JP5034027B2 - パーフルオロポリエーテル化合物、およびこれを用いた潤滑剤ならびに磁気ディスク - Google Patents
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Description
該潤滑剤としては一般にパーフルオロポリエーテルが用いられ、なかでもヘッドとの粘着力が低く、低摩擦力を有するSolvay Solexis製のFomblin系化合物が主流である。Fomblin系化合物の基本骨格は繰返し単位が(CF2CF2O)m−(CF2O)n−のパーフルオロポリエーテルである。
しかし、Fomblin系のパーフルオロポリエーテル鎖中の酸素原子は、ルイス酸として作用するヘッドの部材中のAl2O3と反応し、その鎖は切断される(例えば非特許文献1参照)。この切断が進行するとFomblin系のパーフルオロポリエーテルは低分子化し、最終的には磁気ディスク上から揮発する。
一方、両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルの少なくともひとつの末端が、アリーロキシ基で置換されたシクロホスファゼン基である化合物が開示され、この化合物を成分とする潤滑剤が、良好なコンタクト・スタート・ストップ(CSS)耐久性を有することが開示されている(例えば特許文献1参照。)。該化合物は、分子内にパーフルオロポリエーテル鎖を有しているにもかかわらずルイス酸に対する化学的安定性が高い(例えば非特許文献2参照。)ため、ルイス酸であるAl2O3から構成されるヘッドと磁気ディスクとの接触によっても分解せず、磁気ディスク表面に安定に存在すると考えられる。また、ディスクの回転数は近い将来15,000rpm以上となる可能性が高い。潤滑剤は、高速回転時でも飛散することなく磁気ディスク表面にとどまる必要がある。すなわち、磁気ディスクの信頼性を確保する上で、潤滑剤の化学的安定性と吸着性の両立が必要とされている。
Macromolecules、1992年、25巻、p.6791−6799 Digests of The Magnetic Recording Conference、Colorado、2004年8月 p.D6
ディスク表面に位置する潤滑剤は、長期間安定に存在しつづける必要がある。しかし、浮上量が小さく、かつ高速で磁気ディスクを回転させると、潤滑剤はディスクの外周方向へ移動しやすくなり、ディスクの全面において十分な潤滑作用を示さないことが考えられる。この場合、潤滑不良によりヘッドの破壊やディスクの損傷を起こし、最終的にディスクの記録層の破壊に至る可能性がある。ヘッドとの接触により潤滑剤が分解する場合にも、同様に記録層の破壊に至る可能性がある。記録装置の信頼性を確保する上で、ディスク表面に対する充分な吸着性を示し、かつ分解しにくい潤滑剤が必要である。
本発明の課題は、ディスク表面で充分な吸着性を示し、かつ分解しにくい化合物、およびこれを用いた吸着性と潤滑剤分解抑制という2つの課題を同時に達成する潤滑剤ならびに磁気ディスクを提供することにある。
(1)式(I)で表される化合物。
A−CH2CF2O(CF2CF2O)m−(CF2O)n−CF2CH2−B (I)
(式中Aは、下記式(a)で表される基である。式中Bは、下記式(b)で表される基である。ここで、Rは、C2〜5のフルオロアルキル基であり、mは0または1〜40の実数、nは0または1〜40の実数である。pは、1〜3の実数である。)
(2)mおよびnが4〜21の実数であり、pが1または2である上記(1)に記載の化合物。
(3)式(I)の化合物を含有する潤滑剤。
(4)mおよびnが4〜21の実数であり、pが1または2である上記に記載の潤滑剤。
(5)支持体上に少なくとも記録層、保護層を形成し、その表面にパーフルオロポリエーテル構造を有する化合物からなる潤滑層を有する磁気ディスクにおいて、該潤滑層が式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする磁気ディスク。
(6)mおよびnが4〜21の実数であり、pが1または2である上記に記載の磁気ディスク。
本発明においては、パーフルオロポリエーテルにおいて、一方の末端にフルオロアルコキシ基で置換されたシクロホスファゼン基、もう一方の末端に2つ以上の水酸基を含むオキシアルキレン基を有する、パーフルオロポリエーテル化合物が上記課題を克服することを見出した。
本発明の化合物の分解が抑制されるのは、分子内に存在するホスファゼン環がルイス塩基として働き、パーフルオロポリエーテルに先立ちAl2O3と相互作用することで、パーフルオロポリエーテルの分解を抑制すると考えられる。また、本発明の化合物が優れた吸着性を示すのは、潤滑剤が有する2つ以上の水酸基が、磁気ディスク表面と水素結合を形成するためと考えられる。
[1]本発明の式(I)で表されるパーフルオロポリエーテルは、一方の末端にフルオロアルコキシ(RO)基で置換されたシクロホスファゼン基、もう一方の末端に2つ以上の水酸基を含むオキシアルキレン基を有する、パーフルオロポリエーテル化合物である。
ここで、Rは、C2〜5のフルオロアルキル基であり、例えば、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロピル基、2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンチル基等を例示できる。
[1−1]合成方法
本発明の化合物(I)は例えば下記のように二段階の合成方法により製造される。一段階目は、パーフルオロポリエーテルにおいて、一方の末端にフルオロアルコキシ基で置換されたシクロホスファゼン基、もう一方の末端に1つの水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物の合成である。例えばR−OHで示されるフルオロアルコールを予めアルカリ金属等と反応させてフルオロアルコラートとしておき、次いでシクロトリホスホニトリルハライドと反応させ、さらに両末端が水酸基のパーフルオロポリエーテルとアルカリ金属等を投入し合成する。さらに詳しくは、フルオロアルコールを炭化水素系エーテルに溶解し、これに金属ナトリウムを加える。金属ナトリウムの添加量はフルオロアルコールに対して50〜100%当量、好ましくは80〜90%当量である。次いで該混合液を−20〜10℃、好ましくは−5〜5℃で5〜50時間、好ましくは20〜30時間攪拌後、シクロトリホスホニトリルハライドを添加し、さらに室温で0.5〜5時間、好ましくは1〜3時間攪拌する。これを水洗、蒸留した後、パーフルオロポリエーテルと金属ナトリウムを加えて、90〜100℃で20〜60時間、好ましくは40〜50時間攪拌する。ここで使用するパーフルオロポリエーテルと金属ナトリウムは、最初に使用したフルオロアルコールに対してそれぞれ2〜3%当量と3〜4%当量が好ましい。その後、水洗およびカラムクロマトグラフィーによる精製を行い、一段階目の目的化合物であるパーフルオロポリエーテルの両末端において、一方の末端にフルオロアルコキシ基で置換されたシクロホスファゼン基、もう一方の末端に1つの水酸基を有するパーフルオロポリエーテル化合物が得られる。
二段階目の合成で、本発明の化合物(I)を得る。例えば一段階目で得られる化合物とグリシドールを反応させることによって本発明の化合物(I)が製造される。さらに詳しくは、一段階目で得られた化合物とグリシドールを60〜80℃で約0.5〜5時間、好ましくは1〜3時間反応させる。グリシドールの添加量は、一段階目で得られた化合物の水酸基に対し、1〜2倍当量が好ましい。次いで、水洗および分子蒸留を行い、目的物が得られる。
両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルとしてはSolvay Solexis製Fomblin Zdol、Zdol−TX、Ztetraolなどがある。例えば、Fomblin Zdolの化学構造は、
HO−CH2CF2O(CF2CF2O)m−(CF2O)n−CF2CH2OHであり、m=0〜40、n=0〜40、分子量分布があり、平均分子量は約1000〜7000である。
[1−2]用途
本発明の化合物の用途は磁気ディスク装置内の磁気ディスクの摺動特性を向上させるための潤滑剤としての用途が挙げられる。この場合、本発明の化合物を単独使用する以外にも、例えばSolvay Solexis製のFomblin ZdolやZtetraol、Zdol TX、AM、ダイキン工業製のDemnum、Dupont製のKrytoxなどと任意の比率で混合して使用することもできる。また、磁気ディスク以外にも、おなじく磁気ディスク装置内の磁気ヘッドや、光磁気記録装置、光記録装置、磁気テープ等の記録装置、さらには記録装置に限らず摺動を伴う部分を有する機器の潤滑剤や、撥水性、撥油性が必要とされる表面のコート剤としての用途も考えられる。これらの用途でも、本発明の化合物を単独使用する以外に、炭化水素系やフッ素系、シリコン系の潤滑剤と混合して使用することもできる。
[1−3]使用方法
本発明の化合物を用いて潤滑層を形成するにはバルクの状態で表面に塗布する方法もあるが、必要以上に厚く付着してしまうことがある。この場合は溶剤に希釈して塗布する。溶剤は含フッ素のものが本発明の化合物との相溶性が良好である。例えば3M製PF−5060、PF−5080、HFE−7100,HFE−7200、DuPont製Vertrel−XF等が挙げられる。希釈後の本発明の化合物の濃度は1%以下、好ましくは0.001〜0.1%である。なお磁気ディスクの潤滑剤として用いる際は一般に塗布法による。
[2]磁気ディスクについて
[2−1]磁気ディスクの構成
図1に本発明の磁気ディスクの断面の模式図を示す。
本発明の磁気ディスクは、まず支持体1上に少なくとも1層以上の記録層2、その上に保護層3、更にその上に本発明の化合物を含有する潤滑層4を最外層として有するという構成である。
支持体としてはアルミニウム合金、ガラス等セラミックス、ポリカーボネート等が挙げられる。
磁気ディスクの記録層である磁性層の構成材料としては鉄、コバルト、ニッケル等の強磁性体を形成可能な元素を中心として、これにクロム、白金、タンタル等を加えた合金、又はそれらの酸化物が挙げられる。これらはメッキ法、或いはスパッタ法等で形成される。
保護層はカーボン、SiC,SiO2等の材質が挙げられる。これらはスパッタ法、或いはCVD法で形成される。
[2−2]潤滑層の形成方法
現在潤滑層の厚さは3nm以下であるため、粘性が20℃で100mPa・s程度以上の潤滑剤をそのまま塗布したのでは膜厚が大きくなりすぎる恐れがある。そこで塗布の際は溶剤に溶解したものを用いる。本発明の化合物を潤滑剤として単独で使用する場合も、例えばSolvay Solexis製のFomblin ZdolやZtetraol、Zdol TX、AM、ダイキン工業製のDemnum、Dupont製のKrytoxなどと混合して使用する場合も、溶剤に溶解した方が必要な膜厚に制御しやすい。但し、濃度は塗布方法・条件、混合割合等により異なる。
塗布方法はディップ法、スピンコート法等が挙げられる。
用いる溶剤は本発明の化合物を溶解するものを選択する。具体的には3M製PF−5060,PF−5080,HFE−7100,HFE−7200、DuPont社製のVertrel−XF等の含フッ素溶媒が挙げられる。希釈後の本発明の化合物の濃度は1%以下、好ましくは0.001〜0.1%である。
[2−3]応用
本発明の磁気ディスクは、ディスクを格納し、情報の記録・再生・消去を行うためのヘッドやディスクを回転するためのモーター等が装備されている磁気ディスクドライブとそのドライブを制御するための制御系からなる磁気ディスク装置に応用できる。
本発明の磁気ディスク、およびそれを応用した磁気ディスク装置の用途としてはコンピューターのほかにも、デジタルビデオレコーダー、デジタルビデオカメラ、デジタルカメラ、テレビなどのデジタル家電製品、さらにはカーナビゲーションシステム、ゲーム機、携帯電話、PHS、ワードプロセッサーなどのデジタル情報の記録再生を行う電子機器への適用が可能である。
アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン(2500g)、トリフルオロエタノール(870g)および金属ナトリウム(180g)を0℃で24時間攪拌した後、0℃でシクロトリホスホニトリルクロライド(420g)を徐々に添加した。反応混合物を室温で2時間攪拌した後、水洗、蒸留し、トリフルオロエトキシ基が置換したシクロトリホスホニトリル、830gを得た。これに、パーフルオロポリエーテルとして両末端が水酸基のSolvay Solexis製Fomblin Zdol−2000(平均分子量2000)520gと金属ナトリウム(7g)を加えて、90℃で48時間攪拌した。これをメタノールで洗浄した後、カラムクロマトグラフィーにより精製することにより、パーフルオロポリエーテルの片末端が式(a)、もう片末端が水酸基1つの化合物120gを得た。この化合物にアルゴン雰囲気下、カリウムt−ブトキシドを触媒としてt−ブタノール中、グリシドール3.5gを70℃で2時間かけて徐々に滴下し、滴下後さらに2時間攪拌した。反応後、溶液を水で洗浄し、分子蒸留で精製し目的とする化合物(I)70gを得た。
化合物1は、無色透明液体であり、20℃での密度は、1.70g/cm3であった。NMRを用いて行った化合物1の同定結果を示す。19F−NMRについては、化合物1をそのまま分析に用いた。1H−NMRでは、化合物1に無水トリフルオロ酢酸を加えて、水酸基をエステルに変成した試料について分析を行った。
19F−NMR(溶媒;なし、基準物質:生成物中に微量含まれるOCF2CF2CF2CF2Oを−125.8ppmとする)
δ=−76.1ppm
〔15F,Rf−CF2CH2−O−P3N3−(OCH2CF 3)5〕
δ=−77.9ppm、−79.9ppm
〔2F,Rf−CF 2CH2−O−CH2CH(OH)CH2OH〕
δ=−78.8ppm、−80.8ppm
〔2F,Rf−CF 2CH2−O−P3N3−(OCH2CF3)5〕
δ=−80.6ppm、−82.6ppm
〔0F,Rf−CF 2CH2−OH〕
m=10.6, n=10.1
1H−NMR(溶媒:パーフルオロヘキサン、基準物質:重水):
δ=5.26ppm
〔1H,Rf−CF2CH2−O−CH2CH(OCOCF3)CH2OCOCF3〕,
δ=5.12ppm
〔0H,Rf−CF2CH2−O−CH2 CH(OCOCF3)CH2OCH2CH(OCOCF3)CH2OCOCF3〕
実施例1に記載のパーフルオロポリエーテルとして、Solvay Solexis製Fomblin Zdol−4000(平均分子量4,000)を用いた他は、実施例1記載の方法に従って合成し、目的とする(化合物2)30gを得た。化合物2は、無色透明液体であり、20℃での密度は、1.75g/cm3であった。NMRを用いて行った化合物2の同定結果を示す。19F−NMRについては、化合物2をそのまま分析に用いた。
1H−NMRでは、実施例1に記載の方法に従い作成したエステル変成体について分析を行った。
19F−NMR(溶媒;なし、基準物質:生成物中に微量含まれるOCF2CF2CF2CF2Oを−125.8ppmとする)
δ=−76.3ppm
〔15F,Rf−CF2CH2−O−P3N3−(OCH2CF 3)5〕
δ=−77.8ppm、−79.8ppm
〔2F,Rf−CF 2CH2−O−CH2CH(OH)CH2OH〕
δ=−78.8ppm、−80.8ppm
〔2F,Rf−CF 2CH2−O−P3N3−(OCH2CF3)5〕
δ=−80.6ppm、−82.6ppm
〔0F,Rf−CF 2CH2−OH〕
m=23.5, n=23.3
1H−NMR(溶媒:パーフルオロヘキサン、基準物質:重水):
δ=5.26ppm
〔1H,Rf−CF2CH2−O−CH2CH(OCOCF3)CH2OCOCF3〕,
δ=5.12ppm
〔0H,Rf−CF2CH2−O−CH2 CH(OCOCF3)CH2OCH2CH(OCOCF3)CH2OCOCF3〕
実施例1に記載のグリシドールを7.0g用いた他は、実施例1記載の方法に従って合成し、目的とする(化合物3)45gを得た。化合物3は、無色透明液体であり、20℃での密度は、1.61g/cm3であった。NMRを用いて行った化合物3の同定結果を示す。19F−NMRについては、化合物3をそのまま分析に用いた。1H−NMRでは、実施例1に記載の方法に従い作成したエステル変成体について分析を行った。
19F−NMR(溶媒;なし、基準物質:生成物中に微量含まれるOCF2CF2CF2CF2Oを−125.8ppmとする)
δ=−76.1ppm
〔15F,Rf−CF2CH2−O−P3N3−(OCH2CF 3)5〕
δ=−77.9ppm、−79.9ppm
〔2F,Rf−CF 2CH2−O−CH2CH(OH)CH2O−CH2CH(OH)CH2−OH〕
δ=−78.8ppm、−80.8ppm
〔2F,Rf−CF 2CH2−O−P3N3−(OCH2CF3)5〕
δ=−80.6ppm、−82.6ppm
〔0F,Rf−CF 2CH2−OH〕
m=10.6, n=10.1
1H−NMR(溶媒:パーフルオロヘキサン、基準物質:重水):
δ=5.26ppm
〔1H,Rf−CF2CH2−O−CH2CH(OCOCF3)CH2OCH2 CH(OCOCF3)CH2OCOCF3〕,
δ=5.12ppm
〔1H,Rf−CF2CH2−O−CH2 CH(OCOCF3)CH2OCH2CH(OCOCF3)CH2OCOCF3〕
実施例1に記載の、トリフルオロエタノールの代りに2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンタノールを用いた他は、実施例1記載の方法に従って合成し、目的とする(化合物4)65gを得た。化合物4は、無色透明液体であり、20℃での密度は、1.74g/cm3であった。NMRを用いて行った化合物4の同定結果を示す。19F−NMRについては、化合物4をそのまま分析に用いた。1H−NMRでは、実施例1に記載の方法に従い作成したエステル変成体について分析を行った。
19F−NMR(溶媒;なし、基準物質:生成物中に微量含まれるOCF2CF2CF2CF2Oを−125.8ppmとする)
δ=−137.9ppm
〔10F,Rf−[CF2CH2−O−P3N3−(OCH2CF2CF2CF2CF 2H)5]〕
δ=−129.5ppm
〔10F,Rf−[CF2CH2−O−P3N3−(OCH2CF2CF2CF 2CF2H)5]〕
δ=−124.8ppm
〔10F,Rf−[CF2CH2−O−P3N3−(OCH2CF2CF 2CF2CF2H)5]〕
δ=−120.4ppm
〔10F,Rf−[CF2CH2−O−P3N3−(OCH2CF 2CF2CF2CF2H)5]〕
δ=−78.4ppm、−80.4ppm
〔2F,Rf−[CF 2CH2−O−P3N3−(OCH2CF2CF2CF2CF2H)5]〕
δ=−77.9ppm、−79.9ppm
〔2F,Rf−CF 2CH2−O−CH2CH(OH)CH2OH〕
δ=−80.6ppm、−82.6ppm
〔0F,Rf−CF 2CH2−OH〕
m=10.6, n=10.1
1H−NMR(溶媒:パーフルオロヘキサン、基準物質:重水):
δ=5.26ppm
〔1H,Rf−CF2CH2−O−CH2CH(OCOCF3)CH2OCOCF3〕,
δ=5.12ppm
〔0H,Rf−CF2CH2−O−CH2 CH(OCOCF3)CH2OCH2CH(OCOCF3)CH2OCOCF3〕
試験例1 ボンド率の測定
実施例1〜3で合成した化合物(化合物1〜3)をそれぞれDuPont製Vertrel−XFに溶解する。この溶液の化合物1〜3の濃度はいずれも0.1重量%である。直径3.5インチの磁気ディスクをこの溶液に1分間浸漬し、速度4mm/sで引き上げた。その後150℃の恒温槽に10分間この磁気ディスクを入れ、ディスク表面に対する潤滑剤の吸着を促進させる。この後、Fourier Transform Infrared Spectrometer(FT−IR)でディスク上の化合物の平均膜厚を測定する。この膜厚をfÅとする。次に、このディスクをVertrel−XF中に10分間浸漬し、速度10mm/sで引き上げた後、室温下で静置して溶媒を揮発させる。この後、ディスク上に残った化合物の平均膜厚をFT−IRで測定する。この膜厚をbÅとする。ディスクとの吸着性の強弱を示す指標として、一般に用いられているボンド率を採用した。ボンド率は、下記式で表される。
ボンド率(%)=100×b/f
また比較のため、両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルの少なくともひとつの末端が、アリーロキシ基で置換されたシクロホスファゼン基である化合物〔(株)松村石油研究所製モレスコホスファロールA20H−2000〕、および両末端にそれぞれ2つの水酸基を有するパーフルオロポリエーテル(Solvay Solexis製Fomblin Ztetraol−2000S)を使用した。なおモレスコホスファロールA20H−2000を今後化合物5と記述し、Solvay Solexis製Fomblin Ztetraolを今後化合物6と記述する。
R1−OCH2CF2O(CF2CF2O)m−(CF2O)n−CF2CH2−OH(化合物5)
ここでR1は、(m−CF3C6H4O)5−P3N3−(ただし、−P3N3−は環状)であり、mは10.5、nは10.1である。
HOCH2CH(OH)CH2−OCH2CF2O(CF2CF2O)m−(CF2O)n−CF2CH2O−CH2CH(OH)CH2OH(化合物6)
ここでmは10.1、nは10.9である。
これらの化合物のボンド率を測定した。結果を表1に示す。これらの結果から、本発明のパーフルオロポリエーテルにおいて、一方の末端にフルオロアルコキシ基で置換されたシクロホスファゼン基、もう一方の末端に2つ以上の水酸基を含むオキシアルキレン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物は、磁気ディスクと強い吸着力で結合した潤滑層を形成できるという効果が確認された。
実施例1〜3で合成した化合物(化合物1〜3)のそれぞれに20重量%のAl2O3(MPバイオメディカルズ製、ICN Alumina B,Akt.I、平均粒子径;100μm)を入れ、強く振とうしたのち超音波でさらに良く混合した試料を用いて、Al2O3の存在下における熱挙動の比較を熱分析装置(TG/TDA)を使用して実施した。試験は、試料20mgをアルミ製容器に入れ、窒素雰囲気下、250℃の一定温度で加熱し、一定時間後の化合物の重量減少率を測定した。また比較のため、Al2O3を添加せずに、化合物1〜3のそれぞれを20mg使用し、同様の熱分析を行った。さらに化合物1〜3に加えて、化合物5(松村石油研究所製モレスコホスファロールA20H−2000)および化合物6(Solvay Solexis製Fomblin Ztetraol−2000S)も用いた。
結果を表2に示す。表2から明らかなように、本発明のパーフルオロポリエーテルにおいて、一方の末端にフルオロアルコキシ基で置換されたシクロホスファゼン基、もう一方の末端に2つ以上の水酸基を含むオキシアルキレン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物は、化合物5と同様に、Al2O3による重量減少の促進は見られず、耐分解性に優れることが確認された。なお、表1より、化合物5の吸着性が低いことは明らかであり、耐分解性と吸着性を両立するにおいて、本発明の化合物が有効であることが確認できる。
実施例1および2で得られた化合物1および2と、比較のため化合物6をそれぞれDuPont製Vertrel−XFに溶解する。この溶液の化合物の濃度はいずれも0.1重量%である。直径3.5インチの磁気ディスクをこの溶液に1分間浸漬し、速度4mm/sで引き上げた。その後150℃で10分間乾燥し、塗布された化合物の膜厚をFT−IRで測定した。結果を表3に示す。
潤滑剤の性能試験は、ヘッドにかかる摩擦力を測定できるように改造したスピンドルスタンドにて、ディスクとヘッドを接触摺動させ、摩擦力の変化を測定することにより実施した。ディスクの回転数は90rpmとし、1回転ごとの最大、最小と平均の摩擦力を出力した。試験の良否は、最大摩擦係数が50mNを超えるまでの時間(耐久時間)で判定した。なお、接触摺動は、浮上系の磁気ディスクの摺動耐久性を評価する上での加速試験と位置付けられる。
試験には、表3に示す磁気ディスクを用いた。
結果を表4に示す。表4から明らかなように、本発のホスファゼン環を有するパーフルオロポリエーテル化合物は、摺動耐久性に優れることが確認された。
Claims (6)
- mおよびnが4〜21の実数であり、pが1または2である請求の範囲第1項に記載の化合物。
- mおよびnが4〜21の実数であり、pが1または2である請求の範囲際3項に記載の潤滑剤。
- mおよびnが4〜21の実数であり、pが1または2である請求の範囲第5項に記載の磁気ディスク。
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