JP5068180B2 - 静電ゾーンプレートを備える荷電粒子曝露 - Google Patents
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Description
9:環状電極
11:電子源
17、81、82、83、84:EZP
17e:電極層
17i、282:絶縁層
17m:金属層
20:アパチャプレート・システム(APS)
21:アパチャ配列
41:半導体装置
99、871:セクタ電極
100:PML2
101:コンデンサシステム
102:PDシステム
103:放射システム
104:ターゲット位置
170、171、881:電極
172:ピン
173:導電体
180、191、192、391、392:第1環状電極
204:遮蔽膜
280、280’:隙間
281:複合電極
283:導電層
285:誘電装
291、291’:金属物質
296、296’:抵抗性材料
780:CMOS層
830、831:部分電極
840:中心部分電極
841:円形部分電極
841’:円形ゾーン電極
880:円形電極
891:正方形部分電極
Claims (21)
- エネルギ荷電粒子のビーム(pb)によりターゲット(41)を照射するための粒子ビーム放射処理装置であって、
−略セントリック/共心でかつ十分幅広い照射ビーム(Ib)に前記エネルギ粒子を発生させ、そして形成するための照射システム(101)、
−ビーム方向に沿って見られるように、照射システムの後に設置され、照射ビーム経路のエネルギ粒子を透過するアパチャで構成され、これによりアパチャ配列から出るパターン化ビーム(pb)を形成する、パターン規定システム(102)、
−パターン規定システム(102)の後に設置され、放射システムの後に設置されるターゲット(41)上にパターン化ビーム(pb)を放射するのに適した放射システム(103)、からなり、
更に、パターン規定システム(102)のアパチャ配列(21)のアパチャに対応する開口部を有する少なくとも1つのプレート電極手段(8、81、82)からなり、そしてプレート電極手段(8、81、82)の表面エリアの非重複サブエリアへの区分に応じて互いに隣接するように配置される多くの部分電極(830、831、840、841、870、880、881、891)から構成される複合電極(281)からなり、該部分電極は異なる静電位を与えられるのに適し、前記部分電極の少なくとも1つは複数の前記開口部を取り囲み、複合電極は全体としてパターン規定システム(102)にアパチャ配列(21)を画像化するビーム部が通過するエリアをカバーする横寸法を有し、
パターン規定システム(102)のアパチャに対応する開口部が各部分電極のエリア内にのみ存在することを特徴とする、粒子ビーム放射処理装置(100)。 - 前記プレート電極手段の少なくとも1つ又は全てはパターン規定システムに含まれ、そして複合電極は全体としてパターン規定システム(102)のアパチャ配列(21)用に確保されたエリアをカバーする横寸法を有する、請求項1に記載の装置。
- 請求項2に記載のような前記装置用エネルギ粒子を透過するアパチャで構成されるアパチャ配列(21)からなる粒子ビーム放射処理装置(100)のためのパターン規定装置であって、
パターン規定装置(102)のアパチャ配列(21)のアパチャに対応する開口部を有する少なくとも1つのプレート電極手段(8、81、82)からなり、そしてプレート電極手段(8、81、82)の表面エリアの非重複サブエリアへの区分に応じて、互いに隣接するように配置される多くの部分電極(830、831、840、841、870、880、881、891)から構成される複合電極(281)からなり、該部分電極は異なる静電位を与えられるのに適し、前記部分電極の少なくとも1つは複数の前記開口部を取り囲み、該複合電極は全体としてパターン規定装置(102)にアパチャ配列(21)用に確保されたエリアをカバーする横寸法を有し、
パターン規定システム(102)のアパチャに対応する開口部が各部分電極のエリア内にのみ存在することを特徴とするパターン規定装置。 - 照射ビームのエネルギ粒子を透過するアパチャから構成されるアパチャ配列(21)を有するパターン規定装置を備える粒子ビーム放射処理装置のためのプレート電極手段であって、
前記プレート電極手段はパターン規定システム(102)のアパチャ配列のアパチャに対応する開口部を有し、そして多くの部分電極(830、831、840、841、870、880、881、891)から構成され、プレート電極手段(8、81、82)の表面エリアの非重複サブエリアへの区分に応じて互いに隣接するように配置される複合電極(281)からなり、該部分電極は異なる静電位を加えられるのに適し、前記部分電極の少なくとも1つは複数の前記開口部を取り囲み、該複合電極は全体としてアパチャ配列(21)を画像化するビーム部が通過するエリアをカバーする横寸法を有し、
パターン規定システム(102)のアパチャに対応する開口部が各部分電極のエリア内にのみ存在することを特徴とする、プレート電極手段。 - 光軸に沿って見られるように、複合電極平面の外に設置される少なくとも1つの管状電極(191、192、391、392)を有する電極配列に設置されるのに適した、請求項4に記載のプレート電極手段。
- 調節可能な負焦点距離を有する負屈折力のレンズを形成するのに適した、請求項5に記載のプレート電極手段。
- 少なくとも1つの付加電極は光軸に沿って見られるように、複合電極平面の外に設置される少なくとも1つのマルチポール電極からなる、請求項5または6に記載のプレート電極。
- 請求項4に記載のプレート電極手段が、ビーム方向に沿って見られるようにパターン規定装置(102)の他の構成要素の直ぐ前又は後に設置されていることを特徴とする、 請求項3に記載のパターン規定装置。
- 少なくとも2つの連続するプロジェクタステージ、即ち少なくとも1つの非最終プロジェクタステージと1つの最終プロジェクタステージからなる放射システムを有する粒子ビーム装置で使用されるのに適し、プレート電極手段は放射システムの非最終ステージにより形成されるようなアパチャ配列の中間画像位置又はその近くに設置される、請求項4に記載のプレート電極手段。
- 部分電極は光軸に直交する二次元平面に沿って設置される、請求項4に記載のプレート電極手段。
- 部分電極は共心リング(830、831、881)状の形状である、請求項4に記載のプレート電極手段。
- 部分電極はプレート電極手段の光軸(cx)の周りに配置される扇形(871、881)の形状である、請求項4に記載のプレート電極手段。
- 扇形の前記部分電極(871、881)は少なくとも1つの更なる部分電極により形成されるプレート電極手段の中心エリア(880)の周りに配置される、請求項8に記載のプレート電極手段。
- 絶縁スペーサ層により部分電極から分離された、部分電極下に並行に配置される共通電極(283)からなる、請求項4に記載のプレート電極手段。
- 隣接部分電極(281)間の隙間に備えられる絶縁誘電材料からなる、請求項4に記載のプレート電極手段。
- 隣接部分電極(281)間の隙間に配置される抵抗性材料(296、296’)からなる、請求項4に記載のプレート電極手段。
- 部分電極は導電材料でできている、請求項4に記載のプレート電極手段。
- 焦点外平面の屈折により仮想画像を移動させるため、環状静電レンズ要素と組み合わせて静電レンズを形成することにより画像ひずみを修正するため、最終要素として、請求項4〜7、9〜17のいずれかに記載のプレート電極手段、および、環状静電レンズ要素を備えることを特徴とする請求項3に記載のパターン規定装置。
- 電極配列に設置された、請求項5〜7のいずれかに記載のプレート電極手段を備える、請求項3に記載のパターン規定装置。
- 焦点外平面での屈折により中間画像の仮想画像を部分的に移動させることにより画像ひずみを修正するため、放射システム(103)に形成された中間画像位置の代わり又はその後に、請求項4〜7、9〜17のいずれかに記載のプレート電極手段が設置されていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- プレート電極手段の片側又は両側に放射システムの静電レンズ要素と組み合わせて静電レンズを形成することにより中間画像位置又はその近くに負焦点距離を生成するため、放射システム(103)に形成される中間画像位置の代わり又はその後に、請求項4〜7、9〜17のいずれかに記載のプレート電極手段が設置されていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
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