JP5074381B2 - Uvc放射線発生素子 - Google Patents
Uvc放射線発生素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5074381B2 JP5074381B2 JP2008506026A JP2008506026A JP5074381B2 JP 5074381 B2 JP5074381 B2 JP 5074381B2 JP 2008506026 A JP2008506026 A JP 2008506026A JP 2008506026 A JP2008506026 A JP 2008506026A JP 5074381 B2 JP5074381 B2 JP 5074381B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phosphor
- ultraviolet radiation
- generating element
- discharge
- radiation generating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/77—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals
- C09K11/7766—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals containing two or more rare earth metals
- C09K11/7777—Phosphates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/77—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/66—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing germanium, tin or lead
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/66—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing germanium, tin or lead
- C09K11/668—Sulfates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
- C09K11/77—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals
- C09K11/7766—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals containing two or more rare earth metals
- C09K11/778—Borates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/04—Electrodes; Screens; Shields
- H01J61/06—Main electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/38—Devices for influencing the colour or wavelength of the light
- H01J61/42—Devices for influencing the colour or wavelength of the light by transforming the wavelength of the light by luminescence
- H01J61/44—Devices characterised by the luminescent material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/046—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using capacitive means around the vessel
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
- Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Discharge Lamp (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Description
-ランプを任意に設計できること
-長寿命
-温度依存が小さいこと
-様々な異なる使用領域に対してスペクトル出力分布を最適化することが可能なこと
本発明の一の実施例では、リン光体は、0.01mol%から10mol%の量の活性剤を有する。
20gのY2O3、0.64463gのSc2O3、及び0.2184gのBi2O3が水ベースの懸濁物に加えられる。ゆっくりと22.692gのH3PO4(85%)が加えられる。混合物は室温で24時間攪拌される。溶媒は回転式蒸発器を用いることによって除去される。残った固体は100℃で乾燥される。粉末を乳鉢中で挽きながら0.400gのLiFが加えられる。焼成は、以下の温度プロファイルを用いて実行される。その温度プロファイルは、2時間で800℃まで加熱し、2時間保持し、2時間で1000℃まで加熱し、2時間保持し、最後は4時間欠けて室温まで冷却する。その結果生成された生成物は、メノウ乳鉢を用いて再度挽かれる。その後、600ml水中で140mlのHNO3溶液を用いることによって洗浄される。粉末は、吸引濾過によって分離され、酸を除去するために水で洗浄され、かつ100℃で乾燥される。続いてリン光体は挽かれる。そのリン光体は、挽かれた後に、開いたるつぼ中において900℃で2時間、再度大気中で焼成される。粒子表面から余分なビスマスを除去するため、リン光体は、0.1mol/LのEDTA溶液500mlによって2時間洗浄される。続いてリン光体は濾紙上で回収され、水で洗浄されて、最終的には100℃で乾燥される。
結合剤としてニトロセルロースを有するブチルアセテート中の(Y0.945Sc0.05)PO4:Bi0.005の懸濁物が生成される。リン光体懸濁物は、フローコーティングプロセスによって、内径が5mmの合成石英管(スプラシル(Suprasil)(商標))の内壁に塗布される。リン光体層の厚さは、3mg/cm3のリン光体についての単位面積あたりの重さに対応する。結合剤は、580℃よりも低温で焼かれて除去される。素子は、200から300mbarの圧力のキセノンで満たされ、その後密閉される。酸素による如何なる汚染も慎重に回避されなければならない。アルミニウムホイルからなる2の電極は、素子外壁に対して対角状に結合する。
20gのY2O3、0.64463gのSc2O3、及び0.2184gのBi2O3が水ベースの懸濁物に加えられる。ゆっくりと22.692gのH3PO4(85%)が加えられる。混合物は室温で24時間攪拌される。溶媒は回転式蒸発器を用いることによって除去される。残った固体は100℃で乾燥される。粉末を乳鉢中で挽きながら0.400gのLiFが加えられる。焼成は、以下の温度プロファイルを用いて実行される。その温度プロファイルは、2時間で800℃まで加熱し、2時間保持し、2時間で1000℃まで加熱し、2時間保持し、最後は4時間欠けて室温まで冷却する。その結果生成された生成物は、メノウ乳鉢を用いて再度挽かれる。その後、600ml水中で140mlのHNO3溶液を用いることによって洗浄される。粉末は、吸引濾過によって分離され、酸を除去するために水で洗浄され、かつ100℃で乾燥される。続いてリン光体は挽かれる。そのリン光体は、挽かれた後に、開いたるつぼ中において900℃で2時間、再度大気中で焼成される。粒子表面から余分なビスマスを除去するため、リン光体は、0.1mol/LのEDTA溶液500mlによって2時間洗浄される。続いてリン光体は濾紙上で回収され、水で洗浄されて、最終的には100℃で乾燥される。
結合剤としてニトロセルロースを有するブチルアセテート中の(Y0.945Sc0.05)PO4:Bi0.005の懸濁物が生成される。リン光体懸濁物は、フローコーティングプロセスによって、内径が5mmの合成石英管(スプラシル(Suprasil)(商標))の内壁に塗布される。リン光体層の厚さは、3mg/cm3のリン光体についての単位面積あたりの重さに対応する。結合剤は、580℃よりも低温で焼かれて除去される。素子は、200から300mbarの圧力のキセノンで満たされ、その後密閉される。酸素による如何なる汚染も慎重に回避されなければならない。アルミニウムホイルからなる2の電極は、素子外壁に対して対角状に結合する。
Claims (11)
- エキシマ放電手段によって紫外放射線を発生させる素子であって、
ガス充填物で満たされている放電空間を有する、UVに対して少なくとも部分的に透明な放電管、
前記放電空間内でエキシマ放電を引き起こして、かつそれを維持する手段、及び、
0≦x<1、0<y≦1、0<z<0.05で、かつAはビスマス、プラセオジウム、及びネオジウムからなる群から選択される活性剤であるところ、一般式が(Y1-x-y-zLuxScyAz)PO4で表される母体格子を有するリン光体を含む発光材料のコーティング、
が備えられる紫外放射線発生素子。 - 前記リン光体が0.01から10mol%の前記活性剤を含む、請求項1に記載の紫外放射線発生素子。
- 前記リン光体が、1μmよりも大きく、かつ6μmより小さな粒径を有することを特徴とする、請求項1に記載の紫外放射線発生素子。
- 前記発光材料が、YPO4:Nd、LaPO4:Pr、(Ca,Mg)SO4:Pb、YBO3:Pr、Y2SiO5:Pr、Y2Si2O7:Pr、SrLi2SiO4:Pr,Na、及びCaLi2SiO4:Prからなる群から選択されるリン光体をさらに有することを特徴とする、請求項1に記載の紫外放射線発生素子。
- 前記リン光体が、MgO、SiO2、及びAl2O3からなる群から選択される酸化物を含むコーティングを有することを特徴とする、請求項1に記載の紫外放射線発生素子。
- 前記ガス充填物が、キセノン、クリプトン、アルゴン、ネオン、及びヘリウムからなる群から選択される気体を有することを特徴とする、請求項1に記載の紫外放射線発生素子。
- 前記ガス充填物はネオンを有することを特徴とする、請求項1に記載の紫外放射線発生素子。
- UV-C光を反射する金属又は合金で構成される電極をさらに有することを特徴とする、請求項1に記載の紫外放射線発生素子。
- 前記放電管の一部に、VUV及び/又はUV-C光の反射体として機能するコーティングが供されることを特徴とする、請求項1に記載の紫外放射線発生素子。
- 一般式(Y1-x-y-zLuxScyAz)PO4で表される、0≦x<1、0<y≦1、0<z<0.05で、かつAはビスマス、プラセオジウム、及びネオジウムからなる群から選択される活性剤である、母体格子を有するUVCリン光体。
- ヒ酸塩及びバナジウム酸塩からなる群から選択される別な陰イオンをさらに有する、請求項10に記載のリン光体。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP05102948 | 2005-04-14 | ||
EP05102948.6 | 2005-04-14 | ||
PCT/IB2006/051097 WO2006109238A2 (en) | 2005-04-14 | 2006-04-11 | Device for generating uvc radiation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008536282A JP2008536282A (ja) | 2008-09-04 |
JP5074381B2 true JP5074381B2 (ja) | 2012-11-14 |
Family
ID=36972996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008506026A Active JP5074381B2 (ja) | 2005-04-14 | 2006-04-11 | Uvc放射線発生素子 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7808170B2 (ja) |
EP (1) | EP1874895B1 (ja) |
JP (1) | JP5074381B2 (ja) |
KR (1) | KR101256387B1 (ja) |
CN (1) | CN101160373B (ja) |
AT (1) | ATE407990T1 (ja) |
DE (1) | DE602006002740D1 (ja) |
TW (1) | TW200644034A (ja) |
WO (1) | WO2006109238A2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9947526B2 (en) | 2015-02-03 | 2018-04-17 | Shikoh Tech Llc | Gas discharge device and flat light source using the same, and driving method therefor |
US10128100B2 (en) | 2015-11-30 | 2018-11-13 | Shikoh Tech Llc | Drive method and drive circuit for light-emitting device using gas discharge, and ultraviolet irradiation device |
US11872104B2 (en) | 2018-05-08 | 2024-01-16 | Wonik Qnc Corporation | Implant surface modification treatment device |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8257612B2 (en) * | 2007-07-05 | 2012-09-04 | Cabot Corporation | Compositions having multiple responses to excitation radiation and methods for making same |
KR101158962B1 (ko) * | 2007-10-10 | 2012-06-21 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 엑시머 램프 |
US20090143842A1 (en) * | 2007-11-02 | 2009-06-04 | Cumbie William E | Phototherapy Treatment and Device for Infections, Diseases, and Disorders |
JP2009120405A (ja) * | 2007-11-09 | 2009-06-04 | Canon Inc | 紫外光用ガラス組成物及びそれを用いた光学装置 |
WO2010087831A1 (en) * | 2009-01-29 | 2010-08-05 | Neister Edward S | Improved method and apparatus for producing a high level of disinfection in air and surfaces |
JP5257270B2 (ja) * | 2009-06-26 | 2013-08-07 | ウシオ電機株式会社 | 放電ランプ装置 |
WO2012007885A1 (en) * | 2010-07-13 | 2012-01-19 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Uv-a or uv-b-emitting discharge lamp |
WO2012052905A1 (en) * | 2010-10-22 | 2012-04-26 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Luminescent material and light emitting device comprising such luminescent material |
CN103328609B (zh) * | 2011-01-04 | 2015-10-21 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发射紫外线的磷光体 |
WO2012104750A2 (en) * | 2011-02-04 | 2012-08-09 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Novel scintillator materials for neutron detectors |
US9334442B2 (en) | 2011-06-29 | 2016-05-10 | Koninklijke Philips N.V. | Luminescent material particles comprising a coating and lighting unit comprising such luminescent material |
JP5692727B2 (ja) * | 2012-05-01 | 2015-04-01 | 大電株式会社 | 紫外線発光蛍光体及びそれを用いる発光素子 |
JP5916599B2 (ja) * | 2012-12-28 | 2016-05-11 | 大電株式会社 | 紫外線発光蛍光体及びそれを用いる発光素子 |
EP2997108B1 (en) | 2013-05-13 | 2020-02-05 | Signify Holding B.V. | Uv radiation device |
KR101416146B1 (ko) * | 2013-05-30 | 2014-07-09 | 한국화학연구원 | 자외선-c 발광 이트륨란타늄포스페이트 형광체 |
JPWO2017082380A1 (ja) * | 2015-11-13 | 2017-11-16 | ウシオ電機株式会社 | 脱臭方法および脱臭装置 |
SE539934C2 (en) | 2016-06-22 | 2018-01-23 | Lightlab Sweden Ab | System for treating a fluid with non-mercury-based UV light |
SE1651620A1 (sv) | 2016-12-08 | 2018-05-22 | Lightlab Sweden Ab | A field emission light source adapted to emit UV light |
JP6837834B2 (ja) * | 2016-12-28 | 2021-03-03 | 浜松ホトニクス株式会社 | 紫外光発生用ターゲット及びその製造方法、並びに電子線励起紫外光源 |
CN109642158B (zh) * | 2017-06-20 | 2023-03-14 | 大电株式会社 | 紫外线发光荧光体、发光元件以及发光装置 |
CA3080238C (en) * | 2017-10-24 | 2021-05-18 | Infuser Ip Aps | An air treatment system, and a method of using said air treatment system. |
JPWO2019151364A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2021-01-28 | 株式会社エンプラス | 紫外線殺菌管および紫外線殺菌装置 |
EP3623446A1 (en) * | 2018-09-13 | 2020-03-18 | Xylem Europe GmbH | A phosphor for a uv emitting device and a uv generating device utilizing such a phosphor |
JP7236859B2 (ja) * | 2018-12-17 | 2023-03-10 | 浜松ホトニクス株式会社 | 紫外光発生用ターゲット及びその製造方法、並びに電子線励起紫外光源 |
JP7313817B2 (ja) * | 2018-12-17 | 2023-07-25 | 浜松ホトニクス株式会社 | 紫外発光蛍光体の製造方法 |
EP3703104A1 (en) * | 2019-02-27 | 2020-09-02 | Xylem Europe GmbH | A phosphor combination for a uv emitting device and a uv generating device utilizing such a phosphor combination |
US11786622B2 (en) | 2020-05-08 | 2023-10-17 | Ultra-Violet Solutions, Llc | Far UV-C light apparatus |
EP4171342A4 (en) | 2020-06-26 | 2024-07-31 | Ali Shambayati | HYBRID LAMP WITH FAR UV-C RADIATION AND VISIBLE LIGHT |
JP2022048598A (ja) * | 2020-09-15 | 2022-03-28 | 浜松ホトニクス株式会社 | 発光体の製造方法、発光体および紫外光源 |
WO2022069584A1 (de) * | 2020-10-01 | 2022-04-07 | Fachhochschule Münster | Material für gasentladungslampen |
KR20220046839A (ko) | 2020-10-08 | 2022-04-15 | 부경대학교 산학협력단 | Uv 발광 mos구조의 무기전계발광소자 및 그 제조방법 |
JP2023099965A (ja) * | 2022-01-04 | 2023-07-14 | 浜松ホトニクス株式会社 | 紫外線発光体の製造方法、紫外線発光体、及び紫外線光源 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1200935A (en) * | 1966-10-31 | 1970-08-05 | Gen Electric | Improvements in rare earth phosphors activated with bismuth |
US3825792A (en) * | 1973-07-03 | 1974-07-23 | Westinghouse Electric Corp | Novel discharge lamp and coating |
US4171501A (en) * | 1973-10-22 | 1979-10-16 | Hitachi, Ltd. | Light emitting devices based on the excitation of phosphor screens |
DE19919169A1 (de) | 1999-04-28 | 2000-11-02 | Philips Corp Intellectual Pty | Vorrichtung zur Desinfektion von Wasser mit einer UV-C-Gasentladungslampe |
JP3988337B2 (ja) * | 1999-10-01 | 2007-10-10 | 株式会社日立製作所 | 燐・バナジン酸塩蛍光体およびそれを用いた表示装置並びに発光装置 |
DE10106963A1 (de) * | 2001-02-15 | 2002-08-29 | Philips Corp Intellectual Pty | Plasmabildschirm mit erhöhter Luminanz |
DE10129630A1 (de) * | 2001-06-20 | 2003-01-02 | Philips Corp Intellectual Pty | Niederdruckgasentladungslampe mit Leuchtstoffbeschichtung |
DE10209191A1 (de) | 2002-03-04 | 2003-09-18 | Philips Intellectual Property | Vorrichtung zur Erzeugung von UV-Strahlung |
JP4500162B2 (ja) | 2002-05-29 | 2010-07-14 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 紫外線反射層を具える蛍光ランプ |
US6982046B2 (en) * | 2003-10-01 | 2006-01-03 | General Electric Company | Light sources with nanometer-sized VUV radiation-absorbing phosphors |
-
2006
- 2006-04-11 TW TW095112906A patent/TW200644034A/zh unknown
- 2006-04-11 DE DE602006002740T patent/DE602006002740D1/de active Active
- 2006-04-11 JP JP2008506026A patent/JP5074381B2/ja active Active
- 2006-04-11 CN CN2006800121156A patent/CN101160373B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-04-11 EP EP06727875A patent/EP1874895B1/en active Active
- 2006-04-11 KR KR1020077025872A patent/KR101256387B1/ko active IP Right Grant
- 2006-04-11 US US11/911,226 patent/US7808170B2/en active Active
- 2006-04-11 WO PCT/IB2006/051097 patent/WO2006109238A2/en active IP Right Grant
- 2006-04-11 AT AT06727875T patent/ATE407990T1/de not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9947526B2 (en) | 2015-02-03 | 2018-04-17 | Shikoh Tech Llc | Gas discharge device and flat light source using the same, and driving method therefor |
US10128100B2 (en) | 2015-11-30 | 2018-11-13 | Shikoh Tech Llc | Drive method and drive circuit for light-emitting device using gas discharge, and ultraviolet irradiation device |
US11872104B2 (en) | 2018-05-08 | 2024-01-16 | Wonik Qnc Corporation | Implant surface modification treatment device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101160373A (zh) | 2008-04-09 |
WO2006109238A3 (en) | 2006-12-07 |
KR101256387B1 (ko) | 2013-04-25 |
JP2008536282A (ja) | 2008-09-04 |
EP1874895B1 (en) | 2008-09-10 |
DE602006002740D1 (de) | 2008-10-23 |
EP1874895A2 (en) | 2008-01-09 |
WO2006109238A2 (en) | 2006-10-19 |
KR20070121044A (ko) | 2007-12-26 |
ATE407990T1 (de) | 2008-09-15 |
CN101160373B (zh) | 2011-08-10 |
US20080258601A1 (en) | 2008-10-23 |
TW200644034A (en) | 2006-12-16 |
US7808170B2 (en) | 2010-10-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5074381B2 (ja) | Uvc放射線発生素子 | |
US7298077B2 (en) | Device for generating UV radiation | |
US6398970B1 (en) | Device for disinfecting water comprising a UV-C gas discharge lamp | |
JP5281285B2 (ja) | Uv−b蛍光体を有する低圧ガス放電ランプ | |
EP1532224B1 (en) | Device for generating radiation | |
EP1741118B1 (en) | Dielectric barrier discharge lamp comprising an uv-b phosphor | |
JP5770298B2 (ja) | 発光物質と当該発光物質を有する発光装置 | |
JP2012518698A (ja) | Uv光を発する放電ランプ | |
US20120319011A1 (en) | Mercury uv lamp with improved actinic spectrum | |
JP5850539B2 (ja) | 放電ランプ、使用方法及びシステム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090407 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111129 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120227 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120305 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120525 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120619 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120731 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120823 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5074381 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150831 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |