JP5125739B2 - XY step exposure system - Google Patents
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Description
本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタの製造に用いるＸＹステップ露光装置に関するものであり、特に、マザーガラス基板が更に大型化しても、露光ステージを更に大型にすることなく、露光ステージの平面度の精度を保持し、移動速度を確保し、位置精度を確保したＸＹステップ露光装置に関する。 The present invention relates to an XY step exposure apparatus used for manufacturing a color filter for a liquid crystal display device, and in particular, the flatness of an exposure stage without further increasing the size of the exposure stage even if the mother glass substrate is further increased in size. The present invention relates to an XY step exposure apparatus that maintains the accuracy of the above, ensures the moving speed, and ensures the positional accuracy.
液晶表示装置用のカラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したサイズのカラーフィルタを大サイズのガラス基板（マザーガラス基板）に多面付けした状態で製造する。例えば、対角１７インチのカラーフィルタを６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けして製造する。
この際の露光は、ガラス基板のサイズと略同程度のサイズのマスク基板に、例えば、対角１７インチのカラーフィルタを形成するためのマスクパターンが４面付けされたフォトマスクを用いて露光する方法が広く採用されている。４面付けされたマスクパターンの４画面全体を１回の露光で一括して行う、所謂、一括露光法である。
When a large number of color filters for a liquid crystal display device are manufactured, a color filter having a size corresponding to a single liquid crystal display device is manufactured in a state of being multifaceted on a large glass substrate (mother glass substrate). For example, a 17-inch diagonal color filter is manufactured by attaching four faces to a large glass substrate of about 650 mm × 850 mm.
The exposure at this time is performed using a photomask in which, for example, a mask pattern for forming a color filter having a diagonal size of 17 inches is provided on a mask substrate having a size approximately equal to the size of the glass substrate. The method is widely adopted. This is a so-called batch exposure method in which the entire four screens of the four-sided mask pattern are collectively performed by one exposure.
この一括露光法において、露光装置内では、ガラス基板にフォトマスクが密着することによって生じるキズを防止するため、また、フォトマスクに塵埃が付着した際に画素が欠陥となってしまうのを防止するためフォトレジストが塗布されたガラス基板と、略ガラス基板大のフォトマスクとは、例えば、８０μｍ程度の間隙を保ってのプロキシミティ（近接）露光を行っている。 In this batch exposure method, in the exposure apparatus, in order to prevent scratches caused by the photomask coming into close contact with the glass substrate, it is also possible to prevent pixels from becoming defective when dust adheres to the photomask. Therefore, the glass substrate on which the photoresist is applied and the photomask having a glass substrate size are subjected to proximity (proximity) exposure with a gap of about 80 μm, for example.
この際の多面付けは、例えば、パターンである着色画素の膜厚、仕上がりサイズなどが同一仕様の、つまり、同一品種のカラーフィルタを多面付けする。そして、その製造にあたっては、面間のバラツキが発生しないように、各工程で配慮を施し製造を行う。
すなわち、大サイズのガラス基板（マザーガラス基板）に、マスクパターンが多面付けされたフォトマスクを用いた１回の露光を行い、続いて一括した現像処理を行うといった、この一括露光法による製造方法は、フォトリソグラフィ法によりカラーフィルタを製造する際の製造方法としては、廉価に大量にカラーフィルタを製造することのできる優れた製造方法といえる。
In this case, for example, multiple color filters of the same specification, that is, the same type of color filter, such as the thickness and the finished size of the colored pixels as the pattern, are applied. And in the manufacture, it considers in each process and manufactures so that the variation between surfaces may not occur.
That is, a manufacturing method by this collective exposure method in which a large size glass substrate (mother glass substrate) is subjected to one-time exposure using a photomask having a plurality of mask patterns and then subjected to batch development processing. The method for producing a color filter by photolithography is an excellent production method capable of producing a large amount of color filters at a low cost.
しかしながら、マスクサイズの大型化によるコスト高と、マスクの自重による撓みの問題の解決のため、マザーガラス基板のサイズが、例えば、７３０ｍｍ×９２０ｍｍ程度の第４世代からは、露光方式は一括露光法から１軸ステップ露光方式が採用され始め、また、マザーガラス基板のサイズが、例えば、１０００ｍｍ×１２００ｍｍ程度の第５世代からは、ＸＹ（２軸）ステップ露光方式（所謂、ステップ・アンド・リピート方式）に移行している。 However, in order to solve the problem of the high cost due to the increase in mask size and the problem of bending due to the weight of the mask, the exposure method is the batch exposure method from the fourth generation whose mother glass substrate size is about 730 mm × 920 mm, for example. From the fifth generation, the size of the mother glass substrate is about 1000 mm × 1200 mm, for example, an XY (biaxial) step exposure method (so-called step-and-repeat method). ).
図１は、ＸＹステップ露光方式によりカラーフィルタを製造する際のステップ露光の一例を説明する平面図である。
図１に示す例は、マザーガラス基板（５０）に、第１露光〜第４露光の４回の露光が行われた例である。第１露光から数えて３回のステップ移動毎に、第２露光以降の各露光が行われたものである。符号（１Ｅｘ〜４Ｅｘ）は、各々第１露光〜第４露光の領域を表している。
FIG. 1 is a plan view for explaining an example of step exposure when a color filter is manufactured by an XY step exposure method.
The example shown in FIG. 1 is an example in which the mother glass substrate (50) is subjected to four exposures of the first exposure to the fourth exposure. Each exposure after the second exposure is performed every three step movements counted from the first exposure. Reference numerals (1Ex to 4Ex) represent first to fourth exposure regions, respectively.
図２（ａ）、（ｂ）は、図１中、Ａ−Ａ線での断面図である。図１及び図２に示すように、露光ステージ（６０）上に載置されたマザーガラス基板（５０）の上方に、フォトマ
スク（ＰＭ）が配置されている。フォトマスク（ＰＭ）は露光装置内で固定されており、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸方向には移動しないようになっている。
フォトマスク（ＰＭ）の下方の露光ステージ（６０）は、マザーガラス基板（５０）を載置した状態でＸＹ（２軸）のステップ移動を行うようになっている。また、Ｚ軸方向での昇降が自在になっている。
2A and 2B are cross-sectional views taken along line AA in FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, a photomask (PM) is disposed above the mother glass substrate (50) placed on the exposure stage (60). The photomask (PM) is fixed in the exposure apparatus and does not move in the X, Y, and Z axis directions.
The exposure stage (60) below the photomask (PM) performs XY (biaxial) step movement with the mother glass substrate (50) placed thereon. Further, it can freely move up and down in the Z-axis direction.
ステップ移動とは、図１及び図２中、符号（Ｐｘ）で示すように、露光ステージ（６０）の、Ｘ軸方向での第１露光と第２露光との間（或いは、第３露光と第４露光との間）の移動を指している。また、Ｙ軸方向では、符号（Ｐｙ）で示すように、露光ステージ（６０）の、Ｙ軸方向での第２露光と第３露光との間の移動を指している。 As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the step movement is between the first exposure and the second exposure (or the third exposure) in the X-axis direction of the exposure stage (60), as indicated by the symbol (Px). (Movement between the fourth exposure). Further, in the Y-axis direction, as indicated by the symbol (Py), it indicates the movement of the exposure stage (60) between the second exposure and the third exposure in the Y-axis direction.
図２（ａ）は、マザーガラス基板（５０）上に塗布されたフォトレジストの塗膜（５４）に、フォトマスク（ＰＭ）を介した第１露光が行われた直後の状態を表したものである。フォトマスク（ＰＭ）の膜面（Ｘ0 軸面）と塗膜（５４）との間には近接露光の間隔（Ｇ１）が設定されている。塗膜（５４）中に斜線で示す部分が第１露光（１Ｅｘ）の領域を表している。
図２（ｂ）は、露光ステージ（６０）が図２（ａ）の位置から、図２中、Ｘ軸左方へステップ移動をし、第２露光が行われた状態を表している。符号（２Ｅｘ）は、第２露光の領域を表している。
FIG. 2A shows a state immediately after the first exposure through the photomask (PM) is performed on the photoresist coating film (54) applied on the mother glass substrate (50). It is. Proximity exposure interval (G1) is set between the film surface of the photomask (PM) and (X 0 axis plane) and coating (54). The hatched portion in the coating film (54) represents the first exposure (1Ex) region.
FIG. 2B shows a state in which the exposure stage (60) has moved stepwise from the position of FIG. 2A to the left of the X axis in FIG. Reference numeral (2Ex) represents a second exposure area.
このようなステップ露光方式への移行によって、マスクサイズの大型化によるコスト高は抑制され、また、自重による撓みの問題は解決された。
しかしながら、マザーガラス基板のサイズが、例えば、１５００ｍｍ×１８００ｍｍ程度の第６世代、或いは、例えば、２１００ｍｍ×２４００ｍｍ程度の第８世代へと更に大型化へと移行するのに伴い、マスクサイズの大型化も付随し、コスト高と、撓みの問題が再燃している。
By shifting to such a step exposure method, an increase in cost due to an increase in mask size is suppressed, and the problem of bending due to its own weight has been solved.
However, as the size of the mother glass substrate shifts to the sixth generation of, for example, about 1500 mm × 1800 mm or the eighth generation of, for example, about 2100 mm × 2400 mm, the mask size increases. Along with this, the high cost and the problem of deflection are rekindled.
そこで、マザーガラス基板のサイズが更に大型化へと移行した際の、付随するマスクのコスト高を回避するために、マスクサイズを更に大型にすることなく、むしろ、小型のマスクでカラーフィルタを製造すべく、様々な露光方式が試みられている。 Therefore, in order to avoid the high cost of the accompanying mask when the size of the mother glass substrate shifts to a larger size, the color filter is manufactured with a smaller mask rather than increasing the mask size. Therefore, various exposure methods have been tried.
一方、露光装置の露光ステージにおいては、マザーガラス基板が第８世代、例えば、２１００ｍｍ×２４００ｍｍ程度へと移行し、更に、第１０世代、例えば、２８００ｍｍ×３０００ｍｍ程度へと移行するに際しては、
１）２８００ｍｍ×３０００ｍｍ程度のマザーガラス基板を載置する露光ステージの加工にて、その平面度を従来の大きさの露光ステージと同等の精度を得ることは困難になるといった問題、
２）或いは、露光ステージがマザーガラス基板のサイズに対応して略２８００ｍｍ×３０００ｍｍ程度の大きさとなると、その重量が増大し、従来の大きさの露光ステージと同等の移動速度を達成するためには、その駆動機構が大掛かりなものとなるといった問題、
３）或いは、露光ステージが更に大型化へと移行するのに伴い、従来の大きさの露光ステージと同等の位置精度を確保することが困難になるといった問題、などが潜在している。これらの諸問題を解決した露光装置となると、つまりは、大掛かで、大幅なコスト高のものとなる。
On the other hand, in the exposure stage of the exposure apparatus, when the mother glass substrate moves to the 8th generation, for example, about 2100 mm × 2400 mm, and further to the 10th generation, for example, about 2800 mm × 3000 mm,
1) In the processing of the exposure stage on which a mother glass substrate of about 2800 mm × 3000 mm is mounted, it is difficult to obtain the same degree of flatness as that of a conventional exposure stage.
2) Or, if the exposure stage becomes approximately 2800 mm × 3000 mm corresponding to the size of the mother glass substrate, its weight increases, and in order to achieve a moving speed equivalent to that of an exposure stage of a conventional size , The problem that the drive mechanism becomes large,
3) Or, as the exposure stage shifts to a larger size, there is a problem that it becomes difficult to ensure positional accuracy equivalent to that of the exposure stage having a conventional size. An exposure apparatus that solves these problems, that is, a large cost and a significant cost.
図３は、露光装置の露光ステージをＸＹ（２軸）ステップ移動させる機構の一例の平面図である。図３に示すように、この一例に示すＸＹ（２軸）ステップ移動させる機構は、Ｘ軸スライダー（４０Ｘ）と、Ｘ軸スライダー（４０Ｘ）上に設けられたＹ軸スライダー（４０Ｙ）で構成されたものである。図３にては、Ｙ軸スライダー（４０Ｙ）上に露光ステージ（６０）が設けられている。 FIG. 3 is a plan view of an example of a mechanism for moving the exposure stage of the exposure apparatus in XY (biaxial) steps. As shown in FIG. 3, the XY (two-axis) step moving mechanism shown in this example is configured by an X-axis slider (40X) and a Y-axis slider (40Y) provided on the X-axis slider (40X). It is a thing. In FIG. 3, the exposure stage (60) is provided on the Y-axis slider (40Y).
Ｘ軸スライダー（４０Ｘ）は、Ｘ軸方向を長手とするベッド（４１Ｘ）、ベッド（４１Ｘ）上の長手方向の両縁部に平行に設けられた２本のスライドガイド（４２Ｘ）、２本のスライドガイド（４２Ｘ）間に、スライドガイド（４２Ｘ）と平行に設けられた送り具（４３Ｘ）で構成されている。
送り具（４３Ｘ）は、Ｙ軸スライダー（４０Ｙ）をＸ軸方向に移動させる、例えば、ラック、送りネジ、或いは、リニアーモーターにおけるステータ（固定部）である。Ｘ軸スライダー（４０Ｘ）は、Ｘ軸スライダー（４０Ｘ）上のＹ軸スライダー（４０Ｙ）を、図３中、左右方向（Ｘ軸方向）に自在に移動させ、所定の位置に精度よく停止させるようになっている。
The X-axis slider (40X) includes a bed (41X) whose longitudinal direction is the X-axis direction, two slide guides (42X) provided in parallel on both edges in the longitudinal direction on the bed (41X), and two It is comprised by the feed tool (43X) provided in parallel with the slide guide (42X) between the slide guides (42X).
The feed tool (43X) is, for example, a rack, a feed screw, or a stator (fixed portion) in a linear motor that moves the Y-axis slider (40Y) in the X-axis direction. The X-axis slider (40X) moves the Y-axis slider (40Y) on the X-axis slider (40X) freely in the left-right direction (X-axis direction) in FIG. 3 and accurately stops it at a predetermined position. It has become.
また、Ｙ軸スライダー（４０Ｙ）は、Ｙ軸方向を長手とするベッド（４１Ｙ）、ベッド（４１Ｙ）上の長手方向の両縁部に平行に設けられた２本のスライドガイド（４２Ｙ）、２本のスライドガイド（４２Ｙ）間に、スライドガイド（４２Ｙ）と平行に設けられた送り具（４３Ｙ）で構成されている。
送り具（４３Ｙ）は、露光ステージ（６０）をＹ軸方向に移動させる、例えば、ラック、送りネジ、或いは、リニアーモーターにおけるステータ（固定部）である。Ｙ軸スライダー（４０Ｙ）は、Ｙ軸スライダー（４０Ｙ）上の露光ステージ（６０）を、図３中、上下方向（Ｙ軸方向）に自在に移動させ、所定の位置に精度よく停止させるようになっている。
The Y-axis slider (40Y) includes a bed (41Y) whose longitudinal direction is the Y-axis direction, two slide guides (42Y) provided in parallel to both edges in the longitudinal direction on the bed (41Y), and 2 A feeding tool (43Y) is provided between the slide guides (42Y) in parallel with the slide guide (42Y).
The feed tool (43Y) is, for example, a rack, a feed screw, or a stator (fixed portion) in a linear motor that moves the exposure stage (60) in the Y-axis direction. The Y-axis slider (40Y) moves the exposure stage (60) on the Y-axis slider (40Y) freely in the vertical direction (Y-axis direction) in FIG. 3 and accurately stops it at a predetermined position. It has become.
図４は、図３に示す、露光ステージをＸＹステップ移動させる機構を設けた露光装置の一例の平面図である。図４に示すように、この一例に示す露光装置は、ベース台（２０）上に、定盤（３０）、Ｘ軸スライダー（４０Ｘ）、Ｙ軸スライダー（４０Ｙ）、及び露光ステージ（６０）が積重されたものである。
Ｙ軸スライダー（４０Ｙ）は、図４中、左方の第１Ｙ軸スライダー（４０Ｙ−１）と、右方の第２Ｙ軸スライダー（４０Ｙ−２）の２基がＸ軸スライダー（４０Ｘ）上に設けられており、また、左方の第１Ｙ軸スライダー（４０Ｙ−１）には第１露光ステージ（６０−１）が、右方の第２Ｙ軸スライダー（４０Ｙ−２）には第２露光ステージ（６０−２）が各々設けられている。
FIG. 4 is a plan view of an example of an exposure apparatus provided with a mechanism for moving the exposure stage in XY steps shown in FIG. As shown in FIG. 4, the exposure apparatus shown in this example has a surface plate (30), an X-axis slider (40X), a Y-axis slider (40Y), and an exposure stage (60) on a base table (20). It is what was piled up.
In FIG. 4, the Y-axis slider (40Y) has a left first Y-axis slider (40Y-1) and a right second Y-axis slider (40Y-2) on the X-axis slider (40X). A first exposure stage (60-1) is provided for the left first Y-axis slider (40Y-1), and a second exposure stage is provided for the right second Y-axis slider (40Y-2). (60-2) are provided.
また、ベース台（２０）の片側部には、第１及び第２露光ステージ（６０−１、６０−２）に供給するマザーガラス基板（５０）の調温をする多段のガラス調温部（１０）が設けられている。また、ガラス調温部（１０）と第１露光ステージ（６０−１）との間には、マザーガラス基板（５０）をガラス調温部（１０）上から第１露光ステージ（６０−１）に供給し、或いは第１露光ステージ（６０−１）から排出する第１ロボット（Ｒ−１）が設けられている。ガラス調温部（１０）と第２露光ステージ（６０−２）との間には、第２ロボット（Ｒ−２）が設けられている。 Further, on one side of the base table (20), a multi-stage glass temperature adjusting unit (50) for adjusting the temperature of the mother glass substrate (50) supplied to the first and second exposure stages (60-1, 60-2). 10). In addition, between the glass temperature control section (10) and the first exposure stage (60-1), the mother glass substrate (50) is placed on the glass temperature control section (10) from the first exposure stage (60-1). A first robot (R-1) is provided for supplying to or discharging from the first exposure stage (60-1). A second robot (R-2) is provided between the glass temperature control unit (10) and the second exposure stage (60-2).
この露光装置の光源及び光学系は図示してないが、図４中、Ｘ0 −Ｙ0 の交点は、定盤（３０）の上方（図４中、Ｚ軸方向）から照射される露光光の光軸を表している。また、この光学系の１回の露光エリア（ＥＡ）を点線で表している。
この露光エリア（ＥＡ）内にフォトマスクを配置し、フォトマスクを介した露光を露光ステージ上のマザーガラス基板（５０）に与える。
Although the light source and optical system of this exposure apparatus are not shown, the intersection of X 0 -Y 0 in FIG. 4 is the exposure light irradiated from above the surface plate (30) (in the Z-axis direction in FIG. 4). Represents the optical axis. A single exposure area (EA) of this optical system is indicated by a dotted line.
A photomask is arranged in the exposure area (EA), and exposure through the photomask is given to the mother glass substrate (50) on the exposure stage.
ガラス調温部（１０）上のマザーガラス基板（５０）は、第１ロボット（Ｒ−１）によって第１露光ステージ（６０−１）に供給される。第１露光ステージ（６０−１）の上面部には吸着口（図示せず）が設けられており、真空吸着によりマザーガラス基板（５０）は第１露光ステージ（６０−１）上に吸着固定される。
Ｘ軸スライダー（４０Ｘ）の作動により、第１露光ステージ（６０−１）はＸ軸スライダ
ー（４０Ｘ）の中央部に移動し、Ｘ軸スライダー（４０Ｘ）及び第１Ｙ軸スライダー（４０Ｙ−１）の作動により、第１露光ステージ（６０−１）上のマザーガラス基板（５０）に、その所望する多面付けの位置へ第１露光〜第４露光が与えられるように、第１露光ステージ（６０−１）はステップ移動をする。
The mother glass substrate (50) on the glass temperature adjusting unit (10) is supplied to the first exposure stage (60-1) by the first robot (R-1). A suction port (not shown) is provided on the upper surface of the first exposure stage (60-1), and the mother glass substrate (50) is sucked and fixed on the first exposure stage (60-1) by vacuum suction. Is done.
By the operation of the X-axis slider (40X), the first exposure stage (60-1) moves to the center of the X-axis slider (40X), and the X-axis slider (40X) and the first Y-axis slider (40Y-1) move. By the operation, the first exposure stage (60−) is applied so that the mother glass substrate (50) on the first exposure stage (60-1) is given the first to fourth exposures to the desired multi-faceted position. 1) Step movement.
ステップ露光の終了後は、第１露光ステージ（６０−１）は、図４に示す待機位置に戻り、第１ロボット（Ｒ−１）によってマザーガラス基板（５０）は第１露光ステージ（６０−１）から排出される。
尚、第１ロボット（Ｒ−１）による第１露光ステージ（６０−１）へのマザーガラス基板（５０）の供給／排出の際は、第１露光ステージ（６０−１）の上面に設けられたリフトピン（図示せず）を上昇させ、第１ロボットのフォークが挿入／退却するための間隔をもうけている。
After the step exposure, the first exposure stage (60-1) returns to the standby position shown in FIG. 4, and the mother glass substrate (50) is moved to the first exposure stage (60-) by the first robot (R-1). It is discharged from 1).
When the mother glass substrate (50) is supplied / discharged to / from the first exposure stage (60-1) by the first robot (R-1), it is provided on the upper surface of the first exposure stage (60-1). The lift pins (not shown) are lifted to provide an interval for the first robot fork to be inserted / retracted.
この間、上記第４露光が終了するまでに、第２ロボット（Ｒ−２）は、ガラス調温部（１０）上のマザーガラス基板（５０）を第２露光ステージ（６０−２）に供給しておく。第１ロボット（Ｒ−１）及び第２ロボット（Ｒ−２）による、交互のマザーガラス基板（５０）の供給／排出によって、この露光装置は、マザーガラス基板（５０）の供給／排出に要する時間に律せられることなく、露光能力が確保される。 During this time, the second robot (R-2) supplies the mother glass substrate (50) on the glass temperature adjusting unit (10) to the second exposure stage (60-2) by the end of the fourth exposure. Keep it. By supplying / discharging the mother glass substrate (50) alternately by the first robot (R-1) and the second robot (R-2), this exposure apparatus is required for supplying / discharging the mother glass substrate (50). The exposure capability is ensured without being limited by time.
図５は、図４に示す露光装置における、定盤（３０）上に、Ｘ軸スライダー（４０Ｘ）、２基のＹ軸スライダー（４０Ｙ−１、４０Ｙ−２）、２基の露光ステージ（６０−１、６０−２）が積重された部分を示した平面図であり、第１露光ステージ（６０−１）の動作を説明するものである。
図５は、第１ロボット（Ｒ−１）によって、ガラス調温部（１０）上の１枚目のマザーガラス基板（５０−１）が第１露光ステージ（６０−１）に供給された段階を表したものである。
FIG. 5 shows an X-axis slider (40X), two Y-axis sliders (40Y-1, 40Y-2), and two exposure stages (60) on the surface plate (30) in the exposure apparatus shown in FIG. -1, 60-2) is a plan view showing the stacked portion, and explains the operation of the first exposure stage (60-1).
FIG. 5 shows a stage where the first mother glass substrate (50-1) on the glass temperature control unit (10) is supplied to the first exposure stage (60-1) by the first robot (R-1). It represents.
１枚目のマザーガラス基板（５０−１）上に点線で示す領域は、第１露光〜第４露光が行われる領域を表している。マザーガラス基板（５０−１）を載置した第１露光ステージ（６０−１）は、この待機位置からＸ軸スライダー（４０Ｘ）の中央部に移動し、マザーガラス基板（５０−１）へのステップ露光が行われる。 A region indicated by a dotted line on the first mother glass substrate (50-1) represents a region where the first exposure to the fourth exposure are performed. The first exposure stage (60-1) on which the mother glass substrate (50-1) is placed moves from this standby position to the center of the X-axis slider (40X), and moves to the mother glass substrate (50-1). Step exposure is performed.
図６（ａ）〜（ｄ）は、マザーガラス基板（５０−１）上に第１露光〜第４露光の４回の露光が行われる例である。図６（ａ）は、点線で示す露光エリア（ＥＡ）の中心（Ｘ0 −Ｙ0 ）に、マザーガラス基板（５０−１）の第１露光が行われる領域の中心を合わせ、マザーガラス基板（５０−１）上に塗布されたフォトレジストの塗膜に、フォトマスクを介した第１露光（１Ｅｘ）が与えられた直後の段階を表したものである。この第１露光から数えて３回のステップ移動毎に、第２露光以降の各露光が行われる。 FIGS. 6A to 6D are examples in which four exposures of the first exposure to the fourth exposure are performed on the mother glass substrate (50-1). FIG. 6A shows a mother glass substrate in which the center of the first exposure of the mother glass substrate (50-1) is aligned with the center (X 0 -Y 0 ) of the exposure area (EA) indicated by the dotted line. (50-1) The stage immediately after the 1st exposure (1Ex) through a photomask was given to the coating film of the photoresist apply | coated on (50-1) is represented. Each exposure after the second exposure is performed every three step movements counted from the first exposure.
図６（ｂ）は、第１露光ステージ（６０−１）が、図６（ａ）の位置から、図６中、Ｘ軸右方へステップ移動（Ｐｘ）をし、第２露光が与えられた段階を表している。符号（２Ｅｘ）は、第２露光の領域を表している。図６（ｃ）は、第１露光ステージ（６０−１）が、図６（ｂ）の位置から、図６中、Ｙ軸上方へステップ移動（Ｐｙ）をし、第３露光（３Ｅｘ）が与えられた段階を表している。
また、図６（ｄ）は、第１露光ステージ（６０−１）が、図６（ｃ）の位置から、図６中、Ｘ軸左方へステップ移動（Ｐｘ）をし、第４露光（４Ｅｘ）が与えられた段階を表している。
In FIG. 6B, the first exposure stage (60-1) performs step movement (Px) to the right of the X axis in FIG. 6 from the position of FIG. Represents the stage. Reference numeral (2Ex) represents a second exposure area. In FIG. 6C, the first exposure stage (60-1) performs step movement (Py) from the position of FIG. 6B upward in the Y axis in FIG. 6, and the third exposure (3Ex) is performed. Represents a given stage.
In FIG. 6D, the first exposure stage (60-1) performs step movement (Px) to the left of the X axis in FIG. 6 from the position of FIG. 4Ex) represents a given stage.
第１露光ステージ（６０−１）は、第１露光〜第４露光の４回の露光が終了すると、図６（ｄ）の位置から、図５に示す待機位置へと移動する。第１露光ステージ（６０−１）
上のマザーガラス基板（５０−１）は、第１ロボット（Ｒ−１）によって排出される。
上記第４露光が終了するまでの間に、ガラス調温部（１０）上の２枚目のマザーガラス基板（５０−２）は、第２ロボット（Ｒ−２）によって、第２露光ステージ（６０−２）に供給されている。
The first exposure stage (60-1) moves from the position shown in FIG. 6 (d) to the standby position shown in FIG. 5 when the first exposure to the fourth exposure are completed. First exposure stage (60-1)
The upper mother glass substrate (50-1) is discharged by the first robot (R-1).
Before the fourth exposure is completed, the second mother glass substrate (50-2) on the glass temperature adjusting unit (10) is moved by the second robot (R-2) to the second exposure stage ( 60-2).
図６（ｄ）の位置から、図５に示す待機位置への第１露光ステージ（６０−１）の移動に伴い、第２露光ステージ（６０−２）は露光エリア（ＥＡ）へと移動を行う。第２露光ステージ（６０−２）上に載置された２枚目のマザーガラス基板（５０−２）には、同様に第１露光〜第４露光の４回の露光が行われる。
以降、奇数枚目のマザーガラス基板（５０）は第１露光ステージ（６０−１）によって第１露光〜第４露光の露光が行われ、偶数数枚目のマザーガラス基板（５０）は第２露光ステージ（６０−２）によって第１露光〜第４露光の露光が行われる。
As the first exposure stage (60-1) moves from the position shown in FIG. 6D to the standby position shown in FIG. 5, the second exposure stage (60-2) moves to the exposure area (EA). Do. The second mother glass substrate (50-2) placed on the second exposure stage (60-2) is similarly subjected to four exposures of the first exposure to the fourth exposure.
Thereafter, the odd-numbered mother glass substrate (50) is subjected to the first to fourth exposures by the first exposure stage (60-1), and the even-numbered mother glass substrate (50) is the second one. The first to fourth exposures are performed by the exposure stage (60-2).
上記図４に示す露光装置は、マザーガラス基板のサイズが第６世代（１５００ｍｍ×１８００ｍｍ程度）、或いは第８世代（２１００ｍｍ×２４００ｍｍ程度）に用いられる露光装置を例示したものである。しかし、更に、第１０世代（２８００ｍｍ×３０００ｍｍ程度）への移行に際しては、前記のように、１）マザーガラス基板を載置する露光ステージの加工にて、その平面度を従来の大きさの露光ステージと同等の精度を得ることは困難になるといった問題、２）或いは、露光ステージの重量が増大し、従来の大きさの露光ステージと同等の移動速度を達成するためには、その駆動機構が大掛かりなものとなるといった問題、３）或いは、従来の大きさの露光ステージと同等の位置精度を確保することが困難になるといった問題などが潜在している。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものあり、液晶表示装置用カラーフィルタを製造する際のマザーガラス基板が更に大型化し、第１０世代、例えば、２８００ｍｍ×３０００ｍｍ程度へと移行しても、露光ステージを更に大型にすることなく、むしろ従来より小型のものとし、露光ステージの加工にて、その平面度の精度を保持することを可能とし、また、その重量を減少させることによって、露光ステージの移動速度の確保のための駆動機構を大掛かりなものとすることなく、また、露光ステージの位置精度を容易に確保をすることのできるＸＹステップ露光装置を提供することを課題とするものである。 The present invention has been made to solve the above problems, and the mother glass substrate for manufacturing a color filter for a liquid crystal display device has further increased in size, and has shifted to the 10th generation, for example, about 2800 mm × 3000 mm. However, without further increasing the size of the exposure stage, rather than making it smaller than before, it is possible to maintain the accuracy of the flatness in the processing of the exposure stage, and by reducing its weight, An object of the present invention is to provide an XY step exposure apparatus that can easily secure the positional accuracy of the exposure stage without making a driving mechanism for securing the moving speed of the exposure stage large. It is.
本発明は、ガラス基板をＸＹステップ移動させるＸＹステップ露光装置において、
１）前記ガラス基板を保持するステージは、露光ステージと、該露光ステージを第１軸（Ｘ軸）方向へステップ移動させるＸ軸スライダーのＸ軸と平行な両側部に設けられた基板保持ステージで構成され、
２）ガラス基板をＸＹステップ移動させる機構として、上記Ｘ軸スライダーと、ガラス基板を第１軸（Ｘ軸）と直交する第２軸（Ｙ軸）方向へステップ移動させる吸着スライダーを少なくとも具備することを特徴とするＸＹステップ露光装置である。
In the XY step exposure apparatus for moving the glass substrate in XY steps,
1) The stage for holding the glass substrate is an exposure stage and a substrate holding stage provided on both sides parallel to the X axis of an X axis slider for stepwise moving the exposure stage in the first axis (X axis) direction. Configured,
2) As a mechanism for moving the glass substrate in an XY step, at least the X-axis slider and an adsorption slider for moving the glass substrate in a second axis (Y-axis) direction orthogonal to the first axis (X-axis) are provided. An XY step exposure apparatus characterized by the above.
また、本発明は、上記発明によるＸＹステップ露光装置において、
１）前記基板保持ステージは空気浮上ステージであり、下方からの空気の噴き上げによってガラス基板を一定高さに保持する空気浮上ユニット（浮上ＰＡＤ）が、定盤上のＸ軸スライダーのＸ軸と平行な両側部に設けられており、
２）前記吸着スライダーは真空吸着部を備え、ガラス基板の下方より上昇してガラス基板端部の下面を吸着し、ガラス基板を第２軸（Ｙ軸）方向へステップ移動させる機構であり、露光ステージのＸ軸と平行な両側部に設けられており、
３）前記露光ステージの上面部には、ガラス基板を空気浮上させる機能を備えたリフトピンが設けられ、露光ステージのＸ軸と平行な両周縁部には、上記真空吸着部が昇降するための切欠部が設けられていることを特徴とするＸＹステップ露光装置である。
The present invention also provides an XY step exposure apparatus according to the above invention.
1) The substrate holding stage is an air levitation stage, and an air levitation unit (levitation PAD) that holds a glass substrate at a certain height by blowing air from below is parallel to the X axis of the X axis slider on the surface plate. Provided on both sides,
2) The suction slider includes a vacuum suction part, and is a mechanism that moves upward from below the glass substrate to suck the lower surface of the glass substrate end, and moves the glass substrate stepwise in the second axis (Y-axis) direction. It is provided on both sides parallel to the X axis of the stage,
3) The upper surface of the exposure stage is provided with a lift pin having a function of causing the glass substrate to float on the air, and notches for raising and lowering the vacuum suction part on both peripheral parts parallel to the X axis of the exposure stage. An XY step exposure apparatus characterized in that a portion is provided.
また、本発明は、上記発明によるＸＹステップ露光装置において、前記露光ステージの第２軸（Ｙ軸）方向の大きさが、用いるフォトマスクの大きさに対応した大きさであることを特徴とするＸＹステップ露光装置である。 In the XY step exposure apparatus according to the present invention, the size of the exposure stage in the second axis (Y-axis) direction is a size corresponding to the size of the photomask to be used. An XY step exposure apparatus.
また、本発明は、上記発明によるＸＹステップ露光装置において、前記露光ステージとして、第１露光ステージと第２露光ステージの２基が設けられたことを特徴とするＸＹステップ露光装置である。 According to the present invention, there is provided an XY step exposure apparatus characterized in that in the XY step exposure apparatus according to the above invention, two exposure stages, a first exposure stage and a second exposure stage, are provided.
本発明における、ガラス基板を保持するステージは、露光ステージと、露光ステージを第１軸（Ｘ軸）方向へステップ移動させるＸ軸スライダーのＸ軸と平行な両側部に設けられた基板保持ステージで構成されたＸＹステップ露光装置であるので、マザーガラス基板が更に大型化し、第１０世代、例えば、２８００ｍｍ×３０００ｍｍ程度へと移行しても、露光ステージを更に大型にすることなく、むしろ従来より小型のものとなる。露光ステージの加工にて、その平面度の精度を保持することができ、また、その重量を減少させることによって、露光ステージの移動速度の確保のための駆動機構を大掛かりなものとすることなく、また、露光ステージの位置精度を容易に確保できるＸＹステップ露光装置となる。 The stage for holding the glass substrate in the present invention is an exposure stage and a substrate holding stage provided on both sides parallel to the X axis of the X axis slider for stepping the exposure stage in the first axis (X axis) direction. Since the XY step exposure apparatus is configured, even if the mother glass substrate is further increased in size and moved to the 10th generation, for example, about 2800 mm × 3000 mm, the exposure stage is not further increased in size, but rather smaller than the conventional one. Will be. In the processing of the exposure stage, the accuracy of the flatness can be maintained, and by reducing the weight, the driving mechanism for securing the moving speed of the exposure stage is not increased, In addition, the XY step exposure apparatus can easily secure the positional accuracy of the exposure stage.
また、本発明は、基板保持ステージは空気浮上ステージであり、露光ステージの上面部には、ガラス基板を空気浮上させる機能を備えたリフトピンが設けられ、Ｘ軸方向へのステップ移動は空気浮上させて行うので、ステップ移動に伴う発塵は減少したＸＹステップ露光装置となる。また、露光ステージの第２軸（Ｙ軸）方向の大きさが、用いるフォトマスクの大きさに対応した大きさであるので、露光ステージを大幅に小型、軽量にしたＸＹステップ露光装置となる。電源容量を低減することができる。 In the present invention, the substrate holding stage is an air levitation stage, and the upper surface of the exposure stage is provided with a lift pin having a function of air levitation of the glass substrate, and the step movement in the X-axis direction is air levitation. Therefore, the XY step exposure apparatus in which the dust generation accompanying the step movement is reduced is obtained. Further, since the size of the exposure stage in the second axis (Y-axis) direction is a size corresponding to the size of the photomask to be used, an XY step exposure apparatus in which the exposure stage is significantly reduced in size and weight is obtained. The power supply capacity can be reduced.
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図７は、本発明によるＸＹステップ露光装置の一例における、ガラス基板を保持するステージと、ガラス基板をＸＹステップ移動させる機構を示す平面図である。図７に示す露光ステージ（６０ｂ）は、Ｘ軸方向はマザーガラス基板（５０）を載置する大きさを有し、Ｙ軸方向はマザーガラス基板（５０）の略１／２の大きさを有した例である。また、基板保持ステージ（７０）として、空気浮上ステージを例示したものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
FIG. 7 is a plan view showing a stage for holding a glass substrate and a mechanism for moving the glass substrate in an XY step in an example of an XY step exposure apparatus according to the present invention. The exposure stage (60b) shown in FIG. 7 has a size in which the mother glass substrate (50) is placed in the X-axis direction, and the size in the Y-axis direction is approximately half the size of the mother glass substrate (50). This is an example. Further, as the substrate holding stage (70), an air floating stage is illustrated.
図７に示すように、定盤（３０）上のＹ軸方向の中央部にＸ軸スライダー（４０Ｘｂ）が設けられている。本発明におけるＸ軸スライダー（４０Ｘｂ）は、Ｘ軸方向を長手とするベッド（４１Ｘｂ）、ベッド（４１Ｘｂ）上の長手方向の両縁部に平行に設けられた２本のスライドガイド（４２Ｘｂ）、２本のスライドガイド（４２Ｘｂ）間に、スライドガイド（４２Ｘｂ）と平行に設けられた送り具（４３Ｘｂ）で構成されている。
送り具（４３Ｘｂ）は、露光ステージ（６０ｂ）をＸ軸方向に移動させる、例えば、ラック、送りネジ、或いは、リニアーモーターにおけるステータ（固定部）である。Ｘ軸スライダー（４０Ｘｂ）は、Ｘ軸スライダー（４０Ｘｂ）上の露光ステージ（６０ｂ）を、図７中、左右方向（Ｘ軸方向）に自在に移動させ、所定の位置に精度よく停止させるように
なっている。
As shown in FIG. 7, an X-axis slider (40Xb) is provided at the center in the Y-axis direction on the surface plate (30). The X-axis slider (40Xb) according to the present invention includes a bed (41Xb) whose longitudinal direction is the X-axis direction, two slide guides (42Xb) provided in parallel to both edges in the longitudinal direction on the bed (41Xb), The feeding tool (43Xb) is provided between the two slide guides (42Xb) in parallel with the slide guide (42Xb).
The feed tool (43Xb) is, for example, a rack, a feed screw, or a stator (fixed portion) in a linear motor that moves the exposure stage (60b) in the X-axis direction. The X-axis slider (40Xb) moves the exposure stage (60b) on the X-axis slider (40Xb) freely in the left-right direction (X-axis direction) in FIG. 7 and accurately stops it at a predetermined position. It has become.
露光ステージ（６０ｂ）のＸ軸と平行な両側部には、マザーガラス基板（５０）をＹ軸方向へステップ移動させる機構として、吸着スライダー（４０Ｙｂ）が設けられている。吸着スライダー（４０Ｙｂ）は、真空吸着部（４５）を備えたスライダー（４４）であり、マザーガラス基板（５０）の下方より上昇してマザーガラス基板（５０）端部の下面を吸着し、図７中、上下方向（Ｙ軸方向）に移動させ、所定の位置に精度よく停止させるようになっている。 A suction slider (40Yb) is provided on both sides of the exposure stage (60b) parallel to the X axis as a mechanism for moving the mother glass substrate (50) stepwise in the Y axis direction. The adsorption slider (40Yb) is a slider (44) having a vacuum adsorption part (45), and rises from below the mother glass substrate (50) to adsorb the lower surface of the end of the mother glass substrate (50). 7 is moved in the vertical direction (Y-axis direction) and stopped at a predetermined position with high accuracy.
また、定盤（３０）上のＸ軸スライダー（４０Ｘｂ）のＸ軸と平行な両側部には、下方からの空気の噴き上げによってマザーガラス基板（５０）を一定高さに保持する空気浮上ユニット（浮上ＰＡＤ）（７１）が設けられている。空気浮上ユニット（浮上ＰＡＤ）（７１）は、図７に示す片側部（長さ（Ｌ）×幅（Ｗ１））及び他側部（長さ（Ｌ）×幅（Ｗ２））の全面に複数個が設けられている。
この空気浮上ユニット（浮上ＰＡＤ）（７１）が設けられた両側部が基板保持ステージ（７０）であり、図７においては、空気の噴き上げによって、マザーガラス基板（５０）の露光ステージ（６０ｂ）上以外の部分を一定高さに保持する空気浮上ステージである。
In addition, air levitation units (on which both sides parallel to the X axis of the X axis slider (40Xb) on the surface plate (30) hold the mother glass substrate (50) at a certain height by blowing air from below. A floating PAD) (71) is provided. The air levitation unit (levitation PAD) (71) has a plurality of one side portions (length (L) × width (W1)) and other side portions (length (L) × width (W2)) shown in FIG. A piece is provided.
The both sides where the air levitation unit (levitation PAD) (71) is provided are the substrate holding stage (70). In FIG. 7, the upper surface of the mother glass substrate (50) is exposed on the exposure stage (60b) by blowing up air. This is an air levitation stage that holds the other parts at a constant height.
基板保持ステージ（７０）のマザーガラス基板（５０）を保持する機構は、マザーガラス基板（５０）の水平度及び高さ精度を確保できるものであれば、空気浮上ユニット（浮上ＰＡＤ）（７１）に限定されるものではなく、例えば、ピン、コロ、などを用いた機構でもよい。 As long as the mechanism for holding the mother glass substrate (50) of the substrate holding stage (70) can ensure the levelness and height accuracy of the mother glass substrate (50), the air floating unit (floating PAD) (71) For example, a mechanism using pins, rollers, or the like may be used.
本発明におけるガラス基板を保持するステージは、露光ステージ（６０ｂ）と基板保持ステージ（７０）で構成されている。露光ステージ（６０ｂ）は、マザーガラス基板（５０）の露光ステージ（６０ｂ）上にある部分を保持し、基板保持ステージ（空気浮上ステージ）（７０）は、マザーガラス基板（５０）の露光ステージ（６０ｂ）上以外にある部分を保持する。
図７は、マザーガラス基板（５０）の略１／２の面積が露光ステージ（６０ｂ）によって保持され、他の略１／２の面積が基板保持ステージ（空気浮上ステージ）（７０）によって保持され、マザーガラス基板（５０）の全面は、露光ステージ（６０ｂ）上面を基準とした水平が保たれている。
The stage for holding the glass substrate in the present invention includes an exposure stage (60b) and a substrate holding stage (70). The exposure stage (60b) holds a portion of the mother glass substrate (50) on the exposure stage (60b), and the substrate holding stage (air levitation stage) (70) is an exposure stage of the mother glass substrate (50) ( 60b) Hold the part other than the top.
In FIG. 7, approximately half the area of the mother glass substrate (50) is held by the exposure stage (60b), and the other approximately 1/2 area is held by the substrate holding stage (air levitation stage) (70). The entire surface of the mother glass substrate (50) is kept level with respect to the upper surface of the exposure stage (60b).
マザーガラス基板（５０）の保持、例えば、マザーガラス基板（５０）への露光時のように、露光ステージ（６０ｂ）及びマザーガラス基板（５０）が共に静止した状態での保持は、露光ステージ（６０ｂ）上にあるマザーガラス基板（５０）の部分は、露光ステージ（６０ｂ）によって保持され、且つ露光ステージ（６０ｂ）の上面部に設けられている吸着口（図示せず）による真空吸着で吸着固定される。露光ステージ（６０ｂ）上以外にあるマザーガラス基板（５０）の部分は、基板保持ステージ（空気浮上ステージ）（７０）によって浮上した状態で保持される。
Holding of the mother glass substrate (50), for example, holding the exposure stage (60b) and the mother glass substrate (50) in a stationary state as in the exposure to the mother glass substrate (50), The portion of the mother glass substrate (50) on the
また、マザーガラス基板（５０）が、Ｘ軸スライダー（４０Ｘｂ）の作動によりＸ軸方向へ移動する際の保持は、上記静止した状態での保持と同様に、露光ステージ（６０ｂ）上にあるマザーガラス基板（５０）の部分は、露光ステージ（６０ｂ）によって保持され、且つ露光ステージ（６０ｂ）の上面部に設けられている吸着口（図示せず）による真空吸着で吸着固定される。露光ステージ（６０ｂ）上以外にあるマザーガラス基板（５０）の部分は、基板保持ステージ（空気浮上ステージ）（７０）によって浮上した状態で保持される。 Further, the holding when the mother glass substrate (50) is moved in the X-axis direction by the operation of the X-axis slider (40Xb) is the same as the holding in the stationary state, as is the mother on the exposure stage (60b). The portion of the glass substrate (50) is held by the exposure stage (60b) and is fixed by suction by vacuum suction using a suction port (not shown) provided on the upper surface of the exposure stage (60b). The portion of the mother glass substrate (50) other than on the exposure stage (60b) is held in a floating state by a substrate holding stage (air levitation stage) (70).
また、マザーガラス基板（５０）が、吸着スライダー（４０Ｙｂ）の作動によりＹ軸方
向へ移動する際の保持は、露光ステージ（６０ｂ）上にあるマザーガラス基板（５０）の部分は、露光ステージ（６０ｂ）の上面部に設けられている、ガラス基板を空気浮上させる機能を備えたリフトピン（図示せず）による下方からの空気の噴き上げによって、露光ステージ（６０ｂ）上に浮上させた状態の保持がされる。露光ステージ（６０ｂ）上以外にあるマザーガラス基板（５０）の部分は、基板保持ステージ（空気浮上ステージ）（７０）によって浮上した状態で保持される。つまり、マザーガラス基板（５０）は、その全面が浮上した状態に保持される。
In addition, when the mother glass substrate (50) is moved in the Y-axis direction by the operation of the suction slider (40Yb), the portion of the mother glass substrate (50) on the exposure stage (60b) is the exposure stage ( 60b), the glass substrate is lifted on the exposure stage (60b) by being blown up from below by a lift pin (not shown) having a function of floating the glass substrate. Is done. The portion of the mother glass substrate (50) other than on the exposure stage (60b) is held in a floating state by a substrate holding stage (air levitation stage) (70). That is, the mother glass substrate (50) is held in a state where the entire surface thereof is floated.
この浮上した状態に保持されたマザーガラス基板（５０）を、吸着スライダー（４０Ｙｂ）の作動によってＹ軸方向へ移動する。尚、図７中、符号（６１）は、真空吸着部（４５）が昇降するための切欠部である。
上記のように、図７に示す基板保持ステージ（７０）が空気を用いた空気浮上ステージであり、また、マザーガラス基板（５０）のＹ軸方向の移動が空気による浮上した状態であることは、マザーガラス基板の移動時の裏面が固体とは非接触であるので、マザーガラス基板の移動による発塵が減少し好ましい方法といえる。
The mother glass substrate (50) held in the floated state is moved in the Y-axis direction by the operation of the suction slider (40Yb). In FIG. 7, reference numeral (61) is a notch for the vacuum suction part (45) to move up and down.
As described above, the substrate holding stage (70) shown in FIG. 7 is an air levitation stage using air, and the movement of the mother glass substrate (50) in the Y-axis direction is in a state of levitation due to air. Since the back surface when the mother glass substrate is moved is not in contact with the solid, dust generation due to the movement of the mother glass substrate is reduced, which is a preferable method.
図８は、本発明によるＸＹステップ露光装置の一例の平面図である。図８は、図７に示す、ガラス基板を保持するステージ、及びガラス基板をＸＹステップ移動させる機構を設けた露光装置である。図８に示すように、この一例に示すＸＹステップ露光装置は、ベース台（２０）上に、定盤（３０）、Ｘ軸スライダー（４０Ｘｂ）、及び露光ステージが積重されたものである。尚、図８においては、空気浮上ユニット（浮上ＰＡＤ）（７１）の表示は省略してある。 FIG. 8 is a plan view of an example of an XY step exposure apparatus according to the present invention. FIG. 8 shows an exposure apparatus provided with a stage for holding the glass substrate and a mechanism for moving the glass substrate in XY steps shown in FIG. As shown in FIG. 8, in the XY step exposure apparatus shown in this example, a surface plate (30), an X-axis slider (40Xb), and an exposure stage are stacked on a base table (20). In FIG. 8, the display of the air levitation unit (levitation PAD) (71) is omitted.
露光ステージは、図８中、左方の第１露光ステージ（６０ｂ−１）と、右方の第２露光ステージ（６０ｂ−２）の２基がＸ軸スライダー（４０Ｘｂ）上に設けられている。また、第１露光ステージ（６０ｂ−１）のＸ軸と平行な両側部には、第１吸着スライダー（４０Ｙｂ−１）が、第２露光ステージ（６０ｂ−２）のＸ軸と平行な両側部には、第２吸着スライダー（４０Ｙｂ−２）が設けられている。 In FIG. 8, two exposure stages, a left first exposure stage (60b-1) and a right second exposure stage (60b-2), are provided on an X-axis slider (40Xb). . Further, on both sides parallel to the X axis of the first exposure stage (60b-1), the first suction slider (40Yb-1) is on both sides parallel to the X axis of the second exposure stage (60b-2). Is provided with a second adsorption slider (40Yb-2).
また、ベース台（２０）の片側部には、第１及び第２露光ステージ（６０ｂ−１、６０ｂ−２）に供給するマザーガラス基板（５０）の調温をする多段のガラス調温部（１０）が設けられている。また、ガラス調温部（１０）と第１露光ステージ（６０ｂ−１）との間には、マザーガラス基板（５０）をガラス調温部（１０）上から第１露光ステージ（６０ｂ−１）に供給し、或いは第１露光ステージ（６０ｂ−１）から排出する第１ロボット（Ｒ−１）が設けられている。ガラス調温部（１０）と第２露光ステージ（６０ｂ−２）との間には、第２ロボット（Ｒ−２）が設けられている。 Further, on one side of the base table (20), a multistage glass temperature adjustment unit (50) for adjusting the temperature of the mother glass substrate (50) supplied to the first and second exposure stages (60b-1, 60b-2). 10). In addition, between the glass temperature control section (10) and the first exposure stage (60b-1), the mother glass substrate (50) is placed on the glass temperature control section (10) from the first exposure stage (60b-1). Or a first robot (R-1) for discharging from the first exposure stage (60b-1). A second robot (R-2) is provided between the glass temperature control unit (10) and the second exposure stage (60b-2).
この露光装置の光源及び光学系は図示してないが、図８中、Ｘ0 −Ｙ0 の交点は、定盤（３０）の上方（図８中、Ｚ軸方向）から照射される露光光の光軸を表している。また、この光学系の１回の露光エリア（ＥＡ）を点線で表している。
この露光エリア（ＥＡ）内にフォトマスクを配置し、フォトマスクを介した露光を露光ステージ上のマザーガラス基板（５０）に与える。
Although the light source and the optical system of this exposure apparatus are not shown, the intersection of X 0 -Y 0 in FIG. 8 is the exposure light irradiated from above the surface plate (30) (in the Z-axis direction in FIG. 8). Represents the optical axis. A single exposure area (EA) of this optical system is indicated by a dotted line.
A photomask is arranged in the exposure area (EA), and exposure through the photomask is given to the mother glass substrate (50) on the exposure stage.
ガラス調温部（１０）上のマザーガラス基板（５０）は、第１ロボット（Ｒ−１）によって第１露光ステージ（６０ｂ−１）に供給される。本発明におけるガラス基板を保持するステージは、露光ステージと基板保持ステージ（７０）で構成され、マザーガラス基板（５０）の略１／２の面積が第１露光ステージ（６０ｂ−１）によって保持され、他の略１／２の面積が基板保持ステージ（空気浮上ステージ）（７０）によって保持され、マザーガラス基板（５０）の全面は第１露光ステージ（６０ｂ−１）の上面を基準とした水平が保たれる。 The mother glass substrate (50) on the glass temperature adjusting unit (10) is supplied to the first exposure stage (60b-1) by the first robot (R-1). The stage for holding the glass substrate in the present invention is composed of an exposure stage and a substrate holding stage (70), and approximately half the area of the mother glass substrate (50) is held by the first exposure stage (60b-1). The other half of the area is held by the substrate holding stage (air levitation stage) (70), and the entire surface of the mother glass substrate (50) is horizontal with respect to the upper surface of the first exposure stage (60b-1). Is preserved.
第１露光ステージ（６０ｂ−１）の上面部には吸着口（図示せず）が設けられており、マザーガラス基板（５０）の略１／２の面積は真空吸着により第１露光ステージ（６０ｂ−１）上に吸着固定される。
Ｘ軸スライダー（４０Ｘｂ）の作動により、第１露光ステージ（６０ｂ−１）はＸ軸スライダー（４０Ｘｂ）の中央部に移動し、Ｘ軸スライダー（４０Ｘｂ）及び第１吸着スライダー（４０Ｙｂ−１）の作動により、マザーガラス基板（５０）に、その所望する多面付けの位置へ第１露光〜第４露光が与えられるように、マザーガラス基板（５０）はステップ移動をする。
A suction port (not shown) is provided on the upper surface of the first exposure stage (60b-1), and approximately half the area of the mother glass substrate (50) is reduced by vacuum suction to the first exposure stage (60b). -1) Adsorbed and fixed on top.
By the operation of the X-axis slider (40Xb), the first exposure stage (60b-1) moves to the center of the X-axis slider (40Xb), and the X-axis slider (40Xb) and the first suction slider (40Yb-1) move. By the operation, the mother glass substrate (50) is moved stepwise so that the first exposure to the fourth exposure are given to the desired multi-positioning position on the mother glass substrate (50).
ステップ露光の終了後は、第１露光ステージ（６０ｂ−１）は、図８に示す待機位置に戻り、第１ロボット（Ｒ−１）によってマザーガラス基板（５０）は第１露光ステージ（６０ｂ−１）から排出される。
尚、第１ロボット（Ｒ−１）による第１露光ステージ（６０ｂ−１）へのマザーガラス基板（５０）の供給／排出の際は、第１露光ステージ（６０ｂ−１）の上面に設けられたリフトピン（図示せず）を上昇させ、第１ロボットのフォークが挿入／退却するための間隔をもうけている。
After the step exposure is completed, the first exposure stage (60b-1) returns to the standby position shown in FIG. 8, and the mother robot (R-1) moves the mother glass substrate (50) to the first exposure stage (60b-). It is discharged from 1).
It should be noted that when the mother glass substrate (50) is supplied / discharged to / from the first exposure stage (60b-1) by the first robot (R-1), it is provided on the upper surface of the first exposure stage (60b-1). The lift pins (not shown) are lifted to provide an interval for the first robot fork to be inserted / retracted.
このリフトピンは、第１露光ステージ（６０ｂ−１）上のマザーガラス基板（５０）を空気浮上させる機能を備えており、マザーガラス基板（５０）をＹ軸方向へ移動させる際には、この機能を作動させる。 The lift pins have a function of causing the mother glass substrate (50) on the first exposure stage (60b-1) to float on the air, and this function is used when the mother glass substrate (50) is moved in the Y-axis direction. Is activated.
この間、上記第４露光が終了するまでに、第２ロボット（Ｒ−２）は、ガラス調温部（１０）上のマザーガラス基板（５０）を第２露光ステージ（６０ｂ−２）に供給しておく。第１ロボット（Ｒ−１）及び第２ロボット（Ｒ−２）による、交互のマザーガラス基板（５０）の供給／排出によって、この露光装置は、マザーガラス基板（５０）の供給／排出に要する時間に律せられることなく、露光能力が確保される。
尚、本発明は、露光ステージが２基設けられたＸＹステップ露光装置に限定されるものではなく、露光ステージが１基設けられたＸＹステップ露光装置においても、前記課題は充分に達せられる。
During this period, the second robot (R-2) supplies the mother glass substrate (50) on the glass temperature control unit (10) to the second exposure stage (60b-2) by the end of the fourth exposure. Keep it. By supplying / discharging the mother glass substrate (50) alternately by the first robot (R-1) and the second robot (R-2), this exposure apparatus is required for supplying / discharging the mother glass substrate (50). The exposure capability is ensured without being limited by time.
Note that the present invention is not limited to an XY step exposure apparatus provided with two exposure stages, and the above problem can be sufficiently achieved even in an XY step exposure apparatus provided with one exposure stage.
図９は、図８に示すＸＹステップ露光装置における、定盤（３０）、基板保持ステージ（空気浮上ステージ）（７０）、Ｘ軸スライダー（４０Ｘｂ）、その両側部に吸着スライダーが設けられた２基の露光ステージ（６０ｂ−１、６０ｂ−２）を示した平面図であり、第１露光ステージ（６０ｂ−１）及び１枚目のマザーガラス基板（５０−１）の動作を説明するものである。
図９は、第１ロボット（Ｒ−１）によって、ガラス調温部（１０）上の１枚目のマザーガラス基板（５０−１）が第１露光ステージ（６０ｂ−１）に供給された段階を表したものである。
9 shows a surface plate (30), a substrate holding stage (air levitation stage) (70), an X-axis slider (40Xb), and suction sliders provided on both sides thereof in the XY step exposure apparatus shown in FIG. It is the top view which showed the basic exposure stage (60b-1, 60b-2), and demonstrates operation | movement of a 1st exposure stage (60b-1) and the 1st mother glass substrate (50-1). is there.
FIG. 9 shows a stage where the first mother glass substrate (50-1) on the glass temperature adjusting unit (10) is supplied to the first exposure stage (60b-1) by the first robot (R-1). It represents.
１枚目のマザーガラス基板（５０−１）上に点線で示す領域は、第１露光〜第４露光が行われる領域を表している。マザーガラス基板（５０−１）を吸着固定した第１露光ステージ（６０ｂ−１）は、この待機位置からＸ軸スライダー（４０Ｘ）の中央部に移動し、続いてマザーガラス基板（５０−１）へのステップ露光が行われる。 A region indicated by a dotted line on the first mother glass substrate (50-1) represents a region where the first exposure to the fourth exposure are performed. The first exposure stage (60b-1) to which the mother glass substrate (50-1) is fixed by suction moves from the standby position to the center of the X-axis slider (40X), and then the mother glass substrate (50-1). Step exposure is performed.
図１０（ａ）〜（ｄ）は、マザーガラス基板（５０−１）上に第１露光〜第４露光の４回の露光が行われる例である。図１０（ａ）は、Ｘ軸スライダー（４０Ｘｂ）と第１吸着スライダー（４０Ｙｂ−１）の作動により、点線で示す露光エリア（ＥＡ）の中心（Ｘ0 −Ｙ0 ）に、マザーガラス基板（５０−１）の第１露光が行われる領域の中心を合わせ、マザーガラス基板（５０−１）上に塗布されたフォトレジストの塗膜に、フォトマスクを
介した第１露光（１Ｅｘ）が与えられた直後の段階を表したものである。この第１露光から数えて３回のステップ移動毎に、第２露光以降の各露光が行われる。
FIGS. 10A to 10D are examples in which four exposures of the first exposure to the fourth exposure are performed on the mother glass substrate (50-1). FIG. 10A shows a mother glass substrate (X 0 -Y 0 ) at the center (X 0 -Y 0 ) of the exposure area (EA) indicated by the dotted line by the operation of the X-axis slider (40Xb) and the first suction slider (40Yb-1). 50-1) The first exposure (1Ex) through the photomask is applied to the photoresist coating applied on the mother glass substrate (50-1) by aligning the center of the region where the first exposure is performed. It represents the stage immediately after being received. Each exposure after the second exposure is performed every three step movements counted from the first exposure.
図１０（ｂ）は、Ｘ軸スライダー（４０Ｘｂ）の作動により、第１露光ステージ（６０ｂ−１）が、図１０（ａ）の位置から、図１０中、Ｘ軸右方へステップ移動（Ｐｘ）をし、第２露光が与えられた段階を表している。符号（２Ｅｘ）は、第２露光の領域を表している。図１０（ｃ）は、第１露光ステージ（６０ｂ−１）が、第１吸着スライダー（４０Ｙｂ−１）の作動により、図１０（ｂ）の位置から、図１０中、Ｙ軸上方へステップ移動（Ｐｙ）をし、第３露光（３Ｅｘ）が与えられた段階を表している。
In FIG. 10B, the
Ｙ軸ステップ移動の動作は、以下のような動作である。先ず、第１吸着スライダー（４０Ｙｂ−１）が上昇し、マザーガラス基板（５０−１）端部を吸着する。次に、第１露光ステージ（６０ｂ−１）上面に設けられた吸着口からの真空吸着を解除する。リフトピンがマザーガラス基板（５０−１）を空気浮上させる。
次に、空気浮上させた状態のマザーガラス基板（５０−１）を第１吸着スライダー（４０Ｙｂ−１）がＹ軸方向の設定された位置まで移動する。
次に、リフトピンは空気浮上を解除し、真空吸着を開始する。第１吸着スライダー（４０Ｙｂ−１）の真空吸着部（４５）はマザーガラス基板（５０−１）端部を吸着を解除し、降下する。
The operation of Y-axis step movement is as follows. First, the first adsorption slider (40Yb-1) is raised to adsorb the end portion of the mother glass substrate (50-1). Next, the vacuum suction from the suction port provided on the upper surface of the first exposure stage (60b-1) is released. The lift pins cause the mother glass substrate (50-1) to float on the air.
Next, the first suction slider (40Yb-1) moves the mother glass substrate (50-1) in a state where the air is levitated to a set position in the Y-axis direction.
Next, the lift pin releases air levitation and starts vacuum suction. The vacuum suction portion (45) of the first suction slider (40Yb-1) releases the suction at the end of the mother glass substrate (50-1) and descends.
また、図１０（ｄ）は、Ｘ軸スライダー（４０Ｘｂ）の作動により、第１露光ステージ（６０ｂ−１）が、図１０（ｃ）の位置から、図１０中、Ｘ軸左方へステップ移動（Ｐｘ）をし、第４露光（４Ｅｘ）が与えられた段階を表している。
第１露光ステージ（６０ｂ−１）は、第１露光〜第４露光の４回の露光が終了すると、図１０（ｄ）の位置から、図９に示す待機位置へと移動する。第１露光ステージ（６０ｂ−１）上のマザーガラス基板（５０−１）は、第１ロボット（Ｒ−１）によって排出される。
上記第４露光が終了するまでの間に、ガラス調温部（１０）上の２枚目のマザーガラス基板（５０−２）は、第２ロボット（Ｒ−２）によって、第２露光ステージ（６０ｂ−２）に供給されている。
FIG. 10 (d) shows that the first exposure stage (60b-1) is stepped from the position of FIG. 10 (c) to the left side of the X axis in FIG. 10 by the operation of the X axis slider (40Xb). (Px) and the fourth exposure (4Ex) is given.
The first exposure stage (60b-1) moves from the position shown in FIG. 10 (d) to the standby position shown in FIG. 9 after completing the four exposures of the first exposure to the fourth exposure. The mother glass substrate (50-1) on the first exposure stage (60b-1) is discharged by the first robot (R-1).
Before the fourth exposure is completed, the second mother glass substrate (50-2) on the glass temperature adjusting unit (10) is moved by the second robot (R-2) to the second exposure stage ( 60b-2).
図１０（ｄ）の位置から、図９に示す待機位置への第１露光ステージ（６０ｂ−１）の移動に伴い、第２露光ステージ（６０ｂ−２）は露光エリア（ＥＡ）へと移動を行う。第２露光ステージ（６０ｂ−２）上に載置された２枚目のマザーガラス基板（５０−２）には、同様に第１露光〜第４露光の４回の露光が行われる。
以降、奇数枚目のマザーガラス基板（５０）は第１露光ステージ（６０ｂ−１）によって第１露光〜第４露光の露光が行われ、偶数数枚目のマザーガラス基板（５０）は第２露光ステージ（６０ｂ−２）によって第１露光〜第４露光の露光が行われる。
As the first exposure stage (60b-1) moves from the position shown in FIG. 10 (d) to the standby position shown in FIG. 9, the second exposure stage (60b-2) moves to the exposure area (EA). Do. The second mother glass substrate (50-2) placed on the second exposure stage (60b-2) is similarly subjected to four exposures of the first exposure to the fourth exposure.
Thereafter, the odd-numbered mother glass substrate (50) is subjected to the first to fourth exposures by the first exposure stage (60b-1), and the even-numbered mother glass substrate (50) is the second one. The first to fourth exposures are performed by the exposure stage (60b-2).
上記のように、本発明によるＸＹステップ露光装置においては、マザーガラス基板（５０）を保持するステージは、露光ステージと、露光ステージをＸ軸方向へステップ移動させるＸ軸スライダーのＸ軸と平行な両側部に設けられた基板保持ステージ（７０）で構成されているので、マザーガラス基板が更に大型化し、第１０世代、例えば、２８００ｍｍ×３０００ｍｍ程度へと移行しても、露光ステージを更に大型にすることなく、むしろ従来より小型のものとなる。従って、露光ステージの加工にて、その平面度の精度を保持することができ、また、その重量が減少することによって、露光ステージの移動速度の確保のための駆動機構を大掛かりなものとはならない。更に、露光ステージの位置精度を容易に確保をすることができる。 As described above, in the XY step exposure apparatus according to the present invention, the stage holding the mother glass substrate (50) is parallel to the X axis of the exposure stage and the X axis slider for stepping the exposure stage in the X axis direction. Since it is composed of substrate holding stages (70) provided on both sides, even if the mother glass substrate is further increased in size and moved to the 10th generation, for example, about 2800 mm × 3000 mm, the exposure stage is further increased in size. Rather, it is rather smaller than before. Accordingly, the accuracy of the flatness can be maintained in the processing of the exposure stage, and the weight is reduced, so that the driving mechanism for ensuring the moving speed of the exposure stage does not become large. . Furthermore, the position accuracy of the exposure stage can be easily ensured.
また、請求項３に係わる発明は、露光ステージの第２軸（Ｙ軸）方向の大きさが、用い
るフォトマスクの大きさに対応した大きさであることを特徴としている。図７に示す例では、露光ステージ（６０ｂ−１、６０ｂ−２）の大きさは、Ｘ軸方向はマザーガラス基板（５０）を載置する大きさを有し、Ｙ軸方向はマザーガラス基板（５０）の略１／２の大きさを有したものとし、また、露光エリア（ＥＡ）の大きさは、Ｘ軸、Ｙ軸方向で共にマザーガラス基板（５０）の略１／２、つまり、面積で略１／４の大きさのものとした。
According to a third aspect of the present invention, the size of the exposure stage in the second axis (Y-axis) direction is a size corresponding to the size of the photomask used. In the example shown in FIG. 7, the size of the exposure stage (60b-1, 60b-2) is such that the mother glass substrate (50) is placed in the X-axis direction, and the mother glass substrate is in the Y-axis direction. The size of the exposure area (EA) is approximately half of that of the mother glass substrate (50) in both the X-axis and Y-axis directions. The area is about 1/4.
従って、使用するフォトマスクの大きさは、最大で略露光エリア（ＥＡ）の大きさ（例えば、１４００×１５００）のものとなる。この大きさのフォトマスクを用いてカラーフィルタを製造する際には、そのフォトマスク内に入る最大の大きさのカラーフィルタを１面付けで製造することができる。また、そのフォトマスク内に上記最大の大きさのカラーフィルタより小さなカラーフィルタ（例えば、対角３７インチ）を多面付けで製造することもできる。
すなわち、製造するカラーフィルタの大きさ（１基の液晶表示装置に対応した大きさ）としては、数種の大きさに適用できる。
Therefore, the size of the photomask to be used is at most approximately the size of the exposure area (EA) (for example, 1400 × 1500). When a color filter is manufactured using a photomask of this size, the color filter having the maximum size that can fit in the photomask can be manufactured on a single surface. In addition, a color filter smaller than the largest color filter (for example, 37 inches diagonal) can be manufactured in a multi-sided manner in the photomask.
That is, the size of the color filter to be manufactured (size corresponding to one liquid crystal display device) can be applied to several sizes.
請求項３に係わる発明は、ＸＹステップ露光装置を、小さなカラーフィルタ（例えば、対角３７インチ）を製造する専用露光装置とした際に、マザーガラス基板を、例えば、２８００ｍｍ×３０００ｍｍ程度とし、露光エリア（ＥＡ）の大きさを、例えば、マザーガラス基板の１／１６とし、製造するカラーフィルタ（例えば、対角３７インチ）をマザーガラス基板に４×４＝１６面付けで製造する専用露光装置としたものである。 In the invention according to claim 3, when the XY step exposure apparatus is a dedicated exposure apparatus for manufacturing a small color filter (for example, 37 inches diagonal), the mother glass substrate is, for example, about 2800 mm × 3000 mm, and the exposure is performed. Dedicated exposure apparatus that manufactures a color filter (for example, 37 inches diagonal) on the mother glass substrate with 4 × 4 = 16 imposition, with the area (EA) being, for example, 1/16 of the mother glass substrate It is what.
この専用露光装置の露光ステージの大きさは、Ｘ軸方向はマザーガラス基板（５０）を載置する大きさを有するが、Ｙ軸方向はマザーガラス基板（５０）の略１／４の大きさを有したものとなる。すなわち、露光ステージは、大幅に小型、軽量のものとすることが可能である。 The size of the exposure stage of this dedicated exposure apparatus is such that the mother glass substrate (50) is placed in the X-axis direction, but the size of the mother glass substrate (50) is approximately ¼ in the Y-axis direction. It will have. That is, the exposure stage can be made much smaller and lighter.
１Ｅｘ〜４Ｅｘ・・・第１露光〜第４露光の領域
１０・・・ガラス調温部
２０・・・ベース台
３０・・・定盤
４０Ｘ・・・Ｘ軸スライダー
４０Ｘｂ・・・本発明におけるＸ軸スライダー
４０Ｙ・・・Ｙ軸スライダー
４０Ｙｂ・・・吸着スライダー
４０Ｙｂ−１・・・第１吸着スライダー
４０Ｙｂ−２・・・第２吸着スライダー
４０Ｙ−１・・・第１Ｙ軸スライダー
４０Ｙ−２・・・第２Ｙ軸スライダー
４１Ｘ、４１Ｙ・・・ベッド
４２Ｘ、４２Ｙ・・・スライドガイド
４３Ｘ、４３Ｙ・・・送り具
４４・・・スライダー
４５・・・真空吸着部
５０・・・マザーガラス基板
５０−１、５０−２・・・１枚目、２枚目のマザーガラス基板
５４・・・塗膜
６０・・・露光ステージ
６０−１・・・第１露光ステージ
６０−２・・・第２露光ステージ
６０ｂ・・・本発明における露光ステージ
６０ｂ−１・・・本発明における第１露光ステージ
６０ｂ−２・・・本発明における第２露光ステージ
７０・・・基板保持ステージ（空気浮上ステージ）
７１・・・空気浮上ユニット（浮上ＰＡＤ）
ＥＡ・・・露光エリア
Ｇ１・・・近接露光の間隔
ＰＭ・・・フォトマスク
Ｐｘ・・・Ｘ軸方向のステップ移動
Ｐｙ・・・Ｙ軸方向のステップ移動
Ｒ−１、Ｒ−２・・・第１ロボット、第２ロボット
1Ex to 4Ex... First exposure to
71 ... Air levitation unit (levitation PAD)
EA ... exposure area G1 ... proximity exposure interval PM ... photomask Px ... step movement Py in the X-axis direction ... step movement R-1, R-2 in the Y-axis direction 1st robot, 2nd robot
Claims (4)
１）前記ガラス基板を保持するステージは、露光ステージと、該露光ステージを第１軸（Ｘ軸）方向へステップ移動させるＸ軸スライダーのＸ軸と平行な両側部に設けられた基板保持ステージで構成され、
２）ガラス基板をＸＹステップ移動させる機構として、上記Ｘ軸スライダーと、ガラス基板を第１軸（Ｘ軸）と直交する第２軸（Ｙ軸）方向へステップ移動させる吸着スライダーを少なくとも具備することを特徴とするＸＹステップ露光装置。 In an XY step exposure apparatus for moving a glass substrate in XY steps,
1) The stage for holding the glass substrate is an exposure stage and a substrate holding stage provided on both sides parallel to the X axis of an X axis slider for stepwise moving the exposure stage in the first axis (X axis) direction. Configured,
2) As a mechanism for moving the glass substrate in an XY step, at least the X-axis slider and an adsorption slider for moving the glass substrate in a second axis (Y-axis) direction orthogonal to the first axis (X-axis) are provided. An XY step exposure apparatus.
２）前記吸着スライダーは真空吸着部を備え、ガラス基板の下方より上昇してガラス基板端部の下面を吸着し、ガラス基板を第２軸（Ｙ軸）方向へステップ移動させる機構であり、露光ステージのＸ軸と平行な両側部に設けられており、
３）前記露光ステージの上面部には、ガラス基板を空気浮上させる機能を備えたリフトピンが設けられ、露光ステージのＸ軸と平行な両周縁部には、上記真空吸着部が昇降するための切欠部が設けられていることを特徴とする請求項１記載のＸＹステップ露光装置。 1) The substrate holding stage is an air levitation stage, and an air levitation unit (levitation PAD) that holds a glass substrate at a certain height by blowing air from below is parallel to the X axis of the X axis slider on the surface plate. Provided on both sides,
2) The suction slider includes a vacuum suction part, and is a mechanism that moves upward from below the glass substrate to suck the lower surface of the glass substrate end, and moves the glass substrate stepwise in the second axis (Y-axis) direction. It is provided on both sides parallel to the X axis of the stage,
3) The upper surface of the exposure stage is provided with a lift pin having a function of causing the glass substrate to float on the air, and notches for raising and lowering the vacuum suction part on both peripheral parts parallel to the X axis of the exposure stage. The XY step exposure apparatus according to claim 1, wherein a portion is provided.
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