JP5127252B2 - 光電変換素子の製造方法 - Google Patents
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Description
前記結晶系半導体基板の受光面に前記第一の真性半導体層を形成した後に、前記結晶系半導体基板の非受光面に第二の真性半導体層を形成する工程と、前記第二の真性半導体層上に前記一導電型半導体層を形成した後、前記第一の真性半導体層上に前記逆導電型半導体層を形成する工程と、前記逆導電型半導体層を形成した後に、前記裏面電極および前記受光面電極を形成する工程とを備えたことを特徴とするものである。
前記結晶系半導体基板の受光面に前記第一の真性半導体層を形成した後に、前記結晶系半導体基板の非受光面に第二の真性半導体層を形成する工程と、前記第二の真性半導体層上に前記一導電型半導体層を形成した後、前記第一の真性半導体層上に前記逆導電型半導体層を形成する工程と、前記逆導電型半導体層を形成した後に、前記裏面電極および前記受光面電極を形成する工程とを備えたことから、清浄な表面状態を有した基板の両表面に真性半導体層が形成されるため、同界面で低い表面再結合速度を有する変換効率の高い光電変換素子の製造が可能となる。
結晶系半導体基板として、例えばp型またはn型の単結晶または多結晶シリコンからなるシリコン基板10を用いることができる。ここで結晶系とは、単結晶、多結晶および微結晶を含む概念である。
シリコン基板10の表面に凹凸構造を形成することが好ましい。
次に、シリコン基板10の受光面上、または上述のドライエッチング法により凹凸を形成した面上に、実質的に真性な第一の真性半導体層11を形成する。本明細書において、実質的に真性な半導体層とは、半導体層の形成時に意図的に導電型決定元素を添加せずに作製したものを広く指すものとする。
次いで、シリコン基板10の非受光面上に実質的に真性な第二の真性半導体層12を形成する。
次に、シリコン基板10と同じ導電型を呈する一導電型半導体層13を第二の真性半導体層12上に形成し、その後、シリコン基板10と逆の導電型を呈する逆導電型半導体層14を第一の真性半導体層11上に形成する。
次に、反射防止層15を形成する。
次に、一導電型半導体層13上に裏面電極16を形成する。
次に、受光面電極17を、逆導電型半導体層14上または反射防止層15上に形成する。
2・・・i型非晶質層
3・・・p型非晶質層
4・・・i型非晶質層
5・・・n型非晶質層
6・・・受光面側透明導電層
7・・・裏面側透明導電層
8・・・受光面側取出電極
9・・・裏面側取出電極
10・・n型多結晶シリコン基板
11・・第一の真性半導体層
12・・第二の真性半導体層
13・・一導電型半導体層
14・・逆導電型半導体層
15・・反射防止層
16・・裏面電極
17・・受光面電極
Claims (3)
- 一導電型を呈する結晶系半導体基板と、
前記結晶系半導体基板の受光面に形成された第一の真性半導体層と、
前記第一の真性半導体層上に形成され、前記結晶系半導体基板と逆の導電型を呈する逆導電型半導体層と、
前記結晶系半導体基板の非受光面に形成された第二の真性半導体層と、
前記第二の真性半導体層上に形成された一導電型半導体層と、
前記逆導電型半導体層上に形成された受光面電極と、
前記一導電型半導体層上に形成された裏面電極とを有して成る光電変換素子を製造する方法であって、
前記結晶系半導体基板の受光面に前記第一の真性半導体層を形成した後に、前記結晶系半導体基板の非受光面に第二の真性半導体層を形成する工程と、
前記第二の真性半導体層上に前記一導電型半導体層を形成した後、前記第一の真性半導体層上に前記逆導電型半導体層を形成する工程と、
前記逆導電型半導体層を形成した後に、前記裏面電極および前記受光面電極を形成する工程とを備えた光電変換素子の製造方法。 - 前記結晶系半導体基板がn型であることを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子の製造方法。
- 少なくとも一の前記真性半導体層は非単結晶相であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光電変換素子の製造方法。
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