JP5163016B2 - カラーフィルタの製造方法とフォトマスク - Google Patents
カラーフィルタの製造方法とフォトマスク Download PDFInfo
- Publication number
- JP5163016B2 JP5163016B2 JP2007223956A JP2007223956A JP5163016B2 JP 5163016 B2 JP5163016 B2 JP 5163016B2 JP 2007223956 A JP2007223956 A JP 2007223956A JP 2007223956 A JP2007223956 A JP 2007223956A JP 5163016 B2 JP5163016 B2 JP 5163016B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent electrode
- forming
- pattern
- photomask
- color filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
傾斜面と斜め電界の影響で液晶分子11の傾斜方向が決定され、突起部10aの位置と透明電極2bの配向制御用開口部2cの位置で液晶分子11の配向方向が対称に分割される。この時、例えば真下から真上に透過する光は液晶分子11が多少傾斜しているため、若干の複屈折の影響を受け、透過が抑えられ、グレイの中間調表示が得られる。右下から左上に透過する光は液晶分子11が左方向に傾斜した領域では透過しにくい、右方向に傾斜した領域では非常に透過し易く、平均するとグレイの中間調表示が得られる。左下から右上に透過する光も同様の原理でグレイ表示となり、全方位で均一な表示が得られる。更に、所定の電圧を印加すると、図6(c)のように、液晶分子11はほぼ水平になり、白表示が得られる。こうして、黒、中間調、白の表示状態のすべての状態において、視角依存性の少ない良好な表示が得られる。
上記微小遮光部の幅が2μm以上5μm以下であることを特徴とする上記のカラーフィルタの製造方法である。
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。本実施形態では、透明導電膜2aをエッチングして透明電極2bを形成するためのエッチングレジストパターン3bを以下の材料で形成する。すなわち、ポジ型のフォトレジストを用いてフォトレジスト層3を形成する。図1(a)は、ポジ型のフォトレジスト層3に透明電極2bの配向制御用開口部2cのパターンを近接露光で投影するフォトマスク4の透明電極開口部形成用パターン4dの部分を拡大して示す平面図である。
(ブラックマトリックスの形成)
先ず、ガラス基板や透明樹脂基板などの透明基板5上に図2のようにブラックマトリックス6を形成する。ブラックマトリックス6は、着色画素7間のマトリックス部A6と、着色画素7が形成された領域(表示部)の周辺部を囲む額縁部6Bとで構成されている。ブラックマトリックス6は、カラーフィルタ1の着色画素7の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
フィ法によってブラックマトリックス6を形成する。
着色画素7の形成は、このブラックマトリックス6が形成された透明基板5上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型の着色フォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成する。
透明電極2bの形成は、ブラックマトリックス6、着色画素7が形成された透明基板5上に、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)を用いスパッタ法によってITO膜の約70nmの厚さの透明導電膜2aを形成する。次に、この透明導電膜2aにポジ型のフォトレジスト層3を形成する。次に、フォトレジスト層3の上方に、近接露光のギャップGを設けて、膜面8をフォトレジスト層3に対向させた透明電極2b形成用のフォトマスク4を配置する。近接露光のギャップGは形成するパターンの大きさ等によって異なるものであるが、通常50μm〜200μmの範囲内に設定する。
透明電極2b形成用にポジ型のフォトレジスト層3を露光してエッチングレジストパターン3bを形成するフォトマスク4として、膜面8にクロム膜をフォトエッチングして形成したパターンを設置したフォトマスクを作成する。そのフォトマスク4のパターンは、透明電極2bの電極の幅を約30μmから300μm、電極間隔を5μmから20μm程度に形成するため、透明電極2bに対応する遮光領域4bを有する。そのフォトマスク4の透明電極2b用の遮光領域4b内には、図1(a)のように、幅Waが2μm以上5μm以下の複数の多角形の開口部4aを市松模様に配列し、配列の中心部に開口部4aと同じ寸法の多角形の微小遮光部4cを設けた透明電極開口部形成用パターン4dを形成する。
その開口部4aによって囲まれる微小遮光部4c自体を解像してしまい、透明電極2bの微細な配向制御用開口部2cが円形にならず、環状になってしまう。
配向制御用開口部2cを有する透明電極2bの形成に用いるポジ型フォトレジストの組成を下記に示す。
・樹脂:クレゾールノボラックエポキシ樹脂 12wt%
・感光剤:ジアゾナフトキノン(DNQ) 14wt%
・溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMAC)
73.95wt%
この組成のポジ型フォトレジストを塗布して膜厚2μmのフォトレジスト層3を設け、その上に、近接露光のギャップGを70μmから120μmとし、上記のフォトマスク4を介した露光を100mJ/cm2与え、現像、ベーキングを施し、小径窓3cを有するエッチングレジストパターン3bを形成することができる。図3(b)は、フォトレジスト層3が現像されて形成されたエッチングレジストパターン3bと、カラーフィルタ1の製造途中の基板の断面図である。
透明導電膜2aがITO膜の場合は、その表面をエッチングレジストパターン3bで保護し、ITO膜のエッチング液として硝酸と塩酸の混合溶液または塩化系第2鉄系の溶液を用いたウエットエッチングによりITO膜の透明導電膜2aをエッチングする。図3(c)は、配向制御用開口部2cを有する透明電極2bが形成されたカラーフィルタ1の断面図である。フォトマスク4の開口部4aの幅Waが2μmの場合は、透明電極2bの配向制御用開口部2cの幅は6μmに形成できる。すなわち、配向制御用開口部2cの幅を10μm以下に形成できる効果がある。
次に、図5のカラーフィルタ1の断面図に示すように、感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法により、着色画素7間のブラックマトリックス6の位置にフォトスペーサ9を形成する。こうして、液晶表示装置用カラーフィルタ1には、透明基板5上にブラックマトリックス6、着色画素7、及び透明電極2bが順次に形成され、ブラックマトリックス6上方の透明電極2b上にスペーサ機能を有する突起状のフォトスペーサ9を形成する。
以下で、第2の実施形態を図4により説明する。図4(a)に示すフォトマスク4は図1(a)のフォトマスク4と同一であるが、透明導電膜2a上にポジ型フォトレジストを
塗布して形成するフォトレジスト層3の膜厚を、第1の実施形態より厚く、膜厚3μmのフォトレジスト層3を設ける。また、露光を150mJ/cm2与える。これにより、近接露光法による光干渉作用で露光させるが現像後に残存するエッチングレジストパターン3bが多くなり、図4(b)に示すような、×形(もしくは十文字形)の小径窓3cを有するエッチングレジストパターン3bが形成される。フォトレジスト層3の厚さを調整することで形成する小径窓3cの形状を円形、多角形、十字パターン形状に調整できる効果がある。そのエッチングレジストパターン3bで透明導電膜2aをエッチングすることで、その配向制御用開口部2cの形状を調整して形成した透明電極2bを形成することができる効果がある。
2a・・・透明導電膜
2b・・・透明電極
2c・・・配向制御用開口部
3・・・フォトレジスト層
3b・・・エッチングレジストパターン
3c・・・小径窓
4・・・フォトマスク
4a・・・開口部
4b・・・遮光領域
4c・・・微小遮光部
4d・・・透明電極開口部形成用パターン
5・・・透明基板
6・・・ブラックマトリックス
6A・・・マトリックス部
6B・・・額縁部
7・・・着色画素
8・・・膜面
9・・・フォトスペーサ
10・・・TFT基板
10a・・・突起部
10b・・・透明電極
11・・・液晶分子
G・・・近接露光のギャップ
L・・・露光光
Wa・・・フォトマスクの開口部4aの幅
Claims (4)
- 透明基板上にブラックマトリックスと着色画素層と透明導電膜を形成し前記透明導電膜上にポジ型のフォトレジスト層を形成する第1の工程と、前記フォトレジスト層上に近接露光のギャップを隔てて、遮光領域内に多角形状の開口部を市松模様に複数個配列し、前記開口部の配列の中心部に解像限界以下の微小遮光部を形成して成る透明電極開口部形成用パターンを有するフォトマスクを設置し、前記フォトレジスト層を露光し現像することで前記透明電極開口部形成用パターンによる10μm以下の小径窓を形成したエッチングレジストパターンを形成する第2の工程と、前記エッチングレジストパターンを用いて前記透明導電膜をエッチングすることで配向制御用開口部を有する透明電極を形成する第3の工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
- 前記フォトマスクの前記開口部の幅が2μm以上5μm以下であり、前記微小遮光部の幅が2μm以上5μm以下であることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタの製造方法。
- 近接露光でカラーフィルタの透明電極形成用ポジ型フォトレジストを露光するためのフォトマスクであって、透明電極形成用の遮光領域内に多角形状の開口部を市松模様に複数個配列し、前記開口部の配列の中心部に解像限界以下の微小遮光部を形成して成る透明電極開口部形成用パターンを有することを特徴とするフォトマスク。
- 前記開口部の幅が2μm以上5μm以下であり、前記微小遮光部の幅が2μm以上5μm以下であることを特徴とする請求項3記載のフォトマスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007223956A JP5163016B2 (ja) | 2007-08-30 | 2007-08-30 | カラーフィルタの製造方法とフォトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007223956A JP5163016B2 (ja) | 2007-08-30 | 2007-08-30 | カラーフィルタの製造方法とフォトマスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009058606A JP2009058606A (ja) | 2009-03-19 |
JP5163016B2 true JP5163016B2 (ja) | 2013-03-13 |
Family
ID=40554434
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007223956A Expired - Fee Related JP5163016B2 (ja) | 2007-08-30 | 2007-08-30 | カラーフィルタの製造方法とフォトマスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5163016B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5326813B2 (ja) * | 2009-05-26 | 2013-10-30 | 凸版印刷株式会社 | フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ |
JP5477560B2 (ja) * | 2009-09-04 | 2014-04-23 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
JP2011215197A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Hoya Corp | フォトマスク及びその製造方法 |
CN102819056A (zh) * | 2012-07-30 | 2012-12-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片及其制作方法、液晶面板和液晶显示装置 |
CN103984156B (zh) | 2014-05-04 | 2017-06-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 封框胶固化装置及其掩膜板 |
CN109752884A (zh) * | 2019-03-21 | 2019-05-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种配向膜、其制备方法及显示装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62276552A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-01 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | パタ−ン形成用マスク及びそれを用いた電子装置の製造方法 |
JP3216888B2 (ja) * | 1990-07-27 | 2001-10-09 | 株式会社日立製作所 | ホトマスク及びその製造方法並びに露光方法 |
KR0161437B1 (ko) * | 1995-09-19 | 1999-02-01 | 김광호 | 반도체장치의 미세패턴 형성방법 |
JP2006162647A (ja) * | 2004-12-02 | 2006-06-22 | Citizen Seimitsu Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP4774908B2 (ja) * | 2005-10-20 | 2011-09-21 | 凸版印刷株式会社 | 液晶表示装置用カラーフィルタ及び液晶表示装置 |
-
2007
- 2007-08-30 JP JP2007223956A patent/JP5163016B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009058606A (ja) | 2009-03-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007164134A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP2003057660A (ja) | 液晶表示素子及びそれを用いた液晶表示装置 | |
JP5163016B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法とフォトマスク | |
US20130183612A1 (en) | Method for producing substrate for liquid crystal display panel, and photomask | |
JP5011973B2 (ja) | フォトマスク | |
JP4725170B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法および液晶表示装置 | |
JP2007101992A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタ及びその製造方法 | |
US7864279B2 (en) | Liquid crystal display comprising a point-like protrusion and a common electrode having a concave portion | |
JP2007279192A (ja) | カラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ | |
JP5034203B2 (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 | |
JP2009151071A (ja) | フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ | |
JP4899414B2 (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法 | |
JP2008292626A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示装置用カラーフィルタ | |
JP4774908B2 (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタ及び液晶表示装置 | |
JP4887958B2 (ja) | フォトマスク | |
JP2008304507A (ja) | フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 | |
JP2006300975A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタ及びその製造方法 | |
JP2006221015A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法及び液晶表示装置用カラーフィルタ | |
JP2021002033A (ja) | カラーフィルタ基板、液晶表示装置、及び、カラーフィルタ基板の製造方法 | |
JP2007003758A (ja) | 半透過型液晶表示装置用カラーフィルタ及びその製造方法 | |
JP2005084492A (ja) | カラーフィルタ用フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法 | |
KR20070065072A (ko) | 액정 표시 장치용 컬러 필터 기판 및 그 제조 방법 | |
JP2008015072A (ja) | カラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ | |
JP5163153B2 (ja) | カラーフィルタ用フォトマスク及びカラーフィルタの製造方法 | |
JP5326813B2 (ja) | フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100727 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110721 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120307 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120313 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120418 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121120 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121203 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151228 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |