JP5044366B2 - 真空ゲートバルブおよびこれを使用したゲート開閉方法 - Google Patents
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Description
前記本体は、前記排気胴部の側方部に面して前記排気口に連通したゲート退避室の入口が形成され、前記ゲートの前記排気口の閉塞時および前記ゲートの前記ゲート退避室への退避時に前記シャッタによって前記ゲート退避室の入口の閉塞がなされる真空ゲートバルブにおいて、
前記シャッタが、円筒状に形成されて前記排気口の着座部に形成された固定シール部に接触可能とされ、該固定シール部に対向するようにしたシャッタシール部を備え、
前記ゲートは、前記ゲート退避室と前記排気胴部との間を移動可能とされ、その一面側に前記固定シール部に対向して第一ゲートシール部が形成され、第一のゲートシール部の反対面側に前記シャッタシール部に対向して第二のゲートシール部が形成され、
前記シャッタは、前記ゲートが前記ゲート退避室に収納され、前記シャッタシール部が移動して前記固定シール部に接触したときに、前記固定シール部に共に接触して前記ゲート退避室の入口を閉塞し、かつ前記ゲートが前記シャッタ退避室から前記排気胴部に移動して第一のゲートシール部が前記固定シール部に接触して前記排気口を閉塞し、前記シャッタシール部が移動して第二のゲートシール部に接触するときに、第二のゲートシール部に共に接触して前記ゲート退避室の入口を閉塞することを特徴とする真空ゲートバルブを提供する。
前記本体は、前記排気胴部の側方部に面して前記排気口に連通したゲート退避室の入口が形成され、前記ゲートの前記排気口の閉塞時および前記ゲートの前記ゲート退避室への退避時に前記シャッタによって前記ゲート退避室の入口の閉塞がなされ、
前記シャッタが、円筒状に形成されて前記排気口の着座部に形成された固定シール部に接触可能とされ、該前記固定シール部に対向するようにしたシャッタシール部を備え、
前記ゲートは、前記ゲート退避室と前記排気胴部との間を移動可能とされ、その一面側に前記固定シール部に対向して第一のゲートシール部が形成され、第一のゲートシール部の反対面側に前記シャッタシール部に対向して第二のゲートシール部が形成された真空ゲートバルブのゲート開閉方法において、
前記ゲートが前記ゲート退避室に収納し、前記シャッタシール部が移動して前記固定シール部に接触し、前記シャッタが前記固定シール部に接触して前記ゲート退避室の入口を閉塞し、かつ
前記ゲートが前記ゲート退避室から前記排気胴部に移動し、第一のゲートシール部が前記固定シールに接触し、前記排気口を閉塞し、このときに前記シャッタシール部が移動して第二のシャッタシール部に接触し、前記シャッタが第二のシャッタシール部に接触して前記ゲート退避室の入口を閉塞すること
を特徴とする真空ゲートバルブのゲート開閉方法を提供する。
これらの図において、真空ゲートバルブ100は、本体11とゲート退避部12から構成され、本体11、ゲート退避部12共箱状に形成され、両者は互いに着脱自在として一体化され、両者間にOリング14が配設される。本体11はゲート退避部12に比べて高さが高く構成され、上方から見た場合、両者は図1に示すようにほぼ楕円形をなし、中央部が太形とされる。
図4において、本体11は、中央部材31、上部部材32および下部部材33から構成され、それぞれの接着面にはシール材が配設されて一体化され、全体的に筒状の箱体とされている。
ゲート21の上面にはシャッタシール部49に対向してOリング51が設けてあり、このOリング51を含めてここでは第二のゲートシール部52と称する。
図7において、ゲートおよびシャッタ操作部62は、操作本体64、操作本体64内に配設されるアクチュエータ65、アクチュエータ65によって回転駆動される一群の歯車66,67、固定回転する歯車67によって回転操作されるシャフト68、揺動公転する歯車66によって揺動操作されるエア切換レバー69、揺動するエア切換レバー69によって操作されるエア切換弁70,71およびエア切換弁70,71にエアを送り出すエア室72からなる。
、シール状況を正確に示すものではない。
図9(1)は、バルブ閉の状態を示す。この状態ではゲート21の第一のゲートシール部54が固定シール部55に接触してゲート21が排気口20を閉塞し、シャッタシール部49が第二のゲートシール部52に接触してシャッタ22がゲートと共に、シャッタ移動室16の入口18を閉塞している状態を示す。これによって、プロセスチャンバーから舞い上がった異物(デポ)が入口18を介してゲート退避室13に侵入することが防止される。
図9(2)はゲート21がゲート退避室13への退避のためにシャッタ22が上動した状態をしめす。この状態ではエアが切り換えられ、シャッタ22はシャッタ収納室36に収納され、排気胴部15、シャッタ移動室16およびゲート退避室13は連通する。
図9(3)は、ゲート21がゲート退避室13に退避した状態を示す。
図9(4)は、ゲート21がゲート退避室13に退避した状態で、エアが切り換えられ、シャッタ収納室36に収納されていたシャッタ22が下動し、下端に達してシャッタシール部49が固定シール部55に接触してシャッタ22が単独で入口18を閉塞する。この状態ではバルブ開となる。
図10(1)は、図9(4)に相当し、ゲート21がゲート退避室13に退避してシャッタ22が入口18を単独で閉塞している状態を示す。この場合には、シャッタシール部49は固定シール部55に接触している。
図10(2)は、図9(3)に相当し、ゲート21の移動のためにシャッタ22が上動してシャッタ収納室36に収納された状態を示す。これによって、ゲート退避室13、シャッタ移動室16および排気胴部15が連通する。
図10(3)は、図9(2)に相当し、ゲート21が連通したゲート退避室13、シャッタ移動室16および排気胴部15を移動し、排気口20の上方に移動した状態を示す。
図10(4)は、図9(1)に相当し、排気口20の上方にあったゲート21が下動して第一のゲートシール部54が固定シール部55に接触してゲート21が排気口20に移動するとエアが切り換わり、排気口20を閉塞すると同時に、シャッタ22が下動してシャッタシール部49が第二のゲートシール部52に接触し、シャッタ22はゲート21と共に入口18を閉塞する。この状態はバルブ閉の状態である。
Claims (5)
- 端部に排気口が形成された排気胴部を備えた本体と、ゲート退避室を備えたゲート退避部と、前記ゲート退避室から前記排気胴部に移動して前記排気口を閉塞し、かつ前記ゲート退避室に収納されるゲートと、該ゲートを移動させるゲート駆動部と、前記排気胴部に沿って移動可能とされたシャッタと、該シャッタを移動させるシャッタ駆動部と、を備え、
前記本体は、前記排気胴部の側方部に面して前記排気口に連通したゲート退避室の入口が形成され、前記ゲートの前記排気口の閉塞時および前記ゲートの前記ゲート退避室への退避時に前記シャッタによって前記ゲート退避室の入口の閉塞がなされる真空ゲートバルブにおいて、
前記シャッタが、前記排気口の着座部に形成された固定シール部に接触可能とされたシャッタシール部を形成したシャッタリングを備え、前記排気胴部の側方のシャッタ収納室に収納され、胴長方向に移動可能な円筒状に形成され、該固定シール部に対向するようにされ、
前記ゲートは、前記ゲート退避室と前記排気胴部との間のシャッタ移動室を移動可能とされ、その一面側に前記固定シール部に対向して第一ゲートシール部が形成され、第一のゲートシール部の反対面側に前記シャッタシール部に対向して第二のゲートシール部が形成され、
前記固定シール部、前記シャッタシール部、第一のゲートシール部および第二のゲートシール部は前記排気胴部の胴長方向で、前記シャッタ移動室内において同一面上に配設され、
前記シャッタが前記排気胴部の胴長方向に移動され、前記ゲートが前記ゲート退避室に収納され、前記シャッタリングが移動されて前記シャッタシール部が前記固定シール部に接触したときに、該シャッタは、前記ゲート退避室の入口を閉塞し、かつ前記ゲートが前記ゲート退避室から前記排気胴部に移動され、第一のゲートシール部が前記固定シール部に接触して前記排気口を閉塞し、前記シャッタリングが移動され、前記シャッタシール部が第二のゲートシール部に接触したときに、該シャッタは、前記ゲート退避室の入口を閉塞することを特徴とする真空ゲートバルブ。 - 請求項1において、前記シャッタシール部はシャッタリングによって形成されて該シャッタリングおよび前記シャッタは互いに着脱自在とされ、前記排気胴部は内周面に円筒状のカバーを備えた前記シャッタ収納室を備え、該シャッタ収納室の側方側に該シャッタ収納室に沿って前記シャッタ駆動部のシャッタ駆動ピストンが設けられ、該シャッタ駆動ピストンは前記シャッタリングに接続されて、該シャッタが、前記排気胴部に沿って動作する前記シャッタ駆動ピストンによって前記排気胴部に沿って移動されることを特徴とする真空ゲートバルブ。
- 請求項1において、前記ゲート駆動部と前記シャッタ駆動部は1組の駆動源および駆動力切換装置によって駆動され、前記ゲートが前記ゲート退避室に退避された時に前記シャッタを移動するように制御する制御装置を備えることを特徴とする真空ゲートバルブ。
- 請求項1において、前記ゲート退避部は箱状に形成され、前記本体に本体側方から一体化され、かつ着脱自在とされ、前記排気胴部と前記ゲート退避部との間に双方に連通するシャッタ移動室が形成され、前記ゲートには振り子形のゲートが用いられ、該ゲートは前記ゲート退避部および前記シャッタ移動室を揺動することを特徴とする真空ゲートバルブ。
- 端部に排気口が形成された排気胴部を備えた本体と、ゲート退避室を備えたゲート退避部と、前記ゲート退避室から前記排気胴部に移動して前記排気口を閉塞し、かつ前記ゲート退避室に収納されるゲートと、該ゲートを移動させるゲート駆動部と、前記排気胴部に沿って移動可能とされてシャッタ移動室に設けられたシャッタと、該シャッタを移動させるシャッタ駆動部と、を備え、
前記本体は、前記排気胴部の側方部に面して前記排気口に連通したゲート退避室の入口が形成され、前記ゲートの前記排気口の閉塞時および前記ゲートの前記ゲート退避室への退避時に前記シャッタによって前記ゲート退避室の入口の閉塞がなされ、
前記シャッタが、前記排気口の着座部に形成された固定シール部に接触可能とされたシャッタシール部を形成したシャッタリングを備え、前記排気胴部の側方のシャッタ収納室に収納され、胴長方向に移動可能な円筒状に形成され、該固定シール部に対向するようにされ、
前記ゲートは、前記ゲート退避室と前記排気胴部との間のシャッタ移動室を移動可能とされ、その一面側に前記固定シール部に対向して第一のゲートシール部が形成され、第一のゲートシール部の反対面側に前記シャッタシール部に対向して第二のゲートシール部が形成された真空ゲートバルブのゲート開閉方法において、
前記固定シール部、前記シャッタシール部、第一のゲートシール部および第二のゲートシール部は前記排気胴部の胴長方向で、前記固定シール部に対して同一面上に配設され、
前記ゲートが前記ゲート退避室に収納され、前記シャッタが前記排気胴部の胴長方向に移動されて、移動した前記シャッタリングの前記シャッタシール部が前記固定シール部に接触したときに該シャッタが前記ゲート退避室の入口を閉塞し、かつ
前記ゲートが前記ゲート退避室から前記排気胴部に移動し、第一のゲートシール部が前記固定シールに接触して、前記排気口を閉塞したときに前記シャッタが前記排気胴部の胴長方向に移動されて、移動したシャッタリングの前記シャッタシール部が第二のシャッタシール部に接触して該シャッタが前記ゲート退避室の入口を閉塞すること
を特徴とする真空ゲートバルブのゲート開閉方法。
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KR1020107009635A KR101183562B1 (ko) | 2007-11-02 | 2008-10-17 | 진공 게이트 밸브 및 이것을 사용한 게이트 개폐방법 |
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Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10541157B2 (en) | 2007-05-18 | 2020-01-21 | Brooks Automation, Inc. | Load lock fast pump vent |
WO2008144670A1 (en) | 2007-05-18 | 2008-11-27 | Brooks Automation, Inc. | Load lock fast pump vent |
US8877001B2 (en) * | 2009-05-07 | 2014-11-04 | Applied Materials, Inc. | Shuttered gate valve |
JP5558035B2 (ja) * | 2009-06-18 | 2014-07-23 | 三菱重工業株式会社 | プラズマ処理装置及び方法 |
JP4815538B2 (ja) | 2010-01-15 | 2011-11-16 | シーケーディ株式会社 | 真空制御システムおよび真空制御方法 |
KR101281944B1 (ko) | 2010-01-15 | 2013-07-03 | 시케이디 가부시키가이샤 | 진공 제어 시스템 및 진공 제어 방법 |
US20120168662A1 (en) * | 2010-12-30 | 2012-07-05 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Vacuum valve with protected sealing surface |
JP5620862B2 (ja) * | 2011-03-17 | 2014-11-05 | 株式会社アルバック | 仕切弁 |
CN102563107B (zh) * | 2011-12-28 | 2013-08-28 | 无锡应达工业有限公司 | 一种真空感应炉的上隔离阀密封圈的保护装置 |
JP5993191B2 (ja) | 2012-04-23 | 2016-09-14 | Ckd株式会社 | リニアアクチュエータ、真空制御装置およびコンピュータプログラム |
KR101528458B1 (ko) * | 2013-01-18 | 2015-06-18 | (주) 유앤아이솔루션 | 슬라이딩 역압 차단 밸브 |
WO2014200647A1 (en) * | 2013-06-14 | 2014-12-18 | Applied Materials, Inc. | Particle reduction via throttle gate valve purge |
EP3318787A1 (de) * | 2016-11-03 | 2018-05-09 | VAT Holding AG | Vakuumventilsystem zum geregelten betrieb eines vakuumprozesses |
US10197166B2 (en) * | 2016-12-12 | 2019-02-05 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Vacuum gate valve |
JP6721525B2 (ja) * | 2017-03-03 | 2020-07-15 | キオクシア株式会社 | 金型 |
EP3372881A1 (de) * | 2017-03-07 | 2018-09-12 | VAT Holding AG | Optimierte druckregelung für und mit einem vakuumventil |
JP6902409B2 (ja) * | 2017-06-23 | 2021-07-14 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
ES2746360B2 (es) * | 2018-09-05 | 2021-06-11 | Mecanizados Esferimec S L | Valvula pivotante para regular el flujo de un fluido y procedimiento para regular el flujo de un fluido |
JP7007685B2 (ja) * | 2019-02-27 | 2022-01-25 | 株式会社フジ・テクノロジー | 流体開閉装置及び流体の開閉方法 |
JP6745953B1 (ja) * | 2019-07-23 | 2020-08-26 | 株式会社アルバック | 仕切りバルブ |
DE102019128228A1 (de) * | 2019-10-18 | 2021-04-22 | Vat Holding Ag | Anordnung mit einem Ventil |
US11854839B2 (en) | 2020-04-15 | 2023-12-26 | Mks Instruments, Inc. | Valve apparatuses and related methods for reactive process gas isolation and facilitating purge during isolation |
Family Cites Families (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1692496A (en) * | 1925-10-16 | 1928-11-20 | Firm Franz Seiffert & Co Ag | Slide stop valve |
US1727677A (en) * | 1926-04-03 | 1929-09-10 | Mckee & Co Arthur G | Valve |
US1667690A (en) * | 1926-09-22 | 1928-04-24 | Indiana Gravel Company | Sand gate |
US2109042A (en) * | 1935-06-17 | 1938-02-22 | Clifford W Bennett | Gate valve |
US2203989A (en) * | 1937-12-27 | 1940-06-11 | Paul A Dewhirst | Valve device |
US3109457A (en) * | 1959-09-25 | 1963-11-05 | Aerotec Ind Inc | Gate valve |
US3145969A (en) * | 1961-07-03 | 1964-08-25 | High Voltage Engineering Corp | Gate valve having fluid pressure seal and limit stop means |
US3557822A (en) * | 1969-05-08 | 1971-01-26 | Clyde H Chronister | Gate valve |
US3665953A (en) * | 1971-01-22 | 1972-05-30 | Chronister Valve Co Inc | Gate valve |
JPS5011539Y2 (ja) * | 1971-11-18 | 1975-04-10 | ||
JPS5134768B2 (ja) | 1971-12-08 | 1976-09-28 | ||
US3799188A (en) * | 1973-01-26 | 1974-03-26 | Chronister Dev Inc | Valve |
US4049018A (en) * | 1973-03-24 | 1977-09-20 | Hubert Skibowski | Shut-off and regulator device for controllable mechanisms intended for installation in pipelines |
US3904171A (en) * | 1974-09-26 | 1975-09-09 | Chronister Dev Inc | Multi-function cam operator for valve |
GB1529234A (en) * | 1974-12-05 | 1978-10-18 | Rappold & Co Gmbh Hermann | Slide dampers |
US4163458A (en) * | 1977-03-18 | 1979-08-07 | Lothar Bachmann | Device for sealing a conduit against the flow of liquid |
LU77488A1 (ja) * | 1977-06-06 | 1977-09-22 | ||
DE3209217C2 (de) * | 1982-03-13 | 1985-10-03 | Siegfried Haag Schertler | Schiebeventil |
US4509717A (en) * | 1983-03-14 | 1985-04-09 | Elkem Metals Company | Slide gate valve for dry bulk discharging containers |
GB8418349D0 (en) * | 1984-07-18 | 1984-08-22 | Becorit & Herweg Ltd | Valve |
JPH03239884A (ja) | 1990-02-16 | 1991-10-25 | Kishikawa Tokushu Valve Seisakusho:Kk | 超高真空ゲート弁 |
JPH04106583A (ja) | 1990-08-27 | 1992-04-08 | Tokyo Electric Co Ltd | 電子機器用表示装置 |
JPH04106583U (ja) * | 1991-02-28 | 1992-09-14 | 株式会社日本製鋼所 | 真空用ゲートバルブ |
JP2541116B2 (ja) | 1993-07-31 | 1996-10-09 | 日本電気株式会社 | 真空ゲ―トバルブ |
US6448567B1 (en) * | 2000-04-25 | 2002-09-10 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Method and apparatus for shielding a valve gate and other valve parts |
US6409149B1 (en) * | 2000-06-28 | 2002-06-25 | Mks Instruments, Inc. | Dual pendulum valve assembly with valve seat cover |
JP4106583B2 (ja) * | 2001-02-05 | 2008-06-25 | 株式会社ケンウッド | 記録・再生システム及び方法 |
AU2003254050A1 (en) * | 2002-07-22 | 2004-02-09 | Mdc Vacuum Products Corporation | High-vacuum valve with retractable valve plate to eliminate abrasion |
JP4042507B2 (ja) * | 2002-09-18 | 2008-02-06 | Smc株式会社 | 流量制御機構付きゲートバルブ |
CN1285847C (zh) * | 2002-09-27 | 2006-11-22 | 株式会社V泰克斯 | 闸阀 |
US6902145B2 (en) * | 2003-06-19 | 2005-06-07 | Vat Holding Ag | Regulating slide valve |
KR100539691B1 (ko) * | 2005-06-08 | 2005-12-29 | 주식회사 테라텍 | 진공 게이트밸브 |
CN1888493A (zh) * | 2005-06-30 | 2007-01-03 | 矶光显示科技股份有限公司 | 真空闸阀 |
WO2007066537A1 (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-14 | Ulvac, Inc. | 真空装置用仕切りバルブ |
KR100740036B1 (ko) * | 2006-06-08 | 2007-07-19 | (주)지에스티산업 | 진공 게이트 밸브 |
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