JP5080910B2 - アレイ製造方法、シンチレータアレイ - Google Patents
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Description
110 シンチレータ結晶
120 樹脂
210 下端保持治具
220 上端保持治具
230 樹脂型枠
Claims (15)
- 複数のシンチレータ結晶を有するシンチレータアレイを製造するためのアレイ製造方法であって、
放射線が入射すると内部で蛍光が発生する細長形状の複数の前記シンチレータ結晶を形成し、
複数の前記シンチレータ結晶を長手方向と直交する方向に二次元状に所定間隔で配列し、
配列された複数の前記シンチレータ結晶の周囲を型枠で包囲し、前記型枠で包囲された領域に樹脂と溶媒とを混合した混合液を充填することで、複数の前記シンチレータ結晶の間隙及び複数の前記シンチレータ結晶の周囲に前記混合液を充填し、
前記混合液から前記溶媒を減圧除去して前記樹脂を凝固させることで、凝固した前記樹脂が、複数の前記シンチレータ結晶の間隙を埋めるとともに、複数の前記シンチレータ結晶の周囲を包囲しているシンチレータアレイを形成することを特徴とするアレイ製造方法。 - 前記混合液に反射材の粉末を混入させておくことを特徴とする請求項1に記載のアレイ製造方法。
- 前記反射材の粉末が、BaSO4,TiO2,Al2O3,MgO,の少なくとも一つからなることを特徴とする請求項2に記載のアレイ製造方法。
- 前記反射材の粉末の平均粒径が1μm以下であることを特徴とする請求項2または3に記載のアレイ製造方法。
- 前記混合液の組成比は、前記反射材の重量部100に対して前記樹脂の重量部が5以下であることを特徴とする請求項2ないし4の何れか一項に記載のアレイ製造方法。
- 前記樹脂は、アクリル樹脂,ポリビニルアルコール,シリコーン樹脂,エポキシ樹脂,の少なくとも一つからなることを特徴とする請求項1ないし5の何れか一項に記載のアレイ製造方法。
- 発光波長が400nm以下の前記蛍光を発生する前記シンチレータ結晶を形成することを特徴とする請求項1ないし6の何れか一項に記載のアレイ製造方法。
- 前記型枠で包囲された領域に前記混合液を充填する処理は、
前記シンチレータ結晶が長手方向と直交する方向に移動することを抑制するように前記シンチレータ結晶の下端を保持した状態で行われる請求項1ないし7の何れか一項に記載のアレイ製造方法。 - 前記型枠で包囲された領域に前記混合液を充填する処理は、
前記シンチレータ結晶が長手方向と直交する方向に移動することを抑制するように前記シンチレータ結晶の上端を保持した状態で行われる請求項1ないし8の何れか一項に記載のアレイ製造方法。 - 反射材の粉末が混入された所定形状の樹脂と、
放射線が入射すると内部で蛍光が発生する細長形状の複数のシンチレータ結晶と、を有し、
前記複数のシンチレータ結晶は、長手方向と直交する方向に二次元状に所定間隔で配列されており、
前記樹脂は、複数の前記シンチレータ結晶の間隙を埋める部分と、複数の前記シンチレータ結晶の周囲を包囲する部分を有し、これら2つの部分が一体形成されているシンチレータアレイ。 - 前記反射材の粉末が、BaSO4,TiO2,Al2O3,MgO,の少なくとも一つからなることを特徴とする請求項10に記載のシンチレータアレイ。
- 前記反射材の粉末の平均粒径が1μm以下であることを特徴とする請求項10または11に記載のシンチレータアレイ。
- 前記樹脂は、アクリル樹脂,ポリビニルアルコール,シリコーン樹脂,エポキシ樹脂,の少なくとも一つからなることを特徴とする請求項10ないし12の何れか一項に記載のシンチレータアレイ。
- 前記シンチレータ結晶は、前記蛍光の発光波長が400nm以下であることを特徴とする請求項10ないし13の何れか一項に記載のシンチレータアレイ。
- 請求項1ないし9の何れか一項に記載のアレイ製造方法で製造されていることを特徴とする請求項10ないし14の何れか一項に記載のシンチレータアレイ。
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ES2784538T3 (es) * | 2003-05-30 | 2020-09-28 | Siemens Medical Solutions Usa Inc | Método para la fabricación de un componente de detector utilizando tecnología láser |
DE10335125B4 (de) * | 2003-07-31 | 2007-09-13 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung eines Leuchtstoffkörpers für einen Röntgendetektor |
DE102004059434A1 (de) * | 2004-12-09 | 2006-06-14 | Siemens Ag | Strahlungsdetektor |
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