JP5148563B2 - 表面処理装置 - Google Patents
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- 処理対象物の表面を処理する装置であって、
処理溶液を前記処理対象物の表面に供給する溶液供給部と、
真空に保たれた内部で電子ビームを発生させ、前記内部から窓を経て外部へ前記電子ビームを出力させ、前記溶液供給部により前記処理対象物の表面に供給された処理溶液に前記電子ビームを照射して前記処理溶液を活性化する電子ビーム照射部と、
前記電子ビーム照射部の前記窓に対し略平行に不活性ガスを吹き出すガス吹出部と、
前記ガス吹出部から吹き出された不活性ガスを吸引するガス吸引部と、
を備えることを特徴とする表面処理装置。 - 前記溶液供給部が、機能水,酸性溶液またはアルカリ性溶液を前記処理溶液として前記処理対象物の表面に供給する、ことを特徴とする請求項1に記載の表面処理装置。
- 前記ガス吹出部におけるガス吹出量または前記ガス吸引部におけるガス吸引量を調整するガス量調整部を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の表面処理装置。
- 前記ガス吹出部が、前記電子ビーム照射部の前記窓に対し垂直な方向に積層された複数の吹出口を有する、ことを特徴とする請求項1に記載の表面処理装置。
- 前記ガス吹出部が、前記電子ビーム照射部の前記窓に対し略平行な方向に広がった吹出口を有し、その吹出口におけるガス吹出量分布を均一化する手段を含む、ことを特徴とする請求項1に記載の表面処理装置。
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