特性向上を図ることができる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
代表的な実施の形態による半導体装置は、ネガティブパス用の増幅器とポジティブパス用の増幅器によって構成されるバランスアンプ方式の電力増幅器を含む半導体装置であって、(a)配線基板と、(b)前記配線基板上に搭載された、前記電力増幅器を構成する複数のトランジスタを含む半導体チップを有する。ここで、前記配線基板には、(c1)前記ネガティブパス用の増幅器と電気的に接続した整合回路を構成する第1の受動素子と、(c2)前記ポジティブパス用の増幅器と電気的に接続した整合回路を構成する第2の受動素子が形成されている。そして、前記配線基板は、前記半導体チップの中心を通る第1の直線によって分割された第1の領域および第2の領域を有し、前記第1の受動素子は、前記第1の領域に配置され、前記第2の受動素子は、前記第2の領域に配置されていることを特徴とするものである。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。
半導体装置の特性を向上することができ、特に、携帯電話機などの移動体通信機器に搭載される電力増幅器をバランスアンプから構成する場合に、バランスアンプの特性向上を図ることができる。
携帯電話機の送受信部の構成を示すブロック図である。 PAモジュールをシングルアンプから構成する例を示すブロック図である。 PAモジュールをバランスアンプから構成する例を示すブロック図である。 PAモジュールをバランスアンプから構成する他の例を示すブロック図である。 バランスアンプの動作を説明する図である。 バランスアンプの動作を説明する図である。 デュアルバンド方式のバランスアンプの構成例を示すブロック図である。 本発明の実施の形態1において、デュアルバンド方式のバランスアンプの構成例を示すブロック図である。 実施の形態1におけるPAモジュールの回路構成を示す回路ブロック図である。 配線基板の各領域と半導体チップの各領域を定義する図である。 実施の形態1におけるPAモジュールの実装構成を示す図である。 実施の形態1において、配線基板に形成されている多層配線層のうちのある1層に形成されている導体パターンを示す図である。 実施の形態2における半導体チップのレイアウト構成を示す図である。 実施の形態2における半導体チップのレイアウト構成を示す図である。 ネガティブパスにおける整合回路の一例を示す回路図である。 ポジティブパスにおける整合回路の一例を示す回路図である。 比較例における半導体チップのレイアウト構成を示す図である。 実施の形態2における半導体チップのレイアウト構成を示す図である。
以下の実施の形態においては便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。
また、以下の実施の形態において、要素の数等(個数、数値、量、範囲等を含む)に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でもよい。
さらに、以下の実施の形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。
同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうではないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。
また、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。なお、図面をわかりやすくするために平面図であってもハッチングを付す場合がある。
(実施の形態1)
<<送受信部構成>>
図1は、携帯電話機の送受信部の構成を示すブロック図である。図1に示すように、携帯電話機1は、アプリケーションプロセッサ2、メモリ3、ベースバンド部4、RFIC5、電力増幅器6、SAW(Surface Acoustic Wave)フィルタ7、アンテナスイッチ8およびアンテナ9を有している。
アプリケーションプロセッサ2は、例えば、CPU(Central Processing Unit)から構成され、携帯電話機1のアプリケーション機能を実現する機能を有している。具体的には、メモリ3から命令を読みだして解読し、解読した結果に基づいて各種の演算や制御することによりアプリケーション機能を実現している。メモリ3は、データを記憶する機能を有しており、例えば、アプリケーションプロセッサ2を動作させるプログラムや、アプリケーションプロセッサ2での処理データを記憶するように構成されている。また、メモリ3は、アプリケーションプロセッサ2だけでなく、ベースバンド部4ともアクセスできるようになっており、ベースバンド部で処理されるデータの記憶にも使用できるようになっている。
ベースバンド部4は、中央制御部であるCPUを内蔵し、送信時には、操作部を介したユーザ(通話者)からの音声信号(アナログ信号)をデジタル処理してベースバンド信号を生成できるように構成されている。一方、受信時には、デジタル信号であるベースバンド信号から音声信号を生成できるように構成されている。
RFIC5は、送信時にはベースバンド信号を変調して無線周波数の信号を生成し、受信時には、受信信号を復調してベースバンド信号を生成することができるように構成されている。電力増幅器6は、微弱な入力信号と相似な大電力の信号を電源から供給される電力で新たに生成して出力する回路である。SAWフィルタ7は、受信信号から所定の周波数帯の信号だけを通過させるように構成されている。
アンテナスイッチ8は、携帯電話機1に入力される受信信号と携帯電話機1から出力される送信信号とを分離するためのものであり、アンテナ9は、電波を送受信するためのものである。
携帯電話機1は、上記のように構成されており、以下に、その動作について簡単に説明する。まず、信号を送信する場合について説明する。ベースバンド部4で音声信号などのアナログ信号をデジタル処理することにより生成されたベースバンド信号は、RFIC5に入力する。RFIC5では、入力したベースバンド信号を、変調信号源およびミキサによって、無線周波数(RF(Radio Frequency)周波数)の信号に変換する。無線周波数に変換された信号は、RFIC5から電力増幅器(PAモジュール)6に出力される。電力増幅器6に入力した無線周波数の信号は、電力増幅器6で増幅された後、アンテナスイッチ8を介してアンテナ9より送信される。
次に、信号を受信する場合について説明する。アンテナ9により受信された無線周波数の信号(受信信号)は、SAWフィルタ7を通過した後、RFIC5に入力する。RFIC5では、入力した受信信号を増幅した後、変調信号源およびミキサによって、周波数変換を行なう。そして、周波数変換された信号の検波が行なわれ、ベースバンド信号が抽出される。その後、このベースバンド信号は、RFIC5からベースバンド部4に出力される。このベースバンド信号がベースバンド部4で処理され、音声信号が出力される。
上述したように、デジタル携帯電話機から信号を送信する際、電力増幅器6によって信号は増幅された後、アンテナスイッチ8を介してアンテナ9から出力される。
<<PAモジュール(シングルアンプ)の構成>>
以下では、このPAモジュールPA(図1の電力増幅器6)の回路ブロック構成について説明する。まず、図2は、PAモジュールPAをシングルアンプから構成する例を示す回路ブロック図である。シングルアンプとは、送信信号を増幅する経路が単一経路となっているPAモジュールPAをいうものとする。図2において、PAモジュールPAは、入力端子ITEと出力端子OTEとの間に、入力整合回路IMN、初段増幅回路FAMP、段間整合回路MMN、終段増幅回路SAMPおよび出力整合回路OMNを有している。
入力整合回路IMNは、入力端子ITEから入力した入力信号(送信信号)を効率よく初段増幅回路FAMPに出力するための回路である。具体的に、入力整合回路IMNは、容量素子やインダクタ素子などの受動部品から構成されており、入力信号に対するインピーダンス整合をとることができるように組み合わされている。
初段増幅回路FAMPは、入力整合回路IMNから出力された送信信号の電力を増幅できるように構成されている。例えば、初段増幅回路FAMPは、HBT、HEMTなどの化合物半導体デバイス、シリコンバイポーラトランジスタ、LDMOSFET(Laterally Diffused Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor、横方向拡散MOSFET)などが、目的や状況に応じて使用される。
段間整合回路MMNは、初段増幅回路FAMPで増幅された送信信号を効率よく終段増幅回路SAMPに伝達するための回路である。具体的に、段間整合回路MMNは、容量素子やインダクタ素子などの受動部品から構成されており、送信信号に対するインピーダンス整合をとることができるように組み合わされている。
終段増幅回路SAMPは、段間整合回路MMNから出力された送信信号の電力を増幅できるように構成されている。例えば、終段増幅回路SAMPも初段増幅回路FAMPと同様に、HBT、HEMTなどの化合物半導体デバイス、シリコンバイポーラトランジスタ、LDMOSFET(Laterally Diffused Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor、横方向拡散MOSFET)などが、目的や状況に応じて使用される。
出力整合回路OMNは、終段増幅回路SAMPで増幅された送信信号を効率よく出力端子OTEから出力するための回路である。具体的に、出力整合回路OMNは、容量素子やインダクタ素子などの受動部品から構成されており、送信信号に対するインピーダンス整合をとることができるように組み合わされている。
シングルアンプから構成されているPAモジュールPAは上記のように構成されており、以下に、その動作について図2を参照しながら説明する。まず、入力端子ITEに送信信号が入力されると、送信信号は入力端子ITEから入力整合回路IMNに入力する。この入力整合回路IMNは、送信信号に対してインピーダンス整合がとられるように構成されているため、入力整合回路IMNに入力した送信信号は反射が抑制されて効率よく入力整合回路IMNから出力される。
続いて、入力整合回路IMNから出力された送信信号は、初段増幅回路FAMPに入力する。初段増幅回路FAMPでは、送信信号の電力が増幅される。そして、初段増幅回路FAMPで増幅された送信信号は、段間整合回路MMNに入力する。このとき、段間整合回路MMNでも送信信号に対してインピーダンス整合がとられているので、効率よく段間整合回路MMNから送信信号が出力される。
その後、段間整合回路MMNから出力された送信信号は、終段増幅回路SAMPに入力する。終段増幅回路SAMPでは、送信信号の電力が増幅される。そして、終段増幅回路SAMPで増幅された送信信号は、出力整合回路OMNに入力する。出力整合回路OMNでも送信信号に対してインピーダンス整合がとられているので、効率よく出力整合回路OMNから送信信号が出力される。出力整合回路OMNから出力された送信信号は、出力端子OTEを介してPAモジュールPAの外部に出力される。以上のようにして、PAモジュールPAで送信信号の電力を増幅することができる。
このように構成されているPAモジュールPAでは、PAモジュールPAで電力を増幅された送信信号がアンテナに向って出力される。このとき、PAモジュールPAをシングルアンプから構成する場合、シングルアンプに接続されている負荷の変動によりシングルアンプから出力される送信信号の変動が生じやすいという問題点がある。例えば、電力の変動によりシングルアンプから出力される送信信号の電力が規定範囲よりも大きくなると、移動体通信機器を使用している人の体に悪影響を及ぼすことになる。一方、電力の変動により、シングルアンプから出力される送信信号の規定範囲よりも小さくなると、移動体通信機器の送信が途切れることになる。
<<PAモジュール(バランスアンプ)の構成>>
そこで、PAモジュールPAより出力される送信信号の電力が負荷の変動に影響されにくくするため、PAモジュールPAをバランスアンプから構成することが検討されている。バランスアンプは、互いに90度の位相差を有する送信信号が伝達する2つの増幅経路を有しており、最終的に、この2つの増幅経路を伝達するそれぞれの送信信号を電力結合器によって単一の出力とするものである。
図3は、PAモジュールPAをバランスアンプから構成する例を示す回路ブロック図である。図3に示すバランスアンプおいては、入力端子ITEと出力端子OTEの間に2つの増幅経路が存在する。この2つの増幅経路のうち、一方の増幅経路をネガティブパスと呼び、他方の増幅経路をポジティブパスと呼ぶことにする。ネガティブパスとポジティブパスとは、同一の入力端子ITEに接続された電力分割器PD1によって分岐されている。
まず、ネガティブパスの構成について説明する。ネガティブパスにおいては、電力分割器PD1と電力結合器WCとの間に、入力整合回路IMN(1n)、初段増幅回路FAMP(1n)、段間整合回路MMN(1n)、終段増幅回路SAMP(1n)、出力整合回路OMN(1n)とを有している。
入力整合回路IMN(1n)は、電力分割器PD1で分割された入力信号(送信信号)を効率よく初段増幅回路FAMP(1n)に出力するための回路である。具体的に、入力整合回路IMN(1n)は、容量素子やインダクタ素子などの受動部品から構成されており、入力信号に対するインピーダンス整合をとることができるように組み合わされている。この入力整合回路IMN(1n)は、インピーダンス整合をとる機能と、入力整合回路IMN(1n)を伝達する送信信号の位相を調整する機能を有している。つまり、バランスアンプでは、ネガティブパスとポジティブパスとを伝達する送信信号の位相を90度異なるようにしているため、まず、電力分割器PD1で分割された送信信号を入力する入力整合回路IMN(1n)でネガティブパスを伝達する送信信号の位相を調整している。
初段増幅回路FAMP(1n)は、入力整合回路IMN(1n)から出力された送信信号の電力を増幅できるように構成されている。例えば、初段増幅回路FAMP(1n)は、HBT、HEMTなどの化合物半導体デバイス、シリコンバイポーラトランジスタ、LDMOSFET(Laterally Diffused Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor、横方向拡散MOSFET)などが、目的や状況に応じて使用される。
段間整合回路MMN(1n)は、初段増幅回路FAMP(1n)で増幅された送信信号を効率よく終段増幅回路SAMP(1n)に伝達するための回路である。具体的に、段間整合回路MMN(1n)は、容量素子やインダクタ素子などの受動部品から構成されており、送信信号に対するインピーダンス整合をとることができるように組み合わされている。
終段増幅回路SAMP(1n)は、段間整合回路MMN(1n)から出力された送信信号の電力を増幅できるように構成されている。例えば、終段増幅回路SAMP(1n)も初段増幅回路FAMP(1n)と同様に、HBT、HEMTなどの化合物半導体デバイス、シリコンバイポーラトランジスタ、LDMOSFET(Laterally Diffused Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor、横方向拡散MOSFET)などが、目的や状況に応じて使用される。
出力整合回路OMN(1n)は、終段増幅回路SAMP(1n)で増幅された送信信号を効率よく出力端子OTEから出力するための回路である。具体的に、出力整合回路OMN(1n)は、容量素子やインダクタ素子などの受動部品から構成されており、送信信号に対するインピーダンス整合をとることができるように組み合わされている。さらに、バランスアンプにおいて、出力整合回路OMN(1n)は、インピーダンス整合をとる機能とともに、ネガティブパスを伝達する送信信号の位相を調整する機能も有している。つまり、バランスアンプでは、ネガティブパスとポジティブパスの間で送信信号の位相を90度ずらすように調整されているが、最終的に、電力結合器WCで、ネガティブパスを伝達する送信信号と、ポジティブパスを伝達する送信信号とを結合させるため、電力結合器WCへ入力する直前の出力整合回路OMN(1n)で送信信号の位相を調整するように構成されている。
続いて、ポジティブパスの構成について説明する。ポジティブパスにおいては、電力分割器PD1と電力結合器WCとの間に、入力整合回路IMN(1p)、初段増幅回路FAMP(1p)、段間整合回路MMN(1p)、終段増幅回路SAMP(1p)、出力整合回路OMN(1p)とを有している。
入力整合回路IMN(1p)は、電力分割器PD1で分割された入力信号(送信信号)を効率よく初段増幅回路FAMP(1p)に出力するための回路である。具体的に、入力整合回路IMN(1p)は、容量素子やインダクタ素子などの受動部品から構成されており、入力信号に対するインピーダンス整合をとることができるように組み合わされている。この入力整合回路IMN(1p)は、インピーダンス整合をとる機能と、入力整合回路IMN(1p)を伝達する送信信号の位相を調整する機能を有している。つまり、バランスアンプでは、ネガティブパスとポジティブパスとを伝達する送信信号の位相を90度異なるようにしているため、まず、電力分割器PD1で分割された送信信号を入力する入力整合回路IMN(1p)でポジティブパスを伝達する送信信号の位相を調整している。
初段増幅回路FAMP(1p)は、入力整合回路IMN(1p)から出力された送信信号の電力を増幅できるように構成されている。例えば、初段増幅回路FAMP(1p)は、HBT、HEMTなどの化合物半導体デバイス、シリコンバイポーラトランジスタ、LDMOSFET(Laterally Diffused Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor、横方向拡散MOSFET)などが、目的や状況に応じて使用される。
段間整合回路MMN(1p)は、初段増幅回路FAMP(1p)で増幅された送信信号を効率よく終段増幅回路SAMP(1p)に伝達するための回路である。具体的に、段間整合回路MMN(1p)は、容量素子やインダクタ素子などの受動部品から構成されており、送信信号に対するインピーダンス整合をとることができるように組み合わされている。
終段増幅回路SAMP(1p)は、段間整合回路MMN(1p)から出力された送信信号の電力を増幅できるように構成されている。例えば、終段増幅回路SAMP(1p)も初段増幅回路FAMP(1p)と同様に、HBT、HEMTなどの化合物半導体デバイス、シリコンバイポーラトランジスタ、LDMOSFET(Laterally Diffused Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor、横方向拡散MOSFET)などが、目的や状況に応じて使用される。
出力整合回路OMN(1p)は、終段増幅回路SAMP(1p)で増幅された送信信号を効率よく出力端子OTEから出力するための回路である。具体的に、出力整合回路OMN(1p)は、容量素子やインダクタ素子などの受動部品から構成されており、送信信号に対するインピーダンス整合をとることができるように組み合わされている。さらに、バランスアンプにおいて、出力整合回路OMN(1p)は、インピーダンス整合をとる機能とともに、ポジティブパスを伝達する送信信号の位相を調整する機能も有している。つまり、バランスアンプでは、ネガティブパスとポジティブパスの間で送信信号の位相を90度ずらすように調整されているが、最終的に、電力結合器WCで、ネガティブパスを伝達する送信信号と、ポジティブパスを伝達する送信信号とを結合させるため、電力結合器WCへ入力する直前の出力整合回路OMN(1p)で送信信号の位相を調整するように構成される。
なお、図3では、ネガティブパスの出力整合回路OMN(1n)と、ポジティブパスの出力整合回路OMN(1p)と電力結合器WCを合わせて、出力整合回路OMNを構成している。
以上のようにバランスアンプにはネガティブパスとポジティブパスという2つの増幅経路が存在するが、バランスアンプの特徴は、ネガティブパスを伝達する送信信号の位相とポジティブパスを伝達する送信信号の位相が90度ずれていることにある。つまり、図3に示すように、まず、入力端子ITEを通って電力分割器PD1からネガティブパスとポジティブパスへそれぞれ出力される送信信号の位相は同一である。次に、ネガティブパスの入力整合回路IMN(1n)とポジティブパスの入力整合回路IMN(1p)で送信信号の位相が調整される結果、ネガティブパスの入力整合回路IMN(1n)から出力された送信信号の位相と、ポジティブパスの入力整合回路IMN(1p)から出力された送信信号の位相とは、90度の位相差が生じている。そして、この90度の位相差が生じた状態で、ネガティブパスの初段増幅回路FAMP(1n)、段間整合回路MMN(1n)、終段増幅回路SAMP(1n)と、ポジティブパスの初段増幅回路FAMP(1p)、段間整合回路(1p)、終段増幅回路SAMP(1p)とを、それぞれの送信信号が伝達する。そして、ネガティブパスの出力整合回路OMN(1n)と、ポジティブパスの出力整合回路OMN(1p)で、それぞれの送信信号の位相が調整され、ネガティブパスの出力整合回路OMN(1n)から出力された送信信号の位相と、ポジティブパスの出力整合回路OMN(1p)から出力された送信信号の位相が同一となる。そして、同一となった送信信号が電力結合器WCで結合されるのである。
このバランスアンプによれば、2つの増幅経路を伝達する送信信号の位相が90度ずれているので、バランスアンプの出力端子に接続されている負荷の変動があってもバランスアンプからの出力をほぼ一定に制御できる利点がある。つまり、2つの増幅経路のうち一方の増幅経路が負荷変動によって高インピーダンスに変化する場合、他方の増幅経路が負荷変動に対して低インピーダンスに変化する。このため、2つの増幅経路を伝達する送信信号を結合すると、互いに負荷変動に対する送信信号の電力の変化を補完し合うことができる。この結果、バランスアンプから出力される送信信号の電力は、負荷変動に左右されずにほぼ一定にすることができる。したがって、PAモジュールPAをバランスアンプから構成することにより、負荷変動に強いPAモジュールPAを構成することができる。
さらに、ノイズ耐性の向上を図ることができるバランスアンプの構成について説明する。図4は、PAモジュールPAをバランスアンプから構成する例を示す回路ブロック図である。図4に示すバランスアンプおいては、入力端子ITE(1n)と入力端子ITE(1p)を有している。つまり、図4に示すバランスアンプと、図3に示すバランスアンプの相違点は、図3に示すバランスアンプでは、1つの入力端子ITEから送信信号を入力するのに対し、図4に示すバランスアンプでは、2つの入力端子ITE(1n)、ITE(1p)から互いに位相が180度異なる送信信号を入力している。その他の構成は、図3に示すバランスアンプと、図4に示すバランスアンプでほぼ同一の構成をしている。
図3に示すバランスアンプの場合、1つの入力端子ITEから送信信号を入力し、入力した送信信号を電力分割器PD1によってネガティブパスを伝達する送信信号と、ポジティブパスを伝達する送信信号に分割している。この場合、1つの入力端子ITEに入力される送信信号は1つの位相状態となっているため、この送信信号にノイズが発生すると、ネガティブパスを伝達する送信信号と、ポジティブパスを伝達する送信信号とに同じノイズが発生することになり、ネガティブパスを伝達する送信信号とポジティブパスを伝達する送信信号とを電力結合器WCで結合すると、ノイズも増幅されることになる。
これに対し、図4に示すバランスアンプの場合、ネガティブパスに入力する入力端子ITE(1n)とポジティブパスに入力する入力端子ITE(1p)は別々になっており、入力端子ITE(1n)に入力される送信信号と、入力端子ITE(1p)に入力される送信信号とは180度の位相差(逆位相という)を有している。したがって、この逆位相の送信信号にノイズが発生する場合、例えば、入力端子ITE(1n)に入力される送信信号のノイズと、入力端子ITE(1p)に入力される送信信号のノイズが逆位相となるものがある。この場合、互いに逆位相のノイズが、それぞれ、ネガティブパスとポジティブパスとを伝達することになるが、最終的に、電力結合器WCで結合される。このとき、ネガティブパスを伝達する送信信号に発生しているノイズと、ポジティブパスを伝達する送信信号に発生しているノイズは逆極性となっていることから、電力結合器WCで、それぞれの送信信号を結合させると、逆極性のノイズはキャンセルされることになる。したがって、図4に示すバランスアンプからPAモジュールPAを構成する場合、PAモジュールPAの入力時に発生したノイズは、PAモジュールPAの出力時に低減されることになる。つまり、図4に示すバランスアンプは、ノイズ耐性に優れた特性を有していることになる。
そこで、本実施の形態1では、図4に示すバランスアンプからPAモジュールPAを構成する例について説明する。ただし、本実施の形態1の技術的思想は、図4に示すバランスアンプに限定されるものではなく、例えば、図3に示すバランスアンプにも適用できるものである。
<<PAモジュール(バランスアンプ)の動作>>
バランスアンプから構成されているPAモジュールPAは上記のように構成されており、以下に、その動作について図5および図6を参照しながら説明する。
まず、負荷変動が生じていない場合のバランスアンプの動作について図5を参照しながら説明する。図5において、ネガティブパスでは、入力端子ITE(1n)から入力された送信信号は、入力整合回路IMN(1n)で、例えば、90度に位相調整された後、初段増幅回路FAMP(1n)および終段増幅回路SAMP(1n)で増幅される。そして、増幅された送信信号は、出力整合回路OMN(1n)で位相調整され、出力整合回路OMN(1n)から出力された送信信号の位相は、例えば、45度となる。
一方、ポジティブパスでは、ネガティブパスに入力される送信信号と位相が180度異なる送信信号が入力端子ITE(1p)に入力される。入力端子ITE(1p)から入力された送信信号は、入力整合回路IMN(1n)で、例えば、0度に位相調整された後、初段増幅回路FAMP(1p)および終段増幅回路SAMP(1p)で増幅される。そして、増幅された送信信号は、出力整合回路OMN(1p)で位相調整され、出力整合回路OMN(1p)から出力された送信信号の位相は、例えば、45度となる。
そして、ネガティブパスの出力整合回路OMN(1n)から出力された送信信号と、ポジティブパスの出力整合回路OMN(1p)から出力された送信信号とは、電力結合器WCによって結合され、出力端子OTEから出力される。出力端子OTEから出力された送信信号は、アンテナANTから送信される。
ここで、ネガティブパスを伝達する送信信号の位相と、ポジティブパスを伝達する送信信号の位相との関係に着目して説明する。図5に示すように、まず、ネガティブパスの入力整合回路IMN(1n)に入力する前の送信信号の位相と、ポジティブパスの入力整合回路IMN(1p)に入力する前の送信信号の位相との位相差は180度となっている。
次に、ネガティブパスにおいて、入力整合回路IMN(1n)から出力された後の送信信号の位相は90度となっている。このときの送信信号の位相と振幅の大きさは、図5に示すように、例えば、位相が90度方向を向いており、振幅の大きさが「1」となっている。一方、ポジティブパスにおいて、入力整合回路IMN(1p)から出力された後の送信信号の位相は0度となっている。このときの送信信号の位相と振幅の大きさは、図5に示すように、例えば、位相が0度方向を向いており、振幅の大きさが「1」となっている。したがって、ネガティブパスにおける入力整合回路IMN(1n)から出力された送信信号の位相(90度)と、ポジティブパスにおける入力整合回路IMN(1p)から出力された送信信号の位相(0度)との位相差は90度となっている。
続いて、ネガティブパスにおいて、出力整合回路OMN(1n)から出力された後の送信信号の位相は45度となっている。このときの送信信号の位相と振幅の大きさは、図5に示すように、例えば、位相が45度方向を向いており、振幅の大きさが「1」となっている。一方、ポジティブパスにおいて、出力整合回路OMN(1p)から出力された後の送信信号の位相は45度となっている。このときの送信信号の位相と振幅の大きさは、図5に示すように、例えば、位相が45度方向を向いており、振幅の大きさが「1」となっている。したがって、ネガティブパスにおける出力整合回路OMN(1n)から出力された送信信号の位相(45度)と、ポジティブパスにおける出力整合回路OMN(1p)から出力された送信信号の位相(45度)との位相差は0度となっている。
このようにネガティブパスの出力整合回路OMN(1n)から出力された送信信号と、ポジティブパスの出力整合回路OMN(1p)から出力された送信信号は、ともに、位相が45度となっており同一の位相を有している。このため、ネガティブパスの送信信号とポジティブパスの送信信号とを電力結合器WCで結合すると、電力結合器WCから出力端子OTEに出力される送信信号の位相は45度で、かつ、振幅の大きさは「1」+「1」=「2」となる。この送信信号がアンテナANTから送信される。以上は負荷変動が生じていない場合のバランスアンプの動作である。
次に、負荷変動が生じている場合のバランスアンプの動作について図6を参照しながら説明する。図6において、ネガティブパスでは、入力端子ITE(1n)から入力された送信信号は、入力整合回路IMN(1n)で、例えば、90度に位相調整された後、初段増幅回路FAMP(1n)および終段増幅回路SAMP(1n)で増幅される。そして、増幅された送信信号は、出力整合回路OMN(1n)で位相調整され、出力整合回路OMN(1n)から出力された送信信号の位相は、例えば、45度となる。
一方、ポジティブパスでは、ネガティブパスに入力される送信信号と位相が180度異なる送信信号が入力端子ITE(1p)に入力される。入力端子ITE(1p)から入力された送信信号は、入力整合回路IMN(1p)で、例えば、0度に位相調整された後、初段増幅回路FAMP(1p)および終段増幅回路SAMP(1p)で増幅される。そして、増幅された送信信号は、出力整合回路OMN(1p)で位相調整され、出力整合回路OMN(1p)から出力された送信信号の位相は、例えば、45度となる。
そして、ネガティブパスの出力整合回路OMN(1n)から出力された送信信号と、ポジティブパスの出力整合回路OMN(1p)から出力された送信信号とは、電力結合器WCによって結合され、出力端子OTEから出力される。出力端子OTEから出力された送信信号は、アンテナANTから送信される。
ここで、ネガティブパスを伝達する送信信号の位相および振幅の大きさと、ポジティブパスを伝達する送信信号の位相および振幅の大きさとの関係に着目して説明する。図6に示すように、まず、ネガティブパスの入力整合回路IMN(1n)に入力する前の送信信号の位相と、ポジティブパスの入力整合回路IMN(1p)に入力する前の送信信号の位相との位相差は180度となっている。
次に、ネガティブパスにおいて、入力整合回路IMN(1n)から出力された後の送信信号の位相は90度となっている。このときの送信信号の位相と振幅の大きさは、図6に示すように、例えば、位相が90度方向を向いており、振幅の大きさが「1.5」となっている。このように負荷変動が生じた場合、例えば、ネガティブパスを伝達する送信信号の振幅が「1」から「1.5」に変化する。
一方、ポジティブパスにおいて、入力整合回路IMN(1p)から出力された後の送信信号の位相は0度となっている。このときの送信信号の位相と振幅の大きさは、図6に示すように、例えば、位相が0度方向を向いており、振幅の大きさが「0.5」となっている。このように負荷変動が生じた場合、例えば、ポジティブパスを伝達する送信信号の振幅が「1」から「0.5」に変化する。これは、2つの増幅経路(ネガティブパスとポジティブパス)が負荷変動に対して、互いに出力電力の変化を補完し合うようになっているからである。
続いて、ネガティブパスにおいて、出力整合回路OMN(1n)から出力された後の送信信号の位相は45度となっている。このときの送信信号の位相と振幅の大きさは、図6に示すように、例えば、位相が45度方向を向いており、振幅の大きさが「1.5」となっている。一方、ポジティブパスにおいて、出力整合回路OMN(1p)から出力された後の送信信号の位相は45度となっている。このときの送信信号の位相と振幅の大きさは、図6に示すように、例えば、位相が45度方向を向いており、振幅の大きさが「0.5」となっている。したがって、ネガティブパスにおける出力整合回路OMN(1n)から出力された送信信号の位相(45度)と、ポジティブパスにおける出力整合回路OMN(1p)から出力された送信信号の位相(45度)との位相差は0度となっている。
このようにネガティブパスの出力整合回路OMN(1n)から出力された送信信号と、ポジティブパスの出力整合回路OMN(1p)から出力された送信信号は、ともに、位相が45度となっており同一の位相を有している。このため、ネガティブパスの送信信号とポジティブパスの送信信号とを電力結合器WCで結合すると、電力結合器WCから出力端子OTEに出力される送信信号の位相は45度で、かつ、振幅の大きさは「1.5」+「0.5」=「2」となる。この送信信号がアンテナANTから送信される。したがって、負荷変動が生じても、アンテナANTから送信される送信信号の振幅の大きさは「2」となる。つまり、負荷変動が生じる前後で、アンテナANTから送信される送信信号の振幅の大きさは変化しない。このことは、バランスアンプでは、負荷変動が生じても、送信される送信信号の電力を一定にできることを意味している。したがって、PAモジュールPAをバランスアンプから構成することにより、負荷変動に強いPAモジュールPAを構成することができることがわかる。
<<PAモジュール(バランスアンプ)のデュアルバンド化>>
近年の携帯電話機では音声通話機能だけでなく様々なアプリケーション機能が追加されている。すなわち、携帯電話機を用いた配信音楽の視聴、動画伝送、データ転送などの音声通話機能以外の機能が携帯電話機に追加されている。このような携帯電話機の多機能化に伴い、世界各国での周波数帯(GSM(Global System for Mobile communications)帯、PCS(Personal Communication Services)帯など)や変調方式(GSM、EDGE(Enhanced Data rates for GSM Evolution)、WCDMA(Wideband Code Division Multiplex Access)など)が多数存在することになっている。したがって、携帯電話機では、複数の異なる周波数帯や異なる変調方式に対応した送受信信号に対応する必要がある。このことから、携帯電話機内に存在するPAモジュールPAにもそれぞれ異なる周波数帯の信号を増幅する機能が求められており、PAモジュールPAを構成する1つの半導体チップ内に異なる周波数帯の送信信号を増幅できるように構成することが行なわれている。すなわち、例えば、異なる2つの周波数帯の送信信号(ローバンド信号(第1周波数帯の信号)とハイバンド信号(第2周波数帯の信号)と呼ぶ)を増幅する場合を考えると、ローバンド信号用の増幅回路と、ハイバンド信号用の増幅回路を1つの半導体チップに形成することになる。このことは、PAモジュールPAをバランスアンプから構成する場合も同様に、1つの半導体チップにローバンド信号用バランスアンプと、ハイバンド信号用バランスアンプを形成することになる。
図7は、ローバンド信号用バランスアンプと、ハイバンド信号用バランスアンプとを形成したPAモジュールPAのブロック図である。図7において、まず、ローバンド信号用バランスアンプの構成について説明する。図7に示すように、PAモジュールPAには、入力端子ITE(1n)と入力端子ITE(1p)が形成されている。入力端子ITE(1n)に接続されている経路がローバンド信号用バランスアンプのネガティブパスである。具体的に、ローバンド信号用バランスアンプのネガティブパスには、入力端子ITE(1n)に接続された入力整合回路IMN(1n)、この入力整合回路IMN(1n)に接続された初段増幅回路FAMP(1n)、この初段増幅回路FAMP(1n)に接続された段間整合回路MMN(1n)が形成されている。さらに、ローバンド信号用バランスアンプのネガティブパスには、この段間整合回路MMN(1n)に接続された終段増幅回路SAMP(1n)と、この終段増幅回路SAMP(1n)に接続された出力整合回路OMN(1n)が形成されている。
同様に、ローバンド信号用バランスアンプのポジティブパスには、入力端子ITE(1p)に接続された入力整合回路IMN(1p)、この入力整合回路IMN(1p)に接続された初段増幅回路FAMP(1p)、この初段増幅回路FAMP(1p)に接続された段間整合回路MMN(1p)が形成されている。さらに、ローバンド信号用バランスアンプのポジティブパスには、この段間整合回路MMN(1p)に接続された終段増幅回路SAMP(1p)と、この終段増幅回路SAMP(1p)に接続された出力整合回路OMN(1p)が形成されている。
そして、出力整合回路OMN(1n)と出力整合回路OMN(1p)は、電力結合器WC1に接続されており、この電力結合器WC1の出力は出力端子OTE1に接続されている。このようにして、ローバンド信号用バランスアンプが構成されている。
続いて、ハイバンド信号用バランスアンプの構成について説明する。図7に示すように、PAモジュールPAには、入力端子ITE(2n)と入力端子ITE(2p)が形成されている。入力端子ITE(2n)に接続されている経路がハイバンド信号用バランスアンプのネガティブパスである。具体的に、ハイバンド信号用バランスアンプのネガティブパスには、入力端子ITE(2n)に接続された入力整合回路IMN(2n)、この入力整合回路IMN(2n)に接続された初段増幅回路FAMP(2n)、この初段増幅回路FAMP(2n)に接続された段間整合回路MMN(2n)が形成されている。さらに、ハイバンド信号用バランスアンプのネガティブパスには、この段間整合回路MMN(2n)に接続された終段増幅回路SAMP(2n)と、この終段増幅回路SAMP(2n)に接続された出力整合回路OMN(2n)が形成されている。
同様に、ハイバンド信号用バランスアンプのポジティブパスには、入力端子ITE(2p)に接続された入力整合回路IMN(2p)、この入力整合回路IMN(2p)に接続された初段増幅回路FAMP(2p)、この初段増幅回路FAMP(2p)に接続された段間整合回路MMN(2p)が形成されている。さらに、ハイバンド信号用バランスアンプのポジティブパスには、この段間整合回路MMN(2p)に接続された終段増幅回路SAMP(2p)と、この終段増幅回路SAMP(2p)に接続された出力整合回路OMN(2p)が形成されている。
そして、出力整合回路OMN(2n)と出力整合回路OMN(2p)は、電力結合器WC2に接続されており、この電力結合器WC2の出力は出力端子OTE2に接続されている。このようにして、ハイバンド信号用バランスアンプが構成されている。
以上のように、図7を参照して、ローバンド信号用バランスアンプと、ハイバンド信号用バランスアンプとを形成したPAモジュールPAについて説明したが、この図7の構成要素のうち、破線で囲まれた領域に存在するものが半導体チップCHPに形成される。このとき、図7では、ローバンド信号用バランスアンプのネガティブパスおよびポジティブパスと、ハイバンド信号用バランスアンプのネガティブパスおよびポジティブパスとが、並行に並ぶように配置されている。この場合、ローバンド信号用の増幅経路(ネガティブパスおよびポジティブパス)と、ハイバンド信号用の増幅経路(ネガティブパスおよびポジティブパス)が近接した配線間を伝達することになるので、近接した配線間のカップリング容量が大きくなり、ローバンド信号とハイバンド信号の間のクロストークが問題として顕在化する。したがって、ローバンド信号用バランスアンプと、ハイバンド信号用バランスアンプとを1つの小さな半導体チップ内に形成する場合、ローバンド信号とハイバンド信号との間のクロストークを抑制するために、ローバンド信号用バランスアンプと、ハイバンド信号用バランスアンプとのレイアウト構成を工夫する必要がある。そこで、本実施の形態1では、ローバンド信号用バランスアンプと、ハイバンド信号用バランスアンプのレイアウト配置に工夫を施している。
<<本実施の形態1におけるPAモジュール(バランスアンプ)の構成>>
図8は、本実施の形態1におけるPAモジュールPAの構成を示す図である。図8において、本実施の形態1におけるPAモジュールPAの特徴は、PAモジュールPAの中心線CL2に対して、片側にローバンド信号用バランスアンプを形成し、かつ、もう一方の片側にハイバンド信号用バランスアンプを形成している点にある。そして、中心線CL2のそばに入力端子ITE(1n)、ITE(1p)および入力端子ITE(2n)、ITE(2p)を形成している点にある。このように構成することにより、概略的に、ローバンド信号用バランスアンプでは、入力端子ITE(1n)、ITE(1p)から入力した送信信号が図8の右側に向って進む経路が取られる。これに対し、ハイバンド信号用バランスアンプでは、入力端子ITE(2n)、ITE(2p)から入力した送信信号が図8の左側に向って進む経路が取られる。したがって、ローバンド信号用バランスアンプの増幅経路と、ハイバンド信号用バランスアンプの増幅経路とが正反対の方向に進むことになる。このことは、ローバンド信号用バランスアンプの増幅経路と、ハイバンド信号用バランスアンプの増幅経路とが互いに並走することなく配置できることを意味している。このため、ローバンド信号用バランスアンプの増幅経路と、ハイバンド信号用バランスアンプの増幅経路との並走によるクロストークを防止できる。この結果、ローバンド信号用バランスアンプとハイバンド信号用バランスアンプを搭載したPAモジュールPAの特性向上を図ることができる。
次に、具体的なPAモジュールPAの構成について説明する。図8に示すように、矩形形状をしたPAモジュールPAの中心線CL2の右側にローバンド信号用バランスアンプが形成されている。このローバンド信号用バランスアンプの構成について説明する。図8に示すように、PAモジュールPAの中心線CL2近傍には、入力端子ITE(1n)と入力端子ITE(1p)が形成されている。入力端子ITE(1n)に接続されている経路がローバンド信号用バランスアンプのネガティブパスである。ローバンド信号用バランスアンプのネガティブパスには、入力端子ITE(1n)に接続された入力整合回路IMN(1n)、この入力整合回路IMN(1n)に接続された初段増幅回路FAMP(1n)、この初段増幅回路FAMP(1n)に接続された段間整合回路MMN(1n)が形成されている。さらに、ローバンド信号用バランスアンプのネガティブパスには、この段間整合回路MMN(1n)に接続された終段増幅回路SAMP(1n)と、この終段増幅回路SAMP(1n)に接続された出力整合回路OMN(1n)が形成されている。
同様に、ローバンド信号用バランスアンプのポジティブパスには、入力端子ITE(1p)に接続された入力整合回路IMN(1p)、この入力整合回路IMN(1p)に接続された初段増幅回路FAMP(1p)、この初段増幅回路FAMP(1p)に接続された段間整合回路MMN(1p)が形成されている。さらに、ローバンド信号用バランスアンプのポジティブパスには、この段間整合回路MMN(1p)に接続された終段増幅回路SAMP(1p)と、この終段増幅回路SAMP(1p)に接続された出力整合回路OMN(1p)が形成されている。
そして、出力整合回路OMN(1n)と出力整合回路OMN(1p)は、電力結合器WC1に接続されており、この電力結合器WC1の出力は出力端子OTE1に接続されている。このようにして、ローバンド信号用バランスアンプが構成されている。このローバンド信号用バランスアンプの構成要素のうち点線で囲まれている領域は、半導体チップCHPに形成されている。半導体チップCHPに形成されているローバンド信号用バランスアンプ(ネガティブパス用の増幅器とポジティブパス用の増幅器)の構成要素のうち、入力整合回路IMN(1n)、初段増幅回路FAMP(1n)、段間整合回路MMN(1n)および終段増幅回路SAMP(1n)による経路をローバンド信号用ネガティブパスLBnと呼ぶことにする。同様に、入力整合回路IMN(1p)、初段増幅回路FAMP(1p)、段間整合回路MMN(1p)および終段増幅回路SAMP(1p)による経路をローバンド信号用ポジティブパスLBpと呼ぶことにする。
続いて、ハイバンド信号用バランスアンプの構成について説明する。図8に示すように、PAモジュールPAの中心線CL2近傍には、入力端子ITE(2n)と入力端子ITE(2p)が形成されている。入力端子ITE(2n)に接続されている経路がハイバンド信号用バランスアンプのネガティブパスである。具体的に、ハイバンド信号用バランスアンプのネガティブパスには、入力端子ITE(2n)に接続された入力整合回路IMN(2n)、この入力整合回路IMN(2n)に接続された初段増幅回路FAMP(2n)、この初段増幅回路FAMP(2n)に接続された段間整合回路MMN(2n)が形成されている。さらに、ハイバンド信号用バランスアンプのネガティブパスには、この段間整合回路MMN(2n)に接続された終段増幅回路SAMP(2n)と、この終段増幅回路SAMP(2n)に接続された出力整合回路OMN(2n)が形成されている。
同様に、ハイバンド信号用バランスアンプのポジティブパスには、入力端子ITE(2p)に接続された入力整合回路IMN(2p)、この入力整合回路IMN(2p)に接続された初段増幅回路FAMP(2p)、この初段増幅回路FAMP(2p)に接続された段間整合回路MMN(2p)が形成されている。さらに、ハイバンド信号用バランスアンプのポジティブパスには、この段間整合回路MMN(2p)に接続された終段増幅回路SAMP(2p)と、この終段増幅回路SAMP(2p)に接続された出力整合回路OMN(2p)が形成されている。
そして、出力整合回路OMN(2n)と出力整合回路OMN(2p)は、電力結合器WC2に接続されており、この電力結合器WC2の出力は出力端子OTE2に接続されている。このようにして、ハイバンド信号用バランスアンプが構成されている。このハイバンド信号用バランスアンプの構成要素のうち点線で囲まれている領域は、半導体チップCHPに形成されている。半導体チップCHPに形成されているハイバンド信号用バランスアンプ(ネガティブパス用の増幅器とポジティブパス用の増幅器)の構成要素のうち、入力整合回路IMN(2n)、初段増幅回路FAMP(2n)、段間整合回路MMN(2n)および終段増幅回路SAMP(2n)による経路をハイバンド信号用ネガティブパスHBnと呼ぶことにする。同様に、入力整合回路IMN(2p)、初段増幅回路FAMP(2p)、段間整合回路MMN(2p)および終段増幅回路SAMP(2p)による経路をハイバンド信号用ポジティブパスHBpと呼ぶことにする。
以上のようにして、本実施の形態1におけるPAモジュールPAでは、ローバンド信号用バランスアンプとハイバンド信号用バランスアンプとを中心線CL2に対して反対側に配置しているので、ローバンド信号用バランスアンプの増幅経路と、ハイバンド信号用バランスアンプの増幅経路が互いに並走することなく配置できる。この結果、ローバンド信号用バランスアンプとハイバンド信号用バランスアンプ間でのクロストークを抑制でき、PAモジュールPAの特性向上を図ることができる。
<<PAモジュールの回路構成>>
PAモジュールPA全体には、半導体チップCHPの他に複数の受動部品も搭載されている。そして、これらの複数の受動部品もバランスアンプを構成する部品である。したがって、バランスアンプのネガティブパスとポジティブパスとを均等に構成することで、バランスアンプの特性を向上できることから、複数の受動部品のレイアウト配置も工夫を施すことにより、PAモジュールPAを構成するバランスアンプの特性向上を図ることができると考えられる。以下では、配線基板上に搭載される複数の受動部品のレイアウト構成に関する技術的思想について説明する。
図9は、本実施の形態1におけるPAモジュールPAの回路構成を示す回路ブロック図である。図9では、PAモジュールPAのうち半導体チップCHPの外部にも搭載される受動部品の具体的な回路構成を図示している。以下に、この図9を使用して、PAモジュールPAの回路構成について説明する。
図9において、まず、ローバンド信号用バランスアンプでは、入力端子ITE(1n)および入力端子ITE(1p)を有している。一方、ハイバンド信号用バランスアンプでは、入力端子ITE(2n)および入力端子ITE(2p)を有している。つまり、本実施の形態1におけるPAモジュールPAには、ローバンド信号用バランスアンプと、ハイバンド信号用バランスアンプとが形成されているが、まず、ローバンド信号用バランスアンプの構成について説明する。
半導体チップCHP内のローバンド信号用バランスアンプの構成について説明する。図9において、半導体チップCHP内には、入力端子ITE(1n)および入力端子ITE(1p)と電気的に接続されている入力整合回路IMN1が形成されている。なお、図9では、入力整合回路IMN1を一体的に記載しているが、実際には、入力端子ITE(1n)に接続された入力整合回路と、入力端子ITE(1p)に接続された入力整合回路から構成されている。
ローバンド信号用ネガティブパスについて説明する。ローバンド信号用ネガティブパスでは、入力整合回路IMN1に接続された初段増幅回路FAMP(1n)と、この初段増幅回路FAMP(1n)に接続された段間整合回路MMN(1nA)と、この段間整合回路MMN(1nA)に接続された終段増幅回路SAMP(1n)とを有している。このとき、段間整合回路MMN(1nA)は段間整合回路の一部であり、その他の段間整合回路は、半導体チップCHPの外部に段間整合回路MMN(1nB)として形成されている。
続いて、ローバンド信号用ポジティブパスについて説明する。ローバンド信号用ポジティブパスでは、入力整合回路IMN1に接続された初段増幅回路FAMP(1p)と、この初段増幅回路FAMP(1p)に接続された段間整合回路MMN(1pA)と、この段間整合回路MMN(1pA)に接続された終段増幅回路SAMP(1p)とを有している。このとき、段間整合回路MMN(1pA)は段間整合回路の一部であり、その他の段間整合回路は、半導体チップCHPの外部に段間整合回路MMN(1pB)として形成されている。
以上が半導体チップCHP内に形成されているローバンド信号用バランスアンプの構成要素である。次に、半導体チップCHPの外部に形成されているローバンド信号用バランスアンプの構成要素について説明する。
まず、ローバンド信号用ネガティブパスについて説明する。ローバンド信号用ネガティブパスでは、段間整合回路MMN(1nB)が形成されている。具体的に、この段間整合回路MMN(1nB)は、初段増幅回路FAMP(1n)の出力に接続されたインダクタLB_LNと、インダクタLB_LNとグランドの間に接続された容量素子CB_LNから構成されている。そして、段間整合回路MMN(1nB)は、段間整合回路MMN(1nA)とグランドとの間に接続されたスパイラルインダクタSL1_LNも有している。
続いて、ローバンド信号用ポジティブパスについて説明する。ローバンド信号用ポジティブパスでは、段間整合回路MMN(1pB)が形成されている。具体的に、この段間整合回路MMN(1pB)は、初段増幅回路FAMP(1p)の出力に接続されたインダクタLB_LPと、インダクタLB_LPとグランドの間に接続された容量素子CB_LPから構成されている。さらに、段間整合回路MMN(1pB)は、段間整合回路MMN(1pA)とグランドとの間に接続されたスパイラルインダクタSL1_LPも有している。
次に、半導体チップCHPの外部に形成されている出力整合回路OMN1について説明する。出力整合回路OMN1は、まず、ローバンド信号用ネガティブパスの終段増幅回路SAMP(1n)の出力と接続されたスパイラルインダクタSL2_LNを有している。さらに、出力整合回路OMN1は、ローバンド信号用ネガティブパスの終段増幅回路SAMP(1n)の出力と接続された容量素子C1_LNと、この容量素子C1_LNと接続された容量素子C2_Lとを有している。そして、出力整合回路OMN1の外部になるが、容量素子C2_Lとグランドとの間にはインダクタL1_LNが形成されている。
また、出力整合回路OMN1は、まず、ローバンド信号用ポジティブパスの終段増幅回路SAMP(1p)の出力と接続されたスパイラルインダクタSL2_LPを有している。さらに、出力整合回路OMN1は、ローバンド信号用ポジティブパスの終段増幅回路SAMP(1p)の出力と接続されたインダクタL1_LPと、このインダクタL1_LPとグランドとの間に接続された容量素子C1_LPとを有している。
そして、上述した容量素子C1_LNの出力と、上述したインダクタL1_LPの出力の間には抵抗素子RI_Lが形成されている。また、容量素子C1_LNの出力には、インダクタLW_LNが接続され、インダクタL1_LPの出力には、インダクタLW_LPが接続されている。インダクタLW_LNの出力とインダクタLW_LPの出力とは電気的に接続されており、この出力とグランドの間には容量素子C3_Lが形成されている。さらに、インダクタLW_LNの出力とインダクタLW_LPの出力は、出力整合回路OMN1の出力となっている。この出力整合回路OMN1の出力には、出力整合回路OMN1の外部素子として容量素子C4_Lが形成され、この容量素子C4_Lの出力とグランドとの間に容量素子C5_LとインダクタLc5_Lが直列に接続されている。なお、容量素子C4_Lの出力には出力端子OTE1が形成されている。以上のようにして、ローバンド信号用バランスアンプの構成要素のうち、半導体チップCHPの外部に複数の受動部品が形成されていることがわかる。
次に、ハイバンド信号用バランスアンプの構成について説明する。まず、半導体チップCHP内のハイバンド信号用バランスアンプの構成について説明する。図9において、半導体チップCHP内には、入力端子ITE(2n)および入力端子ITE(2p)と電気的に接続されている入力整合回路IMN2が形成されている。なお、図9では、入力整合回路IMN2を一体的に記載しているが、実際には、入力端子ITE(2n)に接続された入力整合回路と、入力端子ITE(2p)に接続された入力整合回路から構成されている。
ハイバンド信号用ネガティブパスについて説明する。ハイバンド信号用ネガティブパスでは、入力整合回路IMN2に接続された初段増幅回路FAMP(2n)と、この初段増幅回路FAMP(2n)に接続された段間整合回路MMN(2nA)と、この段間整合回路MMN(2nA)に接続された終段増幅回路SAMP(2n)とを有している。このとき、段間整合回路MMN(2nA)は段間整合回路の一部であり、その他の段間整合回路は、半導体チップCHPの外部に段間整合回路MMN(2nB)として形成されている。
続いて、ハイバンド信号用ポジティブパスについて説明する。ハイバンド信号用ポジティブパスでは、入力整合回路IMN2に接続された初段増幅回路FAMP(2p)と、この初段増幅回路FAMP(2p)に接続された段間整合回路MMN(2pA)と、この段間整合回路MMN(2pA)に接続された終段増幅回路SAMP(2p)とを有している。このとき、段間整合回路MMN(2pA)は段間整合回路の一部であり、その他の段間整合回路は、半導体チップCHPの外部に段間整合回路MMN(2pB)として形成されている。
以上が半導体チップCHP内に形成されているハイバンド信号用バランスアンプの構成要素である。次に、半導体チップCHPの外部に形成されているハイバンド信号用バランスアンプの構成要素について説明する。
まず、ハイバンド信号用ネガティブパスについて説明する。ハイバンド信号用ネガティブパスでは、段間整合回路MMN(2nB)が形成されている。具体的に、この段間整合回路MMN(2nB)は、初段増幅回路FAMP(2n)の出力に接続されたインダクタLB_HNと、インダクタLB_HNとグランドの間に接続された容量素子CB_HNから構成されている。
続いて、ハイバンド信号用ポジティブパスについて説明する。ハイバンド信号用ポジティブパスでは、段間整合回路MMN(2pB)が形成されている。具体的に、この段間整合回路MMN(2pB)は、初段増幅回路FAMP(2p)の出力に接続されたインダクタLB_HPと、インダクタLB_HPとグランドの間に接続された容量素子CB_HPから構成されている。
次に、半導体チップCHPの外部に形成されている出力整合回路OMN2について説明する。出力整合回路OMN2は、まず、ハイバンド信号用ネガティブパスの終段増幅回路SAMP(2n)の出力と接続されたスパイラルインダクタSL1_HNを有している。さらに、出力整合回路OMN2は、ハイバンド信号用ネガティブパスの終段増幅回路SAMP(2n)の出力と接続された容量素子C1_HNと、この容量素子C1_HNと接続された容量素子C2_Hとを有している。そして、出力整合回路OMN2の外部になるが、容量素子C2_Hとグランドとの間にはインダクタL1_HNが形成されている。
また、出力整合回路OMN2は、ハイバンド信号用ポジティブパスの終段増幅回路SAMP(2p)の出力と接続されたスパイラルインダクタSL1_HPを有している。さらに、出力整合回路OMN2は、ハイバンド信号用ポジティブパスの終段増幅回路SAMP(2p)の出力と接続されたインダクタL1_HPと、このインダクタL1_HPとグランドとの間に接続された容量素子C1_HPとを有している。
そして、上述した容量素子C1_HNの出力と、上述したインダクタL1_HPの出力の間には抵抗素子RI_Hが形成されている。また、容量素子C1_HNの出力には、インダクタLW_HNが接続され、インダクタL1_HPの出力には、インダクタLW_HPが接続されている。インダクタLW_HNの出力とインダクタLW_HPの出力とは電気的に接続されており、この出力とグランドの間には容量素子C3_Hが形成されている。さらに、インダクタLW_HNの出力とインダクタLW_HPの出力は、出力整合回路OMN2の出力となっている。この出力整合回路OMN2の出力には、出力整合回路OMN2の外部素子として容量素子C4_Hが形成され、この容量素子C4_Hの出力とグランドとの間に容量素子C6_HとインダクタLc6_Hが直列に接続されている。なお、容量素子C4_Hの出力には出力端子OTE2が形成されている。以上のようにして、ハイバンド信号用バランスアンプの構成要素のうち、半導体チップCHPの外部に複数の受動部品が形成されていることがわかる。
<<PAモジュールの実装構成(第1特徴点)>>
本実施の形態1におけるPAモジュールは上記のように回路構成されており、以下に、この回路構成に対応したPAモジュールの実装構成について説明する。まず、PAモジュールの実装構成を説明する前に、配線基板WBの各領域および半導体チップCHPの各領域の定義について説明する。図10は、配線基板WBの各領域と半導体チップCHPの各領域を示す図である。図10において、互いに直交する半導体チップCHPの中心線を中心線CL2および中心線CL1とする。このとき、半導体チップCHPの中心は、中心線CL2と中心線CL1の交点に設けられるように配置されている。この半導体チップCHPは、配線基板WBの中心に配置されることが望ましい。この場合、半導体チップCHPの中心を通る中心線CL2および中心線CL1は、配線基板WBの中心線とも言うことができる。ここで、半導体チップCHP内の領域のうち、中心線CL2で分割される領域をチップ分割領域と定義する。このとき、図10において、中心線CL2の右側領域をチップ分割領域CREG1と呼び、中心線CL2の左側領域をチップ分割領域CREG2と呼ぶことにする。続いて、配線基板WB上の分割領域の定義について説明する。図10に示すように、配線基板WBを構成する領域は、中心線CL2と中心線CL1により4つの領域に分割される。中心線CL2の右側領域で、かつ、中心線CL1の上側領域を領域REG1A(WB)と呼び、中心線CL2の左側領域で、かつ、中心線CL1の上側領域を領域REG1B(WB)と呼ぶことにする。一方、中心線CL2の右側領域で、かつ、中心線CL1の下側領域を領域REG2A(WB)と呼び、中心線CL2の左側領域で、かつ、中心線CL1の下側領域を領域REG2B(WB)と呼ぶことにする。
このような構成を前提として本実施の形態1における第1特徴点について説明する。本実施の形態1の第1特徴点は、このPAモジュールの実装構成にある。図11は、本実施の形態1におけるPAモジュールの実装構成を示す図である。図11において、本実施の形態1におけるPAモジュールPAは、配線基板WB上に半導体チップCHPと複数の受動部品を有している。半導体チップCHPは配線基板WBの中央部に配置されている。
次に、配線基板WB上には複数の受動部品が搭載されている。具体的には、半導体チップCHPの中心線CL2に対して右側領域(領域REG1A(WB)と領域REG2A(WB))にローバンド信号用バランスアンプの構成要素の一部となる受動部品が搭載され、配線基板WBの中心線CL2に対して左側領域(領域REG1B(WB)と領域REG2B(WB))にハイバンド信号用バランスアンプの構成要素の一部となる受動部品が搭載されている。
まず、中心線CL2(第2の直線)に対して右側領域(領域REG1A(WB)と領域REG2A(WB))に形成されているローバンド信号用バランスアンプの受動部品のレイアウト配置について説明する。本実施の形態1の第1特徴点は、ローバンド信号用ネガティブパスに配置される受動部品(第1の受動部品)と、ローバンド信号用ポジティブパスに配置される受動部品(第2の受動部品)とを半導体チップCHPの中心線CL1に対して反対側に配置することにある。つまり、ローバンド信号用ネガティブパスに配置される受動部品は領域REG1A(WB)に配置され、ローバンド信号用ポジティブパスに配置される受動部品は領域REG2A(WB)に配置される。すなわち、ローバンド信号用ネガティブパスに配置される受動部品と、ローバンド信号用ポジティブパスに配置される受動部品とは、互いに領域REG1A(WB)と領域REG2A(WB)に別れて配置されている。これらの受動部品には、例えば、チップ部品から構成されているものや、スパイラルインダクタのような部品から構成されているものがある。
さらに望ましくは、ローバンド信号用ネガティブパスに配置される受動部品と、ローバンド信号用ポジティブパスに配置される受動部品とを半導体チップCHPの中心線CL1に対して対称に配置することが望ましい。特に、対称に配置する一例としては、半導体チップCHPの中心線に対して鏡像対称に配置することができる。ここでいう対称とは、主に線対称をいっており、このことを別の言い方をすれば、半導体チップCHPの中心線CL1に対して互いに反対側に配置され、かつ、半導体チップCHPの中心線CL1からそれぞれの受動部品の位置までの距離が等しくなっているとも言える。
さらに本実施の形態1でいう対称とは、線対称よりも対称性の低い場合も包含している。つまり、線対称という場合には、対象としている一対の受動部品において、受動部品のすべての部分が対称になっている必要があるが、本実施の形態1でいう対称はそこまで要求はしていない。例えば、対象としている一対の受動部品のそれぞれの中心点(あるいは重心)までの距離が少なくとも半導体チップCHPの中心線CL1から等しい距離にあれば、本実施の形態1における対称に含まれているものとする。
さらに、本実施の形態1では、1つの受動部品についても対称に配置されているという場合も含む。つまり、1つの受動部品が半導体チップCHPの中心線CL1上に配置されており、かつ、中心線CL1の上側に配置されている部分と、中心線CL1の下側に配置されている部分が等しくなっている場合も対称と呼ぶ。さらには、中心線CL1の上側に配置されている部分と、中心線CL1の下側に配置されている部分が等しくなっていない場合であっても、中心線CL1上に配置されている1つの受動部品において、その受動部品の中心点(あるいは重心)が中心線CL1上に存在する場合も本実施の形態1における対称という概念に含まれる。
以上にようにして、ローバンド信号用ネガティブパスと、ローバンド信号用ポジティブパスとの対称性が高められる。この結果、ローバンド信号用ネガティブパスと、ローバンド信号用ポジティブパスとの経路差による整合ロスを充分低減することができ、ローバンド信号用バランスアンプの特性を向上することができる。
以下に、具体的に、ローバンド信号用バランスアンプを構成する受動部品の配置を説明する。最初に、ローバンド信号用ネガティブパスに存在する段間整合回路MMN(1nB)と、ローバンド信号用ポジティブパスに存在する段間整合回路MMN(1pB)が配線基板WBの中心線CL1に対して対称になるように配置されている。詳細には、段間整合回路MMN(1nB)内の容量素子CB_LNと、段間整合回路MMN(1pB)内の容量素子CB_LPが対称となる位置に配置されている。さらに、段間整合回路MMN(1nB)内のインダクタLB_LNと、段間整合回路MMN(1pB)内のインダクタLB_LPが対称となる位置に配置されている。これらの受動部品は、例えば、チップ部品から構成されている。さらに、段間整合回路MMN(1nB)内のスパイラルインダクタSL1_LNと、段間整合回路MMN(1pB)内のスパイラルインダクタSL1_LPとが半導体チップの中心線CL1に対して対称になるように配置されている。具体的に、スパイラルインダクタSL1_LNと、スパイラルインダクタSL1_LPとは鏡像対称となるように配置されている。つまり、スパイラルインダクタSL1_LNは時計回りの方向に沿って配線が形成されているのに対し、スパイラルインダクタSL1_LPは、反時計回りの方向に沿って配線が形成されている。
続いて、出力整合回路OMN1は配線基板WBの中心線CL1に対して対称となるように配置されている。具体的には、出力整合回路OMN1を構成する抵抗素子RI_Lと容量素子C3_Lが、それぞれ、中心線CL1上に配置されている。さらに、容量素子C1_LNとインダクタL1_LPが中心線CL1に対して対称位置に配置され、インダクタLW_LNとインダクタLW_LPも中心線CL1に対して対称位置に配置されている。また、容量素子C2_Lと容量素子C1_LPも中心線CL1に対して対称位置に配置されている。さらに、スパイラルインダクタSL2_LNと、スパイラルインダクタSL2_LPとが半導体チップの中心線CL1に対して対称になるように配置されている。具体的に、スパイラルインダクタSL2_LNと、スパイラルインダクタSL2_LPとは鏡像対称となるように配置されている。言い換えれば、スパイラルインダクタSL2_LNは時計回りの方向に沿って配線が形成されているのに対し、スパイラルインダクタSL2_LPは、反時計回りの方向に沿って配線が形成されている。
以上より、ローバンド信号用バランスアンプにおいては、段間整合回路MMN(1nB)と段間整合回路MMN(1pB)が配線基板WBの中心線CL1に対して対称位置に配置され、かつ、出力整合回路OMN1自体も中心線CL1に対して対称となるように配置されている。
なお、インダクタL1_LNは、ローバンド信号用ネガティブパスだけに存在する非対称部品となるので対象配置とはなっていない。さらに、容量素子C5_Lは高調波トラップフィルタとして機能する受動部品であり、送信信号の整合には影響の少ない受動部品であるため、対称配置とはなっていない。また、容量素子C4_Lは増幅経路の直流成分をカットするDCカット容量で1つしか存在しないため、対称配置とはならない。
このように、本実施の形態1では、ローバンド信号用ネガティブパスと、ローバンド信号用ポジティブパスとの対称性が高められている。この結果、ローバンド信号用ネガティブパスと、ローバンド信号用ポジティブパスとの経路差による整合ロスを充分低減することができ、ローバンド信号用バランスアンプの特性を向上することができる。
次に、中心線CL2に対して左側に形成されているハイバンド信号用バランスアンプの受動部品のレイアウト配置について説明する。本実施の形態1では、ハイバンド信号用ネガティブパスに配置される受動部品と、ハイバンド信号用ポジティブパスに配置される受動部品も半導体チップCHPの中心線CL1に対して反対側に配置している。具体的に、ハイバンド信号用ネガティブパスに配置される受動部品は領域REG1B(WB)に配置され、ハイバンド信号用ポジティブパスに配置される受動部品は領域REG2B(WB)に配置される。すなわち、ハイバンド信号用ネガティブパスに配置される受動部品と、ハイバンド信号用ポジティブパスに配置される受動部品とは、互いに領域REG1B(WB)と領域REG2B(WB)に別れて配置されている。
本実施の形態1の第1特徴点は、ハイバンド信号用ネガティブパスに配置される受動部品と、ハイバンド信号用ポジティブパスに配置される受動部品とを半導体チップCHPの中心線CL1に対して対称となる位置に配置することにある。これにより、ハイバンド信号用ネガティブパスと、ハイバンド信号用ポジティブパスとの対称性が高められる。この結果、ハイバンド信号用ネガティブパスと、ハイバンド信号用ポジティブパスとの経路差による整合ロスを充分低減することができ、ハイバンド信号用バランスアンプの特性を向上することができる。
以下に、具体的に、ハイバンド信号用バランスアンプを構成する受動部品の配置を説明する。最初に、ハイバンド信号用ネガティブパスに存在する段間整合回路MMN(2nB)と、ハイバンド信号用ポジティブパスに存在する段間整合回路MMN(2pB)が半導体チップCHPの中心線CL1に対して対称になるように配置されている。詳細には、段間整合回路MMN(2nB)内の容量素子CB_HNと、段間整合回路MMN(2pB)内の容量素子CB_HPが対称となる位置に配置されている。さらに、段間整合回路MMN(2nB)内のインダクタLB_HNと、段間整合回路MMN(2pB)内のインダクタLB_HPが対称となる位置に配置されている。
続いて、出力整合回路OMN2は半導体チップCHPの中心線CL1に対して対称となるように配置されている。具体的には、出力整合回路OMN2を構成する抵抗素子RI_Hと容量素子C3_Hが、それぞれ、中心線CL1上に配置されている。さらに、容量素子C1_HNとインダクタL1_HPが中心線CL1に対して対称位置に配置され、インダクタLW_HNとインダクタLW_HPも中心線CL1に対して対称位置に配置されている。また、容量素子C2_Hと容量素子C1_HPも中心線CL1に対して対称位置に配置されている。さらに、スパイラルインダクタSL1_HNと、スパイラルインダクタSL1_HPとが半導体チップの中心線CL1に対して対称になるように配置されている。具体的に、スパイラルインダクタSL1_HNと、スパイラルインダクタSL1_HPとは鏡像対称となるように配置されている。言い換えれば、スパイラルインダクタSL1_HNは時計回りの方向に沿って配線が形成されているのに対し、スパイラルインダクタSL1_HPは、反時計回りの方向に沿って配線が形成されている。
以上より、ハイバンド信号用バランスアンプにおいては、段間整合回路MMN(2nB)と段間整合回路MMN(2pB)が半導体チップCHPの中心線CL1に対して対称位置に配置され、かつ、出力整合回路OMN2自体も中心線CL1に対して対称となるように配置されている。
なお、インダクタL1_HNは、ハイバンド信号用ネガティブパスだけに存在する非対称部品となるので対象配置とはなっていない。さらに、容量素子C6_Hは高調波トラップフィルタとして機能する受動部品であり、送信信号の整合には影響の少ない受動部品であるため、対称配置とはなっていない。また、容量素子C4_Hは増幅経路の直流成分をカットするDCカット容量で1つしか存在しないため、対称配置とはならない。
このように、本実施の形態1では、ハイバンド信号用ネガティブパスと、ハイバンド信号用ポジティブパスとの対称性が高められている。この結果、ハイバンド信号用ネガティブパスと、ハイバンド信号用ポジティブパスとの経路差による整合ロスを充分低減することができ、ハイバンド信号用バランスアンプの特性を向上することができる。
<<PAモジュールの実装構成(第2特徴点)>>
次に、本実施の形態1における第2特徴点について説明する。図11において、半導体チップCHPは矩形形状をしており、第1方向に延在する第1辺S1と、この第1方向と直交する第2方向に延在する一対の第2辺S2a、S2bを有している。このような半導体チップCHPには、ワイヤが接続されており、このワイヤから半導体チップCHPの内部へ送信信号(増幅前の入力信号)が入力される。このワイヤは複数形成されており、それぞれ、ローバンド信号用ネガティブパスに入力信号を供給するワイヤW(IN_LN)や、ローバンド信号用ポジティブパスに入力信号を供給するワイヤW(IN_LP)が含まれている。さらに、半導体チップCHPに接続されているワイヤには、ハイバンド信号用ネガティブパスに入力信号を供給するワイヤW(IN_HN)や、ハイバンド信号用ポジティブパスに入力信号を供給するワイヤW(IN_HP)が含まれている。このワイヤW(IN_LN)、ワイヤW(IN_LP)、ワイヤW(IN_HN)、ワイヤW(IN_HP)は、半導体チップCHPの第1辺S1をまたぐように形成されている。
一方、半導体チップCHPには、ワイヤW(OUT_LN)、ワイヤW(OUT_LP)、ワイヤW(OUT_HN)およびワイヤW(OUT_HP)が接続されている。これらのワイヤW(OUT_LN)、ワイヤW(OUT_LP)、ワイヤW(OUT_HN)およびワイヤW(OUT_HP)から半導体チップCHPの外部へ送信信号(増幅後の出力信号)が出力される。ワイヤW(OUT_LN)およびワイヤW(OUT_LP)は、半導体チップCHPの第2辺S2aをまたぐように形成されており、ワイヤW(OUT_HN)およびワイヤW(OUT_HP)は半導体チップCHPの第2辺S2bをまたぐように形成されている。
したがって、ワイヤW(IN_LN)〜ワイヤW(IN_HP)と、ワイヤW(OUT_LN)〜ワイヤW(OUT_HP)とは互いに交差する方向に配置されていることになる。この点が本実施の形態1の第2特徴点である。つまり、図11に示すように、ワイヤW(IN_LN)〜ワイヤW(IN_HP)と、ワイヤW(OUT_LN)〜ワイヤW(OUT_HP)とを互いに交差する方向に形成することにより、ワイヤW(IN_LN)〜ワイヤW(IN_HP)を流れる入力信号と、ワイヤW(OUT_LN)〜ワイヤW(OUT_HP)を流れる出力信号とのクロストークを抑制することができるのである。
<<PAモジュールの実装構成(第3特徴点)>>
本実施の形態1におけるPAモジュールは、配線基板WB上に半導体チップCHPと複数の受動部品が搭載されているが、配線基板WBは多層配線構造をしている。つまり、配線基板WBは多層にわたって複数の配線層が形成されている。このとき、本実施の形態1では、配線基板WB上に配置される複数の受動部品の対称性を高めている結果、配線基板WBの各配線層を形成する導体パターンの対称性も高めることができる。つまり、本実施の形態1では、配線基板WB上に配置される複数の受動部品の対称性を高めているだけでなく、配線基板WBの多層配線層を形成する導体パターンの対称性も高めていることに第3特徴点がある。これにより、バランスアンプのさらなる特性向上を図ることができる。
具体的に、図12は、配線基板WBの多層配線層に存在する1つの層の導体パターンCP1を示している。導体パターンCP1は、中心線CL1に対して対称性が高められている。つまり、図12に示すように、導体パターンCP1は、中心線CL1に対して完全に対称とはなっていないが、対称性が高められている。このように本実施の形態1では、受動部品を搭載している配線基板WBの表面層だけでなく、配線基板WBの内部の層の対称性を高めることが望ましい。これにより、さらなるバランスアンプの特性向上を図ることができる。
以上のように、本実施の形態1におけるPAモジュールPAは、多層配線構造をした配線基板WBを使用しているが、この配線基板WB上に配置される複数の受動部品の対称性を高めるとともに、各配線層の導体パターンCP1の対称性も高めている。このため、バランスアンプのネガティブパスと、バランスアンプのポジティブパスとの経路差による整合ロスを充分低減することができ、バランスアンプの特性を向上することができる。
(実施の形態2)
<<半導体チップ内のレイアウト構成(第4特徴点および第5特徴点)>>
前記実施の形態1では、配線基板WBに搭載される受動部品の対称性を高めることによりバランスアンプの特性向上を図る例について説明したが、本実施の形態2では、半導体チップCHP内のレイアウト構成を工夫する例について説明する。
図8に示すように、ローバンド信号用バランスアンプの構成要素の大部分と、ハイバンド信号用バランスアンプの構成要素の大部分が半導体チップCHP内に形成されている。したがって、半導体チップCHP内での配置が重要となってくる。以下では、ローバンド信号用バランスアンプと、ハイバンド信号用バランスアンプとを半導体チップCHP内で中心線CL2に対して反対側に配置するレイアウト構成例について説明する。
図13は、半導体チップCHP内のレイアウト構成を示す図である。図13に示すように、半導体チップCHPは矩形形状をしており、この半導体チップCHPの外周部に沿って複数のパッドPDが形成されている。この複数のパッドPDの中には、送信信号を入力するための入力パッドが含まれている。具体的に、入力パッドは、ローバンド信号用ネガティブパスLBnに接続されている入力パッドIPD(1n)と、ローバンド信号用ポジティブパスLBpに接続されている入力パッドIPD(1p)がある。さらに、入力パッドには、ハイバンド信号用ネガティブパスHBnに接続されている入力パッドIPD(2n)と、ハイバンド信号用ポジティブパスHBpに接続されている入力パッドIPD(2p)がある。
半導体チップCHPの内部には、ローバンド信号用バランスアンプと、ハイバンド信号用バランスアンプが形成されている。具体的に、図13に示すように、半導体チップCHPの中心線CL2に対して反対側にローバンド信号用バランスアンプとハイバンド信号用バランスアンプが形成されている。つまり、半導体チップCHPのチップ分割領域CREG1にローバンド信号用バランスアンプが形成され、半導体チップCHPのチップ分割領域CREG2にハイバンド信号用バランスアンプが形成されている。例えば、図13に示すように、中心線CL2の右側領域(分割領域CREG1)にローバンド信号用ネガティブパスLBnとローバンド信号用ポジティブパスLBpが形成される一方、中心線CL2の左側領域(分割領域CREG2)にハイバンド信号用ネガティブパスHBnとハイバンド信号用ポジティブパスHBpが形成されている。そして、ローバンド信号用ネガティブパスLBnと入力パッドIPD(1n)は、配線WL(1n)で接続され、ローバンド信号用ポジティブパスLBpと入力パッドIPD(1p)とは配線WL(1p)で接続されている。同様に、ハイバンド信号用ネガティブパスHBnと入力パッドIPD(2n)とは配線WL(2n)で接続され、ハイバンド信号用ポジティブパスHBpと入力パッドIPD(2p)とは配線WL(2p)で接続されている。
このように、本実施の形態2では、半導体チップCHPの中心線CL2に対して片側(チップ分割領域CREG1)にローバンド信号用ネガティブパスLBnとローバンド信号用ポジティブパスLBpを配置し、かつ、半導体チップCHPの中心線CL2に対してもう一方の片側(チップ分割領域CREG2)にハイバンド信号用ネガティブパスHBnとハイバンド信号用ポジティブパスHBpとを配置している。このことから、ローバンド信号用バランスアンプの増幅経路と、ハイバンド信号用バランスアンプの増幅経路とが互いに同方向に送信信号を伝達するように配置されていないので、ローバンド信号とハイバンド信号間のクロストークを抑制することができるのである。
以下に、半導体チップCHPの詳細なレイアウト構成を示す。図14は、半導体チップCHPの詳細なレイアウト構成を示す図である。図14に示すように、例えば、入力パッドIPD(1n)は配線WL(1n)によってローバンド信号用ネガティブパスLBnに接続されているが、具体的に、配線WL(1n)はローバンド信号用ネガティブパスLBn内の入力整合回路IMN(1n)と接続されている。そして、この入力整合回路IMN(1n)は初段増幅回路FAMP(1n)と接続されている。さらに、初段増幅回路FAMP(1n)は、段間整合回路(図示せず)を介して終段増幅回路SAMP(1n)と接続される。
同様に、例えば、入力パッドIPD(1p)は配線WL(1p)によってローバンド信号用ポジティブパスLBpに接続されているが、具体的に、配線WL(1p)はローバンド信号用ポジティブパスLBp内の入力整合回路IMN(1p)と接続されている。そして、この入力整合回路IMN(1p)は初段増幅回路FAMP(1p)と接続されている。さらに、初段増幅回路FAMP(1p)は、段間整合回路(図示せず)を介して終段増幅回路SAMP(1p)と接続される。
さらに、例えば、入力パッドIPD(2n)は配線WL(2n)によってハイバンド信号用ネガティブパスHBnに接続されているが、具体的に、配線WL(2n)はハイバンド信号用ネガティブパスHBn内の入力整合回路IMN(2n)と接続されている。そして、この入力整合回路IMN(2n)は初段増幅回路FAMP(2n)と接続されている。さらに、初段増幅回路FAMP(2n)は、段間整合回路(図示せず)を介して終段増幅回路SAMP(2n)と接続される。
同様に、例えば、入力パッドIPD(2p)は配線WL(2p)によってハイバンド信号用ポジティブパスHBpに接続されているが、具体的に、配線WL(2p)はハイバンド信号用ポジティブパスHBp内の入力整合回路IMN(2p)と接続されている。そして、この入力整合回路IMN(2p)は初段増幅回路FAMP(2p)と接続されている。さらに、初段増幅回路FAMP(2p)は、段間整合回路(図示せず)を介して終段増幅回路SAMP(2p)と接続される。
ここで、半導体チップCHPに形成されているバランスアンプのうちローバンド信号用バランスアンプに着目すると、ローバンド信号用ネガティブパスLBn内の入力整合回路IMN(1n)と入力パッドIPD(1n)は配線WL(1n)で接続されている。一方、ローバンド信号用ポジティブパスLBp内の入力整合回路IMN(1p)と入力パッドIPD(1p)は配線WL(1p)で接続されている。このとき、本実施の形態2では、入力パッドIPD(1n)と入力パッドIPD(1p)が中心線CL2近傍の下側に配置されている。これに対し、ローバンド信号用ネガティブパスLBnは中心線CL2の右側領域のうち上側に形成され、ローバンド信号用ポジティブパスLBpは中心線CL2の右側領域のうち下側に形成されている。このため、入力パッドIPD(1n)とローバンド信号用ネガティブパスLBnとを接続する配線WL(1n)の長さと、入力パッドIPD(1p)とローバンド信号用ポジティブパスLBpとを接続する配線WL(1p)の長さが大幅に異なることになる。
ローバンド信号用ネガティブパスLBnと、ローバンド信号用ポジティブパスLBpでは、互いに位相が90度異なる送信信号が伝達されるが、それ以外の構成はほぼ同じであることが望ましい。例えば、ローバンド信号用ネガティブパスLBn内の入力整合回路IMN(1n)と、ローバンド信号用ポジティブパスLBp内の入力整合回路IMN(1p)では、それぞれ入力される送信信号の位相を調整することが行なわれる。これにより、ローバンド信号用ネガティブパスLBn内の入力整合回路IMN(1n)から出力された送信信号の位相と、ローバンド信号用ポジティブパスLBp内の入力整合回路IMN(1p)から出力された送信信号の位相とが90度ずれるように構成される。つまり、入力整合回路IMN(1n)と入力整合回路IMN(1p)は、それぞれを通過する送信信号の位相が90度ずれるように構成されていることになる。このとき、例えば、入力パッドIPD(1n)と入力整合回路IMN(1n)とを接続する配線WL(1n)の長さと、入力パッドIPD(1p)と入力整合回路IMN(1p)とを接続する配線WL(1p)の長さが同じであれば、配線WL(1n)や配線WL(1p)のもつ抵抗機能やインダクタ機能は同じ状態となるので、それぞれの送信信号は、入力整合回路IMN(1n)と入力整合回路IMN(1p)で生じる位相差を正確に反映して90度の位相差を保つことができる。
ところが、図14に示すように、配線WL(1n)の長さと、配線WL(1p)の長さが極端に異なると、配線WL(1n)や配線WL(1p)には寄生の抵抗やインダクタが形成されているので、この寄生の抵抗やインダクタの値が異なることになる。このことは、入力整合回路IMN(1n)や入力整合回路IMN(1p)を、それぞれの送信信号の位相が90度ずれるように構成しても、実際には、配線WL(1n)と配線WL(1p)の寄生抵抗や寄生インダクタの影響の差により、ローバンド信号用ネガティブパスLBnを伝達する送信信号の位相と、ローバンド信号用ポジティブパスLBpを伝達する送信信号の位相との差が90度にならないおそれが生じる。
そこで、本実施の形態2では、さらに、バランスアンプの特性を向上する工夫を施している。具体的に、本実施の形態2では、入力整合回路IMN(1n)と入力整合回路IMN(1p)だけで、それぞれの送信信号の位相差を90度にするのではなく、入力整合回路IMN(1n)と配線WL(1n)を合わせて位相シフタの機能を実現する工夫を施しているのである。つまり、入力整合回路IMN(1n)と入力整合回路(1p)だけで90度の位相差を形成する場合には、長さの異なる配線WL(1n)と配線WL(1p)の影響により、それぞれ送信信号の位相差が90度にならなくなるおそれがある。これに対し、入力整合回路IMN(1n)と配線WL(1n)を組み合わせて位相シフタを構成し、この位相シフタと、入力整合回路IMN(1p)によって、それぞれの送信信号の位相差を90度にすれば、配線WL(1n)の長さと配線WL(1p)の長さの相違による送信信号の位相への影響を抑制できるのである。
具体的に、入力整合回路IMN(1n)と配線WL(1n)とを組み合わせて形成した整合回路(位相シフタを含む)と、入力整合回路IMN(1p)で形成した整合回路の例について説明する。
図15は、ローバンド信号用ネガティブパスLBnにおいて、配線WL(1n)と入力整合回路IMN(1n)を組み合わせた整合回路の例を示す回路図である。図15において、入力端子ITE(1n)(入力パッドIPD(1n))と初段増幅回路FAMP(1n)の間に整合回路が形成されている。例えば、入力端子ITE(1n)と直列にインダクタL1が形成され、このインダクタL1の出力とグランドとの間にインダクタL2が形成されている。さらに、インダクタL1の出力に容量素子C1と容量素子C2が接続されている。このように構成された整合回路は、配線WL(1n)と入力整合回路IMN(1n)の組み合わせで実現されている。具体的に、インダクタL1は配線WL(1n)から構成され、その他のインダクタL2、容量素子C1および容量素子C2は入力整合回路INM(1n)に形成されている。つまり、本実施の形態2では、配線WL(1n)の長さが長く、この配線WL(1n)がインダクタとして機能することを考慮して整合回路を形成している。すなわち、入力端子ITE(1n)の接続される最初の受動部品をシリーズ(直列)のインダクタL1とすることにより、このインダクタL1を配線WL(1n)から構成することができるのである。本実施の形態2では、ローバンド信号用ネガティブパスLBnに接続される整合回路の最初にシリーズのインダクタL1が配置されるように形成することにより、配線WL(1n)と入力整合回路IMN(1n)で位相シフタを含む整合回路を構成することができるのである。このようにシリーズのインダクタL1が整合回路の最初に配置する場合の例としては、配線WL(1n)と入力整合回路IMN(1n)を組み合わせた整合回路で送信信号の位相を−60度ずらす構成を挙げることができる。なお、ローバンド信号用ネガティブパスLBnにおける整合回路では、配線WL(1n)でインダクタL1を構成し、その他のインダクタL2、容量素子C1および容量素子C2はチップ部品(受動部品)として半導体チップCHPに形成される。
続いて、図16は、ローバンド信号用ポジティブパスLBpにおける入力整合回路IMN(1p)の回路例を示す図である。図16に示すように、入力整合回路IMN(1p)は、入力端子ITE(1p)(入力パッドIPD(1p))と初段増幅回路FAMP(1p)の間に形成されている。例えば、入力端子ITE(1p)と直列にインダクタL3が形成され、このインダクタL3の出力に容量素子C3と容量素子C4と容量素子C5が接続されている。図16に示すローバンド信号用ポジティブパスLBpでは、図16に示す整合回路を入力整合回路IMN(1p)で形成している。ローバンド信号用ポジティブパスLBpは配線WL(1p)が接続されているが、この配線WL(1p)の長さは、上述した配線WL(1n)の長さに比べて充分に短く受動部品(例えば、インダクタ)としての効果は無視できる程度のものである。したがって、ローバンド信号用ポジティブパスLBpにおいては、入力整合回路IMN(1p)だけで送信信号の位相を調整することとなる。このとき、ローバンド信号用ネガティブパスLBnを構成する整合回路(図15参照)が送信信号に対して位相を−60度ずらす構成をしているので、ローバンド信号用ポジティブパスLBpを構成する整合回路(図16参照)は送信信号に対して位相を+30度ずらすように構成される。このようにして、入力整合回路IMN(1n)から出力される送信信号の位相と、入力整合回路IMN(1p)から出力される送信信号の位相とを90度ずらすことができる。なお、ローバンド信号用ポジティブパスLBpにおける整合回路では、インダクタL3、容量素子C3と容量素子C4と容量素子C5はチップ部品(受動部品)として半導体チップCHPに形成される。
以上より、本実施の形態2における第4特徴点は、半導体チップCHPの中心線CL2に対して片側にローバンド信号用ネガティブパスLBnとローバンド信号用ポジティブパスLBpを配置し、かつ、半導体チップCHPの中心線CL2に対してもう一方の片側にハイバンド信号用ネガティブパスHBnとハイバンド信号用ポジティブパスHBpとを配置することにある。この第4特徴点により、ローバンド信号用バランスアンプの増幅経路と、ハイバンド信号用バランスアンプの増幅経路とが互いに同方向に送信信号を伝達するように配置しなくすることができるので、ローバンド信号とハイバンド信号間のクロストークを抑制することができる。
そして、第4特徴点の構成をとる場合、配線WL(1n)の長さと、配線WL(1p)の長さが極端に異なるという副作用が生じる。そこで、本実施の形態2では、配線WL(1n)の長さが長くなることを逆に積極的に利用している。つまり、本実施の形態2の第5特徴点は、入力整合回路IMN(1n)と入力整合回路IMN(1p)だけで、それぞれの送信信号の位相差を90度にするのではなく、入力整合回路IMN(1n)と配線WL(1n)を合わせて位相シフタの機能を実現する工夫を施す点にある。これにより、配線WL(1n)の長さと配線WL(1p)の長さの相違による送信信号の位相への影響を抑制できるのである。この結果、バランスアンプの特性を向上することができる。さらに、本実施の形態2では、第5特徴点により、配線WL(1n)をインダクタとして使用しているため、このインダクタをチップ部品として新たに半導体チップCHPに形成しなくてもよい。このことは、整合回路を構成する受動部品の部品数を低減できることを意味し、半導体チップCHPの面積の小型化を実現できる効果も得られる。なお、本実施の形態2の第5特徴点を、ローバンド信号用バランスアンプの構成を例に挙げて説明しているが、ハイバンド信号用バランスアンプの構成についても本実施の形態2における第5特徴点を同様に適用することができる。
<<半導体チップ内のレイアウト構成(第6特徴点)>>
次に、さらなるバランスアンプの特性を向上できる技術(第6特徴点)について説明する。図17は比較例の半導体チップCHPを示す図である。図17において、比較例では、入力パッドIPD(1n)の外側(右側)に入力パッドIPD(1p)が配置されている。そして、入力パッドIPD(1n)にはワイヤW(1n)が接続されており、入力パッドIPD(1p)にはワイヤW(1p)が接続されている。同様に、比較例では、入力パッドIPD(2n)の外側(左側)に入力パッドIPD(2p)が形成されている。そして、入力パッドIPD(2n)にはワイヤW(2n)が接続されており、入力パッドIPD(2p)にはワイヤW(2p)が接続されている。
一方、ワイヤW1はローバンド信号用ポジティブパスLBpとパッドを介して電気的に接続されており、このワイヤW1は、ローバンド信号用ポジティブパスLBpの段間整合回路に出力される送信信号を伝達するものである。同様に、ワイヤW2はハイバンド信号用ポジティブパスHBpとパッドを介して電気的に接続されており、このワイヤW2は、ハイバンド信号用ポジティブパスHBpの段間整合回路に出力される送信信号を伝達するものである。
このような比較例の構成では、以下に示す問題点が生じる。すなわち、比較例の構成では、入力パッドIPD(1p)とローバンド信号用ポジティブパスLBpが近接することになる。具体的に、入力パッドIPD(1p)に接続されているワイヤW(1p)と、ローバンド信号用ポジティブパスLBpのパッドに接続されるワイヤW1とが近接することになる。この場合、ワイヤW(1p)とワイヤW1がほぼ互いに並行し、かつ、近接する場合、ワイヤW(1p)とワイヤW1のカップリング容量が増大し、クロストークが問題となる。同様に、比較例の構成では、入力パッドIPD(2p)とハイバンド信号用ポジティブパスHBpが近接することになる。具体的に、入力パッドIPD(2p)に接続されているワイヤW(2p)と、ハイバンド信号用ポジティブパスHBpのパッドに接続されるワイヤW2とが近接することになる。この場合、ワイヤW(2p)とワイヤW2が互いに並行し、かつ、近接する場合、ワイヤW(2p)とワイヤW2のカップリング容量が増大し、クロストークが問題となる。
そこで、本実施の形態2では、ワイヤW(1p)とワイヤW1、および、ワイヤW(2p)とワイヤW2との間のクロストークを抑制する工夫を施している。図18は、本実施の形態2における半導体チップCHPの構成を示す図である。図18において、本実施の形態2の第6特徴点は、入力パッドIPD(1n)の内側(左側)に入力パッドIPD(1p)を配置し、かつ、入力パッドIPD(2n)の内側(右側)に入力パッドIPD(2p)を配置していることにある。このように構成することにより、入力パッドIPD(1p)に接続するワイヤW(1p)と、ローバンド信号用ポジティブパスLBpのワイヤW1との間の距離を離すことができる。これは、ワイヤW(1p)とワイヤW1とのカップリング容量を低減できることを意味し、この結果、ワイヤW(1p)を伝達する送信信号とワイヤW1を伝達する送信信号の間のクロストークを抑制することができるのである。同様に、入力パッドIPD(2p)に接続するワイヤW(2p)と、ハイバンド信号用ポジティブパスHBpのワイヤW2との間の距離を離すことができる。これは、ワイヤW(2p)とワイヤW2とのカップリング容量を低減できることを意味し、この結果、ワイヤW(2p)を伝達する送信信号とワイヤW2を伝達する送信信号の間のクロストークを抑制することができるのである。
このとき、本実施の形態2では、入力パッドIPD(1n)の内側(左側)に入力パッドIPD(1p)を配置し、かつ、入力パッドIPD(2n)の内側(右側)に入力パッドIPD(2p)を配置する構成をとっている。この構成では、単純に、入力パッドIPD(1n)、入力パッドIPD(1p)、入力パッドIPD(2p)および入力パッドIPD(2n)を一列に並べる構成では実現することが困難となる。なぜなら、例えば、入力パッドIPD(1n)には配線WL(1n)が接続され、かつ、入力パッドIPD(1p)には配線WL(1p)が接続されるからである。この場合、入力パッドIPD(1p)を入力パッドIPD(1n)の内側(左側)に配置し、かつ、入力パッドIPD(1p)と入力パッドIPD(1n)とを一列に並べて配置すると、入力パッドIPD(1n)に接続している配線WL(1n)が邪魔になって入力パッドIPD(1p)とローバンド信号用ポジティブパスLBpとを配線WL(1p)で接続できなくなるのである。
そこで、本実施の形態2では、入力パッドIPD(1p)を入力パッドIPD(1n)の内側(左側)に配置するとともに、入力パッドIPD(1n)を入力パッドIPD(1p)の上側に飛び出るように配置している。これにより、図18に示すように、入力パッドIPD(1p)とローバンド信号用ポジティブパスLBpとを配線WL(1p)で接続することができるようになる。言い換えれば、本実施の形態2では、入力パッドIPD(1p)とローバンド信号用ポジティブパスLBpとの間に入力パッドIPD(1n)が設けられ、かつ、入力パッドIPD(1n)は、入力パッドIPD(1p)とローバンド信号用ポジティブパスLBpとを接続する配線WL(1p)よりも半導体チップCHPの内側領域(上側領域)に配置されている。このように構成することにより、入力パッドIPD(1p)とローバンド信号用ポジティブパスLBpとの接続を確保しながら、ワイヤW(1p)を伝達する送信信号とワイヤW1を伝達する送信信号の間のクロストークを抑制することができる。
なお、この構成は、ハイバンド信号用バランスアンプでも適用されている。すなわち、入力パッドIPD(2p)とハイバンド信号用ポジティブパスHBpとの間に入力パッドIPD(2n)が設けられ、かつ、入力パッドIPD(2n)は、入力パッドIPD(2p)とハイバンド信号用ポジティブパスHBpとを接続する配線WL(2p)よりも半導体チップCHPの内側領域(上側領域)に配置されている。このように構成することにより、入力パッドIPD(2p)とハイバンド信号用ポジティブパスHBpとの接続を確保しながら、ワイヤW(2p)を伝達する送信信号とワイヤW2を伝達する送信信号の間のクロストークを抑制することができる。
ここで、本実施の形態2における第6特徴点は、例えば、ローバンド信号用バランスアンプに着目すると、ワイヤW(1p)とワイヤW1との距離を離すことによりクロストークを抑制することができるが、ワイヤW(1n)とワイヤW1とは距離が近づくので、ワイヤW(1n)とワイヤW1とのクロストークは問題とならないか疑問が生じる。しかし、ワイヤW(1p)とワイヤW1との間のクロストークを抑制する方がより重要であり優先される事項なのである。ワイヤW(1p)はローバンド信号用ポジティブパスLBpに入力する送信信号を伝達するものであり、ワイヤW1はローバンド信号用ポジティブパスLBpの段間整合回路に出力される送信信号を伝達するものである。つまり、ワイヤW(1p)とワイヤW1とは同じローバンド信号用ポジティブパスLBpで使用される送信信号を伝達するものである。例えば、ワイヤW(1p)とワイヤW1との間でクロストークが生じるとする。この場合、ワイヤW(1p)を伝達する送信信号にノイズが発生することになる。すると、このワイヤW(1p)を伝達する送信信号は、ローバンド信号用ポジティブパスLBpに入力され、例えば、初段増幅回路で増幅されるので、ノイズも増幅される。そして、この初段増幅回路で増幅された送信信号は、段間整合回路に続くワイヤW1を伝達する。そして、ワイヤW1を伝達する際、近接するワイヤW(1p)とクロストークが生じる。このとき、ワイヤW1では増幅された送信信号が伝達するが、ノイズも増幅されている。したがって、ワイヤW1からワイヤW(1p)に重畳するノイズも大きくなる。その後、ワイヤW(1p)を伝達する送信信号は大きなノイズが生じている状態で再び初段増幅回路で増幅され、ノイズも増幅される。このことから、ワイヤW(1p)とワイヤW1との間のクロストークが発生すると、このような負のサイクルの中でノイズが増大するのである。
これに対し、ワイヤW(1n)とワイヤW1とは、それぞれ、ローバンド信号用ネガティブパスLBnとローバンド信号用ポジティブパスLBpという別の増幅経路に使用される送信信号を伝達するものであり、ワイヤW(1p)とワイヤW1とのクロストークのようにノイズが増大する負のサイクルが存在しない。このことから、同じローバンド信号用ポジティブパスLBpで使用される送信信号を伝達するワイヤW(1p)とワイヤW1との間のクロストークを抑制することが重要となるのである。
したがって、本実施の形態2では、入力パッドIPD(1n)の内側(左側)に入力パッドIPD(1p)を配置し、かつ、入力パッドIPD(2n)の内側(右側)に入力パッドIPD(2p)を配置しているのである。これにより、ワイヤW(1p)を伝達する送信信号とワイヤW1を伝達する送信信号の間のクロストークや、ワイヤW(2p)を伝達する送信信号とワイヤW2を伝達する送信信号の間のクロストークを抑制することができるのである。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
1 携帯電話機
2 アプリケーションプロセッサ
3 メモリ
4 ベースバンド部
5 RFIC
6 電力増幅器
7 SAWフィルタ
8 アンテナスイッチ
9 アンテナ
C1 容量素子
C1_HN 容量素子
C1_HP 容量素子
C1_LN 容量素子
C1_LP 容量素子
C2 容量素子
C2_H 容量素子
C2_L 容量素子
C3 容量素子
C3_H 容量素子
C3_L 容量素子
C4 容量素子
C4_H 容量素子
C4_L 容量素子
C5 容量素子
C5_L 容量素子
C6_H 容量素子
CB_HN 容量素子
CB_HP 容量素子
CB_LN 容量素子
CB_LP 容量素子
CHP 半導体チップ
CL1 中心線
CL2 中心線
CP1 導体パターン
CREG1 チップ分割領域
CREG2 チップ分割領域
FAMP 初段増幅回路
FAMP(1n) 初段増幅回路
FAMP(1p) 初段増幅回路
FAMP(2n) 初段増幅回路
FAMP(2p) 初段増幅回路
HBn ハイバンド信号用ネガティブパス
HBp ハイバンド信号用ポジティブパス
IMN 入力整合回路
IMN(1n) 入力整合回路
IMN(1p) 入力整合回路
IMN1 入力整合回路
IMN(2n) 入力整合回路
IMN(2p) 入力整合回路
IMN2 入力整合回路
IPD(1n) 入力パッド
IPD(1p) 入力パッド
IPD(2n) 入力パッド
IPD(2p) 入力パッド
ITE 入力端子
ITE(1n) 入力端子
ITE(1p) 入力端子
ITE(2n) 入力端子
ITE(2p) 入力端子
L1 インダクタ
L1_HN インダクタ
L1_HP インダクタ
L1_LN インダクタ
L1_LP インダクタ
L2 インダクタ
L3 インダクタ
LB_HN インダクタ
LB_HP インダクタ
LB_LN インダクタ
LB_LP インダクタ
LBn ローバンド信号用ネガティブパス
LBp ローバンド信号用ポジティブパス
Lc5_L インダクタ
Lc6_H インダクタ
LW_HN インダクタ
LW_HP インダクタ
LW_LN インダクタ
LW_LP インダクタ
MMN 段間整合回路
MMN(1n) 段間整合回路
MMN(1nA) 段間整合回路
MMN(1nB) 段間整合回路
MMN(1p) 段間整合回路
MMN(1pA) 段間整合回路
MMN(1pB) 段間整合回路
MMN(2n) 段間整合回路
MMN(2nA) 段間整合回路
MMN(2nB) 段間整合回路
MMN(2p) 段間整合回路
MMN(2pA) 段間整合回路
MMN(2pB) 段間整合回路
OMN 出力整合回路
OMN1 出力整合回路
OMN(1n) 出力整合回路
OMN(1p) 出力整合回路
OMN2 出力整合回路
OMN(2n) 出力整合回路
OMN(2p) 出力整合回路
OTE 出力端子
OTE1 出力端子
OTE2 出力端子
PA PAモジュール
PD パッド
PD1 電力分割器
REG1A(WB) 領域
REG1B(WB) 領域
REG2A(WB) 領域
REG2B(WB) 領域
RI_L 抵抗素子
RI_H 抵抗素子
S1 第1辺
S2a 第2辺
S2b 第2辺
SAMP 終段増幅回路
SAMP(1n) 終段増幅回路
SAMP(1p) 終段増幅回路
SAMP(2n) 終段増幅回路
SAMP(2p) 終段増幅回路
SL1_LN スパイラルインダクタ
SL1_LP スパイラルインダクタ
SL1_HN スパイラルインダクタ
SL1_HP スパイラルインダクタ
SL2_LN スパイラルインダクタ
SL2_LP スパイラルインダクタ
WB 配線基板
WC 電力結合器
WC1 電力結合器
WC2 電力結合器
W(IN_LN) ワイヤ
W(IN_LP) ワイヤ
W(IN_HN) ワイヤ
W(IN_HP) ワイヤ
WL(1n) 配線
WL(1p) 配線
WL(2n) 配線
WL(2p) 配線
W(OUT_LN) ワイヤ
W(OUT_LP) ワイヤ
W(OUT_HN) ワイヤ
W(OUT_HP) ワイヤ

Claims (13)

  1. ネガティブパス用の増幅器とポジティブパス用の増幅器によって構成されるバランスアンプ方式の電力増幅器を含む半導体装置であって、
    (a)配線基板と、
    (b)前記配線基板上に搭載された、前記電力増幅器を構成する複数のトランジスタを含む半導体チップを有し、
    前記配線基板には、
    (c1)前記ネガティブパス用の増幅器と電気的に接続した第1の出力整合回路を構成する第1の受動素子と、
    (c2)前記ポジティブパス用の増幅器と電気的に接続した第2の出力整合回路を構成する第2の受動素子が形成され、
    前記配線基板は、前記半導体チップの中心を通る第1の直線によって分割された第1の領域および第2の領域を有し、
    前記第1の受動素子は、前記第1の領域に配置され、前記第2の受動素子は、前記第2の領域に配置され
    前記半導体チップは、
    (d1)第1の入力パッドと、
    (d2)前記第1の入力パッドと電気的に接続した第1の配線と、
    (d3)前記第1の配線と電気的に接続した第1の入力整合回路と、
    (d4)前記第1の入力整合回路と電気的に接続した前記ネガティブパス用の電力増幅器と、
    (e1)第2の入力パッドと、
    (e2)前記第2の入力パッドと電気的に接続した第2の配線と、
    (e3)前記第2の配線と電気的に接続した第2の入力整合回路と、
    (e4)前記第2の入力整合回路と電気的に接続した前記ポジティブパス用の電力増幅器と、を有し、
    前記第1の配線の長さと、前記第2の配線の長さとは異なっており、
    前記第1の配線と前記第2の配線のうちの長さの長い長配線と、前記第1の入力整合回路と前記第2の入力整合回路のうち前記長配線と電気的に接続されている長配線接続用入力整合回路との組み合わせによって位相シフタが構成されていることを特徴とする半導体装置。
  2. 請求項1記載の半導体装置であって、
    前記第1の受動素子と前記第2の受動素子は前記第1の直線に対して対称に配置されていることを特徴とする半導体装置。
  3. 請求項1記載の半導体装置であって、
    前記第1の受動素子と前記第2の受動素子はスパイラルインダクタであることを特徴とする半導体装置。
  4. 請求項3記載の半導体装置であって、
    前記第1の受動素子と前記第2の受動素子は前記第1の直線に対し鏡像の関係となる形状であることを特徴とする半導体装置。
  5. 請求項3記載の半導体装置であって、
    前記第1の受動素子と前記第2の受動素子はそれぞれ時計回り、反時計周りの形状であることを特徴とする半導体装置。
  6. 請求項1記載の半導体装置であって、
    前記第1の受動素子と前記第2の受動素子はチップ部品であることを特徴とする半導体装置。
  7. 第1のネガティブパス用の増幅器と第1のポジティブパス用の増幅器によって構成されるバランスアンプ方式の第1の電力増幅器、および、第2のネガティブパス用の増幅器と第2のポジティブパス用の増幅器によって構成される第2の電力増幅器を有するバランスアンプ方式の電力増幅器を含む半導体装置であって、
    (a)配線基板と、
    (b)前記配線基板上に搭載された、前記第1の電力増幅器および前記第2の電力増幅器のそれぞれを構成する複数のトランジスタを含む半導体チップを有し、
    前記配線基板には、
    (c1)前記第1のネガティブパス用の増幅器と電気的に接続した第1の出力整合回路を構成する第1の受動素子と、
    (c2)前記第1のポジティブパス用の増幅器と電気的に接続した第2の出力整合回路を構成する第2の受動素子と、
    (c3)前記第2のネガティブパス用の増幅器と電気的に接続した第3の出力整合回路を構成する第3の受動素子と、
    (c4)前記第2のポジティブパス用の増幅器と電気的に接続した第4の出力整合回路を構成する第4の受動素子が形成され、
    前記配線基板は、前記半導体チップの中心を通る第1の直線によって分割された第1の領域および第2の領域を有し、
    前記第1の受動素子および前記第3の受動素子は前記配線基板上の前記第1の領域に配置され、
    前記第2の受動素子および前記第4の受動素子は前記配線基板上の前記第2の領域に配置され
    前記半導体チップは、
    (d1)第1の入力パッドと、
    (d2)前記第1の入力パッドと電気的に接続した第1の配線と、
    (d3)前記第1の配線と電気的に接続した第1の入力整合回路と、
    (d4)前記第1の入力整合回路と電気的に接続した前記第1のネガティブパス用の電力増幅器と、
    (e1)第2の入力パッドと、
    (e2)前記第2の入力パッドと電気的に接続した第2の配線と、
    (e3)前記第2の配線と電気的に接続した第2の入力整合回路と、
    (e4)前記第2の入力整合回路と電気的に接続した前記第1のポジティブパス用の電力増幅器と、
    (f1)第3の入力パッドと、
    (f2)前記第3の入力パッドと電気的に接続した第3の配線と、
    (f3)前記第3の配線と電気的に接続した第3の入力整合回路と、
    (f4)前記第3の入力整合回路と電気的に接続した前記第2のネガティブパス用の電力増幅器と、
    (g1)第4の入力パッドと、
    (g2)前記第4の入力パッドと電気的に接続した第4の配線と、
    (g3)前記第4の配線と電気的に接続した第4の入力整合回路と、
    (g4)前記第4の入力整合回路と電気的に接続した前記第2のポジティブパス用の電力増幅器と、を有し、
    前記第1の配線の長さと、前記第2の配線の長さとは異なっており、
    前記第1の配線と前記第2の配線のうちの長さの長い第1の長配線と、前記第1の入力整合回路と前記第2の入力整合回路のうち前記第1の長配線と電気的に接続されている第1の長配線接続用入力整合回路との組み合わせによって第1の位相シフタが構成され、
    前記第3の配線の長さと、前記第4の配線の長さとは異なっており、
    前記第3の配線と前記第4の配線のうちの長さの長い第2の長配線と、前記第3の入力整合回路と前記第4の入力整合回路のうち前記第2の長配線と電気的に接続されている第2の長配線接続用入力整合回路との組み合わせによって第2の位相シフタが構成されていることを特徴とする半導体装置。
  8. 請求項7記載の半導体装置であって、
    前記半導体チップは、前記半導体チップの中心を通りかつ前記第1の直線と直交する第2の直線によって分割された第1のチップ分割領域および第2のチップ分割領域を有し、
    前記第1の電力増幅器は前記半導体チップの前記第1のチップ分割領域に配置され、
    前記第2の電力増幅器は前記半導体チップの前記第2のチップ分割領域に配置されていることを特徴とする半導体装置。
  9. 請求項8記載の半導体装置であって、
    前記第1の受動素子と前記第2の受動素子は前記第1の直線に対し対称に配置され、
    前記第3の受動素子と前記第4の受動素子は前記第1の直線に対し対称に配置されていることを特徴とする半導体装置。
  10. 請求項8記載の半導体装置であって、前記第1の受動素子、前記第2の受動素子、前記第3の受動素子および前記第4の受動素子はスパイラルインダクタであることを特徴とする半導体装置。
  11. 請求項10記載の半導体装置であって、
    前記第1の受動素子と前記第2の受動素子は前記第1の直線に対し鏡像の関係となる形状であり、
    前記第3の受動素子と前記第4の受動素子は前記第1の直線に対し鏡像の関係となる形状であることを特徴とする半導体装置。
  12. 請求項10記載の半導体装置であって、
    前記第1の受動素子と前記第2の受動素子はそれぞれ時計回り、反時計周りの形状であることを特徴とする半導体装置。
  13. 請求項7記載の半導体装置であって、前記第1の受動素子と前記第2の受動素子はチップ部品であることを特徴とする半導体装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5076881B2 (ja) * 2007-12-26 2012-11-21 富士通株式会社 伝送特性調整装置、回路基板、及び伝送特性調整方法
JP5170711B2 (ja) * 2010-12-28 2013-03-27 株式会社デンソー コントローラ
JP5768375B2 (ja) 2011-01-14 2015-08-26 株式会社村田製作所 半導体装置
US8989683B2 (en) * 2012-03-27 2015-03-24 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. Ultra-wideband high power amplifier architecture
CN102655394B (zh) * 2012-05-23 2014-12-10 中国电子科技集团公司第五十五研究所 一种直流与微波信号交叉布线的放大器电路
US9030260B2 (en) * 2013-07-19 2015-05-12 Alcatel Lucent Dual-band high efficiency Doherty amplifiers with hybrid packaged power devices
WO2018101112A1 (ja) * 2016-11-30 2018-06-07 株式会社村田製作所 配線基板、カプラモジュール、及び通信装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10163772A (ja) * 1996-10-04 1998-06-19 Sanyo Electric Co Ltd 電力増幅器およびチップキャリヤ
WO2000007296A1 (fr) * 1998-07-29 2000-02-10 Hitachi, Ltd. Telephone portable
KR101354222B1 (ko) * 2006-03-09 2014-01-22 스카이워크스 솔루션즈, 인코포레이티드 부하에 둔감한 고효율 전력 증폭기 회로 및 부하에 둔감한 고효율 전력 증폭기 회로 상에서 동작하는 방법
JP4859049B2 (ja) * 2006-11-27 2012-01-18 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Rf電力増幅装置およびそれを搭載した無線通信端末装置
JP2009010685A (ja) * 2007-06-28 2009-01-15 Hitachi Metals Ltd 高周波回路部品およびこれを用いた通信装置

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