JP5108343B2 - 光記録媒体 - Google Patents

Description

本発明はスタンパを使用して作製された光記録媒体（光情報記録媒体）に関する。本発明の応用分野としては、例えばＤＶＤ＋Ｒディスク、ＤＶＤ−Ｒディスク、ＨＤ ＤＶＤ−Ｒディスク、ＢＤ−Ｒディスクが挙げられる。

光記録媒体として、例えばＣＤ(Compact Disc)、ＭＤ(Mini Disc)、ＤＶＤ(Digital Versatile Disc)など各種の記録媒体が提案されている。これらの光記録媒体は、一般的にＰＣ(ポリカーボネート)等より成る光透過性の基板上に、例えば記録トラックに沿ってグルーブ(案内溝)、ピットなどが形成され、この上に例えば反射層、各種の記録層、保護層などが形成された構成とされる。

ところで、本発明が関係する先行発明として、下記特許文献１〜５に記載されたものがある。特に、特許文献５には、ランドプリピットがグルーブの一部である蛇行部分によって構成されている光記録媒体が開示されている。

従来より色素材料を記録層とするＤＶＤ−Ｒなどにおいては、グルーブのウォブル振幅に対応してランド部にピットを形成するいわゆるランドプリピット（ＬＰＰ：Land Pre Pit）を設け、このＬＰＰ（ランドプリピット）によりデータ記録時の高精度の位置決めを行うとか、記録アドレスやその他の記録に必要な情報の取得を行うフォーマットを採用している(例えば特許文献１及び特許文献２参照)。

ところが、ＤＶＤ−Ｒにおいては、このＬＰＰを設けることによるＰＩ(Parity of Inner-code)エラーの悪化が問題となっている。これに対する対策として、例えばＬＰＰの形状を特異的に微小化するフォーマットも考えられるが、ＬＰＰ自体の変調度(ＬＰＰｂ)の低下、またＡＲ特性（記録後再生波形特性）の安定性能の確保が困難となる。

ここで図１〜図３に、光記録媒体の基板に形成されたランドプリピット２０の形状を概略的に示した模式図を示す。なお、図１〜図３においては、図面の見やすさを考慮して、グルーブがウォブリングしている様子は省略され、直線的に描かれている。
図１は、ランドプリピット２０をランド１１の略中央に独立して形成した例、
図２は、ランドプリピット２０を内周側にずらして形成した例、
図３は、はランドプリピット２０を、グルーブ１２の一部である蛇行部分によって構成した例である。
各例は特許文献３(上記図１の場合)、特許文献４(上記図２の場合）、特許文献５(上記図３の場合）に示されている。

ランドプリピット２０の大きさについては、図１〜図３に示すようにトラック方向のランドプリピットの長さをＬｗ、トラック方向に垂直な方向のランドプリピットの長さをＡｗとしている。
また一般的に、図１のようにランドプリピットがランド１１の略中央に独立して形成された基板を製造する場合や、図２のように、ランドプリピットを内周側にずらして形成された基板を製造する場合、用いる光記録媒体用原盤（スタンパ）は、グルーブを形成するためのレーザビームとは別に、ランドプリピットを形成するためのレーザビームを用いてカッティングされたフォトレジスト原盤の転写によって作製される。このように、グルーブ形成用のレーザビームとランドプリピット形成用のレーザビームの、２つのレーザビームを用いてフォトレジスト原盤をカッティングし、光記録媒体用原盤を作製する方法は「２ビームカッティング法」と呼ばれることがある。

これに対し、図３に示すように、ランドプリピットをグルーブの一部である蛇行部分によって構成された基板を製造する場合、基板の製造に用いる光記録媒体用原盤は、単一のレーザビームを用いてカッティングされたフォトレジスト原盤の転写によって作製される。この場合、ランドプリピットを形成すべき部分においては、レーザビームの照射位置が外周側に大きくずらされ、これによりグルーブの一部である蛇行部分をランドプリピットとすることができる。このように、単一のレーザビームを用いてフォトレジスト原盤をカッティングし、光記録媒体用原盤を作製する方法は、「１ビームカッティング法」と呼ばれることがある。

このように、ランドプリピットを備える光記録媒体を製造する場合、その基板の製造に用いる光記録媒体用原盤は、２ビームカッティング法又は１ビームカッティング法によって作製することが可能である。こうした光記録媒体用原盤（スタンパ）から射出成形によって成形された基板上に記録層、反射層を作製し光情報記録媒体を作製する。

ここで、基板成形時、外周部の転写性が十分でない場合が多い。この場合において、外周部での溝特性等の項目で規格外れになる可能性がある。特に１ビームカッティング法によって蛇行形状のランドプリピットが形成されたスタンパを用いて基板を成形した場合、スタンパ上で内周部のランドプリピットと外周部のランドプリピットとを同一の長さに形成しておくと、基板上で内周部と外周部においてランドプリピットのＬｗ(トラック方向の長さ)を比較した時に、外周部では長さが短くなり、外周部でのＬＰＰ信号が小さくなってアドレス位置の読み取り等で不具合を生じやすくなる。

特開２０００−３５３３４２号公報 特開２００１−２９１２８３号公報 特開２００２−３２９１８号公報 特開２００１−１１８２８８号公報 特開２００２−２５１２１号公報

本発明は、従来技術の上記事情に鑑みなされたもので、その主な目的はＬＰＰ信号、ジッターやＰＩエラー等の種々のパラメータを総合的に満足する光記録媒体を提供することである。
したがって、本発明の他の目的は、このような光記録媒体を製造することができるスタンパを射出成形に用いて得られる基板による光記録媒体の製造方法を提供することである。

上記課題は、次の発明によって解決される。

ウォブルグルーブ及びランドプリピットが形成された基板を有する光記録媒体を製造するためのスタンパであって、その表面に少なくとも前記ウォブルグルーブ及び前記ランドプリピットが形成され、前記ランドプリピットが前記ウォブルグルーブの一部である蛇行部分によって構成されており、前記ランドプリピットの前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗとしたときに内周部から外周部に向かって、長さＬｗが長くなっているスタンパを用いて射出成形した基板と、前記基板上に設けられ、下記化学式（１）で表されるスクアリリウム色素と下記化学式（２）で表されるホルマザンキレート色素を７：３の混合割合で含有する記録層と、を備え、前記スタンパに形成された前記ランドプリピットにおいて内周部（Ｒ＝２４ｍｍ）での前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗ_ｉｎとし、外周部（Ｒ＝５８ｍｍ）での前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗ_ｏｕｔとしたときに、Ｌｗ_ｏｕｔのＬｗ_ｉｎに対する比：Ｌｗ_ｏｕｔ／Ｌｗ_ｉｎが１．１０以上、１．３０以下であり、且つ、（Ｌｗ_ｏｕｔ＋Ｌｗ_ｉｎ)／２が８５０ｎｍ以上、１１５０ｎｍ以下であり、前記スタンパを用いて射出成形した基板は、前記ランドプリピットにおいて内周部（Ｒ＝２４ｍｍ）での前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗ_ｉｎとし、外周部（Ｒ＝５８ｍｍ）での前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗ_ｏｕｔとしたときに、Ｌｗ_ｏｕｔのＬｗ_ｉｎに対する比：Ｌｗ_ｏｕｔ／Ｌｗ_ｉｎが１．００以上、１．１０以下であり、且つ、（Ｌｗ_ｏｕｔ＋Ｌｗ_ｉｎ)／２が７００ｎｍ以上、１１５０ｎｍ以下であることを特徴とする光記録媒体。

本発明によれば、例えばＤＶＤ−Ｒとして、ジッター８％未満、ＰＩエラー２８０未満、ＢＬＥＲ５％未満、ＡＲ特性１５以上のものが容易に、かつ歩留まりよく製造することができる。

以下、本発明の実施形態について説明する。
なお、本発明は以下の実施形態や実施例に限定されるものではなく、その他記録層材料、構成などの異なる光記録媒体及び光記録媒体製造用スタンパに適用することが可能であり、ランドプリピットを設ける各種の光記録媒体において、本発明構成を逸脱しない範囲で種々の変形、変更が可能である。

＜スタンパの製造工程＞
まず、本発明で用いるスタンパの製造工程の一例について、図面を参照して説明する。図４（Ａ）〜（Ｆ）は、従来と同様の光記録媒体製造用スタンパの製造工程を示す工程図である。
まず、図４（Ａ）に示すように、表面洗浄されたガラス等より成る原盤用の基板６１に、図示しないがカップリング剤等を介してフォトレジスト等の感光層６２を塗布する。この感光層６２に対して後述する図５に示す光学記録装置を用いて、情報に対応するピット形状、または光記録媒体にグルーブを設ける場合はその形状に対応する露光を行って潜像を形成し、現像工程を経てず４（Ｂ）に示すように、所定の情報信号に対応するグルーブパターン６３ａ及びランドプリピットパターン６３ｂを形成し、いわゆるガラス原盤を作製する。

そして、このガラス原盤の凹凸パターン面、即ち信号形成面上を覆って、例えば無電界メッキ法等により薄い導電化膜を形成した後、電気メッキ法等によって図４（Ｃ）に示すようにメッキ層６４ａを形成する。その後、図４（Ｄ）に示すように、メッキ層を剥離してスタンパ６４（いわゆるマスタースタンパ）を形成する。
そしてこの後、所定の剥離剤等を塗布した後、同様にスタンパ６４に無電界メッキ、電気メッキを施して、図４（Ｅ）に示すように凹凸パターンが転写されたいわゆるマザースタンパ６５を形成し、更にこのマザースタンパ６５から同様の工程により、図４（Ｆ）に示すようにグルーブパターン６６ａ及びランドプリピットパターン６６ｂが形成されたサンスタンパ６６を得ることができる。このサンスタンパ６６を多数用意することによって、射出成形法、２Ｐ法等により光記録媒体製造用基板を生産性良く製造することができる。

なお、上述のガラス原盤に対する光学記録は、図５に概略構成を示す一般的な光学記録装置により行うことができる。
Ｋｒレーザ発振器２０１は露光用光ビームを発生する。レーザ発振器２０１から発せられた光ビームは反射ミラー２０３，２０４にて各々反射されて対物レンズ２０５に入射し、対物レンズ２０５を通過した光ビームは記録原盤２０６上に照射される。反射ミラー２０２及び２０３間にはＡＯ変調器(Acoustic Optical Modulator)２０７ａが設けられており、ＦＭ変調器２０７から供給される記録すべき映像信号や音声信号などの信号をＡＯ変調器２０７ａによって、光ビームが該信号に応じて変調を受ける。

ＡＯ変調器２０７ａとして、非平行面を出入射面とするウェッジプリズム、ＡＯＤ（光響光学偏向器）又は回転ミラーが使用される。ＡＯＤは例えば、約３００ＭＨｚの中心周波数の高周波電気信号を入力し、その中心周波数を変化させることによって、１次回折光の回折角度が変化することを利用するものである。一方、ウェッジプリズム及び回転ミラーを使用するものとしては、これらを回動駆動するＤＣモータ、ステッピングモータ、ピエゾ素子などの駆動系を制御して、その屈折光及び反射光の偏向を用いる。変調された露光用光ビームにより、回転する記録原盤２０６上のポジ型フォトレジスト層が露光される。また、反射ミラー２０３及び２０４間には光ビームエキスパンダ２０８が設けられており、これによって対物レンズ２０５のレンズ一杯にビームを入射させるために光ビーム径が拡大される。

一方、対物レンズ２０５を駆動しフォーカスサーボをなすためにＨｅＮｅレーザ発振器２１０を含むフォーカスサーボ用光学系が光ディスクカッティング装置に用いられている。レーザ発振器２１０から発せられた光ビームは反射ミラー２１１及びダイクロイックミラー２１２によって各々反射され露光用光ビームに合流後、反射ミラー２０４に入射する。対物レンズ２０８を通過した光ビームは記録原盤２０６上に照射される。なお、レーザ発振器２１０のフォーカス用光ビームは、記録原盤２０６を露光することがないよう、その波長及び強度が選定されている。反射ミラー２１１及びダイクロイックミラー２１２間には偏光ビームスプリッタ２１３が設けられており、記録原盤２０６からの反射光は対物レンズ２０５を通過して反射ミラー２０４及びダイクロイックミラー２１２によって反射され、偏光ビームスプリッタ２１３によって反射されてシリンドリカルレンズ２１４を介して４分割光ディテクタ２１５に供給される。光ディテクタ２１５の各出力信号はフォーカスサーボ制御回路２１６に供給され、フォーカスサーボ制御回路２１６は光ディテクタ２１５の各出力信号に応じて対物レンズ２０５のアクチュエータ２１７を駆動する。

さらにまた、記録原盤２０６を保持しこれを回転せしめるターンテーブル２１９を回転せしめるスピンドルモータ２２０の回転を制御するスピンドルサーボ回路２２１と、対物レンズ２０５を含む光学系などを担持する光ヘッドを記録原盤２０６の半径方向において移動せしめる駆動モータ２２２の回転を制御するする光ヘッド送りサーボ回路２２３とが、光ディスクカッティング装置に備えられている。

かかる光ディスクカッティング装置においては、コントローラ２６０による発振器２０１、変調器２０７、サーボ系２１６，２２１，２２３の制御によって、ＬＰＰ信号を重畳したウォブリング信号で変調された１つの光ビームで、記録原盤のポジ型フォトレジスト層に照射露光し、ポジ型フォトレジスト層の露光部分をピットとしてエッチング、現像してトラックを形成している。

まず、光ディスクカッティング装置に、ガラス円盤２０６ａの主面上にフォトレジスト層２０６ｂを形成した記録原盤２０６を、レーザーカッティング装置のターンテーブル２１９に載置する。その後、テーブルを回転させ、図６に示すように、光ビームＬａを、原盤上を螺旋又は同心円状に相対移動させつつ、ＬＰＰ信号を重畳したウォブリング信号で変調されたカッティング光ビームＬａをフォトレジスト層２０６ｂ上に集光せしめ、カッティング光ビームのスポットを、グルーブトラック１２に対し垂直な方向に偏倚させ、偏倚したスポットを、グルーブトラック１２を元の位置に復帰させることにより、トラックの潜像をフォトレジスト層２０６ｂに形成する。この時、ＬＰＰ信号重畳ウォブリング信号を用いているので、カッティング光ビームスポットは一定間隔で第１振幅よりも大なる第２振幅で揺動する。

次に、露光したフォトレジスト原盤を現像装置に装着し、これを現像して潜像部分を除去する。図３に示すように、原盤において、グルーブトラックの側面から蛇行した部分がランドプリピット２０として形成される。
次に、ポストベークで定着させた後、フォトレジスト層２０６ｂ上にニッケル又は銀などの導電膜をスパッタリング又は蒸着などによって形成し、例えばニッケル電鋳によりニッケルスタンパを形成して、該スタンパをガラス盤２０６ａから分離して、ニッケルスタンパを得る。該スタンパによって、例えば射出成形法や、いわゆる２Ｐ法により、図３に示すものと同一の所定プリ情報を有した樹脂光ディスク基板のレプリカが作製される。

また今回、露光原盤作製時において図６のカッティング光ビームスポットをグルーブトラック１２に対し垂直な方向に偏倚させる時間を面内で調整することで、図３のＬｗを内周部から外周部にかけて長くした。
この図３では、長さＬｗのランドプリピットを有するグルーブトラック１２が１本しか示されていないが、スタンパ全体としては当然に多数本のグルーブトラックが形成されており、これらのグルーブトラックが有するランドプリピットの長さＬｗを比較すると、スタンパの内周部から外周部にかけて順に長くなっている点に特徴がある。つまり、本発明の実施形態に係るスタンパは、図３に示す構造のスタンパを改良したものと言える（下記表１を参照）。
このことにより、作製されたスタンパを用いて成形板を作製した場合に、内周部と外周部においてランドプリピットのＬｗ(トラック方向の長さ)を比較した時に、内周部と外周部で長さが同程度以上になり、外周部でのＬＰＰ信号が小さくなってアドレス位置の読み取り等で不具合を起こすという問題を解消することができた。

具体的なランドプリピット形状としては、内周部（Ｒ＝２４ｍｍ）での前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗ_ｉｎ、外周部（Ｒ＝５８ｍｍ）での前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗ_ｏｕｔとしたときに、Ｌｗ_ｏｕｔ／Ｌｗ_ｉｎを１．１０以上、１．３０以下とすることが好ましい。この範囲を外れて１．１０より小さいと、外周部でのＬＰＰ信号が小さくなりアドレス位置の読み取り等で不具合を起こしやすくなり、１．３０より大きくになると、外周部でのジッタやＰＩエラー等で不具合を起こしやすくなる。

更に、(Ｌｗ_ｏｕｔ＋Ｌｗ_ｉｎ)／２が８５０ｎｍ以上、１１５０ｎｍ以下であることが好ましい。この範囲を外れて８５０ｎｍより小さいと、面内においてＬＰＰ信号が小さくなりアドレス位置の読み取り等で不具合を起こしやすくなり、１１５０ｎｍより大きいと、面内においてジッタやＰＩエラー等で不具合を起こしやすくなる。

また図３のＡｗすなわち、(Ａｗ(ｉｎ)＋Ａｗ(ｏｕｔ))／２については１００以上、２００ｎｍ以下が好ましい（下記表１を参照）。任意のあるランドプリピットに着目した場合、上記Ａｗ(ｉｎ)はその内周側のＡｗの値を示し、上記Ａｗ(ｏｕｔ)はその外周側のＡｗの値を示している。
Ａｗが上記範囲を外れて１００ｎｍより小さいと、面内においてＬＰＰ信号が小さくなりアドレス位置の読み取り等で不具合を起こしやすくなり、２００ｎｍより大きいと、面内においてジッタやＰＩエラー等で不具合を起こしやすくなる。

＜ディスク構成＞
本発明の光記録媒体の実施形態について説明する。なお、本発明の実施形態は以下に説明するものに限ったものではなく、２層ディスクにも適用可能である。

層構成は図７に示すとおりである。ここで符号１は基板、２は有機色素からなる記録層、３は反射層、４は保護層、５は接着層、６はカバー層である。

以下に、本発明の光情報記録媒体に用いるその他の層材料について具体的に説明する。
[基板]
基板は、基板側から記録再生を行なう場合には使用レーザに対して透明でなければならないが、記録層側から記録再生を行なう場合には透明である必要はない。
基板材料としては、例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などのプラスチック、或いは、ガラス、セラミック、金属などを用いることができる。
なお、基板の表面にはトラッキング用の案内溝や案内ピット、更にアドレス信号などのプリフォーマットが形成されていても良い。また溝形状は、溝深さ：１０００〜２０００Å、溝幅（底幅）：０．２〜０．３μｍが好ましい。スピンコート製膜の場合には溝内に色素が充填される傾向があるため、第１記録層と第１反射層の界面形状はこの充填量と基板溝形状により決定されるので、界面反射を利用するには上記範囲が適している。

またランドプリピット形状としては、内周部（Ｒ＝２４ｍｍ）での前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗ_ｉｎ、外周部（Ｒ＝５８ｍｍ）での前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗ_ｏｕｔとしたときに、Ｌｗ_ｏｕｔ／Ｌｗ_ｉｎを１．００以上、１．１０以下とすることが好ましい。この範囲を外れて１．００より小さいと、外周部でのＬＰＰ信号が小さくなり、アドレス位置の読み取り等で不具合を起こしやすくなる。１．１０より大きくなると、外周部でのジッターやＰＩエラー等で不具合を起こしやすくなる。

更に、(Ｌｗ_ｏｕｔ＋Ｌｗ_ｉｎ)／２が７００ｎｍ以上、１１５０ｎｍ以下であることが好ましい。この範囲を外れて７００ｎｍより小さいと、面内においてＬＰＰ信号が小さくなりアドレス位置の読み取り等で不具合を起こしやすくなり、１１５０ｎｍより大きいと、面内においてジッターやＰＩエラー等で不具合を起こしやすくなる。

[記録層]
記録層はレーザ光の照射により何らかの光学的変化を生じさせ、その変化により情報を記録するものであり、その材料としては有機色素を主成分とするものを用いる。ここで、主成分とは、記録再生に必要十分な量の有機色素を含有することを意味するが、通常は、必要に応じて適宜添加する少量の添加剤を除き、有機色素のみを用いる。

有機色素の例としては、アゾ系、ホルマザン系、ジピロメテン系、（ポリ）メチン系、ナフタロシアニン系、フタロシアニン系、テトラアザポルフィリン系、スクアリリウム系、クロコニウム系、ピリリウム系、ナフトキノン系、アントラキノン系（インダンスレン系）、キサンテン系、トリフェニルメタン系、アズレン系、テトラヒドロコリン系、フェナンスレン系、トリフェノチアジン系色素、或いはそれらの金属錯体などが挙げられる。中でも好ましいのは、アゾ（金属キレート）色素、ホルマザン（金属キレート）色素、スクアリリウム（金属キレート）色素、ジピロメテン（金属キレート）色素、トリメチンシアニン色素、テトラアザポルフィリン色素である。

また、シアニン色素と、スクワリリウム金属キレート化合物は、ＤＶＤ用記録材料として優れた性能を有する。

シアニン色素化合物としては、従来使用されている化合物がそのまま使用できる。特許第２５９４４４３号公報、特許第３６９８７０８号公報、特許第３６５９９２２号公報に開示されている材料などである。
上記色素は熱分解特性として、分解開始温度１００〜３６０℃のものが好ましく、１００〜３５０℃のものが特に好ましい。分解開始温度が３６０℃を越えると記録時のピット形成がうまく行われずジッター特性が悪くなる。また、１００℃未満であるとディスクの保存安定性が悪化する。

上記色素には光学特性、記録感度、信号特性などの向上の目的で他の有機色素、金属、金属化合物を混合してもよく、或いは色素層と他の有機色素、金属、金属化合物からなる層を積層しても良い。このような金属、金属化合物の例としては、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｂｅ、ＴｅＯ₂ 、ＳｎＯ、Ａｓ、Ｃｄなどが挙げられ、それぞれを分散混合するか或いは積層して用いることができる。
更に、上記染料中に高分子材料、例えばアイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の材料、或いはシランカップリング剤などを分散混合しても良いし、特性改良の目的で安定剤（例えば遷移金属錯体）、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤などを一緒に用いることも出来る。

記録層の形成は、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、溶剤塗布などの通常の手段によって行うことができる。
塗布法を用いる場合には、上記染料などを有機溶剤に溶解し、スプレー、ローラーコーティグ、ディッピング、スピンコーティングなどの慣用のコーティング法によって行うことが出来る。用いられる有機溶媒としては一般にメタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類；クロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエタン、四塩化炭素、トリクロルエタンなどの脂肪族ハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、キシレン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼンなどの芳香族類；メトキシエタノール、エトキシエタノールなどのセロソルブ類；ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの炭化水素類などが挙げられる。

好ましい色素膜厚は、４〜１００ｎｍである。色素膜厚がこの範囲よりも薄いと信号変調度（コントラスト）が得難く、反対に厚いとマークの形状が揃い難くジッターが増加し易いためである。

[反射層]
反射層材料としては、レーザー光波長に対する反射率の高い物質が好ましく、その例としては、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｐｄ、Ｚｒ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｗ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｉｎから選ばれた少なくとも１種の金属及び半金属を挙げることができる。中でも、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕの何れかを主成分とし、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｐｄ、Ｚｒ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｗ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｉｎから選ばれた少なくとも１種を０．１〜１０重量％添加した合金が好ましく、特にＩｎが好ましい（合金であるから、当然ながらＡｕとＡｕ、ＡｇとＡｇ、ＣｕとＣｕの組合せは除く）。０．１重量％以上添加することにより、結晶粒が微細化し耐蝕性に優れた薄膜となる。しかし、１０重量％を超えて添加すると反射率が低下するため好ましくない。母材としてはスパッタレートが高いＡｇが最も好ましく、添加物としては屈折率ｎが小さく吸収係数ｋが大きいＡｕ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｉｎが特に好ましい。

Ａｇは全元素中で最もｎが小さく光利用効率が最も高いので、その特性を損なわないようにするためには、添加物の総量を５重量％以下にすることが特に好ましい。
更に、前述したＡｕ、Ａｇ、Ｃｕの何れかを主成分とする合金からなる第１反射層上に上記と同様の補助層を積層する場合には、まず合金からなる反射層をスパッタリングにより形成し、続いて上記と同様にして補助層を積層すればよい。
好ましい反射層膜厚は５〜５００ｎｍであり、特に好ましくは１０〜３００ｎｍである。５ｎｍよりも薄いと充分なウォブル特性が得られず、５００ｎｍより厚いとジッター特性が悪くなる。

[透明中間層]
透明中間層は接着層として用いることが好ましく、その材料としては既存のアクリレート系、エポキシ系、ウレタン系の紫外線硬化型又は熱硬化型接着剤等が使用できる。更に、透明シートにより貼り合わせる方法でも良い。膜厚は４５〜７０μｍの範囲にすることが好ましい。この範囲を外れると再生光であるレーザー光を第１又は第２情報記録層上に焦点が来るように絞り、反射光を検出することにより各情報記録層の信号を再生することが難しくなる。

以下、本発明に係る光記録媒体の各実施例、および比較例について、図面を参照して詳細に説明する。各実施例は、図７で説明したＤＶＤ−Ｒ型構成の光記録媒体に本発明を適用したものである。

＜実施例１〜７、比較例１＞
スタンパ作製時の面内（Ｒ＝２４ｍｍ、４０ｍｍ、５８ｍｍ）のランドプリピット形状・溝形状を下記表１に示す。ランドプリピット形状・溝形状ともに原子間力顕微鏡（ＡＦＭ、ナノテクノロジー製)を用いてスタンパ作製時に評価を行った。なお、表１において、例えば実施例１〜４は、前述のように規定されたそれぞれの数値限定条件を全て満たしているものである。

上記スタンパを用いて、ＰＣ（ポリカーボネート）を基板材料として射出成形を行った。またこのとき作製した基板のランドプリピット形状・溝形状についてもスタンパ作製時に評価を行った（上記表１を参照）。作製された基板上に色素記録層を形成し、更にこの上にＡｇより成る反射層、紫外線硬化樹脂より成る保護層を形成して光記録媒体を構成した。また、ウォブルグルーブの幅は３２０ｎｍ、トラックピッチは７４０ｎｍとした。

この基板上に、下記化学式（１）のスクアリリウム色素と、下記化学式（２）のホルマザンキレート色素を７：３の割合で混合し、２，２，３，３−テトラフルオルプロパノールに溶解した塗布液をスピンコートすることにより、厚さ５０ｎｍ（５００Å）の第１記録層を形成した。次に、第１記録層上に、Ａｒをスパッタガスとして、スパッタリング法により厚さ１００ｎｍ（１０００Å）のＡｇからなる反射層を成膜した。更に、この反射層上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、当該紫外線硬化樹脂に対して紫外線を照射し硬化させることにより、膜厚１０μｍの保護層を形成した。次いで、上記基板とカバー板（ＰＣ）とを、紫外線硬化型接着剤（日本化薬株式会社製、ＫＡＲＡＹＡＤ ＤＶＤ５７６）で貼り合わせ、図７に示すＤＶＤ−Ｒ型の光記録媒体を作製した。

次に、上述の実施例１〜７、比較例１における各光記録媒体に対し、ＤＶＤ−Ｒ対応の評価装置、すなわち再生用光の波長λが６５０ｎｍ、対物レンズの開口数ＮＡが０．６０±０．０５の評価装置を用いて、ジッター（％）、ＰＩエラー、ＢＬＥＲ（％）、ＡＲ特性、ＬＰＰｂ（変調度）を測定した。また評価条件については６×速度（２０．９４ｍ／ｓ）の条件でＤＶＤ（８−１６）信号を記録した。記録条件はＤＶＤ−Ｒ規格に準じたパルス発光パターンを採用した。

この結果を下記表２に示す。なお、例えばＤＶＤ−Ｒにおいては、ジッター８％未満、ＰＩエラー２８０未満、ＢＬＥＲ５％未満、ＡＲ特性１５以上とするように規格が選定されている。従って、下記表２の結果から上述の各実施例における本発明構成の光記録媒体は、規格内の良好なエラー特性、再生特性を示すことが明らかである。

光記録媒体に形成されたランドプリピットの一具体例を概略的に示す模式図である。 光記録媒体に形成されたランドプリピットの別の具体例を概略的に示す模式図である。 光記録媒体に形成されたランドプリピットの更に別の具体例を概略的に示す模式図である。 スタンパの製造工程を順に示す断面図である。 光ディスク原盤作製用の光ディスクカッティング装置の構成を示すブロック図（光学記録装置のブロック図）である。 本発明に係る光ディスク原盤の一部を示す概略斜視図である。 本発明に係る光記録媒体の層構成を示す断面図である。

符号の説明

１：基板
２：記録層
３：反射層
４：保護層
５：接着層
６：カバー層
１１：ランド
１２：グルーブトラック
１３：ビームスポットの軌跡（trace of beam spot）
（グルーブ中心線）
２０：ランドプリピット（ＬＰＰ）
６１：基板
６２：感光層
６３ａ：グルーブパターン
６３ｂ：ランドプリピットパターン
６４：スタンパ（マスタスタンパ）
６４ａ：メッキ層
６５：マザースタンパ
６６：サンスタンパ
６６ａ：グルーブパターン
６６ｂ：ランドプリピットパターン
Ｌａ：光ビーム
２０６：記録原盤
２０６ａ：ガラス円盤
２０６ｂ：フォトレジスト層
Ｌａ：光ビーム
Ａｗ：ランドプリピットの大きさ
（トラック方向に垂直な方向の長さ）
Ｌｗ：ランドプリピットの大きさ
（トラック方向の長さ）
Ａｗ（ｉｎ）：内周側のＡｗ寸法
Ａｗ（ｏｕｔ）：外周側のＡｗ寸法
Ｗ（Ｇ）：グルーブの幅
Ｗ（ＬＰＰ）：ＬＰＰの幅

Claims (1)

1. ウォブルグルーブ及びランドプリピットが形成された基板を有する光記録媒体を製造するためのスタンパであって、その表面に少なくとも前記ウォブルグルーブ及び前記ランドプリピットが形成され、前記ランドプリピットが前記ウォブルグルーブの一部である蛇行部分によって構成されており、前記ランドプリピットの前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗとしたときに内周部から外周部に向かって、長さＬｗが長くなっているスタンパを用いて射出成形した基板と、
   前記基板上に設けられ、下記化学式（１）で表されるスクアリリウム色素と下記化学式（２）で表されるホルマザンキレート色素を７：３の混合割合で含有する記録層と、を備え、
   前記スタンパに形成された前記ランドプリピットにおいて内周部（Ｒ＝２４ｍｍ）での前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗ_ｉｎとし、外周部（Ｒ＝５８ｍｍ）での前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗ_ｏｕｔとしたときに、Ｌｗ_ｏｕｔのＬｗ_ｉｎに対する比：Ｌｗ_ｏｕｔ／Ｌｗ_ｉｎが１．１０以上、１．３０以下であり、且つ、（Ｌｗ_ｏｕｔ＋Ｌｗ_ｉｎ)／２が８５０ｎｍ以上、１１５０ｎｍ以下であり、
   前記スタンパを用いて射出成形した基板は、前記ランドプリピットにおいて内周部（Ｒ＝２４ｍｍ）での前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗ_ｉｎとし、外周部（Ｒ＝５８ｍｍ）での前記ウォブルグルーブに沿う方向の長さをＬｗ_ｏｕｔとしたときに、Ｌｗ_ｏｕｔのＬｗ_ｉｎに対する比：Ｌｗ_ｏｕｔ／Ｌｗ_ｉｎが１．００以上、１．１０以下であり、且つ、（Ｌｗ_ｏｕｔ＋Ｌｗ_ｉｎ)／２が７００ｎｍ以上、１１５０ｎｍ以下であることを特徴とする光記録媒体。
   

   

   
   

   

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