JP5126412B2 - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
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Description
ここに開示された技術は、表示デバイスとしてのプラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。
プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと呼ぶ)は、高精細化、大画面化の実現が可能であることから、65インチクラスのテレビなどが製品化されている。近年、PDPは従来のNTSC方式に比べて走査線数が2倍以上のハイディフィニションテレビへの適用が進んでいる。また、環境問題に配慮して鉛成分を含まないPDPが要求されている。
PDPは、基本的には、前面板と背面板とで構成されている。前面板は、フロート法による硼硅酸ナトリウム系ガラスのガラス基板と、ガラス基板の一方の主面上に形成されたストライプ状の透明電極とバス電極とで構成される表示電極と、表示電極を覆ってコンデンサとしての働きをする誘電体層と、誘電体層上に形成された酸化マグネシウム(MgO)からなる保護膜とで構成されている。一方、背面板は、ガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状のデータ電極と、データ電極を覆う下地誘電体層と、下地誘電体層上に形成された隔壁と、各隔壁間に形成された赤色、緑色および青色それぞれに発光する蛍光体層とで構成されている。
ここで、保護膜は、ガス放電時に生じるイオン衝撃から誘電体層および電極を保護する役割(耐スパッタ性)を果たす。また、保護膜は、放電時に2次電子を放出し電荷を保持する、いわゆるメモリ機能の役割を果たす。そのため保護膜は、耐イオン衝撃性(耐スパッタ性)と2次電子放出性に優れる酸化マグネシウム(MgO)などの金属酸化膜が一般的に用いられている(例えば、特許文献1)。
上記のように、前面板の誘電体層上に形成される保護膜の役割は、放電によるイオン衝撃から誘電体層を保護すること、アドレス放電を発生させるための初期電子を放出することが挙げられる。
イオン衝撃から誘電体層を保護することは、放電電圧の上昇を防ぐ重要な役割である。また、アドレス放電を発生させるための初期電子を放出することは、画像のちらつきの原因となるアドレス放電ミスを防ぐ重要な役割である。
ここで開示されたプラズマディスプレイパネルの製造方法は、基板上に形成した表示電極を覆うように誘電体層を形成するとともにその誘電体層上に保護膜を形成した前面板と、この前面板に放電空間を形成するように対向配置されかつ前記表示電極と交差する方向にデータ電極を形成するとともに前記放電空間を区画する隔壁を設けた背面板とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記保護膜は、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムのうち少なくとも一つの酸化物からなる金属酸化物粒子と、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムのうち少なくとも一つの元素の燐酸塩または有機燐酸化合物とを含むペーストを塗布し、焼成することにより形成することを特徴とする。
以下、一実施の形態におけるPDPについて、図1〜図9の図面を用いて説明する。図1は一実施の形態におけるPDPの構造を示す斜視図である。図1において、PDP1の基本構造は、一般的な交流面放電型PDPと同様である。PDP1は前面ガラス基板3などよりなる前面板2と、背面ガラス基板11などよりなる背面板10とが対向して配置され、その外周部をガラスフリットなどからなる封着材によって気密封着されている。封着されたPDP1内部の放電空間16には、NeおよびXeなどの放電ガスが400Torr〜600Torr(5.3×104Pa〜8.0×104Pa)の圧力で封入されている。
前面板2の前面ガラス基板3上には、走査電極4および維持電極5よりなる一対の帯状の表示電極6とブラックストライプである遮光層7が互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板3上には表示電極6と遮光層7とを覆うようにコンデンサとしての働きをする誘電体層8が形成され、さらにその表面に保護膜9が形成されている。
ここで、走査電極4および維持電極5は、それぞれITO、SnO2、ZnO等の導電性金属酸化物からなる透明電極上にAgからなるバス電極を形成することにより構成されている。
また、背面板10の背面ガラス基板11上には、前面板2の走査電極4および維持電極5と直交する方向に、複数の互いに平行なAgを主成分とする導電性材料からなるデータ電極12が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層13が被覆している。さらに、データ電極12間の下地誘電体層13上には放電空間16を区切る所定の高さの隔壁14が形成されている。隔壁14間の溝にデータ電極12毎に、紫外線によって赤色、緑色および青色にそれぞれ発光する蛍光体層15が順次塗布して形成されている。走査電極4および維持電極5とデータ電極12とが交差する位置に放電セルが形成され、表示電極6方向に並んだ赤色、緑色、青色の蛍光体層15を有する放電セルがカラー表示のための画素になる。
なお、ここに開示された技術においては、放電空間16に封入する放電ガスは、放電ガス中にキセノンの濃度が10%以上30%以下の体積%で含まれるように混合した放電ガスを用いている。
図2は一実施の形態におけるPDPの電極配列図である。行方向に長いn本の走査電極Y1、Y2、Y3・・・Yn(図1の走査電極4)およびn本の維持電極X1、X2、X3・・・Xn(図1の維持電極5)が配列され、列方向に長いm本のデータ電極D1・・・Dm(図1のデータ電極12)が配列されている。そして、1対の走査電極Y1および維持電極X1と1つのデータ電極D1とが交差した部分に放電セルが形成され、放電セルは放電空間内にm×n個形成されている。そしてこれらの電極のそれぞれは、前面板2、背面板10の画像表示領域外の周辺端部に設けられた接続端子それぞれに接続されている。
図3は一実施の形態におけるPDPを用いたプラズマディスプレイ装置の回路ブロック図である。このプラズマディスプレイ装置は、上述した構成のPDP1、画像信号処理回路21、データ電極駆動回路22、走査電極駆動回路23、維持電極駆動回路24、タイミング発生回路25および電源回路(図示せず)を備えている。
画像信号処理回路21は、画像信号sigをサブフィールド毎の画像データに変換する。データ電極駆動回路22はサブフィールド毎の画像データを各データ電極D1〜Dmに対応する信号に変換し、各データ電極D1〜Dmを駆動する。タイミング発生回路25は水平同期信号Hおよび垂直同期信号Vをもとにして各種のタイミング信号を発生し、各駆動回路ブロックに供給している。走査電極駆動回路23はタイミング信号にもとづいて走査電極SC1〜SCnに駆動電圧波形を供給し、維持電極駆動回路24はタイミング信号にもとづいて維持電極SU1〜SUnに駆動電圧波形を供給する。
次に、PDPを駆動するための駆動電圧波形とその動作について図4を用いて説明する。図4はPDPの各電極に印加する駆動電圧波形を示す図である。
一実施の形態によるプラズマディスプレイ装置においては、1フィールドを複数のサブフィールドにより構成し、それぞれのサブフィールドは、放電セルにおいて初期化放電を発生させる初期化期間と、この初期化期間のあと、発光させる放電セルを選択する書込み放電を発生させる書込み期間と、この書込み期間により選択された放電セルにおいて維持放電を発生させる維持期間とを有している。
第1サブフィールドの初期化期間では、データ電極D1〜Dmおよび維持電極SU1〜SUnを0(V)に保持し、走査電極SC1〜SCnに対して放電開始電圧以下となる電圧Vi1(V)から放電開始電圧を超える電圧Vi2(V)に向かって緩やかに上昇するランプ電圧を印加する。すると、全ての放電セルにおいて1回目の微弱な初期化放電を起こし、走査電極SC1〜SCn上に負の壁電圧が蓄えられるとともに維持電極SU1〜SUn上およびデータ電極D1〜Dm上に正の壁電圧が蓄えられる。ここで、電極上の壁電圧とは電極を覆う誘電体層や蛍光体層上等に蓄積した壁電荷により生じる電圧を指す。
その後、維持電極SU1〜SUnを正の電圧Ve1、Ve2(V)に保ち、走査電極SC1〜SCnに電圧Vi3(V)から電圧Vi4(V)に向かって緩やかに下降するランプ電圧を印加する。すると、すべての放電セルにおいて2回目の微弱な初期化放電を起こし、走査電極SC1〜SCn上と維持電極SU1〜SUn上との間の壁電圧が弱められ、データ電極D1〜Dm上の壁電圧も書込み動作に適した値に調整される。
続く書込み期間では、走査電極SC1〜SCnを一旦Vc(V)に保持する。次に、1行目の走査電極SC1に負の走査パルス電圧Va(V)を印加するとともに、データ電極D1〜Dmのうち1行目に表示すべき放電セルのデータ電極Dk(k=1〜m)に正の書込みパルス電圧Vd(V)を印加する。このときデータ電極Dkと走査電極SC1との交差部の電圧は、外部印加電圧(Vd−Va)(V)にデータ電極Dk上の壁電圧と走査電極SC1上の壁電圧とが加算されたものとなり、放電開始電圧を超える。そして、データ電極Dkと走査電極SC1との間および維持電極SU1と走査電極SC1との間に書込み放電が起こり、この放電セルの走査電極SC1上に正の壁電圧が蓄積され、維持電極SU1上に負の壁電圧が蓄積され、データ電極Dk上にも負の壁電圧が蓄積される。
このようにして、1行目に表示すべき放電セルで書込み放電を起こして各電極上に壁電圧を蓄積する書込み動作が行われる。一方、書込みパルス電圧Vd(V)を印加しなかったデータ電極D1〜Dmと走査電極SC1との交差部の電圧は放電開始電圧を超えないので、書込み放電は発生しない。以上の書込み動作をn行目の放電セルに至るまで順次行い、書込み期間が終了する。
続く維持期間では、走査電極SC1〜SCnには第1の電圧として正の維持パルス電圧Vs(V)を、維持電極SU1〜SUnには第2の電圧として接地電位、すなわち0(V)をそれぞれ印加する。このとき書込み放電を起こした放電セルにおいては、走査電極SCi上と維持電極SUi上との間の電圧は維持パルス電圧Vs(V)に走査電極SCi上の壁電圧と維持電極SUi上の壁電圧とが加算されたものとなり、放電開始電圧を超える。そして、走査電極SCiと維持電極SUiとの間に維持放電が起こり、このとき発生した紫外線により蛍光体層が発光する。そして走査電極SCi上に負の壁電圧が蓄積され、維持電極SUi上に正の壁電圧が蓄積される。このときデータ電極Dk上にも正の壁電圧が蓄積される。
書込み期間において書込み放電が起きなかった放電セルでは、維持放電は発生せず、初期化期間の終了時における壁電圧が保持される。続いて、走査電極SC1〜SCnには第2の電圧である0(V)を、維持電極SU1〜SUnには第1の電圧である維持パルス電圧Vs(V)をそれぞれ印加する。すると、維持放電を起こした放電セルでは、維持電極SUi上と走査電極SCi上との間の電圧が放電開始電圧を超えるので、再び維持電極SUiと走査電極SCiとの間に維持放電が起こり、維持電極SUi上に負の壁電圧が蓄積され走査電極SCi上に正の壁電圧が蓄積される。
以降同様に、走査電極SC1〜SCnと維持電極SU1〜SUnとに交互に輝度重みに応じた数の維持パルスを印加することにより、書込み期間において書込み放電を起こした放電セルで維持放電が継続して行われる。こうして維持期間における維持動作が終了する。
続く第2サブフィールド以降における初期化期間、書込み期間、維持期間の動作も、第1サブフィールドにおける動作とほぼ同様のため、説明を省略する。なお、本実施の形態においては、第2サブフィールド以降のサブフィールドにおいては、維持電極SU1〜SUnを正の電圧Ve1、Ve2(V)に保ち、走査電極SC1〜SCnに電圧Vi3(V)から電圧Vi4(V)に向かって緩やかに下降するランプ電圧を印加することにより、前のサブフィールドにおいて維持放電を起こした放電セルにおいてのみ微弱な初期化放電を起こさせるように駆動している。すなわち、第1サブフィールドにおいては、全ての放電セルで初期化放電を発生させる全セル初期化動作を行い、第2サブフィールド以降においては、前のサブフィールドにおいて維持放電を起こした放電セルのみで選択的に初期化放電を発生させる動作を行うように構成している。なお、この全セル初期化動作と選択的初期化動作について、本実施の形態のように、第1サブフィールドとその他のサブフィールドとの間で使い分ける以外に、全セル初期化動作を第1サブフィールド以外のサブフィールドにおける初期化期間で行ったり、数フィールドに1回の頻度で行ったりしてもよい。
また、書込み期間、維持期間における動作は、上述した第1サブフィールドにおける動作と同様な駆動方法であるが、維持期間における維持放電による発光は、輝度の重み付けに応じた数の維持パルスを印加することにより、サブフィールド毎の輝度重みを制御するように駆動している。
ここに開示された技術はこのようなプラズマディスプレイ装置において、PDP1の保護膜9を改善することにより、低消費電力で高精細で高輝度の表示性能を備えた表示装置を安価に提供するものである。以下、特徴とする構成について、詳細に説明する。
図5は、一実施の形態におけるPDPの前面板の構成を示す断面図であり、図1と上下反転させて示している。図5に示すように、フロート法などにより製造された前面ガラス基板3に、走査電極4と維持電極5よりなる表示電極6と遮光層7がパターン形成されている。走査電極4と維持電極5はそれぞれインジウムスズ酸化物(ITO)や酸化スズ(SnO2)などからなる透明電極4a、5aと、透明電極4a、5a上に形成された金属バス電極4b、5bとにより構成されている。金属バス電極4b、5bは透明電極4a、5aの長手方向に導電性を付与する目的として用いられ、銀(Ag)材料を主成分とする導電性材料によって形成されている。
誘電体層8は、前面ガラス基板3上に形成されたこれらの透明電極4a、5aと金属バス電極4b、5bと遮光層7を覆うように設けられ、さらに誘電体層8上に保護膜9を形成している。
次に、PDP1の製造方法について説明する。まず、前面ガラス基板3上に、走査電極4および維持電極5と遮光層7とを形成する。走査電極4、維持電極5の透明電極4a、5aと金属バス電極4b、5bは、フォトリソグラフィ法などを用いてパターニングして形成される。透明電極4a、5aは薄膜プロセスなどを用いて形成され、金属バス電極4b、5bは銀(Ag)材料を含むペーストを所望の温度で焼成して固化している。また、遮光層7も同様に、黒色顔料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や黒色顔料をガラス基板の全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することにより形成される。
次に、走査電極4、維持電極5および遮光層7を覆うように前面ガラス基板3上に誘電体ペーストをダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層(誘電体材料層)を形成する。誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することによって塗布された誘電体ペースト表面がレベリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペースト層を焼成固化することにより、走査電極4、維持電極5および遮光層7を覆う誘電体層8が形成される。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料、バインダおよび溶剤を含む塗料である。次に、誘電体層8上に酸化マグネシウム(MgO)からなる保護膜9を真空蒸着法により形成する。以上の工程により前面ガラス基板3上に所定の構成物(走査電極4、維持電極5、遮光層7、誘電体層8、保護膜9)が形成され、前面板2が完成する。
一方、背面板10は次のようにして形成される。まず、背面ガラス基板11上に、銀(Ag)材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによりデータ電極12用の構成物となる材料層を形成し、それを所望の温度で焼成することによりデータ電極12を形成する。次に、データ電極12が形成された背面ガラス基板11上にダイコート法などによりデータ電極12を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより下地誘電体層13を形成する。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料とバインダおよび溶剤を含んだ塗料である。
次に、下地誘電体層13上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布して所定の形状にパターニングすることにより、隔壁材料層を形成した後、焼成することにより隔壁14を形成する。ここで、下地誘電体層13上に塗布した隔壁用ペーストをパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。次に、隣接する隔壁14間の下地誘電体層13上および隔壁14の側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布し、焼成することにより蛍光体層15が形成される。以上の工程により、背面ガラス基板11上に所定の構成部材を有する背面板10が完成する。
このようにして所定の構成部材を備えた前面板2と背面板10とを走査電極4とデータ電極12とが直交するように対向配置して、その周囲をガラスフリットで封着し、放電空間16にNe、Xeなどを含む放電ガスを封入することによりPDP1が完成する。
ここで、前面板2の誘電体層8について詳細に説明する。誘電体層8の誘電体材料は、酸化ビスマス(Bi2O3)を主成分として20重量%〜40重量%含み、さらに酸化カルシウム(CaO)、酸化ストロンチウム(SrO)、酸化バリウム(BaO)から選ばれる少なくとも1種を0.5重量%〜12重量%含み、酸化モリブデン(MoO3)、酸化タングステン(WO3)、酸化セリウム(CeO2)、二酸化マンガン(MnO2)から選ばれる少なくとも1種を0.1重量%〜7重量%含んでおり、鉛成分を含まない材料組成により構成されている。そして、これらの材料以外に、酸化亜鉛(ZnO)を0重量%〜40重量%、酸化硼素(B2O3)を0重量%〜35重量%、酸化硅素(SiO2)を0重量%〜15重量%、酸化アルミニウム(Al2O3)を0重量%〜10重量%などの鉛成分を含まない材料を混合して構成されている。
また、誘電体層8は、膜厚が40μm以下で、比誘電率εが7以下となるように誘電体材料を構成している。
これらの組成成分からなる誘電体材料を、湿式ジェットミルやボールミルで平均粒径が0.5μm〜2.5μmとなるように粉砕して誘電体材料粉末を作製する。次にこの誘電体材料粉末55重量%〜70重量%と、バインダ成分30重量%〜45重量%とを三本ロールでよく混練してダイコート用、または印刷用の誘電体層用ペーストを作製する。
バインダ成分はエチルセルロース、またはアクリル樹脂1重量%〜20重量%を含むターピネオール、またはブチルカルビトールアセテートである。また、ペースト中には、必要に応じて可塑剤としてフタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルを添加し、分散剤としてグリセロールモノオレート、ソルビタンセスキオレヘート、ホモゲノール(Kaoコーポレーション社製品名)、アルキルアリル基のリン酸エステルなどを添加して印刷性を向上させてもよい。
次に、この誘電体層用ペーストを用い、表示電極6を覆うように前面ガラス基板3にダイコート法あるいはスクリーン印刷法で印刷して乾燥させ、その後、誘電体材料の軟化点より少し高い温度の575℃〜590℃で焼成することにより、誘電体層8が形成される。
次に、ここに開示された技術によるPDPの特徴である保護膜9の構成及び製造方法について説明する。
ここに開示された技術によるPDPにおいては、図6に示すように、保護膜9は、誘電体層8上に、第二族元素の酸化物粒子91を配置するとともに、燐を含有していることを特徴とする。すなわち、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムのうち少なくとも一つの酸化物で、粒径が5nm以上500nm以下の金属酸化物粒子により保護膜9を形成し、さらにその保護膜9に燐を含有させることにより構成している。
ここで、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムのうち少なくとも一つの金属酸化物粒子により保護膜9を形成することにより、耐イオン衝撃性および二次電子放出能の優れた保護膜9を形成することができる。また、金属酸化物粒子の粒径は、5nm以上500nm以下が望ましく、5nmより小さい金属酸化物粒子の場合、粒子の安定性に問題があり、500nmより大きい金属酸化物粒子を用いると、保護膜9の光透過率が低下しPDP1の輝度低下を招いたりする可能性があり好ましくない。
さらに、ここに開示された技術においては、燐が保護膜9中に含有されている点に特徴があり、燐が保護膜9中に含有されることで、PDP1の放電開始電圧が低下し、放電に伴う保護膜9の寿命も長くなる。このような燐を含有する保護膜9は、例えば、MgOなどの第二族元素の酸化物粒子と、第二族元素の無機燐酸塩、または有機燐酸化合物とを含むペーストを作成し、このペーストを誘電体層8上に塗布し、焼成することで、簡便に形成することができる。
無機燐酸塩としては、オルソリン酸塩、ピロリン酸塩、トリポリリン酸塩、テトラ燐酸塩、ヘキサメタリン酸塩などが挙げられ、そして燐酸塩の陽イオンとして、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムなどの第二族元素を含む燐酸塩を用いることにより、保護膜9の二次電子放出特性の低下を防ぐことができる。
また、有機燐酸化合物は、側鎖に燐酸基をもつ有機化合物であり、後続の焼成工程で有機分を除去させるために、分子量は5000以下であることが望ましい。このような化合物の例としては、たとえば、楠本化成(株)製のディスパロンPW36、ビックケミー・ジャパン(株)製のDISPERBYK−110,DISPERBYK−111,DISPERBYK−180、ユニケミカル(株)製ホスマーM、ホスマーPEなどが挙げられる。
次に、ここに開示された技術によるPDP1において、保護膜9を形成する製造工程について、図7を用いて説明する。
図7に示すように、誘電体層8を形成する誘電体層形成工程A1を行った後、第二族元素の酸化物粒子と、第二族元素の燐酸塩、または有機燐酸化合物とを含むペーストを作成して誘電体層8上に塗布する粒子ペースト塗布工程A2を行う。なお、粒子ペーストを塗布する方法として、スクリーン印刷法、スプレー法、スピンコート法、ダイコート法、スリットコート法等も用いることができる。
粒子ペーストを誘電体層8上に塗布した基板は、直ちに乾燥を行った後、保護膜焼成工程A3において、数百度の温度で焼成を行い、粒子ペーストに残っている溶剤や樹脂成分を除去することにより、誘電体層8上にナノ粒子サイズの酸化物粒子91からなり、かつ燐を含有する保護膜9を形成することができる。
次に、ここに開示された技術による保護膜9を有するPDP1の効果を確認するために行った実験結果について説明する。
まず、構成の異なる保護膜9を有するPDP1を試作した。
試作品1は、保護膜9を形成する第二族元素の酸化物としては、酸化マグネシウムのナノサイズの粒子(平均粒径50nm、宇部マテリアルズ(株)製U50)を用いた。ターピネオールを45wt%、ブチルカルビトールアセテートを45wt%、エチルセルロース(100cP)を10wt%を、それぞれ混合してビークルを作成し、ビークルと、酸化マグネシウムの粒子を10wt%、燐酸マグネシウムを5wt%とを含有したペーストを作成した。なお、燐酸マグネシウムは燐酸塩の一例である。これをスクリーン印刷法等によって基板上に塗布し、100℃〜120℃にて60分の乾燥、450℃〜500℃にて60分の焼成を行った。このようにして保護膜9を作成した。この保護膜9は、エネルギー分散型蛍光X線分析装置(EDX)で確認すると、燐が0.5atomic%含有されていた。
試作品2は、保護膜9を形成する第二族元素の酸化物の粒子としては、上記試作品1と同じ酸化マグネシウムの粒子を用いた。試作品1と同じビークルを作成し、ビークルと、酸化マグネシウムの粒子を10wt%、有機燐酸化合物としてDISPERBYK112(Big Chemie社製)を20wt%含有したペーストを作成した。これをスクリーン印刷法等によって基板上に塗布し、100℃〜120℃にて60分の乾燥、450℃〜500℃にて60分の焼成を行った。このように作成した保護膜9を、EDXで確認したところ、燐が0.2atomic%含有されていた。
また、EDXで確認したところ、保護膜9中の炭素は、有機燐酸化合物を添加しない場合と殆ど変わらない程度であることが確認できた。つまり、有機燐酸化合物中の有機成分は、前述の焼成工程によりほぼ消失していることを確認できた。
試作品3は、保護膜9を形成する第二族元素の酸化物の粒子としては、上記試作品1と同じ酸化マグネシウムの粒子を用いた。試作品2と同じビークルを作成し、ビークルと、酸化マグネシウムの粒子を10wt%、有機燐酸化合物としてDISPERBYK112(Big Chemie社製)を100wt%含有したペーストを作成した。これをスクリーン印刷法等によって基板上に塗布し、100℃〜120℃にて60分の乾燥、450℃〜500℃にて60分の焼成を行った。このように作成した保護膜9を、EDXで確認したところ、燐が1atomic%含有されていた。また、EDXで確認したところ、保護膜9中の炭素は、有機燐酸化合物を添加しない場合と殆ど変わらない程度であることを確認できた。つまり、有機燐酸化合物中の有機成分は、前述の焼成工程によりほぼ消失していることを確認できた。
また、次に、上記試作品1−3に対し、燐の含有量が異なる試作品4、5を作成した。なお、保護膜9を形成する第二族元素の酸化物の粒子としては、上記試作品1と同じ酸化マグネシウムの粒子を用い、有機燐酸化合物の含有量を変えた以外は試作品2と同じようにペーストを作成して保護膜9を作成した。試作品4の燐の含有量は、0.01atomic%となるように調整し、試作品5は、燐の含有量が5atomic%となるように調整した。
さらに、比較例となる試作品6として、燐を添加しない保護膜9を有するPDP1を作成した。なお、試作品6は、試作品1と同様、第二族元素の酸化物粒子としては、酸化マグネシウムの粒子を用い、試作品1と同じビークルを作成し、ビークルに対し、酸化マグネシウムの粒子を10wt%添加してペーストを作成し、これをスクリーン印刷法等によって誘電体層8上に塗布した後、100℃〜120℃にて60分の乾燥、450℃〜500℃にて60分の焼成を行い、保護膜9を作成した。
このようにして作成した試作品1〜5と、比較例としての試作品6について、放電開始電圧を測定した結果を図8に示す。
また、試作品1〜3と、比較例としての試作品6について、放電による寿命を評価した結果を図9に示す。なお、寿命は、加速放電評価から求めた輝度劣化率より求めた。具体的には、作成したPDP1に通常の8倍周期の維持パルスを印加し、250時間放電させた後の輝度劣化率を測定し、その値から2000時間の放電相当の輝度劣化率を算出した。図9には、それぞれの試作品の2000時間の放電相当の輝度劣化率について、比較例としての試作品6の輝度劣化率を基準の「1」とし、その試作品6に対する比率を寿命として示している。
図8に示すように、第二族元素の酸化物粒子により構成するとともに、燐を含有した保護膜を有する試作品1〜5は、燐を含有しない比較例としての試作品6と比べ、放電開始電圧を低くすることができた。また、寿命についても、試作品1〜3は、比較例としての試作品6に対して、長寿命化を実現することができた。
以上の実験結果から、誘電体層8上に形成する保護膜9について、第二族元素の酸化物粒子により構成するとともに、燐を含有させることにより、燐を含まない場合に比べ、PDP1の放電開始電圧が低下させることができるとともに、長寿命化を実現することができることがわかった。
この理由について、は、酸化物粒子からなる保護膜9に燐を含有させることで、酸化物粒子が緻密な状態で堆積した膜構造の保護膜9が得られたことによるものと考えられる。
なお、第二族元素の酸化物粒子からなる保護膜9中の燐の含有量は、0.01atomic%以上5.0atomic%以下の範囲であればよく、特に燐の含有量が、0.2atomic%以上1.0atomic%以下の範囲であれば、より好ましい作用効果が得られる。さらに、保護膜9中の燐の含有量が、0.2atomic%以上0.5atomic%以下の範囲であれば、放電開始電圧、寿命の面でより一層好ましい結果が得られる。
以上のようにここに開示された技術は、基板上に形成した表示電極6を覆うように誘電体層8を形成するとともにその誘電体層8上に保護膜9を形成した前面板2と、この前面板2に放電空間16を形成するように対向配置されかつ表示電極6と交差する方向にデータ電極12を形成するとともに放電空間16を区画する隔壁14を設けた背面板10とを有するPDP1において、保護膜9は、第二族元素の酸化物粒子と、第二族元素の燐酸塩、または有機燐酸化合物とを含むペーストを塗布し、焼成することにより形成し、しかも第二族元素の酸化物粒子からなる保護膜に燐を含有させている。これによって、真空蒸着装置などの高価な設備を使用することなく、簡単なプロセスで保護膜を形成することができる。特に、第二族元素の酸化物粒子からなる保護膜に燐を含有させるので、放電開始電圧を低下させることができるとともに、長寿命化を実現することができる。
ところで、保護膜材料のペーストを塗布し、焼成することによりMgO膜を形成する方法において、放電特性を改善させるために、Ti、Zr,Alを含有したカップリングエージェントを添加する方法が知られているが、カップリングエージェントは、一般に大気中で不安定なため、取り扱い時の安全性に課題があり、また試薬が高価で、低コストに量産化するのは難しいという課題がある。
これに対して、ここに開示された技術は、第二族元素の酸化物粒子と、第二族元素の燐酸塩、または有機燐酸化合物とを含むペーストを塗布し、焼成することにより保護膜9を形成する方法であるため、安全で安価に実現することができる。すなわち、PDP1を低コストで量産する上で有効な製造方法を提供することができる。
なお、以上の説明では、保護膜9として、MgOを例に挙げたが、第二族元素の酸化物粒子としては、酸化マグネシウム以外の酸化物粒子でもよく、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムのうち少なくとも一つの酸化物からなる金属酸化物粒子であれば、同様の作用効果が得られる。
以上のようにここに開示された技術は、表示性能の優れたPDPを低コストで実現する上で有用である。
1 PDP
2 前面板
3 前面ガラス基板
4 走査電極
4a 透明電極
4b 金属バス電極
5 維持電極
5a 透明電極
5b 金属バス電極
6 表示電極
7 遮光層
8 誘電体層
9 保護膜
10 背面板
11 背面ガラス基板
12 データ電極
13 下地誘電体層
14 隔壁
15 蛍光体層
16 放電空間
21 画像信号処理回路
22 データ電極駆動回路
23 走査電極駆動回路
24 維持電極駆動回路
25 タイミング発生回路
91 酸化物粒子
2 前面板
3 前面ガラス基板
4 走査電極
4a 透明電極
4b 金属バス電極
5 維持電極
5a 透明電極
5b 金属バス電極
6 表示電極
7 遮光層
8 誘電体層
9 保護膜
10 背面板
11 背面ガラス基板
12 データ電極
13 下地誘電体層
14 隔壁
15 蛍光体層
16 放電空間
21 画像信号処理回路
22 データ電極駆動回路
23 走査電極駆動回路
24 維持電極駆動回路
25 タイミング発生回路
91 酸化物粒子
Claims (3)
- 基板上に形成した表示電極を覆うように誘電体層を形成するとともにその誘電体層上に保護膜を形成した前面板と、この前面板に放電空間を形成するように対向配置されかつ前記表示電極と交差する方向にデータ電極を形成するとともに前記放電空間を区画する隔壁を設けた背面板とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記保護膜は、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムのうち少なくとも一つの酸化物からなる金属酸化物粒子と、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムのうち少なくとも一つの元素の燐酸塩または有機燐酸化合物とを含むペーストを塗布し、焼成することにより形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記有機燐酸化合物の分子量は5000以下である請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記金属酸化物粒子の粒径は、5nm以上500nm以下である請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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