JP5064041B2 - 表面に保護膜を形成したフォトマスク及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図2(a)は、洗浄済みのフォトマスクをスパッタリング装置に設置し、スパッタリング法によって表面保護膜12を形成している様子を示している。(b)は、図2(a)におけるA−A’線矢視図を示している。細長いスリットからスパッタリング膜を成膜しながら基板をXの方向に移動させ、保護膜を形成している。実験では、ターゲット材として二酸化ケイ素を用いたが、他の材料でもよい。この方法は、スパッタリング装置の成膜範囲に対してフォトマスク基板が大きい場合でも成膜コストを抑えることができる。
スパッタリング法により保護膜を形成する場合、ターゲット材料や成膜時のガスの条件により、種々の材料を混入させることができる。二酸化ケイ素を成膜する際に、成膜ガスにフッ素を混入させることで堆積される二酸化ケイ素に微量のフッ素を含有させることも可能である。そうすると、保護膜に含まれる微量のフッ素によって疎水性を持たせることができる。この場合、有機溶剤を用いたフォトマスク洗浄が容易となる。
二酸化ケイ素を第1のターゲット材料として高周波スパッタリング法により、基板表面に二酸化ケイ素膜を成膜する。続けて同一チャンバー内で、第2のターゲット材料として酸化チタンを使用し、二酸化ケイ素膜の上に酸化チタン膜を、高周波スパッタリング法により成膜する。これにより連続して滑らかなエッジを有する保護膜がパターン上に積層されることとなる。
スパッタリング法に代わる他の乾式の成膜処理法としては、蒸着法、物理気相成長法、化学気相成長法などが該当する。成膜する材料としては、二酸化ケイ素、酸化錫、インジウム亜鉛酸化物を主成分とする膜が具体例としてあげられる。これらの膜はいずれも露光光(通常、紫外線が用いられる)に対して透過率が高いためである。
11 パターン部
12 表面保護膜
P エッジ部
Q 表面保護膜により滑らかに覆われたエッジ部
Claims (2)
- 露光光を遮光するパターン部と露光光を透過する非パターン部とで構成された透明基板の表面に保護膜を具備する紫外線露光用フォトマスクであって、前記保護膜はスパッタリング法、蒸着法、物理気相成長法、化学気相成長法その他の乾式の成膜処理法によって堆積されることによって前記パターン部におけるパターンエッジ部が連続した滑らかな保護膜によって保護されているとともに前記保護膜の材質は、二酸化ケイ素、酸化錫、インジウム亜鉛酸化物のいずれか1つを主成分とし、フッ素を含有することを特徴とする紫外線露光用のフォトマスク。
- 露光光を遮光するパターン部と露光光を透過する非パターン部とで構成された透明基板の表面に保護膜を具備する紫外線露光用フォトマスクであって、前記保護膜はスパッタリング法、蒸着法、物理気相成長法、化学気相成長法その他の乾式の成膜処理法によって堆積されることによって前記パターン部におけるパターンエッジ部が連続した滑らかな保護膜によって保護されているとともに前記保護膜の材質は、二酸化ケイ素、酸化錫、インジウム亜鉛酸化物のいずれか1つを主成分とし、チタンを含有することを特徴とする紫外線露光用のフォトマスク。
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