JP5043468B2 - 保持装置 - Google Patents

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Description

本発明は被保持部材を保持する保持装置に関するものであり、好適な例として露光装置において光学部材を保持する保持装置に用いられる。
フォトリソグラフィー技術を用いて半導体メモリや論理回路などの微細な半導体素子を製造する際に、レチクル(又はマスク)に描画された回路パターンを投影光学系によってウエハ等に投影して回路パターンを転写する投影露光装置が従来から使用されている。
投影光学系の一部にはミラーやレンズといった光学部材が用いられ、この光学部材を高い精度で保持する必要がある。
図21に特許文献1に記載された保持装置を示す。図21において、保持装置200Aは光学部材210Aの周縁部の3箇所に設けられた保持部を備える。保持部は光学部材210Aの外周に設けられたV字型の凸部212Aと、凸部を挟むように接触する接触する2つの球面222Aおよび224Aを有する。このような構成により光学部材を2点で保持して、光学部材を保持部材に対して2自由度で拘束することができる。保持部は3箇所に設けられるため、保持装置200A全体としては、光学部材210Aは6点で保持されることになり、キネマティックに支持される。また、光学部材210Aの半径方向に沿う方向に移動可能な平行板ばね220が設けられる。これにより温度環境変動時に光学部材210Aの熱膨張を許容し、光学部材210Aの中心Oが光軸に対して位置ずれすることを防止している。
特開2004−078209号公報 特開2004−327529号公報 特開2002−350699号公報
光学部材の保持装置として、光学部材が組み込まれる光学系の収差を抑えるためにも、光学部材の表面形状の再現性が重要となる。
例えば、光学部材の汚れや破損等に対するメンテナンスのため、光学部材を保持装置から取り外して再び取り付ける必要があるが、その前後で光学部材の表面形状が変化することが知られている。
しかしながら、上述の特許文献1のように板ばね等の弾性部材を介して保持する構成だと、取り外しおよび再取り付けをする度に、光学部材の表面形状が変化してしまうと考えられる。
一般に板ばね等の弾性部材はわずかながら製造誤差をもつため、板ばね220はそれ自身が撓んだ状態で凸部212Aを保持してこの製造誤差による影響を吸収する。ここで、光学部材210Aを取り外しおよび再取り付けをすると、凸部212Aの位置は保持部材220Aに対して2自由度にしか拘束されないため、取り外しおよび再取り付けの前後で両者の相対位置が変わってしまう。相対位置が変わると、保持部材220Aの撓み方も変わるため、撓みの反力として光学部材210Aに伝わる力も変化する。この力は光学部材を変形させるため、力が変化することによって光学部材の表面形状も変化してしまう。
本願は上述の点に鑑みてなされたものであり、板ばね等の弾性部材を介して光学部材を保持する保持装置において、光学部材の取り外しおよび再取り付けの前後における表面形状の変化を低減することを目的としている。
本願発明は、被保持部材の周縁部に設けられた複数の保持部によって、ベース部材に前記被保持部材を保持する保持装置であって、前記複数の保持部は、弾性部材を介して前記ベース部材につながっている複数の第1部材と、前記被保持部材につながっている複数の第2部材と、を含み、前記複数の第2部材の各々が、前記複数の第1部材の各々に対して6自由度でキネマティックに支持されていることを特徴としている。
本発明によれば、光学部材の取り外しおよび再取り付けの前後における表面形状の変化を低減することができる。
(実施例1)
図1および図2は、実施例1における保持装置を示す図である。図1は保持装置の斜視図であり、図2(a)は被保持部材をベース部材に対して取り外したときの保持装置の側面図である。図2(b)は図2(a)においてAから見た図であり、図2(c)は図2(a)においてBから見た図である。
本実施例では被保持部材として光学部材1を保持する例を示す。また、本実施例では光学部材がミラーである例を示すが、例えばレンズ、平行平板ガラス、プリズム、フレネルゾーンプレート、キノフォーム、バイナリオプティックス、ホログラムのいずれかであってもよい。なお、光学部材以外の被保持部材を保持する保持装置にも本発明は適用可能である。
保持装置10は光学部材1の周縁部の3箇所に保持部7を備える。保持部7はある軸の回りに等間隔の角度で配置されることが好ましい。保持部7の各々は、キネマティックカップリング2と、フレクシャ3とを備え、光学部材1はこれらを介してベース部材4に接続される。
図3は保持部7の詳細を示す図である。キネマティックカップリング2は、光学部材に繋がる接続部材5と、ベース部材4にフレクシャ(弾性部材)3を介して繋がる接続部材6とを備える。接続部材6は3つの球面部を備え、接続部材5には3つのV溝が形成される。V溝は所定の中心点から放射状に3本設けられており、中心点を通るZ軸に平行な軸(中心軸)回りに等角度間隔で設けられる。球面部はこの中心軸回りに等角度間隔で設けられる。各V溝によって形成された面(接触部)と各球面部とが接触することによって、接続部材5は接続部材6に対してキネマティックに支持される。変形例として、接続部材5に球面部を設けて接続部材6にV溝を設けるようにしてもよい。すなわち、接続部材5および接続部材6のうちいずれか一方に複数の凸部が設けられ、の他方と凸部とが接触して接続部材5が支持される。
ここで「キネマティックに支持」とは、支持される物体の自由度(自由軸)の数が0であり、拘束される自由度の数が6となるように支持することを意味する。冗長な軸をもたないようにすることで、過拘束をなくし、支持による歪みを低減することができるうえ、物体を脱着したときの位置再現性を向上させることができる。すなわち、接続部材212に対する接続部材211の相対位置が一義的に決まるように支持される。
なお、キネマティックに支持する機構は本実施例の構成に限定されない。すなわち、上記の自由度と拘束軸数の関係を満たす構成であればよい。これについては、後ほどキネマティック支持の変形例をいくつか挙げて説明する。
ここで、球面部と接触部の互いに接触する部分は高いヤング率であることが好ましい。また、接触する部分を表面加工して着脱を容易にしたり、摩擦を低減させるようにしてもよい。
各V溝によって形成される2つの面がなす角度は90°であることが好ましいが、60°〜120°にしてもよい。例えば、Z方向の剛性よりもXY方向の剛性を優先させる場合には90°よりも小さな角度にすればよい。
フレクシャ3は弾性ヒンジまたは板ばねを含む機構であってもよく、本実施例においては2つの板ばねの曲げを利用して光学部材1の半径方向に変形する部材である。このように半径方向に柔に支持することによって、ベース部材が変形したときに光学部材1に力が伝わるのを抑えることができる。いいかえると、外部から光学部材1に伝わる力の外乱を低減することができる。なお、本実施例におけるフレクシャ3は半径方向以外のX軸回り、Y軸回り、Z軸回りの回転方向においてもボールジョイントによって柔に支持するようにしている。
ここで、光学部材1が円形状の場合について説明しているが、円形状以外の場合にも本保持装置は適用できる。その場合には上述の半径方向は、光学部材の周方向に垂直な方向、または光学部材の光軸と周縁部における点を直線的に結ぶ方向、または光学部材の重心と周縁部における点を直線的に結ぶ方向として置き換えることができる。
つぎに、光学部材1の脱着前後における光学部材1の面形状について説明する。
本実施例の構成を適用した場合を図4で示し、比較のために本実施例の構成を適用しない場合を図5および図6に示す。
まず、本実施例の構成を適用しない場合を説明する。図5は光学部材1に連結された接続部材105と、ベース部材4にフレクシャ103を介して連結された接続部材106が面で接触して連結されている例である。
図5(a)は光学部材1を取り外す前の状態、図5(b)は光学部材1を取り外した後の状態、図5(c)は光学部材1を再度取り付けた状態を示す。図5(b)および図5(c)の点線は図5(a)のままの状態を示す。
図5(a)の状態から光学部材1を取り外すと、フレクシャ103は図5(b)のように傾きをもった状態となる。これは、フレクシャ103には本来製造誤差があり、フレクシャ103が撓んで取り付けられることによってこの製造誤差分を吸収しているためである。ふたたび光学部材を取り付けると、図5(c)のように、図5(a)と異なる位置で取り付けられてしまう。これは、取り付け面の摩擦およびすべりの動的な状態が毎回再現せずにフレクシャの撓み方がばらついてしまうためである。
ばねとしてのフレクシャが撓むことによって光学部材1は反力を受けて面形状が変形してしまうため、撓み方がばらつくことによって面形状の再現性が悪くなってしまう。
つづいて図6を用いて本実施例の構成を適用しない場合を説明する。図6は光学部材1に連結された接続部材205にV溝を1つ設けて、ベース部材4にフレクシャ203を介して連結された接続部材206に球面部を1つ設けて、V溝によって形成される面に球面部を接触させて支持させた例である。本実施例とは異なり、3箇所に設けられた各保持部において2軸方向で拘束するように支持している。すなわち、3つの保持部を用いて光学部材1をキネマティックに支持している。
図6(a)は光学部材1を取り外す前の状態、図6(b)は光学部材1を取り外した後の状態、図6(c)は光学部材1を再度取り付けた状態を示す。図5(b)および図6(c)の点線は図6(a)のままの状態を示す。
図5と同様に、図6(a)の状態から光学部材1を取り外すと、フレクシャは図6(b)のように傾きをもった状態となる。ふたたび光学部材を取り付けると、図6(c)のように、図6(a)と異なる位置で取り付けられてしまう。すなわち、V溝に対して球面部は溝が形成される方向に自由度を持っており、球体部の中心を通る軸回りの回転方向にも自由度を持っているため、図5と同様に撓み方がばらついてしまう。
これらに対して、本実施例の構成を適用した場合について図4を用いて説明する。
図4(a)は光学部材1を取り外す前の状態、図4(b)は光学部材1を取り外した後の状態、図4(c)は光学部材1を再度取り付けた状態を示す。図4(b)および図4(c)の点線は図4(a)のままの状態を示す。
図4(a)の状態から光学部材1を取り外すと、フレクシャは図4(b)のように傾きをもった状態となる。ふたたび光学部材を取り付けると、図4(c)のように、図5(a)とほぼ同じ位置で保持される。すなわち、光学部材の脱着の前後でフレクシャの撓み方が大きく変化しないため、光学部材の面形状の再現性を向上させることができる。
以上のように本実施例では、光学部材を3箇所で保持する保持部のそれぞれがキネマティックに支持している。つまり、図6の構成が各保持部で2軸拘束して、全体として光学部材を6軸拘束しているのに対し、本実施例は各保持部で6軸拘束して、全体としては光学部材を18軸拘束している。
しかしながら、本実施例において光学部材を過拘束に保持するものであっても、光学部材の脱着前後における面形状の再現性を向上させる効果を奏する。
以下、変形例について説明する。なお、各変形例において特に言及しない箇所については実施例1の構成と同様であるものとする。
(変形例1)
実施例1の変形例1について説明する。図7は、フレクシャ13を介して接続部材16をベース部材4に接続するとともに、フレクシャ17を介して光学部材1に接続部材15を接続する例である。図7(a)は光学部材1を取り外す前の状態、図7(b)は光学部材1を取り外した後の状態、図7(c)は光学部材1を再度取り付けた状態を示す。図7(b)および図7(c)の点線は図7(a)のままの状態を示す。実施例1の図4と同様に、図7(c)は図7(a)とほぼ同じ位置で保持され、光学部材の脱着の前後でフレクシャの撓み方が大きく変化しないため、光学部材の面形状の再現性を向上させることができる。
(変形例2)
実施例1の変形例2について説明する。図8はフレクシャ3の弾性ヒンジにアクチュエータ9を配置した例である。アクチュエータ9によってフレクシャ3を弾性変形させて光学部材1の位置および姿勢(傾き)を変化させる。アクチュエータ9は好適にはピエゾアクチュエータが用いられ、他にもインチワーム型アクチュエータ、電磁アクチュエータ、油圧アクチュエータ等などの駆動制御可能なアクチュエータが用いられうる。
また光学部材1の位置および姿勢を変化させるためだけでなく、光学部材1に意図的に変形を与えるためにもアクチュエータは用いられうる。
(変形例3)
実施例1の変形例3について説明する。図9は、実施例1の保持装置10のベース部材4は第2の保持部27によって保持される。第2の保持部27はベース部材4の周縁部に3箇所設けられる。第2の保持部27の各々は、キネマティックカップリング22と、フレクシャ23とを備え、光学部材1はこれらを介して第2のベース部材24に接続される。キネマティックカップリング22は、ベース部材4に繋がる接続部材25と、フレクシャ23を介して第2のベース部材24に繋がる接続部材26とを備える。保持部27の詳細は保持部7と同様であり、保持部7の変形例も同様に適用されうるとして、ここでは説明を省略する。
本実施例によれば、光学部材1を取り外すことができるうえ、ベース部材4ごと取り外すことができるため、メンテナンスの自由度が向上する。例えば、ベース部材4上には光学部材の位置や面形状を計測するための不図示のセンサが配置される。本実施例によれば、メンテナンス時にこれらを取り外しおよび再取り付けができるうえ、脱着の前後におけるベース部材4の形状の変化を低減することができるため、これらのセンサの誤差要因を低減することができる。
(変形例4)
実施例1の変形例4について説明する。図10は、キネマティックカップリングの形状が実施例1と異なる例である。図3のように接続部材5にV溝を形成しなくても、略V字状の2つの平面を形成するように部材5bを配置するようにしてもよい。すなわち部材5bを6つ配置して3つのV字を形成している。部材5bは多角柱形状となっている。球面部6aについては実施例1と同様であり、V字と球面部との配置関係も同様である。
(変形例5)
実施例1の変形例5について説明する。図11は、キネマティックカップリングの形状が実施例1と異なる例である。接続部材5には円柱の一部である部材5cが配置される。平行に設けられた2つの部材5cを1組として、合計で3組配置される。各組の部材5cはそれぞれある軸に対して線対称に配置されており、3本の対象軸の交点から垂線を下ろすとその垂線は3つの球面体の各中心を結ぶ三角形の略重心を通過することが望ましい。また、3つの対称軸のうち隣り合う軸がなす角度は略120°であることが好ましい。
(変形例6)
実施例1の変形例6について説明する。図12は、キネマティックカップリングの形状が実施例1と異なる例である。接続部材5には、円錐状のくぼみ5dと、V溝5eと、平面5fが設けられる。球面部6aは実施例1と同様である。
くぼみ5dの内面に1つの球面部を当接させることによって、接続部材5の位置は接続部材6に対して3軸方向で拘束される。また、V溝5eの平面に1つの球面部を当接させることによって、接続部材5の位置は接続部6に対して2つの回転方向に拘束される。さらに、平面5fに1つの球面部を当接させることによって、接続部材5の位置は接続部材6に対して1つの回転方向に拘束される。各方向は独立であり、この構成により接続部材5は接続部材6に対してキネマティックに支持される。
(変形例7)
実施例1の変形例7について説明する。図13は、キネマティックカップリングの形状が実施例1と異なる例である。
接続部材5には3つの凸部5gと、V溝5eと、平面5fが設けられる。接続部材6には3つの球面部6aが設けられる。3つの凸部はある軸に対して回転対称に配置され、V溝5eの延長線がこの軸を通過するように配置される。また、3つの凸部5gはそれぞれ球面部6aと接触する平面を有し、この平面は仮想の三角錐、好ましくは正四面体の一部を形成する。
(変形例8)
実施例1の変形例8について説明する。図14は、キネマティックカップリングの形状が実施例1と異なる例である。接続部材5には、3つの球面部5hと、V溝5eと、平面5fが設けられる。V溝5eの延長線が各球面部5hの中心を結ぶ三角形の重心を通るように配置される。
(変形例9)
実施例1の変形例9について説明する。図15は、キネマティックカップリングの形状が実施例1と異なる例である。接続部材5には、複数の球面部5iが設けられる。接続部材6には円柱の一部である円柱体6bが3つ設けられる。球面部5iは各円柱体6bの中心軸に対して対称に配置された2つの球面部5iを1組として、3組設けられる。円柱体6bは、互いに隣合う円柱体の中心軸どうしがなす角度が略120°となることが好ましい。
(実施例2)
図16および図17は、実施例2における保持装置を示す図である。図16は保持装置の斜視図であり、図17(a)は被保持部材をベース部材に対して取り外したときの保持装置の側面図である。図17(b)は図17(a)においてAから見た図であり、図17(c)は図17(a)においてBから見た図である。
保持装置40は光学部材1の周縁部の2箇所に保持部7を備える。保持部7の各々は、キネマティックカップリング2と、フレクシャ3とを備え、光学部材1はこれらを介してベース部材4に接続される。この保持部7については実施例1と同様の構成であり、実施例1における変形例1〜9は本実施例についても同様に適用されうる。
保持部7は光学部材1の重心、または光学部材の光軸を通る平面に対して対象に配置されることが好ましい。
また、光学部材1を3箇所で保持して、そのうちの2箇所のみに保持部7を適用するようにしてもよい。
(露光装置に適用された例)
図18に露光装置の概略構成を示す。露光装置50は、EUV光を発光する発光部51と、発光した光をレチクルに導光する照明光学系52と、レチクル(原版)54で反射された光をウエハ(基板)57に投影する投影光学系56とを備える。また、露光装置50は、レチクル54を駆動するレチクルステージ55と、ウエハ57を駆動するウエハステージ58等を備える。
上述の実施例における保持装置は照明光学系52や投影光学系56、そのほかの光学系が有する光学部材の少なくとも1つを保持する保持装置として好適に適用される。また、本保持装置が適用される露光装置の構成については図18の構成に限定されるべきでなく、他の構成であってもよい。
(デバイス製造方法の例)
次に、図19及び図20を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図19は、デバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。
ステップS1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップS2(マスク製作)では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ステップS3(ウエハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップS4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。ステップS5(組み立て)は、後工程と呼ばれ、ステップS4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の組み立て工程を含む。ステップS6(検査)では、ステップS5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷(ステップS7)される。
図20は、ステップ4のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップS11(酸化)では、ウエハの表面を酸化させる。ステップS12(CVD)では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップS13(電極形成)では、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS14(イオン打ち込み)では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップS15(レジスト処理)では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップS16(露光)では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップS17(現像)では、露光したウエハを現像する。ステップS18(エッチング)では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップS19(レジスト剥離)では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
実施例1における光学部材保持装置の斜視図である。 実施例1における光学部材保持装置の側面図および平面図である。 キネマティックカップリングの詳細を示す図である。 キネマティックカップリングによる位置再現性を示す図である。 面締結保持による位置再現性を示す図である。 1つのボールと溝による位置再現性を示す図である。 実施例1における変形例1を適用した場合の位置再現性を示す図である。 実施例1における変形例2における保持装置の斜視図である。 実施例1における変形例3における保持装置の斜視図である。 実施例1における変形例4におけるキネマティックカップリングを示す図である。 実施例1における変形例5におけるキネマティックカップリングを示す図である。 実施例1における変形例6におけるキネマティックカップリングを示す図である。 実施例1における変形例7におけるキネマティックカップリングを示す図である。 実施例1における変形例8におけるキネマティックカップリングを示す図である。 実施例1における変形例9におけるキネマティックカップリングを示す図である。 実施例2における光学部材保持装置の斜視図である。 実施例2における光学部材保持装置の側面図および平面図である。 光学部材保持装置が適用された露光装置を示す図である。 露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのをフローチャートである。 図19に示すフローチャートのステップ4のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。 特許文献1に記載された保持装置を示す図である。
符号の説明
1 光学部材
2,22 キネマティックカップリング
3,23 フレクシャ
4 ベース部材
5,6,25,26 接続部材
5a,5e V溝
5b,5c,5g,5i 凸部
5d 凹部
5f 平面
6a,6b 凸部
7,27 保持部
9 アクチュエータ
10,20,30,40 保持装置
24 第2ベース部材
50 露光装置
51 発光部
52 照明光学系
54 レチクル
55 レチクルステージ
56 投影光学系
57 ウエハ
58 ウエハステージ
59 露光チャンバ

Claims (7)

  1. 光学部材の周縁部に設けられた複数の保持部によって、ベース部材に前記光学部材を保持する保持装置であって、
    前記複数の保持部は、弾性部材を介して前記ベース部材につながっている複数の第1部材と、前記光学部材につながっている複数の第2部材と、を含み、
    前記複数の第2部材の各々が、前記複数の第1部材の各々に対して6自由度でキネマティックに支持されていることを特徴とする保持装置。
  2. 前記第1部材および前記第2部材のうちいずれか一方に複数の凸部が設けられ、前記第1部材および前記第2部材のうち他方と前記凸部とが接触して前記第2部材が支持されることを特徴とする請求項1に記載の保持装置。
  3. 前記第1部材および前記第2部材の間に配置される球面体を備え、前記第1部材と前記球面体、および前記第2部材と前記球面体とが接触して前記第2部材が支持されることを特徴とする請求項1または2に記載の保持装置。
  4. 前記保持装置は、前記ベース部材の少なくとも2箇所に設けられた第2保持部によって、第2ベース部材に前記ベース部材を保持し、
    前記第2保持部の各々は、前記第2ベース部材に繋がる第3部材と、前記ベース部材に繋がる第4部材とを備え、前記第3部材に対して前記第4部材がキネマティックに支持されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の保持装置。
  5. 前記ベース部材に対して前記保持部を駆動するアクチュエータを備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の保持装置。
  6. 複数の光学部材を含む光学系を備える露光装置であって、
    前記光学部材の少なくとも1つを請求項1乃至5のいずれか1項に記載の保持装置により保持することを特徴とする露光装置。
  7. 請求項6に記載の露光装置を用いて基板にパターンを露光する工程と、露光された基板を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
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KR1020080015235A KR20080078559A (ko) 2007-02-23 2008-02-20 대상물을 유지하는 유지장치, 및 이 유지장치를 가진노광장치, 및 이 노광장치를 이용한 디바이스 제조방법
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Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009246047A (ja) * 2008-03-28 2009-10-22 Canon Inc 光学素子の位置決め装置、光学系、露光装置、光学系の調整方法
NL1036701A1 (nl) * 2008-04-15 2009-10-19 Asml Holding Nv Apparatus for supporting an optical element, and method of making same.
US20100019322A1 (en) * 2008-07-23 2010-01-28 International Business Machines Corporation Semiconductor device and method of manufacturing
DE102008036574A1 (de) * 2008-07-31 2010-02-04 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Vorrichtung zum Lagern eines optischen Elements
DE102008049556B4 (de) * 2008-09-30 2011-07-07 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
FR2945638B1 (fr) * 2009-05-14 2012-01-06 Commissariat Energie Atomique Dispositif de maintien avec precision d'un composant, notamment optique, et montage comprenant au moins un tel dispositif
JP4586110B1 (ja) * 2010-02-09 2010-11-24 シグマ光機株式会社 反射ミラー装置及び反射ミラー基体
JP5506473B2 (ja) * 2010-03-12 2014-05-28 キヤノン株式会社 保持装置、光学装置及び望遠鏡
US8651677B2 (en) * 2010-06-28 2014-02-18 Lexmark International, Inc. Mounting mechanism for a component of an imaging apparatus, and methods of making and using same
JP2013538447A (ja) * 2010-08-05 2013-10-10 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. インプリントリソグラフィ
JP5917526B2 (ja) * 2010-09-29 2016-05-18 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学素子を位置合わせするシステム及びその方法
DE102011004299A1 (de) * 2011-02-17 2012-08-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Anordnung zur Halterung eines optischen Elementes, insbesondere in einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage
WO2012110406A1 (en) 2011-02-17 2012-08-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical mount and euv exposure apparatus
JP5535108B2 (ja) * 2011-02-18 2014-07-02 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置
DE102011004961A1 (de) * 2011-03-02 2012-04-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Anordnung zur Halterung eines optischen Elementes, insbesondere in einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage
CN102681126A (zh) * 2011-03-15 2012-09-19 上海微电子装备有限公司 镜片固定装置及固定镜片的方法
DE102011080408A1 (de) * 2011-08-04 2013-02-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Semiaktive Kippkorrektur für feste Spiegel
FR2998625B1 (fr) * 2012-11-28 2015-11-06 Sagem Defense Securite Dispositif de fixation d un element a support en compensant les dilatations differentielles et un equipement comportant un tel dispositif
CN104076612B (zh) * 2013-03-27 2016-04-20 上海微电子装备有限公司 重载荷柔性支撑装置
JP2015079221A (ja) * 2013-10-18 2015-04-23 三菱電機株式会社 光学素子支持装置及び光学素子支持装置の調整方法
NL1040605C2 (en) * 2014-01-15 2015-07-16 Janssen Prec Engineering Electromagnetically actuated hexapod for nanometric positioning.
DE102014202737A1 (de) * 2014-02-14 2015-08-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Lagerelement und system zum lagern eines optischen elements
NL1040702B1 (en) * 2014-03-04 2015-10-27 Janssen Prec Eng Cryo hexapod positioning system.
US10562157B2 (en) * 2014-08-06 2020-02-18 C.M.S. S.P.A. System for supporting a workpiece
JP6540341B2 (ja) * 2015-07-31 2019-07-10 日本電気株式会社 ミラー支持方法、ミラー支持構造およびミラー構造体
CN105353490B (zh) * 2015-12-11 2018-02-02 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种控制光学镜片安装形变的装置
JP2017211409A (ja) * 2016-05-23 2017-11-30 キヤノン株式会社 保持装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
US10914916B2 (en) * 2017-03-07 2021-02-09 Onto Innovation Inc. Non-adhesive mounting assembly for a tall Rochon polarizer
DE102017209796A1 (de) 2017-06-09 2017-08-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Lagervorrichtung und messmaschine oder lithographieanlage
DE102017115050B3 (de) * 2017-07-05 2018-03-29 Physik Instrumente (Pi) Gmbh & Co. Kg Gelenk
JP6559386B1 (ja) * 2017-12-14 2019-08-14 三菱電機株式会社 鏡支持体及び鏡支持機構
DE102018114306B4 (de) * 2018-06-14 2021-07-01 Radiant Dyes Laseraccessoires GmbH Gitterträgervorrichtung für optische Gitter, insbesondere zum reproduzierbaren Gitterwechsel zur Durchstimmbarkeit des Dye Lasers, und Laservorrichtung mit einer derartigen Gitterträgervorrichtung
KR102055425B1 (ko) * 2018-10-29 2019-12-12 국방과학연구소 소형 위성용 포커스 조절 장치 및 이를 이용한 포커스 조절 방법
CN112068277B (zh) * 2020-08-31 2021-08-20 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 大口径光学透镜的多级柔性支撑结构

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6325351B1 (en) * 2000-01-05 2001-12-04 The Regents Of The University Of California Highly damped kinematic coupling for precision instruments
DE60126103T2 (de) 2000-08-18 2007-11-15 Nikon Corp. Haltevorrichtung für optisches Element
DE10115914A1 (de) 2001-03-30 2002-10-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes in einer Optik
JP2003149518A (ja) * 2001-11-12 2003-05-21 Canon Inc 光学素子及びそれを有する光学系
JP2003172858A (ja) * 2001-12-06 2003-06-20 Nikon Corp 光学部品保持装置及び露光装置
KR20050033621A (ko) 2002-07-31 2005-04-12 캐논 가부시끼가이샤 리테이너, 노광장치 및 디바이스 제조방법
JP2004078209A (ja) 2002-07-31 2004-03-11 Canon Inc 保持装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP2004247438A (ja) * 2003-02-13 2004-09-02 Canon Inc 冷却装置
JP2004327529A (ja) 2003-04-22 2004-11-18 Canon Inc 露光装置
JP4649136B2 (ja) 2003-07-31 2011-03-09 キヤノン株式会社 アクチュエータ、露光装置及びデバイス製造方法
ATE475907T1 (de) * 2003-10-02 2010-08-15 Zeiss Carl Smt Ag Projektionsobjektiv für die halbleiter- lithographie
DE102004018656A1 (de) 2004-04-13 2005-11-03 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element
US7515359B2 (en) 2004-04-14 2009-04-07 Carl Zeiss Smt Ag Support device for positioning an optical element
NZ544446A (en) * 2004-04-27 2009-02-28 Zoltan A Kemeny Dynamic kinematic mount where at least six points of translation are constrained and translation and rotation are decoupled from each other
US7738193B2 (en) 2004-06-29 2010-06-15 Carl Zeiss Smt Ag Positioning unit and alignment device for an optical element
JP2006100315A (ja) 2004-09-28 2006-04-13 Canon Inc 保持機構、光学装置、及びデバイス製造方法

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