JP5110278B2 - 感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子のスペーサーおよび保護膜ならびにそれらの形成方法 - Google Patents

Description

本発明は、感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子のスペーサーおよび保護膜ならびにそれらの形成方法に関する。

液晶表示素子に使用される部材のうち、スペーサー、保護膜など多くはフォトリソグラフィーにより形成されている（例えばスペーサーにつき、特許文献１参照。）。近年、液晶表示パネルの普及および大型化が急速に進んでいるため、コスト削減および工程時間短縮の観点から、フォトリソグラフィー工程において、放射線の照射時間の短縮や現像時間の短縮が望まれている。
しかしながら従来知られている感放射線性樹脂組成物を用いて照射時間が短縮された、低露光量の放射線照射工程によりスペーサーまたは保護膜を形成すると、得られるパターン状薄膜の強度が不足し、あるいはパターン寸法が所望の値よりも小さくなって所望のパターン寸法が得られず、パネル不良の原因となる問題がある。
近年、感放射線性樹脂組成物に含有されるバインダー樹脂に重合性不飽和結合を導入することにより放射線に対する反応性を向上し、これにより上記の問題を解決しようとする試みがなされている（特許文献２〜６参照。）。しかしながら、これらの技術によると、後に行われる液晶配向膜形成時の焼成工程において、形成されたスペーサーまたは保護膜の膜減り、収縮、着色等の膜性能自体に関する問題および焼成の際に昇華物が発生して液晶表示素子を汚染する等の工程管理上の問題等の新たな問題が発生する場合があった。特に、最近のプロセス時間短縮の要請から、液晶配向膜形成の際などにより高い焼成温度（例えば２４０℃以上）が採用される場合があるため上記の問題がより顕著に具現化し、特許文献２〜６の技術は近年における工業的な利用に適するものではない。

一方、現像時間の短縮を実現するためには、高濃度の現像液の使用や現像性の向上された感放射線性樹脂組成物の使用が試みられている。しかし、これらのいずれの方策も、現像時にパターン状薄膜の一部が剥離する不具合が発生する場合があり、特にスペーサーを形成する場合にあってはパターンの断面形状が逆テーパー状（膜表面の辺の長さが基板側の辺の長さよりも長い逆台形状）となって後に行われる液晶配向膜のラビング工程の際にパターンが剥離する問題が生ずることがある。特に、上記の短縮された放射線照射工程を採用した場合に現像時やラビング工程時のパターン剥離が発生しやすいこととなる。
さらに、従来知られている感放射線性樹脂組成物を用いた液晶表示素子のスペーサーや保護膜の形成において、加熱工程の際に昇華物が発生する問題があり、工程ラインおよび液晶表示素子の汚染が懸念されている。
さらに加えて、スペーサーや保護膜は液晶表示素子内に残存する「永久膜」であるため、これらから不純物が素子内に溶出しないことが要求される。しかしながら、従来知られている感放射線性樹脂組成物から形成された保護膜、スペーサーを具備する液晶表示素子は、溶出した不純物に起因すると推定される「焼き付き」が生ずることがあり、問題となっている。

このように、近年の液晶表示素子のスペーサーや保護膜を形成するための感放射線性樹脂組成物には、高い放射線感度を有し低露光量であっても強度に優れるパターン状薄膜を所望のパターン寸法で形成することができ、得られたパターン状薄膜は現像工程やラビング工程において剥離することがなく、液晶配向膜形成時の焼成温度に耐える耐熱性を有し、液晶表示素子としたときに「焼き付き」を起こさず、しかもこれらパターン状薄膜を形成する際の加熱工程において昇華物が発生しないことが要求されている。
しかしながら、上記要求のすべてを満足する感放射線性樹脂組成物は、従来知られていない。
特開２００１−２６１７６１号公報 特許第３６８０１２８号明細書 特開２０００−１７１８０４号公報 特開２００１−９２１２８号公報 特開２００６−０７７２３１号公報 特開２００７−０８４８０９号公報

本発明は上記のような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、高い放射線感度を有し低露光量であっても所望のパターン寸法を有し且つ強度に優れるパターン状薄膜が得られ、現像工程やラビング工程においてパターンが剥離することがなく、液晶配向膜形成時の例えば２４０℃以上における高温焼成に耐える耐熱性を有し、液晶表示素子としたときに「焼き付き」を起こさないスペーサーまたは保護膜を形成することができ、しかもこれらを形成する際の加熱工程において昇華物が発生することがない感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
本発明の別の目的は、上記の感放射線性樹脂組成物を用いた液晶表示素子のスペーサーまたは保護膜の形成方法を提供することにある。本発明のさらに別の目的は、上記の感放射線性樹脂組成物から形成された液晶表示素子のスペーサーまたは保護膜を提供することにあり、さらに長期信頼性に優れる液晶表示素子を提供することにある。

本発明によれば、本発明の上記目的は、第一に、
（Ａ）分子内にカルボキシル基および酸無水物基よりなる群から選択される少なくとも１種の基ならびに重合性不飽和結合を有する重合体、
（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体、
（Ｃ）感放射線性重合開始剤、
（Ｄ）下記式（１）

（式（１）中、「＊」は結合手であることを示す。）
で表される構造を有する化合物、ならびに
（Ｅ）一分子中に２個以上のオキシラニル基を有する化合物を含有する感放射線性樹脂組成物によって達成される。
本発明の上記目的は、第二に、
少なくとも下記（１）〜（４）の工程を、下記に記載の順で含むことを特徴とする、液晶表示素子のスペーサーまたは保護膜の形成方法によって達成される。
（１）上記の感放射線性樹脂組成物の被膜を基板上に形成する工程。
（２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程。
（３）放射線照射後の被膜を現像する工程。
（４）現像後の被膜を加熱する工程。
本発明の上記目的は、第三に上記方法により形成された液晶表示素子のスペーサーまたは保護膜によって達成され、第四に上記スペーサーまたは保護膜を具備する液晶表示素子によって達成される。

本発明の感放射線性樹脂組成物は、高い放射線感度を有し低露光量であっても現像工程においてパターンが剥離することがなく、強度に優れるパターン状薄膜を所望のパターン寸法で容易に形成することができる。また、パターン状薄膜形成の際の加熱工程において昇華物が発生することがない。本発明の感放射線性樹脂組成物は、液晶表示素子のスペーサーまたは保護膜を形成するために特に好適に使用することができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物から形成された本発明のスペーサーまたは保護膜は、寸法精度、強度、耐熱性などの諸性能に優れ、液晶表示素子に好適に使用することができる。また、液晶配向膜形成時の例えば２４０℃以上における高温焼成に耐える耐熱性を有するから、液晶配向膜形成の工程時間短縮の要請に応えることができ、さらに液晶配向膜剥離液に対する耐久性（耐薬品性）にも優れるから基板再生工程における製品歩留まりを向上することができる。さらに本発明のスペーサーは、液晶配向膜のラビング工程においてパターンが剥離することがない。
上記のスペーサーまたは保護膜を具備する本発明の液晶表示素子は、「焼き付き」の発生が抑制されたものであり、長期信頼性に優れる。

＜感放射線性樹脂組成物＞
以下、本発明の感放射線性樹脂組成物の各成分について詳述する。
（Ａ）重合体
本発明の韓放射線性樹脂組成物に含有される（Ａ）重合体は、分子内にカルボキシル基および酸無水物基よりなる群から選択される少なくとも１種の基ならびに重合性不飽和結合を有する重合体である。（Ａ）重合体の有する不飽和結合は、好ましくは（Ａ）重合体の側鎖に存在する。
（Ａ）共重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好ましくは２，０００〜１００，０００であり、より好ましくは５，０００〜５０，０００である。この場合、Ｍｗが２，０００未満であると、得られる被膜の現像性、残膜率などが不足したり、耐熱性などが損なわれるおそれがあり、一方Ｍｗが１００，０００を超えると、現像性、解像度などが不十分となる場合がある。

（Ａ）重合体は、上記の要件を満たす限り、どのようなものであってもよいが、例えば
（Ａ−１）（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選択される少なくとも１種ならびに（ａ２）オキシラニル基を有する重合性不飽和化合物およびオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する単量体混合物を重合してなる共重合体と（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選択される少なくとも１種との反応生成物（以下、「重合体（Ａ−１）」という。）、
（Ａ−２）（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選択される少なくとも１種ならびに（ａ３）水酸基を有する重合性不飽和化合物を含有する単量体混合物を重合してなる共重合体と（ａ４）不飽和イソシアネート化合物との反応生成物（以下、「重合体（Ａ−２）」という。）、ならびに
（Ａ−３）（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選択される少なくとも１種を含有する単量体混合物を重合してなる共重合体と（ａ２）オキシラニル基を有する重合性不飽和化合物およびオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種との反応生成物（以下、「重合体（Ａ−３）」という。）
よりなる群から選択される少なくとも１種であることができる。

以下、（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選択される少なくとも１種、（ａ２）オキシラニル基を有する重合性不飽和化合物およびオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種、（ａ３）水酸基を有する重合性不飽和化合物および（ａ４）不飽和イソシアネート化合物を、それぞれ「化合物（ａ１）」、「化合物（ａ２）」、「化合物（ａ３）」および「化合物（ａ４）」という。また、上記化合物（ａ１）〜（ａ４）以外の重合性不飽和化合物を以下、「化合物（ａ５）」という。
重合体（Ａ−１）は、好ましくは化合物（ａ１）と、化合物（ａ２）と、化合物（ａ３）および化合物（ａ５）よりなる群から選択される少なくとも１種との共重合体（以下、「前駆共重合体（１）」という。）と、化合物（ａ１）との反応生成物である。前駆共重合体（１）は、好ましくは化合物（ａ１）、化合物（ａ２）および化合物（ａ５）の共重合体である。
重合体（Ａ−２）は、好ましくは化合物（ａ１）、化合物（ａ３）および化合物（ａ５）の共重合体（以下、「前駆共重合体（２）」という。）と、化合物（ａ４）との反応生成物である。
重合体（Ａ−３）は、好ましくは化合物（ａ１）と、化合物（ａ３）および化合物（ａ５）よりなる群から選択される少なくとも１種との共重合体（以下、「前駆共重合体（３）」という。）と、化合物（ａ２）との反応生成物である。前駆共重合体（３）は、好ましくは化合物（ａ１）および化合物（ａ５）の共重合体である。
前駆共重合体（１）、前駆共重合体（２）または前駆共重合体（３）を、それぞれ合物（ａ１）、化合物（ａ４）または化合物（ａ２）を反応させることにより、各重合体の側鎖に重合性不飽和結合が導入される。

上記化合物（ａ１）としては、カルボキシル基またはカルボン酸無水物構造と重合性不飽和結合とを有するものである限り、特に限定はされないが、例えば不飽和モノカルボン酸化合物、不飽和ジカルボン酸化合物、不飽和ジカルボン酸化合物の無水物、多環式の不飽和カルボン酸化合物、多環式の不飽和ジカルボン酸化合物、多環式の不飽和ジカルボン酸化合物の無水物などを挙げることができる。
上記不飽和モノカルボン酸化合物としては、例えば（メタ）アクリル酸、クロトン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート（東亞合成（株）から商品名「アロニックスＭ−５３００」として市販されている。）など；
上記不飽和ジカルボン酸化合物としては、例えばマレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸など；
上記不飽和ジカルボン酸化合物の無水物としては、例えば上記不飽和ジカルボン酸化合物として例示した化合物の無水物など；
上記多環式の不飽和カルボン酸化合物としては、例えば５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンなど；
上記多環式の不飽和ジカルボン酸化合物としては、例えば５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンなど；
上記多環式の不飽和ジカルボン酸化合物の無水物としては、例えば上記多環式の不飽和ジカルボン酸化合物として例示した化合物の無水物などを、それぞれ挙げることができる。

これら化合物（ａ１）を前駆共重合体（１）〜（３）の合成に用いる場合には、共重合反応性、得られる重合体のアルカリ現像液に対する溶解性および入手が容易である点から、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸または２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸が好ましい。
なお、前駆共重合体の合成に使用する化合物（ａ１）がカルボキシル基を有するものである場合には、カルボキシル基を保護したうえで重合に供し、次いで脱保護することによりカルボキシル基を再生してもよい。ここで、カルボキシル基を保護する保護基としては、特に限定されずカルボキシル基の保護基として公知のものが使用できる。例えばトリアルキルシリル基、１−アルコキシアルキル基、環状１−アルコキシアルキル基などがあげられる。さらに具体的には、例えばトリメチルシリル基、ジメチルブチルシリル基、１−エトキシエチル基、１−プロポキシエチル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、トリフェニルメチル基などを挙げることができる。
一方、化合物（ａ１）を、前駆共重合体（１）と反応させて重合体（Ａ−１）を合成するために用いる場合には、反応性、入手容易性等の観点から不飽和カルボン酸が好ましく、特にアクリル酸またはメタアクリル酸が好ましい。
化合物（ａ１）は単独でまたは２種以上混合して用いることができる。

化合物（ａ２）は、オキシラニル基を有する重合性不飽和化合物およびオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種である。
上記化合物（ａ２）のうち、オキシラニル基を有する重合性不飽和化合物としては、例えばオキシラニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物、オキシラニル基を有するα−アルキルアクリル酸エステル化合物、グリシジルエーテル化合物などを挙げることができる。
これらの具体例としては、オキシラニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル化合物として、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２−メチルグリシジル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸６，７−エポキシヘプチル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチルなど；
オキシラニル基を有するα−アルキルアクリル酸エステル化合物として、例えばα−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸６，７−エポキシヘプチルなど；
グリシジルエーテル化合物として、例えばｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどを、それぞれ挙げることができる。

オキセタニル基を有する重合性不飽和化合物としては、例えばオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどを挙げることができ、その具体例として例えば３−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−３−エチルオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２−メチルオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２−ペンタフロロエチルオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２，２−ジフロロオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２，２，４−トリフロロオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２，２，４，４−テトラフロロオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−３−エチルオキセタン、２−エチル−３−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−２−ペンタフロロエチルオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−２−フェニルオキセタン、２，２−ジフロロ−３−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−２，２，４−トリフロロオキセタン、３−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−２，２，４，４−テトラフロロオキセタン、

２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−メチル−２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−メチル−２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、４−メチル−２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−３−トリフロロメチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−４−トリフロロメチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２−ペンタフロロエチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−３−ペンタフロロエチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−４−ペンタフロロエチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−２−フェニルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−３−フェニルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−４−フェニルオキセタン、２，３−ジフロロ−２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、２，４−ジフロロ−２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３，３−ジフロロ−２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３，４−ジフロロ−２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、４，４−ジフロロ−２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）オキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−３，３，４−トリフロロオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−３，４，４−トリフロロオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシメチル）−３，３，４，４−テトラフロロオキセタン、

２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、２−（２−（２−メチルオキセタニル））エチル（メタ）アクリレート、２−（２−（３−メチルオキセタニル））エチル（メタ）アクリレート、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−２−メチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−４−メチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−２−トリフロロメチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−３−トリフロロメチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−４−トリフロロメチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−２−ペンタフロロエチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−３−ペンタフロロエチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−４−ペンタフロロエチルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−２−フェニルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−３−フェニルオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−４−フェニルオキセタン、２，３−ジフロロ−２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、２，４−ジフロロ−２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３，３−ジフロロ−２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、３，４−ジフロロ−２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、４，４−ジフロロ−２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）オキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−３，３，４−トリフロロオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−３，４，４−トリフロロオキセタン、２−（（メタ）アクリロイルオキシエチル）−３，３，４，４−テトラフロロオキセタンなどを挙げることができる。

これら化合物（ａ２）のうち、前駆共重合体（１）の合成に供する場合および前駆共重合体（３）と反応させて重合体（Ａ−３）を合成するために用いる場合のいずれにおいても、オキシラニル基を有する重合性不飽和化合物が好ましく、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸２−メチルグリシジルまたは（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチルが、得られる感放射線性樹脂組成物の保存安定性が高く、形成されるスペーサーまたは保護膜の耐熱性、耐薬品性をより高くしうる点から好ましく用いられる。
化合物（ａ２）は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。

上記化合物（ａ３）は、水酸基を有する重合性不飽和化合物である。
化合物（ａ３）としては、例えば（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸ジヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）アルキルエステル、（メタ）アクリル酸（４−ヒドロキシ−２，２−ジメチルブタノイルオキシ）アルキルエステル、（メタ）アクリル酸（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロポキシカルボニルオキシ）アルキルエステル、脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸のポリアルキレングリコールエステル、（メタ）アクリル酸とポリエステルブロックを有する（ポリ）アルキレングリコールとのエステル、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）クリレート等を挙げることができる。

上記の具体例としては、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルとして例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、７−ヒドロキシヘプチル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、９−ヒドロキシノニル（メタ）アクリレート、１０−ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート、１１−ヒドロキシウンデシル（メタ）アクリレート、１２−ヒドロキシドデシル（メタ）アクリレート等；
（メタ）アクリル酸ジヒドロキシアルキルエステルとして例えば１，２−ジヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，３−ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３，４−ジヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−［３−（２，３−ジヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシプロポキシ］−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等；
（メタ）アクリル酸（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）アルキルエステルとして例えば２−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、３−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、４−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）ブチル（メタ）アクリレート、５−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）ペンチル（メタ）アクリレート、６−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）へキシル（メタ）アクリレートなど；
（メタ）アクリル酸（４−ヒドロキシ−２，２−ジメチルブタノイルオキシ）アルキルエステルとして例えば２−（４−ヒドロキシ−２，２−ジメチルブタノイルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−ヒドロキシ−２，２−ジメチルブタノイルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、３−（４−ヒドロキシ−２，２−ジメチルブタノイルオキシ）プロピル（メタ）アクリレートなど；
（メタ）アクリル酸（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロポキシカルボニルオキシ）アルキルエステルとして例えば２−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ）−エチル（メタ）アクリレート、３−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ）−プロピル（メタ）アクリレート、４−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ）−ブチル（メタ）アクリレート、５−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ）−ペンチル（メタ）アクリレート、６−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ）−ヘキシル（メタ）アクリレートなど；

脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルとして例えば４−ヒドロキシ−シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシメチル−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシエチル−シクロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−5−エン−２−イル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−5−エン−２−イルメチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシエチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−5−エン−２−イルエチル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシ−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−5−エン−２−イル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシメチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルメチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−イルエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−アダマンタン−１−イル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシメチル−アダマンタン−１−イルメチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシエチル−アダマンタン−１−イルエチル（メタ）アクリレートなど；
（メタ）アクリル酸のポリアルキレングリコールエステルとして例えば下記式（ａ３−１）〜（ａ３〜５）

（式（ａ３−１）〜（ａ３〜５）中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基であり、ｎ１は２〜１６の整数である。）
で表される化合物など；
（メタ）アクリル酸とポリエステルブロックを有する（ポリ）アルキレングリコールとのエステルとして例えば下記式（ａ３−６）〜（ａ３〜１０）

（式（ａ３−６）〜（ａ３〜１０）中、Ｒ^２は水素原子またはメチル基であり、ｎ２は１〜１６の整数であり、ｍは２〜６の整数である。）
で表される化合物などを、それぞれ挙げることができる。また、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）クリレートは、下記式（ａ３−１１）

（式（ａ３−１０）中、Ｒ^３は水素原子またはメチル基である。）
で表される化合物である。
これらのうち上記前駆共重合体（１）〜（３）の合成に供される化合物（ａ３）としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−（６−ヒドロキシヘキサノイルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチル−プロポキシカルボニルオキシ）−エチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシメチル−シクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシメチル−アダマンタン−１−イルメチル（メタ）アクリレートまたは２，３−ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートが好ましい。
化合物（ａ３）は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。

上記化合物（ａ４）は、不飽和イソシアネート化合物であり、その具体例としては、例えば２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルイソシアネート、４−（メタ）アクリロイルオキシブチルイソシアネート、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシルイソシアネート、８−（メタ）アクリロイルオキシオクチルイソシアネート、１０−（メタ）アクリロイルオキシデシルイソシアネート、下記式（ａ４−１）〜（ａ４−４）

（式（ａ４−１）〜（ａ４−４）中、Ｒ^４は水素原子またはメチル基である。）
で表される化合物を挙げることができる。
これらのうち前駆共重合体（２）と反応させて重合体（Ａ−２）を合成するために用いられる化合物（ａ４）としては、反応性の点から、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートまたは４−メタクリロイルオキシブチルイソシアネートが好ましい。
化合物（ａ４）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
化合物（ａ５）は、上記化合物（ａ１）〜（ａ４）以外の重合性不飽和化合物であり、例えば（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸の脂環族エステル、（メタ）アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸のジエステル、ポリエーテルの（メタ）メタクリレート化合物、芳香族ビニル化合物、共役ジエン、Ｎ位−置換マレイミド、極性基を有する（メタ）アクリル酸エステル、カルボン酸のビニルエステル、ハロゲン化ビニル化合物などを挙げることができる。
これらの具体例として、（メタ）アクリル酸アルキルエステルとして例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレートなど；
（メタ）アクリル酸の脂環族エステルとして例えばシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（以下、「トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イル」を「ジシクロペンタニル」ともいう。）、２−ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなど；
（メタ）アクリル酸アリールエステルとして例えばフェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アリールエステル；フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレートなど；
不飽和ジカルボン酸のジエステルとして、例えばマレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなど；
ポリエーテルの（メタ）アクリレート化合物として、例えばポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートなど；

芳香族ビニル化合物として、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレンなど；
共役ジエンとして例えば１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエンなど；
Ｎ位−置換マレイミドとして例えばＮ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミドなど；
極性基を有する（メタ）アクリル酸エステルとして例えば（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなど；
カルボン酸のビニルエステルとして例えば酢酸ビニルなど；
ハロゲン化ビニル化合物として例えば塩化ビニル、塩化ビニリデンなどを、それぞれ挙げることができる。
好ましい前駆重合体（１）〜（３）の合成に用いられる化合物（ａ５）のうち、特にベンジルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、スチレン、１，３−ブタジエンまたはテトラヒドロフルフリルメタクリレートが、共重合反応性の点から好ましい。
化合物（ａ５）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

好ましい前駆共重合体（１）は、化合物（ａ１）と、化合物（ａ２）と、化合物（ａ３）および化合物（ａ５）よりなる群から選択される少なくとも１種との共重合体であるが、前駆共重合体（１）における化合物（ａ１）の共重合割合は、化合物（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）および（ａ５）の合計に基づいて、５〜４０重量％であることが好ましく、１０〜３０重量％であることがより好ましい。前駆共重合体（１）における化合物（ａ２）の共重合割合は、化合物（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）および（ａ５）の合計に基づいて、５〜６０重量％であることが好ましく、１０〜５０重量％であることがより好ましい。前駆共重合体（１）における化合物（ａ３）の共重合割合は、化合物（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）および（ａ５）の合計に基づいて、２０重量％以下であることが好ましい。前駆共重合体（１）における化合物（ａ５）の共重合割合は、化合物（ａ１）、（ａ２）、（ａ３）および（ａ５）の合計に基づいて、１０〜８０重量％であることが好ましく、１５〜７０重量％であることがより好ましい。
好ましい前駆共重合体（２）は、化合物（ａ１）、化合物（ａ３）および化合物（ａ５）の共重合体であるが、前駆共重合体（２）における化合物（ａ１）の共重合割合は、化合物（ａ１）、（ａ３）および（ａ５）の合計に基づいて、５〜４０重量％であることが好ましく、１０〜３０重量％であることがより好ましい。前駆共重合体（２）における化合物（ａ３）の共重合割合は、化合物（ａ１）、（ａ３）および（ａ５）の合計に基づいて、５〜６０重量％であることが好ましく、１０〜５０重量であることがより好ましい。前駆共重合体（２）における化合物（ａ５）の共重合割合は、化合物（ａ１）、（ａ３）および（ａ５）の合計に基づいて、２０〜８０重量％であることが好ましく、２５〜７０重量％であることがより好ましい。

好ましい前駆共重合体（３）は、化合物（ａ１）と、化合物（ａ３）および化合物（ａ５）よりなる群から選択される少なくとも１種との共重合体であるが、前駆共重合体（３）における化合物（ａ１）の共重合割合は、化合物（ａ１）、（ａ３）および（ａ５）の合計に基づいて、１５〜５０重量％であることが好ましく、２０〜４５重量％であることがより好ましい。前駆共重合体（３）における化合物（ａ３）の共重合割合は、化合物（ａ１）、（ａ３）および（ａ５）の合計に基づいて、２０重量％以下であることが好ましい。前駆共重合体（３）における化合物（ａ５）の共重合割合は、化合物（ａ１）、（ａ３）および（ａ５）の合計に基づいて、５０〜８５重量％であることが好ましく、５５〜８０重量％であることがより好ましい。
なお、前駆共重合体（３）は、重合体（Ａ−３）を合成するにあたってカルボキシル基または酸無水物基の一部が化合物（ａ２）との反応に使用される。従って前駆共重合体（３）における化合物（ａ１）の共重合割合は、化合物（ａ２）との反応に使用される分を考慮のうえで設定されることが好ましい。
前駆共重合体（１）〜（３）を合成するにあたって化合物（ａ１）〜（ａ５）の使用割合を上記の範囲に設定することにより、前駆重合体（１）〜（３）から重合体（Ａ−１）〜（Ａ−３）を合成する際に、反応系がゲル化することなく所望の転化率で合成することが可能となり、また得られる重合体（Ａ−１）〜（Ａ−３）を含有する感放射線性樹脂組成物の感度および現像性が良好となり好ましい。

前駆共重合体（１）〜（３）は、化合物（ａ１）〜（ａ５）のうちの所定のものを、好ましくはそれぞれ上記の範囲で含有する混合物を、好ましくは溶媒中、適当なラジカル重合開始剤の存在下でラジカル重合することによって製造することができる。
前駆共重合体（１）〜（３）の合成に使用される溶媒としては、特に限定されるものでないが、例えば例えばジエチレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノール、３−メトキシブタノールなどのアルコール化合物；
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、シクロヘキサノールアセテートなどの（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート化合物；
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテルなどの（ポリ）アルキレングリコールジエーテル化合物；

テトラヒドロフランなどの他のエーテル化合物；
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノンなどのケトン化合物；
ジアセトンアルコール（すなわち、４−ヒドロキシ−４−メチルペンタン−２−オン）、４−ヒドロキシ−４−メチルヘキサン−２−オンなどのケトアルコール化合物；
乳酸メチル、乳酸エチルなどの乳酸アルキルエステル化合物；
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、ぎ酸ｎ−ペンチル、酢酸ｉ−ペンチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチルなどの他のエステル化合物；
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素化合物；
Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド化合物などを挙げることができる。

これらの溶媒のうち、重合性、感放射線性樹脂組成物としたときの各成分の溶解性、被膜形成の容易性などの観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、３−メトキシブチルアセテート、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、ぎ酸ｎ−ペンチル、酢酸ｉ−ペンチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチルまたはピルビン酸エチルが好ましい。
これらの溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
溶媒の使用割合としては、溶液中の全不飽和化合物（使用する化合物（ａ１）〜（ａ５）の合計）の重量割合が１５〜４５重量％程度となる量とすることが好ましい。

前駆共重合体（１）〜（３）の合成に用いられるラジカル重合開始剤は特に限定されるものではなく、例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４―シアノバレリアン酸）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機過酸化物；過酸化水素などを挙げることができる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、還元剤を併用してレドックス型開始剤としてもよい。
これらのラジカル重合開始剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
ラジカル重合開始剤の使用量は、全不飽和化合物１００重量部に対して、好ましくは０．１〜３０重量部であり、より好ましくは０．１〜１５重量部である。
重合温度は好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは５０〜１２０℃であり、重合時間は好ましくは１０分〜２０時間、より好ましくは１〜７時間である。

前駆共重合体（１）と化合物（ａ１）とを反応させて重合体（Ａ−１）を合成するには、前駆共重合体（１）を含有する溶液中において、好ましくは触媒および重合禁止剤の存在下に化合物（ａ１）を加えて反応させる方法によることができる。前駆共重合体（１）を含有する溶液としては、前駆共重合体（１）を合成した際の重合体溶液をそのまま用いてもよく、あるいは前駆共重合体（１）を一旦重合体溶液から分離したうえで改めて溶媒に溶解してもよい。後者の場合に使用できる溶媒は、前駆共重合体を合成する際に使用できる溶媒として上記したところと同様である。
化合物（ａ１）の使用割合は、前駆共重合体（１）の有するオキシラニル基およびオキセタニル基の合計に対して好ましくは０．１〜９５モル％であり、より好ましくは１０〜８０モル％であり、さらに１５〜７５モル％である。この場合、化合物（ａ１）の使用割合がの使用量が０．１モル％未満では、得られる感放射線性樹脂組成物の放射線感度ならびに形成されるスペーサーまたは保護膜の耐熱性向上および性特性向上への効果の発現性が小さい場合があり、一方９５モル％を超えると、反応溶液中に未反応の化合物（ａ１）が残存し、得られる感放射線性樹脂組成物の保存安定性によからぬ影響を及ぼす場合がある。
上記触媒としては、例えばテトラブチルアンモニウムブロミド、トリエチルアミンなどの塩基触媒を使用することができる。触媒の使用割合は、化合物（ａ１）に対して２０モル％以下であることが好ましく、０．１〜１５モル％であることがより好ましい。
上記重合禁止剤としては、例えばｐ−メトキシフェノール、ｐ−ベンゾキノンなどを挙げることができる。重合禁止剤の使用割合は、前駆重合体（１）の１００重量部に対して２重量部以下であることが好ましく、０．０５〜１重量部であることがより好ましい。
好ましい反応条件は、温度が４０〜８０℃程度、反応時間が２〜２１時間程度である。

前駆共重合体（２）と化合物（ａ４）とを反応させて重合体（Ａ−２）を合成するには、前駆共重合体（１）のかわりに前駆共重合体（２）を、また化合物（ａ１）の代わりに化合物（ａ４）をそれぞれ用いるほかは、上記重合体（Ａ−１）の合成に準じて行うことができる。この反応は無触媒でも進行するが、より速やかに反応を完結させるために反応に際してラウリン酸ジブチルスズなどの適当な触媒を使用することができる。この場合、触媒の使用割合は、化合物（ａ４）に対して２０モル％以下であることが好ましく、０．１〜１５モル％であることがより好ましい。
さらに、前駆共重合体（３）と化合物（ａ２）とを反応させて重合体（Ａ−３）を合成するには、前駆共重合体（１）のかわりに前駆共重合体（３）を、また化合物（ａ１）の代わりに化合物（ａ２）をそれぞれ用い、化合物（ａ２）の使用割合を下記の通りとするほかは、上記重合体（Ａ−１）の合成に準じて行うことができる。
重合体（Ａ−３）を合成する際の化合物（ａ２）の使用割合は、前駆共重合体（３）に含まれるカルボキシル基または酸無水物基のうち、化合物（ａ２）との反応に使用されないカルボキシル基または酸無水物基（未反応基）が、得られる重合体（Ａ−３）のアルカリ可溶性が適度となる程度に残存するように設定されることが好ましい。かかる見地から、重合体（Ａ−３）を合成する際の化合物（ａ２）の使用割合は、反応後の重合体（Ａ−３）における化合物（ａ１）に由来する構成単位のうち未反応基を有するものの割合が、前駆共重合体（３）を合成する際に使用した化合物（ａ１）の全量および（ａ２）の合計に基づいて好ましくは８重量％以上、より好ましくは１０重量％以上となるように設定されることが望ましい。
例えば、前駆共重合体（３）を合成する際の化合物（ａ１）の使用割合を上述の好ましい範囲とした場合の化合物（ａ２）の使用割合は、前駆共重合体（３）の有するカルボキシル基および酸無水物基の合計に対して好ましくは１５〜７０モル％であり、より好ましくは２０〜６０モル％である。

上記のようにして得られた重合体（Ａ−１）〜（Ａ−３）は、これを含有する重合体溶液のまま感放射線性樹脂組成物の調製に供してもよく、または重合体溶液から分離したうえで感放射線性樹脂組成物の調製に供してもよい。
本発明の感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）重合体として、上記の如き重合体（Ａ−１）、（Ａ−２）および（Ａ−３）よりなる群から選択される少なくとも１種を含有することが好ましい。この場合、重合体（Ａ−１）、（Ａ−２）および（Ａ−３）のうちの一種のみを含有してもよく、あるいはこれらのうちの２種以上を含有してもよい。後者の場合、各重合体の含有比率は任意に設定することができる。

（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体
本発明の感放射線性樹脂組成物に含有される（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体としては、一分子中に重合性不飽和結合を４個以上有する化合物（以下、「重合性不飽和単量体（Ｂ１）」という。）または一分子中に重合性不飽和結合を１〜３個有する化合物（以下、「重合性不飽和単量体（Ｂ２）」という。）であることが好ましい。
かかる重合性不飽和単量体（Ｂ１）としては、例えばペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェートなどのほか、直鎖アルキレン基および脂環式構造を有し且つ２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、分子内に１個以上の水酸基を有しかつ３〜５個の（メタ）アクリロイロキシ基を有する化合物とを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート化合物などを挙げることができる。
重合性不飽和単量体（Ｂ１）の市販品としては、例えばアロニックスＭ−４００、同Ｍ−４０２、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−１３１０、同Ｍ−１６００、同Ｍ−１９６０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−８１００、同Ｍ−８５３０、同Ｍ−８５６０、同Ｍ−９０５０、アロニックスＴＯ−１４５０、同ＴＯ−１３８２（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０、同ＭＡＸ−３５１０（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業（株）製）や、ウレタンアクリレート系化合物として、ニューフロンティア Ｒ−１１５０（第一工業製薬（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＵＸ−５０００（以上、日本化薬（株）製）、ＵＮ−９０００Ｈ（根上工業（株）製）などを挙げることができる。

上記重合性不飽和単量体（Ｂ２）としては、例えばω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、エチレングリコール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイロキシプロピルメタクリレート、２−（２’−ビニロキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。
重合性不飽和単量体（Ｂ２）の市販品としては、例えば、アロニックスＭ−５３００、同Ｍ−５６００、同Ｍ−５７００、Ｍ−２１０、同Ｍ−２２０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−２７０、同Ｍ−６２００、同Ｍ−３０５、同Ｍ−３０９、同Ｍ−３１０、同Ｍ−３１５（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＸ−２２０、同ＨＸ−６２０、同Ｒ−５２６、同Ｒ−１６７、同Ｒ−６０４、同Ｒ−６８４、同Ｒ−５５１、同Ｒ−７１２、ＵＸ−２２０１、ＵＸ−２３０１、ＵＸ−３２０４、ＵＸ−３３０１、ＵＸ−４１０１、ＵＸ−６１０１、ＵＸ−７１０１、ＵＸ−８１０１、ＵＸ−０９３７、ＭＵ−２１００、ＭＵ−４００１（以上、日本化薬（株）製）、アートレジンＵＮ−９０００ＰＥＰ、同ＵＮ−９２００Ａ、同ＵＮ−７６００、同ＵＮ−３３３、同ＵＮ−１００３、同ＵＮ−１２５５、同ＵＮ−６０６０ＰＴＭ、同ＵＮ−６０６０Ｐ（以上、根上工業（株）製）、同ＳＨ−５００Ｂビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）製）などを挙げることができる。

本発明において、（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物における（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体の使用割合は、（Ａ）重合体１００重量部に対して好ましくは４０〜２５０重量部であり、より好ましくは６０〜１８０重量部である。
（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体は、重合性不飽和単量体（Ｂ１）と（Ｂ２）とを、それぞれ少なくとも１種類含有していることが好ましい。この場合、重合性不飽和単量体（Ｂ１）および（Ｂ２）の合計に占める重合性不飽和単量体（Ｂ１）の割合としては、好ましくは４０〜９９重量％であり、より好ましくは６０〜９５重量%である。
かかる割合で（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体を含有することにより、本発明の感放射線性樹脂組成物は、低露光量においても所望のパターン寸法を有するパターン状薄膜をより容易に形成しうることとなり、好ましい。

（Ｃ）感放射線性重合開始剤
本発明の感放射線性樹脂組成物に含有される（Ｃ）感放射線性重合開始剤は、放射線に感応して（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体の重合を開始しうる活性種を生じる成分である。
このような（Ｃ）感放射線性重合開始剤としては、Ｏ−アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、感放射線性カチオン重合開始剤、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、α−ジケトン化合物、多核キノン化合物、キサントン化合物、ホスフィン化合物、トリアジン化合物などを挙げることができる。
上記Ｏ−アシルオキシム化合物の具体例としては、例えば１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１，２−ノナン−２−オキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１，２−ノナン−２−オキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１，２−ペンタン−２−オキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−ｎ−ブチル−６−（２−エチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、

エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）ベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）などを挙げることができる。

これらのＯ−アシルオキシム化合物のうち、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）またはエタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）を好ましいものとして挙げることができる。
これらＯ−アシルオキシム化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

上記アセトフェノン化合物としては、例えばα−アミノケトン化合物、α−ヒドロキシケトン化合物およびその他のアセトフェノン化合物を挙げることができる。
これらの具体例としては、α−アミノケトン化合物として、例えば２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンなど；
α−ヒドロキシケトン化合物として、例えば１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなど；
その他のアセトフェノン化合物として、例えば２，２−ジメトキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンなどを、それぞれ挙げることができる。
これらアセトフェノン化合物のうちα−アミノケトン化合物が好ましく、特に２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オンまたは２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オンが好ましい。

上記ビイミダゾール化合物の具体例としては、例えば２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールなどを挙げることができる。
これらビイミダゾール化合物のうち、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールまたは２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましく、特に２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましい。

本発明の感放射線性樹脂組成物において、（Ｃ）感放射線性重合開始剤としてビイミダゾール化合物を使用する場合、それを増感するためにジアルキルアミノ基を有する脂肪族または芳香族化合物（以下、「アミノ系増感剤」という。）を添加することができる。
かかるアミノ系増感剤としては、例えばＮ−メチルジエタノールアミン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸ｉ−アミルなどを挙げることができる。これらのアミノ系増感剤のうち、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
上記アミノ系増感剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

さらに、ビイミダゾール化合物とアミノ系増感剤とを併用する場合、水素ラジカル供与剤としてチオール化合物を添加することができる。ビイミダゾール化合物はアミノ系増感剤によって増感されて開裂し、イミダゾールラジカルを発生するが、そのままでは高い重合開始能が発現されず、本発明の感放射線性樹脂組成物を液晶表示素子のスペーサーの形成に用いる場合、得られるスペーサーが逆テーパ形状のような好ましくない形状となる場合がある。しかし、ビイミダゾール化合物とアミノ系増感剤とが共存する系に、チオール化合物を添加することにより、イミダゾールラジカルにチオール化合物から水素ラジカルが供与される結果、イミダゾールラジカルが中性のイミダゾールに変換されるとともに、重合開始能の高い硫黄ラジカルを有する成分が発生し、それによりスペーサーの形状をより好ましい順テーパ状にすることができる。
かかるチオール化合物としては、例えば２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−メトキシベンゾチアゾール、２−メルカプト−５−メトキシベンゾイミダゾールなどの芳香族チオール化合物；３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸メチル、３−メルカプトプロピオン酸エチル、３−メルカプトプロピオン酸オクチルなどの脂肪族モノチオール化合物；３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジチオール、ペンタエリストールテトラ（メルカプトアセテート）、ペンタエリストールテトラ（３−メルカプトプロピオネート）などの２官能以上の脂肪族チオール化合物などを挙げることができる。
これらのチオール化合物のうち、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。

ビイミダゾール化合物とアミノ系増感剤とを併用する場合、アミノ系増感剤の添加量は、ビイミダゾール化合物１００重量部に対して、好ましくは０．１〜５０重量部であり、より好ましくは１〜２０重量部である。アミノ系増感剤の添加量が０．１重量部未満では、感度、解像度や密着性の改善効果が不十分となる場合があり、一方５０重量部を超えると、得られるスペーサーの形状が損なわれる場合がある。
また、ビイミダゾール化合物およびアミノ系増感剤とチオール化合物とを併用する場合、チオール化合物の添加量としては、ビイミダゾール化合物１００重量部に対して、好ましくは０．１〜５０重量部であり、より好ましくは１〜２０重量部である。チオール化合物の添加量が０．１重量部未満では、スペーサーの形状の改善効果が不十分である場合があり、膜減りを生じやすくなる傾向があり、一方５０重量部を超えると、得られるスペーサーの形状がかえって損なわれる場合がある。

さらに、上記感放射線カチオン重合開始剤としては、オニウム塩、メタロセン化合物などを挙げることができる。オニウム塩としては、例えばフェニルジアゾニウムテトラフロロボレート、フェニルジアゾニウムヘキサフロロホスホネート、フェニルジアゾニウムヘキサフロロアルセネート、フェニルジアゾニウムトリフロロメタンスルホナート、フェニルジアゾニウムトリフロロアセテート、フェニルジアゾニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルジアゾニウムテトラフロロボレート、４−メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフロロホスホネート、４−メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフロロアルセネート、４−メトキシフェニルジアゾニウムトリフロロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジアゾニウムトリフロロアセテート、４−メトキシフェニルジアゾニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−ｔ−ブチルフェニルジアゾニウムテトラフロロボレート、４−ｔ−ブチルフェニルジアゾニウムヘキサフロロホスホネート、４−ｔ−ブチルフェニルジアゾニウムヘキサフロロアルセネート、４−ｔ−ブチルフェニルジアゾニウムトリフロロメタンスルホナート、４−ｔ−ブチルフェニルジアゾニウムトリフロロアセテート、４−ｔ−ブチルフェニルジアゾニウム−ｐ−トルエンスルホナートなどのジアゾニウム塩；

トリフェニルスルホニウムテトラフロロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロアルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフロロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフロロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフロロボレート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフロロホスホネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフロロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフロロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフロロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルテトラフロロボレート、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフロロホスホネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフロロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニルトリフロロメタンスルホナート、４−フェニルチオフェニルジフェニルトリフロロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナートなどのスルホニウム塩；
ビス（ｐ−トリル）ヨードニウム テトラキス（ペンタフロロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウム テトラキス（ペンタフロロフェニル）ボレートなどのヨードニウム塩などを、それぞれ挙げることができる。
また、メタロセン化合物としては、例えば（１−６−η−クメン）（η−シクロペンタジエニル）鉄（１＋）六フッ化リン酸（１−）などを挙げることができる。
これら感放射線カチオン重合開始剤の市販品としては、例えばジアゾニウム塩であるアデカウルトラセットＰＰ−３３（（株）ＡＤＥＫＡ製）、スルホニウム塩であるＯＰＴＯＭＥＲ ＳＰ−１５０、同−１７０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、およびメタロセン化合物であるＩｒｇａｃｕｒｅ２６１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）などを挙げることができる。

上記の（Ｃ）感放射線性重合開始剤は、単独でまたは２種類以上を混合して使用することができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物において、（Ｃ）感放射線性重合開始剤の使用割合は、（Ａ）重合体１００重量部に対して、好ましくは１〜５０重量部であり、より好ましくは３〜４０重量部である。
本発明の感放射線性樹脂組成物に含有される（Ｃ）感放射線性重合開始剤は、Ｏ−アシルオキシム化合物およびアセトフェノン化合物よりなる群から選択される少なくとも１種を含有することが好ましく、Ｏ−アシルオキシム化合物およびアセトフェノン化合物よりなる群から選択される少なくとも１種ならびにビイミダゾール化合物を含有することがより好ましい。
（Ｃ）感放射線性重合開始剤におけるＯ−アシルオキシム化合物およびアセトフェノン化合物の割合としては、その合計量が（Ｃ）感放射線性重合開始剤の全量に対して好ましくは４０重量%以上であり、より好ましくは４５重量%以上であり、さらに５０重量％以上であることが好ましい。
このような割合で（Ｃ）感放射線性重合開始剤を使用することにより、本発明の感放射線性樹脂組成物は、低露光量の場合でも高感度でより高い強度および密着性を有するスペーサーまたは保護膜を形成することができることとなる。

（Ｄ）成分
本発明の感放射線性樹脂組成物において（Ｄ）成分を添加することにより、感放射線性樹脂組成物の放射線感度を極めて高くすることができ、得られるスペーサーまたは保護膜の基板に対する密着性が向上され、且つその耐熱性を大幅に向上させることができる。
（Ｄ）成分は、上記式（１）で表される構造を有する化合物であるが、下記式（２）〜（１０）

（式（２）〜（１０）中、「＊」は結合手であることを示す。）
で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
かかる化合物としては、上記式（２）で表される構造を有する化合物として例えば下記式（２−１）〜（２−１０）で表される化合物など、上記式（３）で表される構造を有する化合物として例えば下記式（３−１）〜（３−３）で表される化合物など、上記式（４）で表される構造を有する化合物として例えば下記式（４−１）〜（４−７）で表される化合物など、上記式（５）で表される構造を有する化合物として例えば下記式（５−１）〜（５−２）で表される化合物など、上記式（６）〜（１０）で表される構造を有する化合物として例えば下記式（６−１）、（７−１）、（８−１）、（９−１）または（１０−１）で表される化合物などを、それぞれ挙げることができる。

（上記式中、Ｒはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数３〜３０の第二級もしくは第三級のアルキル基、炭素数５〜１２の環状アルキル基、アリル基、炭素数７〜３０のアラルキル基または炭素数２〜３０のアシル基である。）
上記式におけるＲで表される炭素数３〜３０の第二級もしくは第三級のアルキル基としては例えばイソプロピル基、２−ブチル基、ｔ−ブチル基、２−ペンチル基、ｔ−ペンチル基など；
炭素数５〜１２の環状アルキル基としては例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロドデシル基など；
炭素数７〜３０のアラルキル基としては例えばベンジル基、α−メチルベンジル基、シンナミル基など；
炭素数２〜３０のアシル基としては例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ベンゾイル基、アセチルアセチル基（アセトニルカルボニル基）、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基などを、それぞれ挙げることができる。上記式におけるＲとしては、水素原子、アセチル基、ベンゾイル基、アリル基、ベンジル基またはｔ−ブチル基が好ましい。

本発明の感放射線性樹脂組成物に含有される（Ｄ）成分としては、上記式（２−１）、（２−５）、（２−８）、（４−１）、（６−１）または（１０−１）で表される化合物が好ましく使用でき、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、Ｎ−アセトキシフタルイミド、Ｎ−ベンゾキシフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタルイミドまたはトリヒドロキシイミドシアヌル酸を使用することがより好ましく、特にＮ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、Ｎ−アセトキシフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタルイミドまたはトリヒドロキシイミドシアヌル酸が好ましい。
本発明の感放射線性樹脂組成物において、（Ｄ）成分は１種単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物における（Ｄ）成分の使用割合は、（Ａ）重合体１００重量部に対して好ましくは０．０５〜２０重量部であり、より好ましくは０．２〜１０重量部である。このような割合で（Ｄ）成分を使用することにより、感放射線性樹脂組成物の放射線感度および得られるスペーサーまたは保護膜の基板に対する密着性をより高めることができ、しかも感放射線性樹脂組成物の溶媒に対する溶解性を好適な範囲に保つことができ、好ましい。

その他の成分
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の（Ａ）重合体、（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、（Ｄ）成分および次に説明する（Ｅ）一分子中に２個以上のオキシラニル基を有する化合物を必須成分として含有するが、その他必要に応じて（Ｆ）接着助剤、（Ｇ）界面活性剤、（Ｈ）保存安定剤、（Ｉ）耐熱性向上剤などを含有することができる。
上記（Ｅ）一分子中に２個以上のオキシラニル基を有する化合物（以下、「（Ｅ）成分」ともいう。）は、得られるスペーサーまたは保護膜の硬度をさらに向上するために添加することができる。このような（Ｅ）成分としては、例えば一分子内に２個以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物およびその他の（Ｅ）成分を挙げることができる。
上記一分子内に２個以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物としては、例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートなどを挙げることができる。

上記その他の（Ｅ）成分としては、例えばビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテルなどのビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル；
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルなどの多価アルコールのポリグリシジルエーテル；
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル；
フェノールノボラック型エポキシ樹脂；
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂；
ポリフェノール型エポキシ樹脂；
脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル；
高級脂肪酸のグリシジルエステル；
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油などを挙げることができる。

これらの市販品としては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として、エピコート１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）など；
ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン（株）製）など；
フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート１５２、同１５４、同１５７Ｓ６５（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬（株）製）など；
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（以上、日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン（株）製）など；
ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）など；
環状脂肪族エポキシ樹脂として、ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（以上、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工（株）製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日本インキ（株）製）、エピコート８７１、同８７２（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＤ−５６６１、同５６６２（以上、セラニーズコーティング社製）など；
脂肪族ポリグリシジルエーテルとしてエポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）などを挙げることができる。
このようなエポキシ化合物（Ｅ）のうち、フェノールノボラック型エポキシ樹脂およびポリフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。
上記（Ｅ）成分の使用割合は、（Ａ）重合体１００重量部に対して、好ましくは５０重量部以下であり、より好ましくは２〜５０重量部であり、さらに５〜３０重量部であることが好ましい。このような割合で（Ｅ）成分を使用することにより、現像性を損なわずに得られるスペーサーまたは保護膜の硬度のさらなる向上を実現することができる。
なお、（Ｅ）成分は、アルカリ現像液に対する溶解性を有さない点で、（Ａ）重合体と異なる。

上記（Ｆ）接着助剤は、得られるスペーサーまたは保護膜と基板との接着性をさらに向上させるために使用することができる。
このような（Ｆ）接着助剤としては、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、オキシラニル基などの反応性官能基を有する官能性シランカップリング剤が好ましく、その例として例えばトリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
これらの（Ｆ）接着助剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
（Ｆ）接着助剤の使用量は、（Ａ）重合体１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下であり、より好ましくは１５重量部以下である。（Ｆ）接着助剤の使用量が２０重量部を超えると、現像残りを生じやすくなる傾向がある。

上記（Ｇ）界面活性剤は、感放射線性樹脂組成物の被膜形成性をより向上させるために使用することができる。
このような（Ｇ）界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他の界面活性剤を挙げることができる。
上記フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖および側鎖の少なくともいずれかの部位にフロロアルキル基および／またはフロロアルキレン基を有する化合物が好ましく、その例としては、１，１，２，２−テトラフロロ−ｎ−オクチル（１，１，２，２−テトラフロロ−ｎ−プロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフロロ−ｎ−オクチル（ｎ−ヘキシル）エーテル、ヘキサエチレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロ−ｎ−ペンチル）エーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロ−ｎ−ブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロ−ｎ−ペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロ−ｎ−ブチル）エーテル、パーフロロ−ｎ−ドデカンスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロ−ｎ−デカン、１，１，２，２，３，３，９，９，１０，１０−デカフロロ−ｎ−ドデカンや、フロロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フロロアルキルリン酸ナトリウム、フロロアルキルカルボン酸ナトリウム、ジグリセリンテトラキス（フロロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フロロアルキルアンモニウムヨージド、フロロアルキルベタイン、他のフロロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフロロアルキルポリオキシエタノール、パーフロロアルキルアルコキシレート、カルボン酸フロロアルキルエステルなどを挙げることができる。
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えばＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ ＣＨＥＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１、同Ｆ４７６（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、同−１７１、同−４３０、同−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同−１１３、同−１３１、同−１４１、同−１４５、同−３８２、サーフロンＳＣ−１０１、同−１０２、同−１０３、同−１０４、同−１０５、同−１０６（以上、旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、同３５２（以上、新秋田化成（株）製）、フタージェントＦＴ−１００、同−１１０、同−１４０Ａ、同−１５０、同−２５０、同−２５１、同−３００、同−３１０、同−４００Ｓ、フタージェントＦＴＸ−２１８、同−２５１（以上、（株）ネオス製）などを挙げることができる。

上記シリコーン系界面活性剤としては、例えばトーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ−１９０、同ＳＨ−１９３、同ＳＺ−６０３２、同ＳＦ−８４２８、同ＤＣ−５７、同ＤＣ−１９０（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）などの商品名で市販されているものを挙げることができる。
上記その他の界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル；ポリオキシエチレン−ｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−ｎ−ノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステルなどのノニオン系界面活性剤、（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ．５７、同Ｎｏ．９５（以上、共栄社化学（株）製）などを挙げることができる。
これらの（Ｇ）界面活性剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
（Ｇ）界面活性剤の使用量は、（Ａ）重合体１００重量部に対して、好ましくは１．０重量部以下であり、より好ましくは０．５重量部以下である。この場合、（Ｇ）界面活性剤の使用量が１．０重量部を超えると、膜ムラを生じやすくなる場合がある。

上記（Ｈ）保存安定剤としては、例えば硫黄、キノン化合物、ヒドロキノン化合物、ポリオキシ化合物、アミン、ニトロニトロソ化合物などを挙げることができ、より具体的には、４−メトキシフェノール、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウムなどを挙げることができる。
これらの（Ｈ）保存安定剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
（Ｈ）保存安定剤の使用量は、（Ａ）重合体１００重量部に対して、好ましくは３．０重量部以下であり、より好ましくは０．５重量部以下である。（Ｈ）保存安定剤の配合量が３．０重量部を超えると、感度が低下してパターン形状が劣化する場合がある。

上記（Ｉ）耐熱性向上剤としては、例えばＮ−（アルコキシメチル）グリコールウリル化合物、Ｎ−（アルコキシメチル）メラミン化合物などを挙げることができる。
上記Ｎ−（アルコキシメチル）グリコールウリル化合物としては、例えばＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（メトキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（エトキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（ｎ−プロポキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（ｉ−プロポキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（ｎ−ブトキシメチル）グリコールウリル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（ｔ−ブトキシメチル）グリコールウリルなどを挙げることができる。これらのＮ−（アルコキシメチル）グリコールウリル化合物のうち、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ（メトキシメチル）グリコールウリルが好ましい。
上記Ｎ−（アルコキシメチル）メラミン化合物としては、例えばＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサ（メトキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサ（エトキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサ（ｎ−プロポキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサ（ｉ−プロポキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサ（ｎ−ブトキシメチル）メラミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサ（ｔ−ブトキシメチル）メラミンなどを挙げることができる。これらのＮ−（アルコキシメチル）メラミン化合物のうち、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ヘキサ（メトキシメチル）メラミンが好ましく、その市販品としては、例えばニカラックＮ−２７０２、同ＭＷ−３０Ｍ（以上、（株）三和ケミカル製）などを挙げることができる。

＜感放射線性樹脂組成物の調製＞
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の（Ａ）重合体、（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、（Ｄ）成分および（Ｅ）成分ならびに上記の如き任意的に添加されるその他の成分を均一に混合することによって調製される。本発明の感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。例えば（Ａ）重合体、（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、（Ｄ）成分および（Ｅ）成分ならびに任意的に添加されるその他の成分を、所定の割合で混合することにより、溶液状態の感放射線性樹脂組成物を調製することができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、（Ａ）重合体、（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体、（Ｃ）感放射線性重合開始剤、（Ｄ）成分および（Ｅ）成分ならびに任意的に添加されるその他の成分の各成分を均一に溶解し、各成分と反応しないものが用いられる。
このような溶媒としては、好ましい（Ａ）重合体の前駆体としての前駆共重合体（１）〜（３）を合成するために使用できる溶媒として上記に例示したものと同様のものを挙げることができる。
このような溶媒のうち、各成分の溶解性、各成分との反応性、被膜形成の容易性などの点から、例えばジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノールまたは３−メトキシブタノールを特に好ましく使用することができる。これらの溶媒は、一種のみを単独で使用することができ、二種以上を混合して使用してもよい。

さらに、上記溶媒とともに膜厚の面内均一性を高めるため、高沸点溶媒を併用することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。これらのうち、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトンまたはＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが好ましい。
本発明の感放射性樹脂組成物の溶媒として、高沸点溶媒を併用する場合、その使用量は、全溶媒量に対して、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは４０重量％以下、さらに好ましくは３０重量％以下とすることができる。高沸点溶媒の使用量がこの使用量を超えると、被膜の膜厚均一性、感度および残膜率が不十分となる場合がある。

本発明の感放射線性樹脂組成物を溶液状態として調製する場合、固形分濃度（組成物溶液中に占める溶媒以外の成分、すなわち（Ａ）重合体、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分および（Ｅ）成分ならびに任意的に添加されるその他の成分の合計量の割合）は、使用目的や所望の膜厚の値などに応じて任意に設定することができ、例えば５〜５０重量％とすることができる。さらに好ましい固形分濃度は、基板上への被膜の形成法方により異なるが、これについては後述する。
このようにして調製された組成物溶液は、孔径０．５μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾過した後、使用に供することもできる。

＜スペーサーまたは保護膜の形成方法＞
次に、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いてスペーサーまたは保護膜を形成する方法について説明する。
本発明のスペーサーまたは保護膜の形成方法は、少なくとも下記の工程（１）〜（４）を下記に記載の順で含むことを特徴とするものである。
（１）本発明の感放射線性樹脂組成物の被膜を基板上に形成する工程。
（２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程。
（３）放射線照射後の被膜を現像する工程。
（４）現像後の被膜を加熱する工程。
以下、これらの各工程について順次説明する。

（１）本発明の感放射線性樹脂組成物の被膜を基板上に形成する工程
透明基板の片面に透明導電膜を形成し、該透明導電膜の上に、本発明の感放射線性樹脂組成物の被膜を形成する。
ここで用いられる透明基板としては、例えば、ガラス基板、樹脂基板などを挙げることができ、より具体的には、ソーダライムガラス、無アルカリガラスなどのガラス基板；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミドなどのプラスチックからなる樹脂基板を挙げることができる。
透明基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ_２）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社の登録商標）、酸化インジウム−酸化スズ（Ｉｎ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２）からなるＩＴＯ膜などを挙げることができる。
被膜の形成方法としては、塗布法またはドライフィルム法によることができる。
塗布法により被膜を形成する場合、上記透明導電膜の上に本発明の感放射線性樹脂組成物の溶液を塗布したのち、好ましくは塗布面を加熱（プレベーク）することにより、被膜を形成することができる。塗布法に用いる組成物溶液の固形分濃度は、好ましくは５〜５０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％であり、さらに好ましくは１５〜３５重量％である。組成物溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット塗布法などの適宜の方法を採用することができ、特にスピンコート法またはスリットダイ塗布法が好ましい。

一方、ドライフィルム法により被膜を形成する場合に使用されるドライフィルムは、ベースフィルム、好ましくは可とう性のベースフィルム上に、本発明の感光性樹脂組成物からなる感放射線性層を積層してなるもの（以下、「感放射線性ドライフィルム」という。）である。
上記感放射線性ドライフィルムは、ベースフィルム上に、本発明の感光性樹脂組成物を好ましくは組成物溶液として塗布した後に溶媒を除去することにより、感放射線性層を積層して形成することができる。感放射線性ドライフィルムの感放射線性層を積層するために用いられる組成物溶液の固形分濃度は、好ましくは５〜５０重量％であり、より好ましくは１０〜５０重量％であり、さらに好ましくは２０〜５０重量％であり、特に３０〜５０重量％であることが好ましい。感放射線性ドライフィルムのベースフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニルなどの合成樹脂のフィルムを使用することができる。ベースフィルムの厚さは、１５〜１２５μｍの範囲が適当である。感放射線性層の厚さは、１〜３０μｍ程度が好ましい。
感放射線性ドライフィルムは、未使用時にその感放射線性層上にカバーフィルムを積層して保存することもできる。このカバーフィルムは、未使用時には剥がれず、使用時には容易に剥がすことができるように、適度な離型性を有するものであることが好ましい。このような条件を満たすカバーフィルムとしては、例えばＰＥＴフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリウレタンフィルムなどの合成樹脂フィルムの表面にシリコーン系離型剤を塗布しまたは焼き付けたフィルムを使用することができる。カバーフィルムの厚さは、５〜３０μｍ程度が好ましい。これらカバーフィルムは、２層または３層を積層した積層型カバーフィルムとしてもよい。
かかるドライフィルムを透明基板の透明導電膜上に、熱圧着法などの適宜の方法でラミネートすることにより、被膜を形成することができる。

上記の如くして好ましくは塗布法またはドライフィルム法により形成された被膜は、好ましくは次いでプレベークされる。プレベークの条件は、各成分の種類、配合割合などによっても異なるが、好ましくは７０〜１２０℃で１〜１５分間程度である。
被膜のプレベーク後の膜厚は、好ましくは０．５〜１０μｍであり、より好ましくは１．０〜７．０μｍ程度である。

（２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程
次いで、形成された被膜の少なくとも一部に放射線を照射する。このとき、被膜の一部にのみ照射する際には、例えば所定のパターンを有するフォトマスクを介して照射する方法によることができる。
照射に使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線などを挙げることができる。このうち波長が２５０〜５５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましく、特に３６５ｎｍの紫外線を含む放射線が好ましい。
放射線照射量（露光量）は、照射される放射線の波長３６５ｎｍにおける強度を照度計（ＯＡＩ ｍｏｄｅｌ ３５６、Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ Ｉｎｃ．製）により測定した値として、好ましくは１００〜５，０００Ｊ／ｍ^２、より好ましくは２００〜３，０００Ｊ／ｍ^２である。
本発明の感放射線性樹脂組成物は、従来知られている組成物と比較して極めて放射線感度が高く、上記放射線照射量が６００Ｊ／ｍ^２以下、さらに４００Ｊ／ｍ^２以下であっても所望の膜厚、良好な形状、優れた密着性および高い硬度のスペーサーまたは保護膜を得ることができる利点を有する。

（３）放射線照射後の被膜を現像する工程
次に、放射線照射後の被膜を現像することにより、不要な部分を除去して、所定のパターンを形成する。
現像に使用される現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニアなどの無機アルカリ；エチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの脂肪族１級アミン；ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミンなどの脂肪族２級アミン；トリメチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、トリエチルアミンなどの脂肪族３級アミン；ピロール、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネンなどの脂環族３級アミン；ピリジン、コリジン、ルチジン、キノリンなどの芳香族３級アミン；ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルカノールアミン；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシドなどの４級アンモニウム塩などのアルカリ性化合物の水溶液を使用することができる。上記アルカリ性化合物の水溶液には、メタノール、エタノールなどの水溶性有機溶媒および／または界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。
現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー法などのいずれでもよく、現像時間は、常温で１０〜１８０秒間程度とすることが好ましい。
現像後、例えば流水洗浄を３０〜９０秒間行ったのち、例えば圧縮空気や圧縮窒素で風乾することによって、所望のパターンを得ることができる。

（４）現像後の被膜を加熱する工程
次いで、得られたパターン状被膜を、例えばホットプレート、オーブンなどの適当な加熱装置により、所定温度、例えば１００〜２５０℃で、所定時間、例えばホットプレート上では５〜３０分間、オーブン中では３０〜１８０分間、加熱（ポストベーク）することにより、所望のスペーサーまたは保護膜を得ることができる。
以上にようにして、圧縮強度、液晶配向膜のラビング工程に対する耐性、基板との密着性などの諸性能に優れるスペーサーまたは保護膜を、所望のパターン寸法で得ることができる。

＜液晶表示素子＞
本発明の液晶表示素子は、例えば以下の方法（ａ）または（ｂ）により作製することができる。
（ａ）まず片面に透明導電膜（電極）を有する透明基板を一対（２枚）準備し、そのうちの一枚の基板の透明導電膜上に、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて上記した方法に従ってスペーサーもしくは保護膜またはその双方を形成する。続いてこれらの基板の透明導電膜およびスペーサーまたは保護膜上に液晶配向能を有する配向膜を形成する。これら基板を、その配向膜が形成された側の面を内側にして、それぞれの配向膜の液晶配向方向が直交または逆平行となるように一定の間隙（セルギャップ）を介して対向配置し、基板の表面（配向膜）およびスペーサーにより区画されたセルギャップ内に液晶を充填し、充填孔を封止して液晶セルを構成する。そして、液晶セルの両外表面に、偏光板を、その偏光方向が当該基板の一面に形成された配向膜の液晶配向方向と一致または直交するように貼り合わせることにより、本発明の液晶表示素子を得ることができる。
（ｂ）まず上記方法（ａ）と同様にして透明導電膜と、スペーサーもしくは保護膜またはその双方と、配向膜とを形成した一対の透明基板を準備する。その後一方の基板の端部に沿って、ディスペンサーを用いて紫外線硬化型シール剤を塗布し、次いで液晶ディスペンサーを用いて微小液滴状に液晶を滴下し、真空下で両基板の貼り合わせを行う。そして前述のシール剤部に高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射して両基板を封止する。最後に液晶セルの両外表面に偏光板を貼り合わせることにより、本発明の液晶表示素子を得ることができる。

上記の各方法において使用される液晶としては、例えばネマティック型液晶、スメクティック型液晶を挙げることができる。その中でもネマティック型液晶が好ましく、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などが用いられる。また、これらの液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネートなどのコレステリック液晶や商品名「Ｃ−１５」、「ＣＢ−１５」（以上、メルク社製）として販売されているようなカイラル剤などを添加して使用することもできる。さらに、ｐ−デシロキシベンジリデン−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシンナメートなどの強誘電性液晶も使用することができる。
また、液晶セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板またはＨ膜そのものからなる偏光板などを挙げることができる。

以下に合成例、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の記載に限定されるものではない。
以下の合成例において、共重合体の重量平均分子量Ｍｗの測定は下記の装置および条件のもと、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によった。
装置：ＧＰＣ−１０１（昭和電工（株）製）
カラム：ＧＰＣ−ＫＦ−８０１、ＧＰＣ−ＫＦ−８０２、ＧＰＣ−ＫＦ−８０３およびＧＰＣ−ＫＦ−８０４（以上いずれも商品名、昭和電工（株）製）を結合
移動相：リン酸０．５重量％を含むテトラヒドロフラン
＜（Ａ）重合体の合成例＞
合成例１
冷却管および撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）５重量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５０重量部を仕込んだ。引き続きスチレン５重量部、メタクリル酸１０重量部、アクリル酸５重量部、ｎ−ブチルメタクリレート２５重量部、ベンジルメタクリレート３０重量部および２−ヒドロキシエチルメタクリレート２０重量部を仕込み、窒素置換した後、さらに１，３−ブタジエン５重量部を仕込み、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を８０℃に上昇し、この温度を５時間保持して重合することにより、共重合体（Ｐ−１）を含有する溶液を得た。
得られた共重合体（Ｐ−１）を含有する溶液に、２−メタクリロイロキシエチルイソシアネート１５重量部、ラウリン酸ジブチル錫０．６重量部および４−メトキシフェノール０．０５重量部を加え、空気雰囲気下６０℃で３時間反応させることにより、重合体（Ａ１）を含有する重合体溶液が得られた。得られた重合体溶液の固形分濃度（重合体溶液の全重量に占める重合体重量の割合）は３１．２重量％であり、共重合体（Ａ１）の重量平均分子量Ｍｗは１４，５００であった。

合成例２
冷却管および撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）５重量部および酢酸３−メトキシブチル２５０重量部を仕込んだ。引き続いてメタクリル酸１８重量部、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イルメタクリレート３０重量部、スチレン５重量部、２−（６−ヒドロキシエチルヘキサノイルオキシ）エチルメタクリレート（商品名ＰＬＡＣＣＥＬ ＦＭ１Ｄ（ダイセル化学工業（株）製）２５重量部およびテトラヒドロフルフリルメタクリレート１７重量部を仕込んで、窒素置換した後、１，３−ブタジエン５重量部を仕込み、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を８０℃に上昇し、この温度を４時間保持した後、さらに温度を１００℃に上昇し、この温度を１時間保持して重合することにより、共重合体（Ｐ−２）を含有する溶液を得た。
得られた共重合体（Ｐ−２）を含有する溶液に、２−メタクリロイロキシエチルイソシアネート１４重量部および４−メトキシフェノール０．０５重量部を加え、空気雰囲気下６０℃で２時間反応させることにより、重合体（Ａ２）を含有する重合体溶液が得られた。得られた重合体溶液の固形分濃度は３１．０重量％であり、重合体（Ａ２）の重量平均分子量Ｍｗは１６，２００であった。
合成例３
上記合成例２において、２−メタクリロイロキシエチルイソシアネートの代わりに２−メタクリロイロキシブチルイソシアネート１６重量部を使用したほかは合成例２と同様にして実施し、重合体（Ａ３）を含有する重合体溶液が得られた。得られた重合体溶液の固形分濃度は３１．３重量％であり、共重合体（Ａ３）の重量平均分子量Ｍｗは１６，８００であった。

合成例４
冷却管および撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）４重量部およびジエチレングリコールメチルエチルエーテル２５０重量部を仕込んだ。引き続きスチレン５重量部、メタクリル酸２０重量部、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イルメタクリレート３０重量部、グリシジルメタクリレート２０重量部およびテトラヒドロフルフリルメタクリレート２０重量部を仕込み、窒素置換した後、さらに１，３−ブタジエン５重量部を仕込み、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を７０℃に上昇し、この温度を５時間保持して重合することにより、共重合体（Ｐ−４）を含有する溶液を得た。
引き続き共重合体（Ｐ−４）を含有する溶液に、アクリル酸９重量部およびテトラブチルアンモニウムブロミドを３重量部を加え、６０℃で８時間反応させることにより、重合体（Ａ４）を含有する溶液が得られた。得られた重合体溶液の固形分濃度は３０．３重量％であり、共重合体（Ａ４）の重量平均分子量Ｍｗは１７，０００であった。
合成例５
冷却管および撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）５重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル２５０重量部を仕込んだ。引き続きスチレン５重量部、メタクリル酸１５重量部、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸１５重量部、ベンジルメタクリレート２０重量部、ｎ−ブチルメタクリレート２０重量部およびトリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イルメタクリレート２０重量部を仕込み、窒素置換した後、さらに１，３−ブタジエン５重量部を仕込み、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を７０℃に上昇し、この温度を５時間保持して重合することにより、共重合体（Ｐ−５）を含有する溶液を得た。引き続き共重合体（Ｐ−５）を含有する溶液に、グリシジルメタクリレート１５重量部およびテトラブチルアンモニウムブロミド３重量部を加え、６０℃で８時間反応させることにより、共重合体（Ａ５）を含有する溶液が得られた。得られた重合体溶液の固形分濃度は３１．９重量％であり、共重合体（Ａ５）の重量平均分子量Ｍｗは１５，５００であった。

実施例１〜１０（ただし、実施例１〜５は参考例である。）および比較例１〜５
＜感放射線性樹脂組成物溶液の調製＞
表１に記載の種類および量の（Ａ）重合体、（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体、（Ｃ）感放射線性重合開始剤（場合によりアミノ系増感剤、チオール化合物を併用）および（Ｄ）成分を混合し（実施例６〜１０ならびに比較例１、３および５の場合にはこの時点でさらに（Ｅ）成分も混合し）、さらに（Ｆ）接着助剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５重量部、（Ｇ）界面活性剤としてＦＴＸ−２１８（商品名、（株）ネオス製）０．５重量部および（Ｈ）保存安定剤として４−メトキシフェノール０．５重量部を混合し、固形分濃度が３０重量％となるように、それぞれプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えた後、孔径０．５μｍのミリポアフィルタでろ過することにより、感放射線性樹脂組成物の溶液をそれぞれ調製した。
なお（Ａ）重合体は表１に記載の各重合体を含有する重合体溶液（上記合成例１〜５のいずれかで得たもの）として添加し、その含有する重合体の量が表１に記載の量になるようにした。

＜感放射線性樹脂組成物溶液の評価＞
上記のようにして調製した感放射線性樹脂組成物の評価を以下のように実施した。評価結果を表２に示した。
（Ｉ）現像性の評価
無アルカリガラス基板上に、上記で調製した感放射線性樹脂組成物の溶液をそれぞれスピンナーにより塗布した後、８０℃のホットプレート上で３分間プレベークすることにより、感放射線性樹脂組成物の被膜（膜厚４．０μｍ）を形成した。
得られた被膜上に、直径８〜１５μｍの範囲の異なる大きさの丸状残しパターンをそれぞれ複数有するフォトマスクを設置した。このとき、被膜表面とフォトマスクとの間に所定の間隙（露光ギャップ）を設けた。次いで被膜に上記フォトマスクを介して高圧水銀ランプを用いて１，０００Ｊ／ｍ^２の露光量で放射線の照射を行った。その後、０．０５重量％水酸化カリウム水溶液を用いて２５℃にて４０秒の現像時間でシャワー法により現像した後、純水洗浄を１分間行い、さらにオーブン中２３０℃にて２０分間ポストベークすることにより、パターン状薄膜を形成した。
このとき、形成された丸状パターン以外の部分に現像残滓が残っていないときを現像性が良好（○）であるとした。
（ＩＩ）現像時密着性の評価
放射線照射の露光量を４００Ｊ／ｍ^２とし、現像の条件を０．１５重量％水酸化カリウム水溶液を用いて２５℃にて１８０秒間としたほかは、上記「（Ｉ）現像性の評価」と同様にして基板上にパターン状薄膜を形成した。
このとき、８μｍの丸状残しパターンの１００個により形成されるべきパターン１００個のうち基板上に残存しているパターンの数をレーザー顕微鏡（ＶＫ−８５００、（株）キーエンス製）により調べ、これを現像時密着性の値とした。

（ＩＩＩ）硬化度の評価
フォトマスクを使用せず、放射線照射の露光量を１００Ｊ／ｍ^２とし、放射線照射後の現像工程を行わなかったほかは上記「（Ｉ）現像性の評価」と同様にして基板上に薄膜を形成した。
この薄膜につき、微小圧縮試験機（ＤＵＨ−２０１、（株）島津製作所製）を用い、直径５０μｍの平面圧子により、１００ｍＮの荷重を加えたときに、膜上に平面圧子の跡が残るか否かを調べた。平面圧子の跡が残らなかった場合を硬化度良好（○）、跡が残った場合を不良（×）として評価した。
（ＩＶ）パターン寸法の評価
放射線照射の露光量を２００Ｊ／ｍ^２とし、現像時間を６０秒としたほかは、上記「（Ｉ）現像性の評価」と同様にして基板上にパターン状薄膜を形成した。
このとき、１５μｍの丸状残しパターンにより形成されたパターンの平均直径をレーザー顕微鏡（ＶＫ−８５００、（株）キーエンス製）により調べた。
（Ｖ）耐熱性の評価
フォトマスクを使用せず、放射線照射の露光量を２００Ｊ／ｍ^２とし、放射線照射後の現像工程を行わなかったほかは上記「（Ｉ）現像性の評価」と同様にして基板上に薄膜を形成した。
この薄膜の膜厚（加熱前膜厚）を触針式膜厚測定機（アルファステップＩＱ、ＫＬＡテンコール社製）により測定し、さらにオーブン中２４０℃にて２０分間加熱した後の膜厚（加熱後膜厚）を測定して両者を比較した。下記式により算出した膜厚変化率を耐熱性の値とした。

膜厚変化率（％）＝（加熱後膜厚÷加熱前膜厚）×１００

（ＶＩ）昇華物量の評価
上記「（Ｖ）耐熱性の評価」と同様にして基板上に薄膜を形成した。
この薄膜付き基板を１ｃｍ×１ｃｍにカットしたものにつき、ヘッドスペースサンプラＪＨＳ−１００Ａ（日本分析工業（株）製）およびガスクロマトグラフィー／質量分析装置ＪＥＯＬ ＪＭＳ−ＡＸ５０５Ｗ（日本電子（株）製）を用いて分析温度範囲２５〜２３０℃、昇温速度１００℃／１０ｍｉｎの条件下でヘッドスペースガスクロマトグラフィー／質量分析法にて発生した昇華物の量を調べた。昇華物量の定量には標準物質としてオクタン（比重：０．７０１、注入量：０．０２μＬ）を使用し、そのピーク面積を基準として下記式によりオクタン換算の値として単位面積当たりの昇華物量を求めた。

昇華物量（μｇ／ｃｍ^２）＝（１ｃｍ^２あたりの昇華物のピーク面積÷オクタンのピーク面積）×０．０２×０．７０１

この昇華物量が２μｇ／ｃｍ^２以下のとき昇華物量は少ない（○）とし、２μｇ／ｃｍ^２を超えたとき昇華物量は多い（×）として評価した。
（ＶＩＩ）ラビング耐性の評価
放射線照射の露光量を４００Ｊ／ｍ^２とし、現像時間を６０秒としたほかは、上記「（Ｉ）現像性の評価」と同様にして基板上にパターン状薄膜を形成した。この薄膜上に、液晶配向剤としてＡＬ３０４６（商品名、ＪＳＲ（株）製）を液晶配向膜塗布用印刷機に用いて塗布したのち、１８０℃で１時間加熱して、膜厚０．０５μｍの液晶配向剤の被膜を形成した。次いでこの液晶配向剤の被膜に対して、ポリアミド製の布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンを用い、ロールの回転数を５００ｒｐｍ、ステージの移動速度を１ｃｍ／秒として、ラビング処理を行った。
このとき、１５μｍの丸状残しパターンより形成されたパターンについて、パターンの剥離または削れの有無を調べた。

（ＶＩＩＩ）電圧保持率の評価
表面にナトリウムイオンの溶出を防止するＳｉＯ_２膜が形成され、さらにＩＴＯ（インジウム−酸化錫合金）電極を所定形状に蒸着したソーダガラス基板上に、上記で調製した感放射線性樹脂組成物の溶液をそれぞれスピンナーにより塗布した後、９０℃のクリーンオーブン内で１０分間プレベークすることにより、感放射線性樹脂組成物の被膜（膜厚２．０μｍ）を形成した。
この被膜に対してフォトマスクを介さずに露光量５００Ｊ／ｍ^２にて放射線の照射を行った。その後、０．０４重量％水酸化カリウム水溶液を用いて２３℃にて１分間の現像時間でディッピング法により現像した後、純水洗浄を１分間行い、さらにオーブン中２３０℃にて３０分間ポストベークすることにより、硬化膜を形成した。
この硬化膜を有する基板と、ＳｉＯ_２膜およびＩＴＯ電極を形成しただけの基板とを、０．８ｍｍのガラスビーズを混合したシール剤を用いて硬化膜とＩＴＯ電極とを対向させて貼り合わせた後、その間隙にメルク社製液晶ＭＬＣ６６０８（商品名）を注入して、液晶セルを作製した。
この液晶セルを６０℃の恒温層に入れて、液晶セルの電圧保持率を、（株）東陽テクニカ製液晶電圧保持率測定システム「ＶＨＲ−１Ａ型」（商品名）により測定した。このときの印加電圧は５．５Ｖの方形波、測定周波数は６０Ｈｚとした。ここで電圧保持率は、下記式により計算される値として測定した。

電圧保持率（％）＝（１６．７ミリ秒後の液晶セル電位差／０ミリ秒で印加した電圧）×１００

液晶セルの電圧保持率が９０％以下であると、液晶セルは１６．７ミリ秒の時間、印加電圧を所定レベルに保持できず、十分に液晶を配向させることができないことを意味し、残像などの “焼き付き”を起こすおそれが高い。

表１中、各成分の略称はそれぞれ次の意味である。
（Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体
Ｂ−１：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
Ｂ−２：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬（株）製）
Ｂ−３：１，９−ノナンジオールジアクリレート
Ｂ−４：アロニックスＭ−５３００；（東亞合成（株）製）
（Ｃ）感放射線性重合開始剤
Ｃ−１：エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）(商品名「イルガキュアＯＸＥ０２」、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）
Ｃ−２：２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−4−イル−フェニル）−ブタン−１−オン(商品名「イルガキュア３７９」、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）
Ｃ−３：２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール
Ｃ−４：４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（アミノ系増感剤）
Ｃ−５：２−メルカプトベンゾチアゾール（チオール化合物）
（Ｄ）成分
Ｄ−１：Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
Ｄ−２：Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド
Ｄ−３：Ｎ−アセトキシフタルイミド
Ｄ−４：トリヒドロキシイミノシアヌル酸
Ｄ−５：Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド
（Ｅ）成分
Ｅ−１：ノボラック型エポキシ樹脂（商品名「エピコート１５２」、ジャパンエポキシレジン（株）製）
Ｅ−２：ノボラック型エポキシ樹脂（商品名「エピコート１５７Ｓ６５」、ジャパンエポキシレジン（株）製）
なお、欄中の「−」は該当する成分を使用しなかったことを表す。

なお、比較例１における「（ＶＩＩ）ラビング耐性の評価」では、ラビング後のパターンに剥離および削れの双方ともが見られた。

Claims (13)

1. （Ａ）分子内にカルボキシル基および酸無水物基よりなる群から選択される少なくとも１種の基ならびに重合性不飽和結合を有する重合体、
   （Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体、
   （Ｃ）感放射線性重合開始剤、
   （Ｄ）下記式（１）
   

   

   （式（１）中、「＊」は結合手であることを示す。）
   で表される構造を有する化合物、ならびに
   （Ｅ）一分子中に２個以上のオキシラニル基を有する化合物を含有することを特徴とする、感放射線性樹脂組成物。
2. （Ｄ）成分が、下記式
   

   

   （上記式中、Ｒはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数３〜３０の第二級もしくは第三級のアルキル基、炭素数５〜１２の環状アルキル基、アリル基、炭素数７〜３０のアラルキル基または炭素数２〜３０のアシル基である。）
   のいずれかで表される化合物である、請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
3. （Ｄ）成分が、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ-ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、Ｎ−アセトキシフタルイミド、Ｎ−ベンゾキシフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタルイミドまたはトリヒドロキシイミドシアヌル酸である、請求項２に記載の感放射線性樹脂組成物。
4. （Ａ）重合体が、
   （Ａ−１）（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選択される少なくとも１種ならびに（ａ２）オキシラニル基を有する重合性不飽和化合物およびオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する単量体混合物を重合してなる共重合体と（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選択される少なくとも１種との反応生成物、
   （Ａ−２）（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選択される少なくとも１種ならびに（ａ３）水酸基を有する重合性不飽和化合物を含有する単量体混合物を重合してなる共重合体と（ａ４）不飽和イソシアネート化合物との反応生成物、ならびに
   （Ａ−３）（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選択される少なくとも１種を含有する単量体混合物を重合してなる共重合体と（ａ２）オキシラニル基を有する重合性不飽和化合物およびオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種との反応生成物
   よりなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
5. （Ｂ）重合性不飽和結合を有する単量体が、一分子中に重合性不飽和結合を１〜３個有する重合性不飽和化合物と、一分子中に重合性不飽和結合を４個以上有する重合性不飽和化合物とを、それぞれ少なくとも１種含有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
6. （Ｃ）感放射線性重合開始剤が、Ｏ−アシルオキシム化合物およびアセトフェノン化合物よりなる群から選択される少なくとも１種を含有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
7. 液晶表示素子のスペーサーまたは保護膜を形成するために用いられる、請求項１〜６のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
8. 少なくとも下記（１）〜（４）の工程を、下記に記載の順で含むことを特徴とする、液晶表示素子のスペーサーの形成方法。
   （１）請求項１〜６のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物の被膜を基板上に形成する工程。
   （２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程。
   （３）放射線照射後の被膜を現像する工程。
   （４）現像後の被膜を加熱する工程。
9. 請求項８に記載の方法により形成された液晶表示素子のスペーサー。
10. 請求項９に記載のスペーサーを具備することを特徴とする、液晶表示素子。
11. 少なくとも下記（１）〜（４）の工程を、下記に記載の順で含むことを特徴とする、液晶表示素子の保護膜の形成方法。
    （１）請求項１〜６のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物の被膜を基板上に形成する工程。
    （２）該被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程。
    （３）放射線照射後の被膜を現像する工程。
    （４）現像後の被膜を加熱する工程。
12. 請求項１１に記載の方法により形成された液晶表示素子の保護膜。
13. 請求項１２に記載の保護膜を具備することを特徴とする、液晶表示素子。