JP5024141B2 - パターンデータの作成方法、そのパターンデータを作成するプログラム、及び、そのプログラムを含む媒体 - Google Patents
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Description
さらに、入力データ10をテキストデータに変換する工程を、さらに、有し、前記各工程の実行において、テキストデータを使用することを特徴としている。
以下に本発明の特徴を付記する。
(付記1)
階層構造を構成する複数の第1セルからなる入力データから、フォトマスクのパターンに対するパターンデータを作成する方法であって、
前記階層構造に基づいて、前記第1セル毎に、その上位となる前記第1セルの情報を追加する工程と、
前記階層構造のすべての階層について順次、一の階層に着目したとき、前記一の階層に属する前記第1セルの内、前記一の階層より上位階層に属する前記第1セルのいずれかと同一となる前記第1セル及び前記一の階層の直上の上位階層において2以上存在する前記第1セルに配置されている前記第1セル、を選択して第1セル群に追加していく、第1セル群構成工程と、
前記階層構造のすべての階層について順次、前記第1セル群構成工程において、選択されなかった前記第1セルを第2セル群に追加していく第2セル群構成工程と、
前記第2セル群に属する前記第1セルから前記第1セル群に属する前記第1セルと同一の前記第1セルを除いて、第3セル群を構成する第3セル群構成工程と、
第3セル群に属する前記第1セルを構成するパターンデータに対し、光学的近接効果を補正するように変換したパターンデータを作成し、変換後のパターンデータを含む第2セルより第4セル群を構成する第4セル群構成工程と、
前記入力データにおいて、前記第1セルを、対応する前記第2セルに置き換える工程と、
を有することを特徴とするフォトマスクパターンデータの作成方法。
(付記2)
前記第1セル群構成工程において、相似な前記第1セルを同一性の判断において同一であると判断することを特徴とする付記1記載のフォトマスクパターンデータの作成方法。
(付記3)
前記入力データをテキストデータに変換する工程を、さらに、有し、前記各工程の実行において、テキストデータを使用することを特徴とする付記1記載のフォトマスクパターンデータの作成方法。
(付記4)
前記第1セルが、さらに、配置座標に関するデータ、回転情報に関するデータ、軸反転情報に関するデータの内いずれかを含む場合において、前記第1セル群構成工程における、同一のセルか異なるセルかを判断することにおいて、配置座標に関するデータ、回転情報に関するデータ、軸反転情報に関するデータのいずれかを使用しないことを特徴とする付記1記載のフォトマスクパターンデータを作成方法。
(付記5)
前記第2セル群に属する前記第1セルから前記第1セル群に属する第1セルと同一の前記第1セルを加えて第5セル群を構成する第5セル群構成工程を、さらに、有することを特徴とする付記3記載のパターンデータ作成方法。
(付記6)
階層構造を構成する複数の第1セルからなる入力データを受け取ったパターンデータ処理システムに対し、フォトマスクのパターンに対するパターンデータを作成させるプログラムあって、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造に基づいて、前記第1セル毎に、その上位となる前記第1セルの情報を、前記第1セルに追加させるステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造のすべての階層について順次、一の階層に着目したとき、前記一の階層に属する前記第1セルの内、前記一の階層より上位階層に属する前記第1セルのいずれかと同一となる前記第1セル及び前記一の階層の直上の上位階層において2以上存在する前記第1セルに配置されている前記第1セル、を選択して第1セル群に追加させる、第1セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造のすべての階層について順次、前記第1セル群構成工程において、選択されなかった前記第1セルを第2セル群に追加させる、第2セル群構ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記第2セル群に属する前記第1セルから前記第1セル群に属する前記第1セルと同一の前記第1セルを除いて、第3セル群を構成させる第3セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、第3セル群に属する前記第1セルを構成するパターンデータに対し、光学的近接効果を補正するように変換したパターンデータを作成させ、変換後のパターンデータを含む第2セルより第4セル群を構成させる第4セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記入力データにおいて、前記第1セルを、対応する前記第2セルに置き換させるステップと、
を有することを特徴とするフォトマスクパターンデータを作成させるプログラム。
(付記7)
前記第1セル群構成ステップにおいて、パターンデータ処理システムに対し、相似な前記第1セルを同一性の判断において同一であると判断させることを特徴とする付記6記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラム。
(付記8)
前記入力データをテキストデータに変換させるステップを、さらに、有し、パターンデータ処理システムに対し、前記各ステップの実行において、テキストデータを使用させることを特徴とする付記6記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラム。
(付記9)
前記第1セルが、さらに、配置座標に関するデータ、回転情報に関するデータ、軸反転情報に関するデータの内いずれかを含む場合において、前記第1セル群構成における、同一のセルか異なるセルかを判断することにおいて、配置座標に関するデータ、回転情報に関するデータ、軸反転情報に関するデータのいずれかを使用させないことを特徴とする付記6記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラム。
(付記10)
階層構造を構成する複数の第1セルからなる入力データを受け取ったパターンデータ処理システムに対し、フォトマスクのパターンに対するパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体であって、
前記プログラムは、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造に基づいて、前記第1セル毎に、その上位となる前記第1セルの情報を、前記第1セルに追加させるステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造のすべての階層について順次、一の階層に着目したとき、前記一の階層に属する前記第1セルの内、前記一の階層より上位階層に属する前記第1セルのいずれかと同一となる前記第1セル及び前記一の階層の直上の上位階層において2以上存在する前記第1セルに配置されている前記第1セル、を選択して第1セル群に追加させる、第1セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造のすべての階層について順次、前記第1セル群構成工程において、選択されなかった前記第1セルを第2セル群に追加させる、第2セル群構ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記第2セル群に属する前記第1セルから前記第1セル群に属する前記第1セルと同一の前記第1セルを除いて、第3セル群を構成させる第3セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、第3セル群に属する前記第1セルを構成するパターンデータに対し、光学的近接効果を補正するように変換したパターンデータを作成させ、変換後のパターンデータを含む第2セルより第4セル群を構成させる第4セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記入力データにおいて、前記第1セルを、対応する前記第2セルに置き換させるステップと、
を有することを特徴とするプログラムを格納する媒体。
(付記11)
前記第1セル群構成ステップにおいて、パターンデータ処理システムに対し、相似な前記第1セルを同一性の判断において同一であると判断させることを特徴とする付記10記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体。
(付記12)
前記入力データをテキストデータに変換させるステップを、さらに、有し、パターンデータ処理システムに対し、前記各ステップの実行において、テキストデータを使用させることを特徴とする付記10記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体。
(付記13)
前記第1セルが、さらに、配置座標に関するデータ、回転情報に関するデータ、軸反転情報に関するデータの内いずれかを含む場合において、前記第1セル群構成における、同一のセルか異なるセルかを判断することにおいて、配置座標に関するデータ、回転情報に関するデータ、軸反転情報に関するデータのいずれかを使用させないことを特徴とする付記10記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体。
(付記14)
付記10記載のプログラムを実行するパターンデータ処置システムであって、
前記入力データを受け取り、データ変換を行うインターフェイスと、
前記入力データを受け取り、前記プログラムを実行するCPUと、
前記CPUにおいて使用する前記プログラムを格納するROMと、
前記CPUからの処理結果を記憶する記憶媒体と、を備えるパターンデータ処理システム。
11 条件ファイル
12 パターンデータ補正
13 フラクチャリング
14 描画用データ
15 フォトマスク露光
16 フォトマスク形成
20 TEXT変換
21 データベースA
22 階層構造作成
23 データベースB
24 同一セルの抽出
25 同一セルの登録
26 データベースC
27 判断
28 データベースD
29 データベースE
30 判断
31 セルの振り分け
32 判断
33 データベースG
34 データベースF
35 セル内のパターンデータ補正
36 データベースH
37 OPC禁止枠作成
38 データベースI
39 セルの置き換え
40 データベースJ
41 判断
42 パターンデータ補正
43 データベースK
44 データベースZ
50 セル及びセルの配置イメージ
51 TOPセル
52 セルA
53 セルB
54 セルD
55 セルC
56 セルE
60 登録データ
70 パターンデータ処理システム
71 ディスプレイ
72 通信装置
73 キーボード
74 マウス
75 I/F(インターフェイス)
76 CPU
77 記憶媒体
78 RAM
79 ROM
80、81、82 セル内のパターン
83 TOPセル
90、92 セル
91、93 OPC禁止枠
94 セルD
95 拡大図
Claims (8)
- 階層構造を構成する複数の第1セルからなる入力データから、フォトマスクのパターンに対するパターンデータを作成する方法であって、
前記階層構造に基づいて、前記第1セル毎に、その上位となる前記第1セルの情報を追加する工程と、
前記階層構造のすべての階層について順次、一の階層に着目したとき、前記一の階層に属する前記第1セルの内、前記一の階層より上位階層に属する前記第1セルのいずれかと同一となる前記第1セル及び前記一の階層の直上の上位階層において2以上存在する前記第1セルに配置されている前記第1セル、を選択して第1セル群に追加していく、第1セル群構成工程と、
前記階層構造のすべての階層について順次、前記第1セル群構成工程において、選択されなかった前記第1セルを第2セル群に追加していく第2セル群構成工程と、
前記第2セル群に属する前記第1セルから前記第1セル群に属する前記第1セルと同一の前記第1セルを除いて、第3セル群を構成する第3セル群構成工程と、
第3セル群に属する前記第1セルを構成するパターンデータに対し、
光学的近接効果を補正するように変換したパターンデータを作成し、変換後のパターンデータを含む第2セルより第4セル群を構成する第4セル群構成工程と、
前記入力データにおいて、前記第1セルを、対応する前記第2セルに置き換える工程と、
を有することを特徴とするフォトマスクパターンデータの作成方法。 - 前記第1セル群構成工程において、相似な前記第1セルを同一性の判断において同一であると判断することを特徴とする請求項1記載のフォトマスクパターンデータの作成方法。
- 前記入力データをテキストデータに変換する工程を、さらに、有し、前記各工程の実行において、テキストデータを使用することを特徴とする請求項1記載のフォトマスクパターンデータの作成方法。
- 前記第2セル群に属する前記第1セルから前記第1セル群に属する第1セルと同一の前記第1セルを加えて第5セル群を構成する第5セル群構成工程を、さらに、有することを特徴とする請求項3記載のパターンデータ作成方法。
- 階層構造を構成する複数の第1セルからなる入力データを受け取ったパターンデータ処理システムに対し、フォトマスクのパターンに対するパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体であって、
前記プログラムは、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造に基づいて、前記第1セル毎に、その上位となる前記第1セルの情報を、前記第1セルに追加させるステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造のすべての階層について順次、一の階層に着目したとき、前記一の階層に属する前記第1セルの内、前記一の階層より上位階層に属する前記第1セルのいずれかと同一となる前記第1セル及び前記一の階層の直上の上位階層において2以上存在する前記第1セルに配置されている前記第1セル、を選択して第1セル群に追加させる、第1セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造のすべての階層について順次、前記第1セル群構成工程において、選択されなかった前記第1セルを第2セル群に追加させる、第2セル群構ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記第2セル群に属する前記第1セルから前記第1セル群に属する前記第1セルと同一の前記第1セルを除いて、第3セル群を構成させる第3セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、第3セル群に属する前記第1セルを構成するパターンデータに対し、光学的近接効果を補正するように変換したパターンデータを作成させ、変換後のパターンデータを含む第2セルより第4セル群を構成させる第4セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記入力データにおいて、前記第1セルを、対応する前記第2セルに置き換させるステップと、
を有することを特徴とするプログラムを格納する媒体。 - 前記第1セル群構成ステップにおいて、パターンデータ処理システムに対し、相似な前記第1セルを同一性の判断において同一であると判断させることを特徴とする請求項5記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体。
- 前記入力データをテキストデータに変換させるステップを、さらに、有し、パターンデータ処理システムに対し、前記各ステップの実行において、テキストデータを使用させることを特徴とする付記6記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体。
- 請求項6記載のプログラムを実行するパターンデータ処置システムであって、
前記入力データを受け取り、データ変換を行うインターフェイスと、
前記入力データを受け取り、前記プログラムを実行するCPUと、
前記CPUにおいて使用する前記プログラムを格納するROMと、
前記CPUからの処理結果を記憶する記憶媒体と、を備えるパターンデータ処理システム。
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Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP0825506B1 (en) | 1996-08-20 | 2013-03-06 | Invensys Systems, Inc. | Methods and apparatus for remote process control |
US7089530B1 (en) | 1999-05-17 | 2006-08-08 | Invensys Systems, Inc. | Process control configuration system with connection validation and configuration |
AU5025600A (en) | 1999-05-17 | 2000-12-05 | Foxboro Company, The | Process control configuration system with parameterized objects |
US6788980B1 (en) | 1999-06-11 | 2004-09-07 | Invensys Systems, Inc. | Methods and apparatus for control using control devices that provide a virtual machine environment and that communicate via an IP network |
JP5309623B2 (ja) * | 2008-03-10 | 2013-10-09 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 階層構造を用いたフォトマスクデータの処理方法、フォトマスクデータ処理システム、および、製造方法 |
EP2304536A4 (en) | 2008-06-20 | 2012-08-15 | Invensys Sys Inc | SYSTEMS AND METHOD FOR IMMERSIBLE INTERACTION WITH ACTUAL AND / OR SIMULATED DEVICES FOR PROCESS, ENVIRONMENTAL AND INDUSTRIAL CONTROL |
US8127060B2 (en) | 2009-05-29 | 2012-02-28 | Invensys Systems, Inc | Methods and apparatus for control configuration with control objects that are fieldbus protocol-aware |
US8463964B2 (en) | 2009-05-29 | 2013-06-11 | Invensys Systems, Inc. | Methods and apparatus for control configuration with enhanced change-tracking |
JP5606932B2 (ja) * | 2011-01-18 | 2014-10-15 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | マスクの製造方法ならびに光近接効果補正の補正方法および半導体装置の製造方法 |
US9262578B2 (en) | 2014-04-25 | 2016-02-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method for integrated circuit manufacturing |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05343980A (ja) | 1992-06-11 | 1993-12-24 | Seiko Epson Corp | 高速レベルシフト回路 |
US5557533A (en) * | 1994-04-19 | 1996-09-17 | Lsi Logic Corporation | Cell placement alteration apparatus for integrated circuit chip physical design automation system |
GB9423051D0 (en) | 1994-11-15 | 1995-01-04 | Sgs Thomson Microelectronics | A voltage level converter |
US5625564A (en) * | 1995-01-13 | 1997-04-29 | Cadence Design Systems, Inc. | System and method for hierarchical device extraction |
JP3042443B2 (ja) * | 1997-03-14 | 2000-05-15 | 日本電気株式会社 | マスクパターンデータの作成方法 |
JP3612166B2 (ja) * | 1997-03-18 | 2005-01-19 | 株式会社東芝 | 荷電ビーム描画データ作成方法および装置 |
US6301697B1 (en) | 1999-04-30 | 2001-10-09 | Nicolas B. Cobb | Streamlined IC mask layout optical and process correction through correction reuse |
JP4083965B2 (ja) * | 2000-09-27 | 2008-04-30 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路の設計パターンのデータ処理方法、及びデータ処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
US6584610B1 (en) * | 2000-10-25 | 2003-06-24 | Numerical Technologies, Inc. | Incrementally resolved phase-shift conflicts in layouts for phase-shifted features |
US6901574B2 (en) * | 2001-02-09 | 2005-05-31 | Lacour Patrick J. | Data management method for mask writing |
JP2002268198A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-09-18 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクの描画条件準備方法 |
US6505327B2 (en) * | 2001-04-13 | 2003-01-07 | Numerical Technologies, Inc. | Generating an instance-based representation of a design hierarchy |
JP2003029392A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-29 | Dainippon Printing Co Ltd | 描画用データの作成方法および描画方法 |
US7172838B2 (en) * | 2002-09-27 | 2007-02-06 | Wilhelm Maurer | Chromeless phase mask layout generation |
US7093228B2 (en) * | 2002-12-20 | 2006-08-15 | Lsi Logic Corporation | Method and system for classifying an integrated circuit for optical proximity correction |
US6873183B1 (en) * | 2003-05-12 | 2005-03-29 | Xilinx, Inc. | Method and circuit for glitchless clock control |
US6873186B2 (en) | 2003-07-11 | 2005-03-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Level shift circuit |
JP4295572B2 (ja) | 2003-07-11 | 2009-07-15 | パナソニック株式会社 | レベルシフト回路 |
JP3993545B2 (ja) | 2003-09-04 | 2007-10-17 | 株式会社東芝 | パターンの作製方法、半導体装置の製造方法、パターンの作製システム、セルライブラリ、フォトマスクの製造方法 |
US7337421B2 (en) * | 2004-09-30 | 2008-02-26 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and system for managing design corrections for optical and process effects based on feature tolerances |
US7401319B2 (en) * | 2004-12-23 | 2008-07-15 | Invarium, Inc. | Method and system for reticle-wide hierarchy management for representational and computational reuse in integrated circuit layout design |
JP2007079517A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Toshiba Corp | パターン作成方法、パターン作成プログラム及び半導体装置の製造方法 |
JP2007086587A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Renesas Technology Corp | マスクパターン設計方法および半導体装置の製造方法 |
JP2007280200A (ja) * | 2006-04-10 | 2007-10-25 | Elpida Memory Inc | レイアウトパターンデータの補正装置、及び補正方法 |
JP5309623B2 (ja) * | 2008-03-10 | 2013-10-09 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 階層構造を用いたフォトマスクデータの処理方法、フォトマスクデータ処理システム、および、製造方法 |
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