JP5134893B2 - 光学薄膜の形成材料および光学薄膜の形成方法 - Google Patents
光学薄膜の形成材料および光学薄膜の形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5134893B2 JP5134893B2 JP2007232739A JP2007232739A JP5134893B2 JP 5134893 B2 JP5134893 B2 JP 5134893B2 JP 2007232739 A JP2007232739 A JP 2007232739A JP 2007232739 A JP2007232739 A JP 2007232739A JP 5134893 B2 JP5134893 B2 JP 5134893B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- oxide
- optical thin
- mol
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
○:発生なし
△:3mm未満
×:3mm以上
(2)電子ビーム照射面の陥没
○:5.1mm以下
△:5.2mm〜5.9mm
×:6mm以上
(3)屈折率の安定性
○:全ての基板の屈折率が2.03〜2.13の範囲に入る
△:3つの基板のうちひとつでもこの範囲以外の屈折率をもつ
(4)400nm〜700nmにおける光吸収
○:0.1%以下
△:0.2%〜0.3%
×:0.4%以上
酸化ジルコニウム粉末6molと酸化チタニウム粉末1.5molと金属チタニウム粉末2molと酸化ニオブ粉末0.9molを混合し、300kgf/cmの圧力にてタブレット状に成形した。これをアルゴンガスフロー条件において1300℃で2時間焼成し、化学量論的にZr6Ti3.5Nb1.8O19.5で表される焼結体を得て、これを真空蒸着用タブレット型材料とした。
酸化ジルコニウム粉末5molと金属ジルコニウム粉末0.5molと酸化チタニウム粉末3molと酸化ニオブ粉末0.5molを混合し、300kgf/cmの圧力にてタブレット状に成形した。これをアルゴンガスフロー条件において1300℃で2時間焼成し、化学量論的にZr5.2Ti3NbO18.5で表される焼結体を得て、これを真空蒸着用タブレット型材料とした。
酸化ジルコニウム粉末4.3molと金属ジルコニウム粉末0.1molと酸化チタニウム粉末4molと金属チタニウム粉末0.3mol%酸化ニオブ粉末0.05molを混合し、300kgf/cmの圧力にてタブレット状に成形した。これを真空中にて1200℃で3時間焼成し、化学量論的にZr4.4Ti4.3Nb0.1O16.75で表される焼結体を得て、これを真空蒸着用タブレット型材料とした。
酸化ジルコニウム粉末6molと酸化チタニウム粉末3.5molと酸化ニオブ粉末0.9molを混合し、300kgf/cmの圧力にてタブレット状に成形した。これをアルゴンガスフロー条件において1300℃で2時間焼成し、化学量論的にZr6Ti3.5Nb0.9O23.5で表される焼結体を得て、これを真空蒸着用タブレット型材料とした。
酸化ジルコニウム粉末0.5molと酸化チタニウム粉末1.2molと金属チタニウム粉末1.8mol%と酸化ニオブ粉末3molを混合し、300kgf/cmの圧力にてタブレット状に成形した。これを真空中にて1200℃で3時間焼成し、化学量論的にZr0.5Ti3Nb6O18.4で表される焼結体を得て、これを真空蒸着用タブレット型材料とした。
Claims (3)
- 金属成分としてジルコニウムとチタニウムとニオブを含み、化学量論的にZrwTixNbyOzの組成で表され、かつ酸素欠損を有する複合酸化物であり、該w、x、y、zは、3.8≦w≦7.9、0.16≦x≦5.6、0.01≦y≦1.83、13.6≦z<20.15の範囲にあり、および、該酸素欠損の量は、完全酸化に対して0.089mol%以上17.084mol%以下の範囲にあることを特徴とするタブレット型の光学薄膜の形成材料。
- 請求項1に記載の光学薄膜の形成材料を蒸発源として用いて、真空蒸着を行うことを特徴とする光学薄膜の形成方法。
- 請求項2に記載の方法により形成されたことを特徴とする光学薄膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007232739A JP5134893B2 (ja) | 2007-09-07 | 2007-09-07 | 光学薄膜の形成材料および光学薄膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007232739A JP5134893B2 (ja) | 2007-09-07 | 2007-09-07 | 光学薄膜の形成材料および光学薄膜の形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009062237A JP2009062237A (ja) | 2009-03-26 |
JP5134893B2 true JP5134893B2 (ja) | 2013-01-30 |
Family
ID=40557176
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007232739A Active JP5134893B2 (ja) | 2007-09-07 | 2007-09-07 | 光学薄膜の形成材料および光学薄膜の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5134893B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5860953B2 (ja) * | 2012-03-27 | 2016-02-16 | キヤノンオプトロン株式会社 | 薄膜形成用蒸着材料 |
JP6218536B2 (ja) * | 2013-09-30 | 2017-10-25 | Hoya株式会社 | 光学素子およびその製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0641729A (ja) * | 1992-07-27 | 1994-02-15 | Oputoron:Kk | 蒸着用材料 |
JP2002258006A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Toppan Printing Co Ltd | 光学機能フィルムおよびその製造方法 |
JP2007520734A (ja) * | 2003-09-29 | 2007-07-26 | フラウンホッファー−ゲゼルシャフト ツァー フェーデルング デア アンゲバンテン フォルシュング エー ファー | 光学的に透明な基板の反射を低減する光学構造 |
-
2007
- 2007-09-07 JP JP2007232739A patent/JP5134893B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009062237A (ja) | 2009-03-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI441794B (zh) | 在半導體處理設備上塗佈含釔塗層的方法 | |
KR101395425B1 (ko) | 유리 기재 상의 코팅 및 코팅된 유리 제품 | |
CA2556786C (en) | Process and apparatus for the manufacture of sputtering targets | |
JP5764828B2 (ja) | 酸化物焼結体およびそれを加工したタブレット | |
US7431808B2 (en) | Sputter target based on titanium dioxide | |
TW201805450A (zh) | 氧氟化釔熱噴塗膜及其製造方法、以及熱噴塗構件 | |
KR20150089075A (ko) | 배리어층을 형성하기 위한 방법 | |
KR100817107B1 (ko) | 박막 증착법을 이용한 컬러 타일 제조 방법 | |
JP2007055841A (ja) | 酸化物焼結体及びその製造方法、酸化物焼結体を用いて得られる非晶質酸化物膜、並びにその非晶質酸化物膜を含む積層体 | |
JP5134893B2 (ja) | 光学薄膜の形成材料および光学薄膜の形成方法 | |
US5776847A (en) | Stabilized vapour-deposition materials based on titanium oxide | |
WO1995018080A1 (fr) | Corps fritte a l'oxyde d'etain dope a l'indium, couche mince conductrice transparente d'oxyde d'etain dope a l'indium et son procede de formation | |
JP5526098B2 (ja) | 耐食性部材及びその製造方法 | |
US6756137B2 (en) | Vapor-deposition material for the production of high-refractive-index optical layers, and process for the production of the vapor-deposition material | |
JP2010106307A (ja) | 蒸着原料材料及びその製造方法 | |
KR102574124B1 (ko) | 고온 부품 | |
Chen et al. | Annealing and oxidation study of Mo–Ru hard coatings on tungsten carbide | |
JP2004169098A (ja) | 蒸着材料およびそれを用いた光学薄膜並びに光学部品 | |
JP2009280483A (ja) | 耐食性部材およびその製造方法ならびに処理装置 | |
JP6989289B2 (ja) | 親水性反射防止膜付きレンズ及びその製造方法 | |
WO2015182167A1 (ja) | 酸化物焼結体及びその製造方法、並びに酸化物膜 | |
CN107406306B (zh) | 模压成型用玻璃坯料、玻璃光学元件及其制造方法 | |
JP2008266074A (ja) | 酸化亜鉛を含有する成形体の焼成方法 | |
JP2021509537A (ja) | 非晶質薄膜の製造方法 | |
WO2016159055A1 (ja) | プレス成形用ガラス素材、ガラス光学素子およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100810 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120123 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121102 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121112 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151116 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5134893 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |