JP5025326B2 - 酸化物半導体受光素子 - Google Patents
酸化物半導体受光素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5025326B2 JP5025326B2 JP2007128307A JP2007128307A JP5025326B2 JP 5025326 B2 JP5025326 B2 JP 5025326B2 JP 2007128307 A JP2007128307 A JP 2007128307A JP 2007128307 A JP2007128307 A JP 2007128307A JP 5025326 B2 JP5025326 B2 JP 5025326B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- type
- light receiving
- oxide semiconductor
- type mgzno
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
一般的に、半導体のバンドギャップ(Eg)は、Eg(eV)=1240/λ(nm)で表わされる式で求めることができる。ZnOは、Eg=約3.26eVであるので、ZnOでは、約380nm以下の波長の光が受光されて吸収される。
また、請求項2記載の発明は、前記受光層は、窒素がドーピングされていない下層と、当該下層の上に形成され、1×10 16 cm −3 〜1×10 20 cm −3 の濃度で窒素がドーピングされた前記受光領域としての上層とを含み、当該上層から前記下層の表面が露出面として露出する深さまで積層界面を横切る方向にエッチングされており、前記ショットキー電極は、前記上層の表面にショットキー接合され、前記オーミック電極は、前記下層の前記露出面にオーミック接合されている、請求項1に記載の酸化物半導体受光素子である。
また、請求項4記載の発明は、前記n型酸化物半導体層に接するように、前記積層部を支持する基板をさらに含み、前記積層部は、前記p型酸化物半導体層から、前記受光層を貫通して前記n型酸化物半導体層の表面が露出面として露出する深さまで積層界面を横切る方向にエッチングされており、前記p側電極は、前記p型酸化物半導体層の表面にオーミック接合され、前記n側電極は、前記n型酸化物半導体層の前記露出面にオーミック接合されている、請求項3に記載の酸化物半導体受光素子である。
図1は、この発明の第1の実施形態に係る光導電セル1を説明するための図解的な断面図である。
この光導電セル1は、基板2と、この基板2の上に成長させられたn型MgZnO層3(受光層)とを備えている。
n型MgZnO層3は、ZnOにMgが含有されたMgxZnx−1O混晶からなる。ここで、xは、MgZnOにおけるMgの混晶比率であって、0≦x≦1であらわされる不等式を満たす。Mgの混晶比率(x)を変えることによって、n型MgZnO層3のバンドギャップを制御することができる。
オーミック電極4は、たとえば、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、アルミニウム−チタン合金(Al−Ti合金)など、n型MgZnO層3とオーミック接合させることができる金属材料からなる。
図2は、n型MgZnO層3を形成するための分子エピタキシャル(MBE)成長装置5(以下、単に「MBE成長装置」とする。)の構成を説明するための図解図である。 このMBE成長装置5は、チャンバー6を備えている。チャンバー6内には、ヒータ8を内蔵した基板ホルダ7が配置されている。基板ホルダ7は、回転軸9に結合されており、この回転軸9は、チャンバー6外に配置された回転駆動機構10によって回転されるようになっている。これにより、基板ホルダ7に処理対象のウエハ11を保持させることにより、チャンバー6内でウエハ11を所定温度に昇温することができ、かつ、ウエハ11を回転させることができる。ウエハ11は、前述の基板2を構成する、たとえば、サファイア単結晶ウエハである。
チャンバー6における基板ホルダ7に対向する位置には、は、Oラジカルセル13、Nラジカルセル14、Znソースセル15、Mgソースセル16およびドーパント用ソースセル39が間隔を空けて取り付けられている。
Znソースセル15、Mgソースセル16およびドーパント用ソースセル39は、たとえば、Zn、Mgおよびドーパント(たとえば、上記したn型ドーパント)の材料源が収容されるルツボを備えており、このルツボの周囲にヒータ(図示せず)が設けられている。また、ルツボの正面には、開閉可能なシャッタ(図示せず)が設けられている。これにより、ルツボをヒータで加熱して材料源を蒸発させるとともに、シャッタを開けることにより、Zn、Mgおよびドーパントをウエハ11に照射することができる。
(n型MgZnO層3の成長条件)
ウエハ11の温度:700℃〜900℃
Oプラズマの照射条件:電力200W〜400Wで、RFセルへのO2供給流量0.5sccm〜3sccm
Nプラズマの照射条件:電力200W〜400Wで、RFセルへのN2供給流量0.5sccm〜3sccm
Znの照射条件:10−6Pa〜10−4Pa
Mgの照射条件:10−6Pa〜10−4Pa
上述した成長条件でn型MgZnO層3を成長させることによって、Mgの混晶比率(x):5(%)〜30(%)、窒素のドーピング濃度:1×1016cm−3〜1×1020cm−3、層厚:100nm〜1000nmのn型MgZnO層3をウエハ11上に成長させることができる。
図3は、この発明の第2の実施形態に係るショットキーダイオード35を説明するための図解的な断面図である。なお、この図3において、前述の図1に示された各部に相当する部分には、同一の参照符号を付して示す。
n型MgZnO層17には、窒素がドーピングされている。n型MgZnO層17におけるその他の物性(Mg混晶比率、窒素のドーピング濃度、層厚)については、前述のn型MgZnO層3と同様である。
次に、ショットキーダイオード35の製造方法について説明する。 ショットキーダイオード35を製造するには、まず、たとえば、図2に示したMBE成長装置5を使用して、基板2の上にn型MgZnO層17が成長させられる。n型MgZnO層17の成長条件については、Nを照射するタイミングおよび位置を除いて、前述のn型MgZnO層3の成長条件と同様である。Nの照射は、空乏層20が形成されるべき位置までn型MgZnO層が成長したタイミングで行なえばよい。また、Nの照射位置については、空乏層20が形成されるべき位置(ショットキー電極18が形成されるべき位置)にのみ照射すればよい。
図4は、この発明の第3の実施形態に係るショットキーダイオード36を説明するための図解的な断面図である。なお、この図4において、前述の図1に示された各部に相当する部分には、同一の参照符号を付して示す。
MgZnO積層部40は、基板2上に積層されたn型MgZnO層21と、n型MgZnO層21上に積層されたn型MgZnO層22とを備えている。
n型MgZnO層21は、前述のn型MgZnO層3と同様に、ZnOにMgが含有されたMgxZnx−1O混晶からなる。また、n型MgZnO層21の層厚は、1μm〜5μmであることが好ましい。n型MgZnO層21におけるその他の物性(Mg混晶比率)については、前述のn型MgZnO層3と同様である。ただし、n型MgZnO層21には、n型ドーパントがドーピングされていてもよい。n型ドーピングがされていれば、n型MgZnO層21上に、オーミック電極24(後述)を得られ易くなる。また、n型MgZnO層21には、窒素がドーピングされていない。
MgZnO積層部40が形成された後には、n型MgZnO層22からn型MgZnO層21の層厚中間部に至るまでエッチングされて、n型MgZnO層21の露出面21aが露出する。
図5は、この発明の第4の実施形態に係るPINダイオード37を説明するための図解的な断面図である。なお、この図5において、前述の図1に示された各部に相当する部分には、同一の参照符号を付して示す。
i型MgZnO層26は、MgZnO積層部46において光を受光して吸収する層であって、その全体で光を受光して吸収する。つまり、i型MgZnO層26は、MgZnO積層部46において光を受光して吸収する受光領域として機能する。i型MgZnO層26は、前述のn型MgZnO層3と同様に、ZnOにMgが含有されたMgxZnx−1O混晶からなり、その導電型がi型である真性半導体、または十分に比抵抗の高いn型もしくはp型の半導体である。また、i型MgZnO層26には、窒素がドーピングされている。また、i型MgZnO層26のバンドギャップ(Eg)は、たとえば、3.24eV〜3.7eVである。i型MgZnO層26のEgを、このようなEgにするには、i型MgZnO層26におけるMgの混晶比率(x)を0(%)〜25(%)にしておけばよい。また、i型MgZnO層26の層厚は、300nm〜1000nmであることが好ましい。i型MgZnO層26におけるその他の物性(窒素のドーピング濃度)については、前述のn型MgZnO層3と同様である。
その後は、光導電セル1の場合と同様に、公知のスパッタ装置や蒸着装置を用いて、金属材料の成膜とフォトリソグラフィーを用いたパターン形成技術により、p型MgZnO層27の表面にオーミック電極28が形成され、n型MgZnO層25の露出した表面にオーミック電極29が形成される。こうして、図5に示すPINダイオード37が得られる。
図6は、この発明の第5の実施形態に係るPINダイオード38を説明するための図解的な断面図である。なお、この図6において、前述の図1に示された各部に相当する部分には、同一の参照符号を付して示す。
MgZnO積層部47は、n型MgZnO層30と、i型MgZnO層31(受光領域)と、p型MgZnO層32とを備え、これら各MgZnO層は、この順に積層されている。
また、MgZnO積層部46は、断面略矩形となるようにp型MgZnO層32から、i型MgZnO層31を貫通してn型MgZnO層30が露出する深さまで積層界面を横切る方向にエッチングされている。そして、n型MgZnO層30の露出した露出面30aには、オーミック電極34がオーミック接合されている。一方、p型MgZnO層32の表面には、オーミック電極33がオーミック接合されている。オーミック電極33は、たとえば、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、金(Au)、ニッケル(Ni)、ロジウム(Rh)から選ばれる金属材料からなる。一方、オーミック電極34は、それぞれ、前述のオーミック電極4と同様の金属材料からなる。
その後は、光導電セル1の場合と同様に、公知のスパッタ装置や蒸着装置を用いて金属材料の成膜とフォトリソグラフィーを用いたパターン形成技術により、p型MgZnO層32の表面にオーミック電極33が形成され、n型MgZnO層30の露出面30aにオーミック電極34が形成される。こうして、図6に示すPINダイオード38が得られる。 以上のように、第4および第5の実施形態によれば、i型MgZnO層26およびi型MgZnO層31に窒素がドーピングされている。そのため、PINダイオード37およびPINダイオード38における暗電流を低減するとともに、応答速度の低下を抑制することができる。なお、第5の実施形態においても、第1の実施形態と同様に、基板2とn型MgZnO層30との間に、ZnO系化合物からなるバッファ層が形成されていてもよい。また、第4および第5の実施形態において、n型MgZnO層25(n型MgZnO層30)およびp型MgZnO層27(p型MgZnO層32)に挟まれるMgZnO層は、i型でなくてもよく、たとえば、n型MgZnO層25(n型MgZnO層30)よりドーパント濃度の小さい高抵抗のn型であってもよい。
以上、この発明の複数の実施形態について説明したが、上述した、光導電セル1、ショットキーダイオード35および36、PINダイオード37および38は、たとえば、簡便性に優れた、耐放射線性が高い紫外線モニターなどとして応用することができる。
実施例1
図2に示した構成を有するMBE成長装置における基板ホルダに、サファイア基板を保持させ、このサファイア基板上に、下記に示す成長条件で、導電型がn型のMgZnO層を成長させた。次いで、このn型MgZnO層の表面に、スパッタ法により、オーミック電極を2つ形成した。これによって、窒素がドーピングされたn型MgZnO層(Mg混晶比率:30(%)、層厚:1000nm、窒素ドーピング濃度:1×1019cm−3)を備える光導電セルを得た。
(n型MgZnO層の成長条件)
ウエハ温度:750℃
Oプラズマの照射条件:電力300Wで、RFセルへのO2供給流量0.5sccm
Nプラズマの照射条件:電力300Wで、RFセルへのN2供給流量0.5sccm
Znの照射条件:10−5Pa
Mgの照射条件:10−6Pa
比較例1
実施例1と同様の方法により、n型MgZnO層を備える光導電セルを作製した。ただし、n型MgZnO層を成長させる際、サファイア基板に窒素(N)を照射しなかった。こうして、窒素がドーピングされていないn型MgZnO層(Mg混晶比率:30(%)、層厚:1000nm)を備える光導電セルを得た。
実施例1および比較例1により得られた光導電セルのオーミック電極間に3Vの電圧を印加した。この加電圧状態で、各光導電セルに波長300nmの光を5秒間照射した後、照射を止めた。光を照射したときに出力される光電流値の経時変化を図7に示す。なお、図7において、T1は、実施例1の光電流値が最大値A1の10%から95%に上昇するまでの立ち上がり時間を示している。また、T2は、実施例1の光電流値が最大値A1の100%から10%に降下するまでの立ち下がり時間を示している。また、T3は、比較例1の光電流値が最大値A2の10%から95%に上昇するまでの立ち上がり時間を示している。また、T4は、比較例1の光電流値が最大値A2の100%から10%に降下するまでの立ち下がり時間を示している。
3 n型MgZnO層
4 オーミック電極
17 n型MgZnO層
18 オーミック電極
19 ショットキー電極
20 空乏層
21 n型MgZnO層
22 n型MgZnO層
23 ショットキー電極
24 オーミック電極
25 n型MgZnO層
26 i型MgZnO層
27 p型MgZnO層
28 オーミック電極
29 オーミック電極
30 n型MgZnO層
31 i型MgZnO層
32 p型MgZnO層
33 オーミック電極
34 オーミック電極
35 ショットキーダイオード
36 ショットキーダイオード
37 PINダイオード
38 PINダイオード
40 MgZnO積層部
41 オーミック電極
42 オーミック電極
46 MgZnO積層部
47 MgZnO積層部
48 空乏層
Claims (4)
- 基板と、
前記基板上に形成され、n型MgxZn1−xO(ただし、0≦x≦1)からなり、1×10 16 cm −3 〜1×10 20 cm −3 の濃度で窒素がドーピングされた受光領域と、当該受光領域以外の窒素がドーピングされていない領域とが選択的に形成された受光層と、
前記受光層の前記受光領域にショットキー接合されたショットキー電極と、
前記受光層の前記受光領域以外の領域にオーミック接合されたオーミック電極とを含む、酸化物半導体受光素子。 - 前記受光層は、窒素がドーピングされていない下層と、当該下層の上に形成され、1×10 16 cm −3 〜1×10 20 cm −3 の濃度で窒素がドーピングされた前記受光領域としての上層とを含み、当該上層から前記下層の表面が露出面として露出する深さまで積層界面を横切る方向にエッチングされており、
前記ショットキー電極は、前記上層の表面にショットキー接合され、
前記オーミック電極は、前記下層の前記露出面にオーミック接合されている、請求項1に記載の酸化物半導体受光素子。 - i型Mg x Zn 1−x O(ただし、0≦x≦1)からなり、1×10 16 cm −3 〜1×10 20 cm −3 の濃度で窒素がドーピングされた受光層と、
前記受光層の一方表面側に形成された、窒素がドーピングされていないZnO系化合物半導体からなるp型酸化物半導体層と、
前記受光層の前記一方表面側とは反対の他方表面側に形成された、窒素がドーピングされていないZnO系化合物半導体からなるn型酸化物半導体層とを含む積層部と、
前記p型酸化物半導体層に接合されたp側電極と、
前記n型酸化物半導体層に接合されたn側電極とを含み、
前記p型酸化物半導体層および前記n型酸化物半導体層の少なくとも一方は、前記受光層よりバンドギャップが大きい、酸化物半導体受光素子。 - 前記n型酸化物半導体層に接するように、前記積層部を支持する基板をさらに含み、
前記積層部は、前記p型酸化物半導体層から、前記受光層を貫通して前記n型酸化物半導体層の表面が露出面として露出する深さまで積層界面を横切る方向にエッチングされており、
前記p側電極は、前記p型酸化物半導体層の表面にオーミック接合され、
前記n側電極は、前記n型酸化物半導体層の前記露出面にオーミック接合されている、請求項3に記載の酸化物半導体受光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007128307A JP5025326B2 (ja) | 2007-05-14 | 2007-05-14 | 酸化物半導体受光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007128307A JP5025326B2 (ja) | 2007-05-14 | 2007-05-14 | 酸化物半導体受光素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008283132A JP2008283132A (ja) | 2008-11-20 |
JP5025326B2 true JP5025326B2 (ja) | 2012-09-12 |
Family
ID=40143669
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007128307A Expired - Fee Related JP5025326B2 (ja) | 2007-05-14 | 2007-05-14 | 酸化物半導体受光素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5025326B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5624286B2 (ja) * | 2009-05-28 | 2014-11-12 | ローム株式会社 | 紫外光検出素子及び紫外光検出装置 |
JP5459902B2 (ja) * | 2009-08-04 | 2014-04-02 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP5426315B2 (ja) * | 2009-10-20 | 2014-02-26 | スタンレー電気株式会社 | ZnO系化合物半導体素子 |
US8546797B2 (en) | 2009-10-20 | 2013-10-01 | Stanley Electric Co., Ltd. | Zinc oxide based compound semiconductor device |
JP5601700B2 (ja) * | 2010-02-22 | 2014-10-08 | 独立行政法人国立高等専門学校機構 | オゾン検出センサ |
JP2012009707A (ja) * | 2010-06-25 | 2012-01-12 | Casio Comput Co Ltd | 光センサー及び光センサーの製造方法 |
JP5800291B2 (ja) * | 2011-04-13 | 2015-10-28 | ローム株式会社 | ZnO系半導体素子およびその製造方法 |
JP5779005B2 (ja) * | 2011-06-15 | 2015-09-16 | スタンレー電気株式会社 | 紫外線受光素子及びそれらの製造方法 |
KR101744930B1 (ko) | 2012-12-28 | 2017-06-09 | 서울바이오시스 주식회사 | 광 검출 소자 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6291085B1 (en) * | 1998-08-03 | 2001-09-18 | The Curators Of The University Of Missouri | Zinc oxide films containing P-type dopant and process for preparing same |
JP3945782B2 (ja) * | 2005-09-06 | 2007-07-18 | シチズン東北株式会社 | 半導体発光素子及びその製造方法 |
-
2007
- 2007-05-14 JP JP2007128307A patent/JP5025326B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008283132A (ja) | 2008-11-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5025326B2 (ja) | 酸化物半導体受光素子 | |
JP6689456B2 (ja) | 透明トンネル接合を有する光起電力デバイス | |
KR101626248B1 (ko) | 실리콘 태양전지 및 이의 제조 방법 | |
US20150001535A1 (en) | P-Type Semiconductor Material and Semiconductor Device | |
EP2980858B1 (en) | Method for manufacturing a solar cell | |
EP1291928A2 (en) | Zn1-xMgxSySe1-y pin and avalanche-photodiodes | |
US20130104985A1 (en) | Photovoltaic device with mangenese and tellurium interlayer | |
KR20120092054A (ko) | 갈륨 비소 광전지 장치를 위한 셀프-바이패스 다이오드 기능 | |
JP5857774B2 (ja) | 半導体受光素子 | |
JP2004119525A (ja) | 酸化物半導体pn接合デバイス | |
US20100243056A1 (en) | Layer for thin film photovoltaics and a solar cell made therefrom | |
US20120192923A1 (en) | Photovoltaic device | |
US7838330B1 (en) | Method of field-controlled diffusion and devices formed thereby | |
WO2011036458A2 (en) | Improved photocell | |
JP7442002B1 (ja) | 太陽電池およびその製造方法、光起電力モジュール | |
US20110203648A1 (en) | Laser processed heterojunction photovoltaic devices and associated methods | |
JP5688646B2 (ja) | 有機−無機ハイブリッド接合型光電変換素子 | |
US6362483B1 (en) | Visible-blind UV detectors | |
JP2009260059A (ja) | 紫外線センサの製造方法 | |
JP2010186915A (ja) | 太陽電池 | |
US20120055542A1 (en) | Photovoltaic cell | |
JP2007535129A (ja) | 光起電装置用の多重帯域半導体組成物 | |
McClintock et al. | AlxGa1-xN materials and device technology for solar blind ultraviolet photodetector applications | |
AU2014341969B2 (en) | Photovoltaic cells | |
Liu et al. | MgZnO-based Schottky barrier ultraviolet-b photodiode by ultrasonic spray pyrolysis deposition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100512 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110728 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110922 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120607 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120619 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150629 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |