JP5135505B2 - 双安定光位相変調装置 - Google Patents
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Description
含まれる薄膜金属片持ち梁停止板10、11、14,15、乃至は12、13、16,17の応力撓みによる位置移動量とメモリセルのデータ書き替え反転による応力撓み変動による位置変動量の成分は、該電極兼光反射板21の表面24から反射される光の光路長と光路長精度に4倍の影響を及ぼす。
2 薄膜金属電極板
3a メモリセルからのアドレス相補出力電圧Va(−)
3b メモリセルからのアドレス相補出力電圧Va(+)
4 薄膜金属電極板
5 薄膜金属電極板
6 薄膜金属梁
7 薄膜金属梁
8 薄膜金属梁
9 薄膜金属梁
10 薄膜金属片持ち梁停止板
10b 薄膜金属片持ち梁停止板の自由端
11 薄膜金属片持ち梁停止板
11b 薄膜金属片持ち梁停止板の自由端
12 薄膜金属片持ち梁停止板
12b 薄膜金属片持ち梁停止板の自由端
13 薄膜金属片持ち梁停止板
13b 薄膜金属片持ち梁停止板の自由端
14 薄膜金属片持ち梁停止板
15 薄膜金属片持ち梁停止板
16 薄膜金属片持ち梁停止板
17 薄膜金属片持ち梁停止板
18a 薄膜金属電極板5の縁の上面
18b 薄膜金属電極板5の縁の下面
19a 薄膜金属電極板5の縁の上面
19b 薄膜金属電極板5の縁の下面
20 支持柱
21 薄膜金属電極兼光反射板
22 薄膜金属電極板5上に支持柱21により薄膜金属板20を接続し一体化した可動構造体
23 バイアス電圧Vb
24 薄膜金属電極兼光反射板21の表面
25a 薄膜金属電極兼光反射板21の表面24が静止し安定する高さ位置
25b 薄膜金属電極兼光反射板21の表面24が静止し安定する高さ位置
26 可動構造体22に作用する静電引力軸
27 薄膜金属電極板5の高さ位置軸
28 薄膜金属片持ち梁停止板10と12の高さの中間に相当する高さ位置
29 薄膜金属片持ち梁停止板12,乃至は13の高さに相当する高さ位置
30 薄膜金属片持ち梁停止板10,乃至は11の高さに相当する高さ位置
31 薄膜金属電極板4に引かれる方向
32 薄膜金属電極板2に引かれる方向
33 可動構造体22に作用する静電引力と薄膜金属電極板5の高さ位置との関係曲線
34 メモリセル内容を反転した時の可動構造体22に作用する静電引力と薄膜金属電極板5の高さ位置との関係曲線
35 双安定光位相変調装置1を駆動する基本シーケンス
36 グランドレベル
37 光路長補正バイアス電圧
38 共鳴パルス
39 通常アドレス相補出力電圧
40 ハイ状態のアドレス相補出力電圧
41 ハイ状態のアドレス相補出力電圧40と同じ値のバイアス電圧
42 駆動バイアス電圧
43 双安定光位相変調装置1を駆動する基本応用シーケンス
44 双極性のリセットパルス
45 シリコン半導体基板
46 多層金属薄膜構造体を形成していく基礎面
47 構造多層金属薄膜構造体を形成していく基礎面46上に薄膜金属電極板2を形成した構造
48 薄膜金属電極板5を空中に水平に吊る構造
49 薄膜金属梁6を支持する支持柱
50 薄膜金属梁7を支持する支持柱
51 薄膜金属梁8を支持する支持柱
52 薄膜金属梁9を支持する支持柱
53 構造薄膜金属電極板5の上下の動作範囲を制限する停止構造
54 薄膜金属片持ち梁停止板10、12を接続する支持柱
55 薄膜金属片持ち梁停止板11、13を接続する支持柱
56 薄膜金属片持ち梁停止板14、16を接続する支持柱
57 薄膜金属片持ち梁停止板15、17を接続する支持柱
58 薄膜金属電極板5を空中に水平に吊る構造48と該電極板5の上下の動作範囲を制限する停止構造53を位置合わせ配置し形成した構造
59 薄膜金属電極板5に形成した薄膜金属片持ち梁停止板
59b 薄膜金属電極板5に形成した薄膜金属片持ち梁停止板の自由端
60 構造47に構造58を位置合わせ配置し形成した構造
61 薄膜金属電極板4の中央の開口部
62 薄膜金属電極板4の中央に開口部61を形成した該電極板4を空中に支える構造
63 薄膜金属電極板4を支える支持柱
64 薄膜金属電極板4を支える支持柱
65 薄膜金属電極板4を支える支持柱
66 薄膜金属電極板4を支える支持柱
67 構造60に構造62を位置合わせ配置し形成した構造
68 薄膜金属電極兼光反射板21と支持柱20から成る構造
69 構造67に構造68を位置合わせ接続し完成した構造
70 2種類の安定状態に駆動される双安定光位相変調器
71 薄膜金属電極兼光反射板21が上位置で安定状態にある双安定光位相変調装置
72 薄膜金属電極兼光反射板21が下位置で安定状態にある双安定光位相変調装置
73 双安定光位相変調装置のアレー配列
74 CMOS回路シリコン半導体基板
75 光源からの位相の揃った入射光
76 光源からの入射光75の入射角度
77 双安定光位相変調装置71に入射光75が入射し薄膜金属電極兼光反射板21で反射する光の反射角
78 双安定光位相変調装置71に入射光75が入射し薄膜金属電極兼光反射板21で反射角77で反射する光
79 光源からの入射光75と位相が揃って並行に進行する入射光
80 光源からの入射光79の入射角度
81 双安定光位相変調装置72に入射光79が入射し薄膜金属電極兼光反射板21で反射する光の反射角
82 双安定光位相変調装置72に入射光79が入射し薄膜金属電極兼光反射板21で反射角81で反射する光
Claims (8)
- 基板上に導電性を有す多層の薄膜金属からモノリシックに形成されるミクロンサイズの構造体において、1層目電極板にメモリセルからのアドレス相補出力電圧の一方を供給、5層目電極板に該アドレス相補出力電圧の他方を供給、6層目電極板兼光反射板と3層目電極板を5層目電極板に接触しない様に建てた支持柱により接続一体化した構造体の3層目電極板に上下に撓む梁を接続し、該3層目電極板を1層目電極板と5層目電極板の中間付近の高さ位置の空間に水平に吊り上下に動く可動構造体とし、該3層目電極板の高さ位置を2層目片持ち梁停止板の高さと4層目片持ち梁停止板の高さの中間付近の高さ位置に、且つ2層目片持ち梁停止板の自由端と4層目片持ち梁停止板の自由端を該3層目電極板の縁に僅かに重ねて配置し、該可動構造体と2層目片持ち梁停止板と4層目片持ち梁停止板に共通のバイアス電圧を印可し、該可動構造体と1層目電極板、及び該可動構造体と5層目電極板に働く静電引力の作用により1層目電極板と5層目電極板方向に向けてより低いエネルギーポテンシャル状態を形成し、メモリセルからのアドレス相補出力電圧により該可動構造体の1層目電極板、乃至は5層目電極板のいずれかの方向への移動先を制御し、該可動構造体を移動し該可動構造体に一体化形成の3層目電極板を2層目、乃至は4層目に形成のいずれかの片持ち梁停止板の自由端によって停止し保持安定化させ、該可動構造体を2層目片持ち梁停止板の自由端と4層目片持ち梁停止板の自由端の間を遷移移動させる双安定駆動により、該可動構造体に一体化形成の6層目電極板兼光反射板から反射される光の光路長差(位相差)を制御することを特徴とする双安定光位相変調装置。
- [請求項1]に記載の双安定光位相変調装置にあって、3層目電極板の縁に片持ち梁停止板を形成し、該片持ち梁停止板の高さを2層目、4層目に形成の片持ち梁停止板の高さの中間に設定し、3層目電極板の縁に形成の片持ち梁停止板の自由端が2層目片持ち梁停止板の自由端、及び4層目片持ち梁停止板の自由端に僅かに重なるように配置し、3層目電極板の縁に形成の片持ち梁停止板の自由端を2層目片持ち梁停止板の自由端、乃至は4層目片持ち梁停止板の自由端に着地させ、遷移移動する3層目電極板を停止し保持安定化させることを特徴とする双安定光位相変調装置。
- [請求項1]に記載の双安定光位相変調装置にあって、片持ち梁停止板の応力撓み特性により、可動構造体に一体化形成される6層目電極板兼光反射板から反射される光の位相変調精度を設定することを特徴とする双安定光位相変調装置。
- [請求項1]に記載の双安定光位相変調装置を駆動する駆動シーケンスにあって、A:光路長を補正する共通バイアス電圧印加状態にあってメモリセルのデータを書きこみし、B:光路長を補正する共通バイアス電圧に共鳴パルスを重畳し可動構造体に機械共振振動エネルギーを与えると同時にアドレス相補出力電圧を昇圧し、乃至は光路長を補正するバイアス電圧の極性を反転させ可動構造体に機械共振振動エネルギーを与えると同時にアドレス相補出力電圧を昇圧し、C:光路長を補正する共通バイアス電圧を昇圧したアドレス相補出力電圧と同じ値のバイアス電圧に落としバイアスを除去すると同時に2層目片持ち梁停止板か4層目片持ち梁停止板のいずれかの自由端に該可動構造体の3層目電極板が停止している位置から該3層目電極板が2層目片持ち梁停止板と4層目片持ち梁停止板の高さの中間に相当する高さ位置に戻ろうとする運動速度に差が生じることにより該位置からの移動、乃至は該位置を保持するかの状態を差別化し、D:駆動する共通バイアス電圧の印加と同時に該可動構造体の該3層目電極板が2層目片持ち梁停止板か4層目片持ち梁停止板のいずれかの自由端に停止している位置から相対する4層目片持ち梁停止板か2層目片持ち梁停止板に向かっての位置の移動、乃至は2層目片持ち梁停止板か4層目片持ち梁停止板のいずれかの自由端に停止している位置に引き戻されてその位置を保持する動作過程に入れ、E:昇圧したアドレス相補出力電圧を通常アドレス相補出力電圧に戻し、F:6層目電極板兼光反射板と3層目電極板を5層目電極板に接触しない様に建てた支持柱により接続一体化した可動構造体の3層目電極板が、2層目片持ち梁停止板か4層目片持ち梁停止板のいずれかの自由端に着地した時の衝撃により該可動構造体に引き起こされる機械振動の過渡応答を安定化し、G:光路長を補正する共通バイアス電圧を再印加する7段階から構成される駆動シーケンス。
- [請求項1]に記載の双安定光位相変調装置にあって、5層目電極板と2層目片持ち梁停止板間の空間距離の2倍に5層目電極板の厚さを加えた距離以上の高さの支持柱により6層目電極板兼光反射板と3層目電極板を接続し一体化することを特徴とする双安定光位相変調装置。
- [請求項1]に記載の双安定光位相変調装置にあって、6層目電極兼光反射板により5層目以下に形成の下部構造を覆い隠すことを特徴とする双安定光位相変調装置。
- [請求項1]に記載の双安定光位相変調装置にあって、5層目電極板の中央に開口部を設け該開口部に接触しない様に該開口部中央に支持柱を通し6層目電極板兼光反射板の中央部と3層目電極板の中央部を接続一体化したことを特徴とする双安定光位相変調装置。
- [請求項1]に記載の双安定光位相変調装置を平面にアレー配列し光反射板から成るマイクロミラーアレー面を構成し、すべての双安定光位相変調装置を独立に動作させ該マイクロミラーアレー面により反射される2次元光面の光位相を変調する機能を有すことを特徴とする双安定光位相変調装置。
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