JP5024141B2 - パターンデータの作成方法、そのパターンデータを作成するプログラム、及び、そのプログラムを含む媒体 - Google Patents

Description

ＬＳＩ（Large Scale integration）回路装置の製造に用いるフォトマスクに対するパターンデータの作成方法、そのパターンデータを作成するプログラム、及び、そのプログラムを含む媒体に関する。

ＬＳＩ回路装置の製造において、高集積化のため、回路を構成する素子パターンの微細化が望まれている。そして、予め決められた素子特性を得るために、微細なパターンを形成するにあたっては、設計通りに高精度に、素子パターンを、半導体基板上に形成する必要がある。しかし、ＬＳＩ回路装置の製造に用いるフォトマスクパターンが、光学的近接効果を考慮して形成されていなければ、半導体基板に転写するにあたって、設計通りの素子パターンを半導体基板上に形成することができない。

そこで、光学的近接効果を考慮したフォトマスクパターンを形成するため、素子パターンを形成するための設計データに対して、回転情報、軸反転情報、倍率情報を考慮するだけでなく、いわゆる、ＯＰＣ（Optical Proximity Correction）を考慮した補正（ＯＰＣ処理）をおこなって、フォトマスクパターンの作成に用いるデータを形成している。

上記のＯＰＣ処理は、すべての素子パターンを形成するための設計データに対して、素子パターンの間隔、幅、光学的条件に基づいて、行われる。そのため、素子パターンを形成するためのパターンデータ数が多い場合、ＯＰＣ処理には長期間を要する。

そこで、まず、第１の領域に対するＯＰＣ処理を決定する。次いで、第１の領域に対するＯＰＣ処理を、第１の領域に含まれるパターンと同一パターンを有する第２の領域に対して再利用する。その結果、ＯＰＣ処理に要する期間を短縮する提案がなされている（例えば、特許文献１。）。

また、まず、複数の素子パターンから構成され、繰り返し用いられる第１セルについて、予めＯＰＣ処理を行って得られた第２セルを登録する。そして、第２セルを第１セルと置き換えを行うことによって、設計データ全体のＯＰＣ処理を行う。その結果、ＯＰＣ処理に要する期間を短縮する提案がなされている（例えば、特許文献２又は特許文献３。）。
特許第３３４３２４６号 特開２００７−８６５８７号公報 特開２００５−８４１０１号公報

上記より、ＯＰＣ処理を行う一定の領域又はセルの選択を効率よく特定し、その領域又はセルに対して、ＯＰＣ処理の目的において等価であるとみなされる領域又はセルを、より多く、かつ、効率的に特定できれば、よりＯＰＣ処理に要する期間を短縮できることは明らかである。

そこで、本発明の目的は、ＯＰＣ処理を行う一定の領域又はセルを効率よく選択し、その領域又はセルに対して、ＯＰＣ処理の目的において等価であるとみなされる領域又はセルを、漏れなく、かつ、効率的に特定するフォトマスクパターンデータの作成方法、そのパターンデータを作成するためのプログラム、及び、そのプログラムを含む媒体を提供することにある。

上記の課題を解決するため、本発明の第１側面によれば、パターン形成に用いるパターンデータを含む第１セルを有し、前記第１セルが階層を構成している入力データから、ＬＳＩ製造に用いるフォトマスクに対するパターンデータの作成方法であって、すべての階層について順次、注目する階層に属する前記第１セルの内、前記注目する階層より上位階層に属する前記第１セルのいずれかと同一となる前記第１セル、及び、一つ上の上位階層に２以上存在する前記第１セルに配置され、かつ、前記注目する階層に属する前記第１セルを選択して第１セル群に追加していく、第１セル群構成工程と、すべての階層について順次、前記第１セル群構成工程において、選択されなかった前記第１セルを第２セル群に追加していく第２セル群構成工程と、前記第２セル群に属する前記第１セルから前記第１セル群に属する前記第１セルと同一の前記第１セルを除いて、第３セル群を構成する第３セル群構成工程と、第３セル群に属する前記第１セルを構成するパターンデータに、光学的近接効果を補正するように変換したパターンデータを作成し、変換後のパターンデータを含む第２セルより第４セル群を構成する第４セル群構成工程と、を有することを特徴とするフォトマスクパターンデータの作成方法を提供される。

本発明によれば、効率よくＯＰＣ処理を行う第３セル群に属するセルを選択することができる。また、第３セル群に属するセルと同一のセルを特定することを、セルが含む情報を使用して、漏れなく、かつ、効率よく行うことができる。すなわち、ＯＰＣ処理の目的において等価であるとみなされるセルを、漏れなく、かつ、効率よく特定することができる。

以下、本発明の実施例１、実施例２、及び、実施例３について説明する。しかし、本発明は、上記の実施例に限定されるものではない。

図１に、一般的なフォトマスク製造工程に関するフローチャートを示す。図１のフローチャートによれば、フォトマスクの製造は、パターンデータ補正１２の工程及びフラクチャリング１３の工程を経て描画用データ１４を作成し、次いで、フォトマスク露光１５の工程及びフォトマスク形成１６の工程を経ることにより行われる。

パターンデータ補正１２の工程は、条件ファイル１１を取り込んで、入力データ１０に対して、光学的近接効果によるパターン変形を抑制するＯＰＣ処理を行ったパターンデータを作成する工程である。ここで、入力データ１０は、半導体素子を構成する実パターンを表すパターンデータであり、ＯＰＣ処理を行う前のパターンデータである。また、条件ファイル１１は、実パターンの形状、配置とパターン補正量が記述されているファイルである。なお、パターンデータ補正１２の工程について、図２を用いて、さらに詳細に説明する。

フラクチャリング１３の工程は、ＯＰＣ処理を行ったパターンデータを、描画用データ１４に変換する工程である。ここで、描画用データ１４とは、露光装置が、石英ガラス上に堆積した金属層（例えば、クロム層）上のレジスト層に対して、電子ビームを照射して、レジストパターンを描画することに用いるデータである。

フォトマスク露光１５の工程は、描画用データ１４を用いて、露光装置がレジスト層に対して、電子ビームを照射して、レジストパターンを描画する工程である。

ここで、フォトマスクとは、石英ガラスと、その石英ガラス上の金属パターンを含むものである。そして、フォトマスクに光を照射することにより、その金属パターンは、半導体基板上のレジスト層に転写されると、半導体装置に含まれる素子を構成するパターンとなる。なお、フォトマスクは、その使用方法及び金属パターンの繰り返し単位の構成により、いわゆる、マスク、レチクルと呼ばれる。

フォトマスク形成１６の工程は、以下のことを行う工程である。まず、石英ガラス上に堆積した金属層（例えば、クロム層）上のレジストパターンが形成された後、レジストパターンをマスクに、金属層をエッチングする。次いで、レジストパターンをアッシング（灰化）及び石英ガラスを洗浄することにより、レジストパターンを剥離する。その結果、石英ガラス上に金属パターンが形成される。

図２により、パターンデータ補正１２の工程に関するフローチャートを示す。なお、実施例１のパターンデータ作成方法は、パターンデータ補正１２の工程から構成される。

実施例１のパターンデータ作成方法によれば、以下のデータベースが形成される。まず、入力データ１０対して、TEXT変換２０の工程を行って得た、データＡから構成されるデータベースＡ２１が形成される。データＡを使用して階層構造作成２２の工程を行って得たデータＢから構成されるデータベースＢ２３が形成される。TEXT変換２０の工程及び階層構造作成２２の工程で行われるデータ作成の詳細について、図５を用いて詳細に説明する。ここで、セルが複数のパターンデータを組み合わせて構成されているものであるとした場合に、そのセルの配置情報データを有するセルを、そのセルの上位セルという。そこで、上記のセルだけでパターンデータ全体が構成されているだけでなく、セル及び上位セルによってパターンデータ全体が構成されている場合に、パターンデータ全体は階層構造を有するという。

次いで、データベースＢ２３及びデータベースＡ２１を使用して同一セルの抽出２４の工程及び同一セルの登録２５の工程を行って得たデータＣから構成されるデータベースＣ２６が形成される。なお、上記のデータＣ作成について、図６を用いて詳細に説明する。

次いで、データベースＣ２６を使用して、注目する階層に属するセルが、その上位階層に属するセルのいずれかと同一となるセル、又は、一つ上の上位階層に２以上存在する上位セルが配置情報データを有するセルであるか否かの判断２７を行う。判断２７を行った結果、否定されたセルはデータベースＤ２８に登録され、データベースＤ２８が形成される。一方、判断２７を行った結果、肯定されたセルはデータベースＥ２９に登録され、データベースＥ２９が形成される。

次いで、判断２７をすべての階層に属するセルについて行ったか否かの判断３０を行う。判断３０を行った結果、否定された場合は、判断２７をさらに行う。また、肯定された場合は、セルの振り分け３１は終了する。

次いで、データベースＥ２９中のセルと同一なデータベースＤ２８中のセルが存在するかの判断３２を行う。判断３２の結果、肯定されたセル、及び、データベースＥ２９に属するセルはデータベースＧ３３に登録される。一方、データベースＤ２８に属するセルであって、判断３２により否定されたセルはデータベースＦ３４に登録される。その結果、データベースＦ３４及びＧ３３が形成される。なお、データベースＤ２８、Ｅ２９、Ｆ３４、Ｇ３３にセルを登録することの詳細は、図７を用いて説明する。

次いで、条件ファイル１１を入力して、セル内のパターンデータ補正３５を行う。すなわち、いわゆる、ＯＰＣ処理を行う。その結果、ＯＰＣ処理を行ったセルによって、データベースＨ３６を構成する。

次いで、ＯＰＣ処理を行ったセルについて、ＯＰＣ禁止枠作成３７を行う。ここで、ＯＰＣ処理を行ったセルを構成するパターンデータのうち、ＯＰＣ処理を行ったセルに隣接して配置されるセルに影響されずに、常に同一な補正を受けるパターンデータを抜き出したとする。また、セルを構成するパターンデータにより表されるものを実パターンという。さらに、実パターンが組合わさってできるものを実セルレイアウトという。そこで、実セルレイアウトにおいて、常に同一な補正を受けるパターンデータに対応する実パターンが占める領域の外周を、ＯＰＣ禁止枠という。

そして、常に同一な補正を受けるパターンデータから構成されるセルを定義する。すなわち、ＯＰＣ禁止枠内のパターンを表すパターンデータから構成されるセルを定義する。そして、ＯＰＣ禁止枠内のパターンを表すパターンデータから構成されるセルを、データベースＩ３８に登録し、データベースＩ３８を構成する。

次いで、ＯＰＣ処理を行ったセルを、ＯＰＣ禁止枠内のパターンを表すパターンデータから構成されるセルと、ＯＰＣ禁止枠外のパターンデータとで構成する。そして、ＯＰＣ処理を行う前のセルのＯＰＣ禁止枠内の領域について、ＯＰＣ処理を行った後のＯＰＣ禁止枠内のパターンを表すパターンデータから構成されるセルに置き換え、置き換えセルを形成する。すなわち、セルの置き換え３９を行い、置き換えセルをデータベースＪ４０に登録した結果、データベースＪ４０を構成する。そして、最上位のセル以外のセルについて、上記の処理を行ったか否かの判断４１を行う。その結果、最上位のセルを除いて、セルの置き換え３９を行ったと判断された場合、次の工程に進む。

パターンデータ補正４２の工程では、次の処理を行う。まず、データベースＪを構成するパターンデータであって、ＯＰＣ禁止枠外のパターンデータを、最上位のセルに関連づける。

次いで、条件ファイル１１の入力を受けて、最上位のセルに属し、ＯＰＣ禁止枠外のパターンデータ（ＯＰＣ処理を行っていないパターンデータ）についてのパターンデータ補正４２、いわゆる、ＯＰＣ処理を行う。その結果、データベースＫ４３が構成される。

そこで、図１を用いて説明したフラクチャリング１３を、データベースＫ４３に属するパターンデータについて行って、描画用データ１４を形成する。

図３により、図１に示したパターンデータ補正１２の工程（詳細が図２に示されたもの）に変形を加えた工程についてのフローチャートを示す。図２に示したパターンデータ補正１２の工程（詳細が図２に示されたもの）においては、入力データ１０から描画用データ１４を作成する過程で、パターンデータを登録する複数のデータベースを採用していた。しかし、パターンデータに処理を加える毎に、データベースを作成する工程が必要となる。そこで、図３に示すパターンデータ補正１２の工程の変形例においては、上記のデータベースをまとめたデータベースを作成し、データベース内で、異なる形式のパターンデータを区分毎に分けて、パターンデータを管理することとしている。

図３に示すフローチャートを構成する工程は、フラクチャリング１３、描画用データ１４、TEXT変換２０の工程、階層構造作成２２の工程、同一セルの抽出２４の工程、同一セルの登録２５の工程、判断２７、判断３０、セルの振り分け３１、判断３２、セル内のパターンデータ補正３５、ＯＰＣ禁止枠作成３７、セルの置き換え３９、判断４１、及び、パターンデータ補正４２である。また、図３に示す工程を行うにあたり、入力データ１０、及び、条件ファイル１１を必要である。そして、図３に示す工程で処理されたパターンデータはデータベースＺ４４に登録される。

なお、図２に示した工程、入力データ１０、及び、条件ファイル１１と、同一の工程、入力データ１０、条件ファイル１１には、同一な番号を付している。従って、図２に示したものと同一な、図３に示す工程、入力データ１０、条件ファイル１１に関しては説明を省略する。

データベースＺ４４は、図２に示した、データベースＡ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｇ、Ｈ、Ｉ、Ｊ、及び、Ｋに関するパターンデータ又はセルが登録可能なデータベースである。なお、データベースＢ、Ｆを記載していないのは、データベースＢ、Ｆに登録すべきデータをそのまま使用しているからである。

そして、入力データ１０について、TEXT変換２０の工程を行うことにより得られたデータを、TEXT変換２０の工程を行った後に、データベースＺ４４へ書き込む。また、階層構造作成２２の工程を行うことにより得られたデータと、データベースＡに登録すべきデータとを使用して、同一セルの抽出２４の工程を行う。また、同一セルの登録２５の後にデータベースＣに登録すべきデータを、データベースＺ４４に書き込む。そして、データベースＺ４４からデータベースＣに登録すべきデータを読み出して、判断２７を行う。判断２７において、同一セルが存在するセルのデータは、データベースＤに登録すべきデータとして、データベースＺ４４に登録する。一方、同一セルが存在しないセルのデータは、データベースＥに登録すべきデータとして、データベースＺ４４に登録する。その後、判断３０において、データベースＺ４４からデータベースＤに登録すべきデータを読み出して、判断３０の工程を行う。

その結果、データベースＧに登録すべきデータをデータベースＺ４４に登録する。なお、データベースＦに登録すべきデータはそのまま使用する。その後、セル内のパターンデータ補正３５、ＯＰＣ禁止枠作成３７、セルの置き換え３９を順次行った後に、順次、データベースＨ、Ｉ、Ｊに登録すべきデータをデータベースＺ４４に登録し、又は、読み出しを行う。さらに、パターンデータ補正４２を行った後に、データベースＫ４３に登録すべきデータをデータベースＺ４４に登録する。

図４を用いて、入力データ１０が表す、セル及びセルの配置イメージ５０を説明する。セル及びセルの配置イメージ５０において、ＴＯＰセル５１、セルＡ５２、セルＢ５３、セルＤ５４、セルＣ５５、及び、セルＥ５６が示されている。ＴＯＰセル５１には、セルＡ５２、２つのセルＣ５５、及び、セルＥ５６が配置されている。すなわち、ＴＯＰセル５１は、セルＡ５２、セルＣ５５、及び、セルＥ５６の配置情報を持ち、それらのセルの上位セルである。セルＡ５２には、２つのセルＢ５３が配置されている。すなわち、セルＡ５２は、２つのセルＢ５３の配置情報を持ち、セルＢ５３の上位セルである。

セルＣ５５には、セルＤ５４が配置されている。すなわち、セルＣ５５は４つのセルＤ５４の配置情報を持ち、セルＤ５４の上位セルである。

セルＥ５６には、セルＤ５４が配置されている。すなわち、セルＥ５６は２つのセルＤ５４の配置情報を持ち、セルＤ５４の上位セルである。

図５を用いて、入力データ１０に対するＴＥＸＴ変換２０を行う工程、及び、階層構造作成２２を行う工程を説明する。入力データ１０はバイナリーデータから構成されている。そのため、入力データ１０を用いて、階層構造作成２２に関する情報を検索するのには、時間がかかる。複数のバイナリーデータから上記の情報が成立しているため、バイナリーデータ間の関係を特定してから、情報の検索を行うからである。

そのため、ＴＥＸＴ変換２０を行い、入力データ１０からＴＥＸＴデータを作成する。ここで、ＴＥＸＴ変換２０の工程とは、相互に関連する複数のバイナリーデータから、１６進デジットからなり、文字を表すＴＥＸＴデータを作成する変換である。また、ＴＥＸＴ変換２０の工程を行うと、各ＴＥＸＴデータが文字に関連しているため、ＴＥＸＴデータを用いて行う情報検索は、短時間で行うことができる。そして、データベースＡ２１にＴＥＸＴデータを登録する。なお、子セルを表すＴＥＸＴデータは、セル名、親セルにおける配置座標、回転情報、ＸＹ軸反転情報、倍率情報、及び、子セルに含まれる図形の頂点座標を含んでいる。例えば、図５に示すＴＥＸＴデータによれば、親セルはＴＯＰセル５１である。そして、子セルは、セルＡ５２、２つのセルＣ５５、セルＥ５６である。２つのセルＣ５５の内、上段のセルＣ５５のセル名はＣＥＬＬ−Ｃである。上段のセルＣ５５の回転情報は０．００である。上段のセルＣ５５のＸＹ軸反転情報は、軸反転、Ｘ＝ＯＦＦ、Ｙ＝ＯＮである。上段のセルＣの倍率情報は、倍率＝１である。上段のセルＣの配置座標は、座標＝１、（−２５００、−１０００）である。上段のセルＣの含まれる図形の頂点座標は、座標＝４、（−５０００、−４５００）（−４５００、−４５００）（−５０００、−５０００）（−４５００、−５０００）、座標＝４、（５０００、４５００）（４５００、４５００）（５０００、５０００）（４５００、５０００）である。他のセルＣ５５、セルＡ５２、及び、セルＥ５６に関するＴＥＸＴデータも同様な情報を有する。ただし、セルＡ５２及びセルＥ５６には図形が含まれていないため、図形の頂点座標が含まれていない。

次いで、階層構造作成２２を行う工程とは、ＴＥＸＴデータを用いて行う情報検索によって、親セルとその親セルに配置されている子セルを認識し、そして、その親セル及び子セルが階層構造を構成しているとするデータを作成する工程である。その後、データベースＢ２３に、注目する階層に属する子セル毎に、親セル及び子セルが階層構造を構成しているとするデータを登録する。ここで、親セル及び子セルが階層構造を構成しているとするデータは、その子セルのセル名、その子セルに関連するすべての上位セル名、その子セルの１階層上位の上位セル（親セル）における配置座標、回転情報、ＸＹ軸反転情報、倍率情報、及び、子セルに含まれる図形の頂点座標を含む。そして、配置座標、回転情報、ＸＹ軸反転情報、倍率情報、及び、子セルに含まれる図形の頂点座標は、子セルを表すＴＥＸＴデータにおいて対応するものと同様なものである。なお、図５に示すデータベースＢ２３には、「その子セルに関連するすべての上位セル名」が表す情報に従って、階層構造を表した樹形図が記載されているが、実際の親セル及び子セルが階層構造を構成しているとするデータとは異なる。そして、上記の樹形図によれば、ＴＯＰセル５１の下位階層にセルＡ５２、セルＥ５６、２つのセルＣ５５がある。また、セルＡ５２の下位階層に２つのセルＢ５３がある。上記のセルＢ５３の下位階層に２つのセルＤ５４がある。セルＣ５５の下位階層に４つのセルＤ５４がある。セルＥ５６の下位階層に２つのセルＤ５４がある。

図６を用いて、同一セルの抽出２４を行う工程、及び、同一セルの登録２５を行う工程を説明する。

同一セルの抽出２４を行う工程とは、データベースＡ２１に登録したＴＥＸＴデータを使用して、注目する同一階層において、２以上のセル名が存在するセルを同一セルとして特定する工程、及び、一つ上の上位階層に２以上存在するセルに配置されている、注目する階層に属するセルを選択する工程である。そして、セルの配置座標、回転情報、ＸＹ軸反転情報、倍率情報、及び、同一セルに含まれる図形の頂点座標を用いて、同一セルか否かの判断をする。しかし、回転情報、及び、ＸＹ軸反転情報について、異なるセルであっても同一セルであると判断する。

次いで、同一セルの登録２５とは、同一セルに関する登録データ６０を作成し、データベースＢ２３に登録して、データベースＣ２６を形成する工程である。ここで、登録データ６０は、同一セル名、同一セルが配置されている上位セル名、同一セルが含む下位セル名、１階層上位の上位セル（親セル）における同一セルの配置座標、同一セルの回転情報、同一セルのＸＹ軸反転情報、及び、同一セルの倍率情報を含む。なお、配置座標、回転情報、ＸＹ軸反転情報、倍率情報、及び、同一セルに含まれる図形の頂点座標は、同一セルを表すＴＥＸＴデータにおいて対応するものと同様なものである。以上より、データベースＣ２６は、登録データ６０及び親セル及び子セルが階層構造を構成しているとするデータを含むものである。なお、図６に示すデータベースＢ２３には、実際の親セル及び子セルが階層構造を構成しているとするデータ、特に「その子セルに関連するすべての上位セル名」が表す情報に従って、階層構造を表した樹形図が記載されている。また、２つのセルＣ、２つのセルＢ、１０個のセルＤ、４つのセルＤを、それぞれ含んだハッチング領域は、同一セルの抽出２４を行って、ハッチング領域内にあるセルを同一セルとして認識したところを概念的に表したものである。また、太い矢印は同一セルの認識を行っていく順番を概念的に表したものであり、同一セルの認識は、同一階層内で、すなわち、階層毎に行われることを示している。

図７を用いて、判断２７を行う工程、判断３０、及び、判断３２を行う工程を説明する。上記の工程を行った結果、セルが振り分けられ、パターンデータの補正に用いるセルが特定される。

判断２７を行う工程は、登録データ６０及び親セル及び子セルが階層構造を構成しているとするデータを使用して、以下の判断を行う工程である。まず、親セル及び子セルが階層構造を構成しているとするデータ中の「その子セルに関連するすべての上位セル名」を使用して、注目する階層に属する子セルの内、注目する階層より上位階層に属する子セルのいずれかと同一となる子セルか否かを判断する。また、登録データ６０中の「同一セル名」を使用して、一つ上の上位階層において２以上存在する子セルに、配置されている、注目する階層に属する子セルか否かを判断する。

次いで、上記の判断２７を行うことによって、肯定的に判断された子セルはデータベースＥ２９に登録し、否定に判断されて子セルはデータベースＤ２８に登録する。

判断３０を行う工程は、すべての階層において、判断２７を行ったか否かを判断する工程である。判断２７が行われていない階層がある場合は、判断２７を行う工程に戻る。一方、すべての階層において、判断２７を行っていた場合には、セルの振り分け３１は終了する。

判断３２を行う工程は、データベースＥ２９に登録されたセルと、同一となるセルが、データベースＤ２８に登録されているかを判断する。判断３２において、肯定的であった場合には、データベースＤ２８から、上記の同一となるセル抜き出して、データベースＧ３３に登録する。また、データベースＧ３３には、データベースＥ２９に登録されていたセルも登録する。そして、データベースＤ２８に残ったセルはデータベースＦ３４に登録する。一方、否定的であった場合には、データベースＤ２８に登録されたセルはデータベースＦ３４に登録し、データベースＥ２９に登録されたセルはデータベースＧ３３に登録する。なお、データベースＦ３４に登録されたセルはパターンデータの補正に用いられる。

以上のようなセルの振り分け３１までの工程によれば、セルを構成するパターンデータではなく、ＴＥＸＴデータを使用して、ＯＰＣ処理の目的において等価であるとみなされる同一セルの抽出２４、及び、同一セルの登録２５を行うため、ＯＰＣ処理を実際に行うセルと、そのセルのＯＰＣ処理の結果をそのまま利用することができる同一セルと、を短い時間で振り分けることができる。すなわち、パターンデータの補正に用いるセルを効率良く選択することができる。パターンデータの数より、ＴＥＸＴデータの数のほうが少ないからである。

データベースＦ３４に登録されるセルは、配置座標、回転情報、ＸＹ軸反転情報、倍率情報、及び、同一セルに含まれる図形の頂点座標を使用して、振り分けられる。しかし、回転情報、ＸＹ軸反転情報については、異なるものであっても、同一セルであると判断する。すなわち、同一性の判断において、完全同一でなくても、相似なセルは同一セルであると判断する。従って、ＯＰＣ処理の結果をそのまま利用することができる同一セルの範囲が広くなるため、ＯＰＣ処理を実際に行う時間が短縮される。

図８を用いて、セル内のパターンデータ補正３５の工程、ＯＰＣ禁止枠作成３７の工程、セルの置き換え３９の工程、及び、判断４１を行う工程を説明する。そのため、図８は、データベースＦ３４、セル内のパターン８０、パターンデータ補正後における、セル内のパターン８１、ＯＰＣ禁止枠作成３７後における、セル内のパターン８２を示す。

セル内のパターンデータ補正３５の工程は、データベースＦ３４に登録されたセル内のパターンデータについて、条件ファイル１１のデータを使用して、ＯＰＣ処理を行う工程である。

ここで、ＯＰＣ処理について、実際のフォトマスクが有するパターンについて説明すると以下のようになる。すなわち、フォトマスクが有するパターンを、半導体基板に転写する際に生じるパターンの変形を、セル内のパターンの間隔、幅、転写の際の光学的条件から予想し、当初のセル内のパターンを再現できるように、当初のセル内のパターンを変形する処理を、ＯＰＣ処理という。

そうすると、セル内のパターンデータについて行う、ＯＰＣ処理とは、セル内のパターンデータの間隔、幅、光学的条件に基づいて、半導体基板に転写する際に生じる変形を防止するように、セル内のパターンデータを変形する処理である。

なお、転写の際の光学的条件とは、例えば、フォトマスクを使用する転写工程で用いられる露光装置に関する光学的な条件であり、光の波長、レンズの開口数など、レンズの解像度に関係するものである。

そこで、セル内のパターンデータ補正３５の工程は、パターンデータを扱うものであるが、その処理に応じた、実際のパターンによって、セル内のパターンデータ補正３５の工程を以下に具体的に説明する。

データベースＦに登録されたセル内のパターン８０は、及び、データベースＦ３４から特定され、セルＢ及びセルＣを含む。セルＢは３つの矩形パターンからなり、セルＣは６つの矩形パターンから構成されている。

そこで、上記のセルＢ又はセルＣ内のパターンに対して、パターンの間隔、幅、を特定する。次いで、条件ファイル１１を読み込み、上記の矩形パターンを再現するための変形パターンを特定する。そして、当初の矩形パターンを変形パターンに置き換え、セル内のパターン８１に示すセルＢＢ又はセルＣＣを得る。なお、変形パターンは矩形パターンに対し、端部を太らせたアレイパターンと、アレイパターン間に配置された、矩形状のアシストパターンからなる。矩形パターンの端部は転写の際、細くなるため、予め太らせる必要がある。また、矩形パターンの長辺部は太るため、矩形状のアシストパターンの挿入により、光の回折量を増加させて、矩形パターンを適正な幅とする必要があるからである。なお、アシストパターン自体は、解像度未満のパターンであるため、転写されることがないパターンである。

そして、セル内のパターン８１に対応するパターンデータから構成されるセルＢＢ、セルＣＣをデータベースH３６に登録する。

ＯＰＣ禁止枠作成３７の工程おいて、次の処理を行う。最初に、図２において説明したＯＰＣ禁止枠をセルＢＢ、セルＣＣについて設定する。なお、ＯＰＣ禁止枠の設定について、図１０を用い説明する。次いで、ＯＰＣ禁止枠を表すパターンデータ及びＯＰＣ禁止枠内のパターンを表すパターンデータから、セル内のパターン８２に示すセルＢＢＢ、セルＣＣＣを構成する。そして、セルＢＢＢ、セルＣＣＣをデータベースＩ３８に登録する。

セルの置き換え３９の工程において、図２において説明したように、セルＢ、又は、セルＣに対応するパターンデータの内、ＯＰＣ禁止枠内の領域についてセルＢＢ又はセルＣＣに対応するパターンデータと置き換え、置き換えセルを形成する。そして、置き換えセルをデータベースＪ４０に登録する。

そして、ＴＯＰセル５１以外のセルについて、上記の処理を行ったか否かの判断４１を行う。その結果、ＴＯＰセル５１を除いて、セルの置き換え３９を行ったと判断された場合、次の工程に進む。なお、ＴＯＰセル５１以外のセルについて、セルの置き換え３９の工程を行った後の、ＴＯＰセル５１のパターンについて、図９を用いて説明する。

パターンデータ補正４２の工程では、以下の処理を行う。最初に、ＯＰＣ禁止枠外のパターンを表すパターンデータを、ＴＯＰセル５１に関連づける。次いで、条件ファイル１１の入力を受けて、ＴＯＰセル５１に属し、ＯＰＣ禁止枠外のパターンデータ（ＯＰＣ処理を行っていないパターンデータ）についてのパターンデータ補正４２、いわゆる、ＯＰＣ処理を行う。その結果、データベースＫ４３が構成される。

図９は、セルの置き換え３９の工程を行った後における、ＴＯＰセル８３のパターン、及び、セル内のパターン８０を示す。セル内のパターン８０は図８において説明したものと同様なものである。

入力データ１０における、ＴＯＰセル８３を構成するパターンデータは、セル内のパターン８０を表すデータを含むものである。そこで、セルの置き換え３９を行うと、入力データ１０のＴＯＰセルは、ＴＯＰ８３のように、ＯＰＣ処理をされたセルＢＢＢ、セルＣＣＣを含むものである。

図１０は、ＯＰＣ禁止枠設定について、実パターンを用いて説明する図である。そして、図１０は、セルＣを構成するパターンの外周に設定したＯＰＣ禁止枠９１、ＯＰＣ禁止枠９１を設定したセル９０、常に同一な補正を受けるパターンデータに対応する実パターンが占める領域の外周に設定したＯＰＣ禁止枠９３、ＯＰＣ禁止枠９３を設定したセル９２、セルＤ９４、及び、拡大図９５を示す。

そこで、図２において説明したＯＰＣ禁止枠は、ＯＰＣ禁止枠９３に相当し、以下の処理を行うことにより、ＯＰＣ禁止枠９３を形成することができる。

最初に、セルＣを繰り返し配置する場合には、上下方向、及び、左右方向の繰り替え幅で決定される領域の最外周にＯＰＣ禁止枠９１を設定する。また、繰り返し配置が行われない場合は、最外周のパターンの外周にＯＰＣ禁止枠９１を設定する。

次いで、注目するセルＣに、隣接するパターンを考慮して、ＯＰＣ処理を行う。隣接するパターンが異なると、ＯＰＣ処理後の変形パターンの形状は、セルＣの周辺部で異なるものとなる。そこで、セルＣ対してＯＰＣ処理を行って得られるセルＣＣにおいて、変形パターンが同一となる領域を予め、シミュレーションにより、求める。次いで、変形パターンが同一となる領域の最外周がＯＰＣ禁止枠９１と同じ場合は、ＯＰＣ禁止枠９１をそのまま、ＯＰＣ禁止枠９３とする。一方、変形パターンが同一となる領域がＯＰＣ禁止枠９１により囲まれる領域より小さい場合は、変形パターンが同一となる領域の最外周をＯＰＣ禁止枠９３とする。

例えば、セルＣに、４個のセルＤ９４が配置されている。また、セルＤ９４に２つの矩形パターンが配置されている。上記の場合に、ＯＰＣ禁止枠９３は拡大図９５に示すように、例えば、セルＤ９４を構成する矩形パターンのすべてを囲むような矩形状のパターンである。

以上の説明をまとめると、実施例１は、階層構造を構成する複数の第１セルからなる入力データ１０から、フォトマスクのパターンに対するパターンデータを作成する方法に関するものである。そして、そのパターンデータを作成する方法は、階層構造に基づいて、第１セル毎に、その上位となる第１セルの情報を追加する工程と、階層構造のすべての階層について順次、一の階層に着目したとき、一の階層に属する第１セルの内、一の階層より上位階層に属する第１セルのいずれかと同一となる第１セル及び一の階層の直上の上位階層において２以上存在する第１セルに配置されている第１セル、を選択して第１セル群（データベースＤ２８）に追加していく、第１セル群構成工程と、階層構造のすべての階層について順次、前記第１セル群構成工程において、選択されなかった前記第１セルを第２セル群（データベースＥ２９）に追加していく第２セル群構成工程と、第２セル群に属する第１セルから第１セル群に属する第１セルと同一の第１セルを除いて、第３セル群（データベースＦ３４）を構成する第３セル群構成工程と、第３セル群に属する第１セルを構成するパターンデータに対し、光学的近接効果を補正するように変換したパターンデータを作成し、変換後のパターンデータを含む第２セルより第４セル群（データベースＨ３６）を構成する第４セル群構成工程と、入力データ１０において、第１セルを、対応する第２セルに置き換える工程と、を有する。

また、上記の第１セル群構成工程において、相似な前記第１セルを同一性の判断において同一であると判断することを特徴としている。
さらに、入力データ１０をテキストデータに変換する工程を、さらに、有し、前記各工程の実行において、テキストデータを使用することを特徴としている。

従って、セルを構成するパターンデータではなく、ＴＥＸＴデータを使用して、ＯＰＣ処理の目的において等価であるとみなされる同一セルの抽出２４、及び、同一セルの登録２５を行うため、ＯＰＣ処理を実際に行うセルと、そのセルのＯＰＣ処理の結果をそのまま利用することができる同一セルと、を短い時間で振り分けることができる。すなわち、パターンデータの補正に用いるセルを効率良く選択することができる。パターンデータの数より、ＴＥＸＴデータの数のほうが少ないからである。

データベースＦ３４に登録されるセルは、配置座標、回転情報、ＸＹ軸反転情報、倍率情報、及び、同一セルに含まれる図形の頂点座標を使用して、振り分けられる。しかし、回転情報、ＸＹ軸反転情報については、異なるものであっても、同一セルであると判断する。すなわち、同一性の判断において、完全同一でなくても、相似なセルは同一セルであると判断する。従って、ＯＰＣ処理の結果をそのまま利用することができる同一セルの範囲が広くなるため、ＯＰＣ処理を実際に行う時間が短縮される。

その結果、フォトマスクを形成するための、描画用データを作成するための時間が短縮される。

図１１を用いて、パターンデータ処理システム７０について説明する。パターンデータ処理システム７０は、Ｉ／Ｆ（インターフェイス）７５、ＣＰＵ７６、記憶媒体７７、ＲＡＭ７８、及び、ＲＯＭ７９から構成されている。また、パターンデータ処理システム７０は、ディスプレイ７１、通信装置７２、キーボード７３、及び、マウス７４等の入力装置からのデータの入力を受ける。

ディスプレイ７１は、例えば、入力データ１０、パターンデータの処理状況、及び、処理結果の表示に用いられる装置である。キーボード７３、マウス７４は、手動入力に用いられる、入力装置である。通信装置７２は、電磁的方法により、外部から入力データ１０等の大容量データを受信し、又は、処理結果を送信するための装置である。

Ｉ／Ｆ（インターフェイス）７５は、キーボード７３、マウス７４等の入力装置から入力されるデータを受け取り、パターンデータ処理システム７０で扱えるデータ形式に変換する装置である。ＲＯＭ７９は、例えば、パターンデータ処理システム７０において使用する制御プログラム、初期設定データを記憶する装置である。ＲＡＭ７８は、例えば、入力されるデータを一時的に記憶し、又は、ＣＰＵ７６が行った処理結果を記憶する装置である。ＣＰＵ７６は、例えば、上記の制御プログラムに従って、入力データ１０に対してＯＰＣ処理を実行し、又は、処理結果を記憶するＲＡＭ７８、記憶媒体７７へのデータの入出力を制御する装置である。記憶媒体７７は、大容量のデータを記憶する装置である。なお、上記の制御プログラムは、図２又は図３に示したフローチャートを用いて説明したパターンデータ作成方法を実行するためのプログラムである。

以上より、パターンデータ処理システム７０は、制御プログラムに応じて、セルの振り分け３１までの工程行うため、ＴＥＸＴデータを使用して、ＯＰＣ処理の目的において等価であるとみなされる同一セルの抽出２４、及び、同一セルの登録２５を行うため、ＯＰＣ処理を実際に行うセルと、そのセルのＯＰＣ処理の結果をそのまま利用することができる同一セルと、を振り分けることができる。すなわち、パターンデータの補正に用いるセルを効率良く選択することができる。

そして、データベースＦ３４に登録されるセルは、配置座標、回転情報、ＸＹ軸反転情報、倍率情報、及び、同一セルに含まれる図形の頂点座標を使用して、振り分けられる。しかし、回転情報、ＸＹ軸反転情報については、異なるものであっても、同一セルであると判断する。従って、ＯＰＣ処理の結果をそのまま利用することができる同一セルの範囲が広くなるため、パターンデータ処理システム７０はＯＰＣ処理を実際に行う時間を短縮することができる。
以下に本発明の特徴を付記する。
（付記１）
階層構造を構成する複数の第１セルからなる入力データから、フォトマスクのパターンに対するパターンデータを作成する方法であって、
前記階層構造に基づいて、前記第１セル毎に、その上位となる前記第１セルの情報を追加する工程と、
前記階層構造のすべての階層について順次、一の階層に着目したとき、前記一の階層に属する前記第１セルの内、前記一の階層より上位階層に属する前記第１セルのいずれかと同一となる前記第１セル及び前記一の階層の直上の上位階層において２以上存在する前記第１セルに配置されている前記第１セル、を選択して第１セル群に追加していく、第１セル群構成工程と、
前記階層構造のすべての階層について順次、前記第１セル群構成工程において、選択されなかった前記第１セルを第２セル群に追加していく第２セル群構成工程と、
前記第２セル群に属する前記第１セルから前記第１セル群に属する前記第１セルと同一の前記第１セルを除いて、第３セル群を構成する第３セル群構成工程と、
第３セル群に属する前記第１セルを構成するパターンデータに対し、光学的近接効果を補正するように変換したパターンデータを作成し、変換後のパターンデータを含む第２セルより第４セル群を構成する第４セル群構成工程と、
前記入力データにおいて、前記第１セルを、対応する前記第２セルに置き換える工程と、
を有することを特徴とするフォトマスクパターンデータの作成方法。
（付記２）
前記第１セル群構成工程において、相似な前記第１セルを同一性の判断において同一であると判断することを特徴とする付記１記載のフォトマスクパターンデータの作成方法。
（付記３）
前記入力データをテキストデータに変換する工程を、さらに、有し、前記各工程の実行において、テキストデータを使用することを特徴とする付記１記載のフォトマスクパターンデータの作成方法。
（付記４）
前記第１セルが、さらに、配置座標に関するデータ、回転情報に関するデータ、軸反転情報に関するデータの内いずれかを含む場合において、前記第１セル群構成工程における、同一のセルか異なるセルかを判断することにおいて、配置座標に関するデータ、回転情報に関するデータ、軸反転情報に関するデータのいずれかを使用しないことを特徴とする付記１記載のフォトマスクパターンデータを作成方法。
（付記５）
前記第２セル群に属する前記第１セルから前記第１セル群に属する第１セルと同一の前記第１セルを加えて第５セル群を構成する第５セル群構成工程を、さらに、有することを特徴とする付記３記載のパターンデータ作成方法。
（付記６）
階層構造を構成する複数の第１セルからなる入力データを受け取ったパターンデータ処理システムに対し、フォトマスクのパターンに対するパターンデータを作成させるプログラムあって、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造に基づいて、前記第１セル毎に、その上位となる前記第１セルの情報を、前記第１セルに追加させるステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造のすべての階層について順次、一の階層に着目したとき、前記一の階層に属する前記第１セルの内、前記一の階層より上位階層に属する前記第１セルのいずれかと同一となる前記第１セル及び前記一の階層の直上の上位階層において２以上存在する前記第１セルに配置されている前記第１セル、を選択して第１セル群に追加させる、第１セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造のすべての階層について順次、前記第１セル群構成工程において、選択されなかった前記第１セルを第２セル群に追加させる、第２セル群構ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記第２セル群に属する前記第１セルから前記第１セル群に属する前記第１セルと同一の前記第１セルを除いて、第３セル群を構成させる第３セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、第３セル群に属する前記第１セルを構成するパターンデータに対し、光学的近接効果を補正するように変換したパターンデータを作成させ、変換後のパターンデータを含む第２セルより第４セル群を構成させる第４セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記入力データにおいて、前記第１セルを、対応する前記第２セルに置き換させるステップと、
を有することを特徴とするフォトマスクパターンデータを作成させるプログラム。
（付記７）
前記第１セル群構成ステップにおいて、パターンデータ処理システムに対し、相似な前記第１セルを同一性の判断において同一であると判断させることを特徴とする付記６記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラム。
（付記８）
前記入力データをテキストデータに変換させるステップを、さらに、有し、パターンデータ処理システムに対し、前記各ステップの実行において、テキストデータを使用させることを特徴とする付記６記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラム。
（付記９）
前記第１セルが、さらに、配置座標に関するデータ、回転情報に関するデータ、軸反転情報に関するデータの内いずれかを含む場合において、前記第１セル群構成における、同一のセルか異なるセルかを判断することにおいて、配置座標に関するデータ、回転情報に関するデータ、軸反転情報に関するデータのいずれかを使用させないことを特徴とする付記６記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラム。
（付記１０）
階層構造を構成する複数の第１セルからなる入力データを受け取ったパターンデータ処理システムに対し、フォトマスクのパターンに対するパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体であって、
前記プログラムは、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造に基づいて、前記第１セル毎に、その上位となる前記第１セルの情報を、前記第１セルに追加させるステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造のすべての階層について順次、一の階層に着目したとき、前記一の階層に属する前記第１セルの内、前記一の階層より上位階層に属する前記第１セルのいずれかと同一となる前記第１セル及び前記一の階層の直上の上位階層において２以上存在する前記第１セルに配置されている前記第１セル、を選択して第１セル群に追加させる、第１セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造のすべての階層について順次、前記第１セル群構成工程において、選択されなかった前記第１セルを第２セル群に追加させる、第２セル群構ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記第２セル群に属する前記第１セルから前記第１セル群に属する前記第１セルと同一の前記第１セルを除いて、第３セル群を構成させる第３セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、第３セル群に属する前記第１セルを構成するパターンデータに対し、光学的近接効果を補正するように変換したパターンデータを作成させ、変換後のパターンデータを含む第２セルより第４セル群を構成させる第４セル群構成ステップと、
パターンデータ処理システムに対し、前記入力データにおいて、前記第１セルを、対応する前記第２セルに置き換させるステップと、
を有することを特徴とするプログラムを格納する媒体。
（付記１１）
前記第１セル群構成ステップにおいて、パターンデータ処理システムに対し、相似な前記第１セルを同一性の判断において同一であると判断させることを特徴とする付記１０記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体。
（付記１２）
前記入力データをテキストデータに変換させるステップを、さらに、有し、パターンデータ処理システムに対し、前記各ステップの実行において、テキストデータを使用させることを特徴とする付記１０記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体。
（付記１３）
前記第１セルが、さらに、配置座標に関するデータ、回転情報に関するデータ、軸反転情報に関するデータの内いずれかを含む場合において、前記第１セル群構成における、同一のセルか異なるセルかを判断することにおいて、配置座標に関するデータ、回転情報に関するデータ、軸反転情報に関するデータのいずれかを使用させないことを特徴とする付記１０記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体。
（付記１４）
付記１０記載のプログラムを実行するパターンデータ処置システムであって、
前記入力データを受け取り、データ変換を行うインターフェイスと、
前記入力データを受け取り、前記プログラムを実行するＣＰＵと、
前記ＣＰＵにおいて使用する前記プログラムを格納するＲＯＭと、
前記ＣＰＵからの処理結果を記憶する記憶媒体と、を備えるパターンデータ処理システム。

ＯＰＣ処理を行う一定の領域又はセルを効率よく選択し、その領域又はセルに対して、ＯＰＣ処理の目的において等価であるとみなされる領域又はセルを、漏れなく、かつ、効率的に特定するフォトマスクパターンデータの作成方法、そのパターンデータを作成するためのプログラム、及び、そのプログラムを含む媒体を提供することができる。

図１は、一般的なフォトマスク製造工程に関するフローチャートを示す。 図２は、パターンデータ補正１２の工程に関するフローチャートを示す。 図３は、図１に示したパターンデータ補正１２の工程に変形を加えた工程についてのフローチャートを示す。 図４は、入力データ１０が表す、セル及びセルの配置イメージ５０を示す。 図５は、入力データ１０に対するＴＥＸＴ変換２０を行う工程、及び、階層構造作成２２を行う工程を示す。 図６は、同一セルの抽出２４を行う工程、及び、同一セルの登録２５を行う工程を示す。 図７は、判断２７を行う工程、判断３０、及び、判断３２を行う工程を示す。 図８は、セル内のパターンデータ補正３５の工程、ＯＰＣ禁止枠作成３７の工程、セルの置き換え３９の工程、及び、判断４１を行う工程を示す。 図９は、セルの置き換え３９の工程を行った後における、ＴＯＰセル８３のパターン、及び、セル内のパターン８０を示す。 図１０は、ＯＰＣ禁止枠設定について、実パターンを用いて説明する図である。 図１１は、パターンデータ処理システム７０を示す。

符号の説明

１０ 入力データ
１１ 条件ファイル
１２ パターンデータ補正
１３ フラクチャリング
１４ 描画用データ
１５ フォトマスク露光
１６ フォトマスク形成
２０ ＴＥＸＴ変換
２１ データベースＡ
２２ 階層構造作成
２３ データベースＢ
２４ 同一セルの抽出
２５ 同一セルの登録
２６ データベースＣ
２７ 判断
２８ データベースＤ
２９ データベースＥ
３０ 判断
３１ セルの振り分け
３２ 判断
３３ データベースＧ
３４ データベースＦ
３５ セル内のパターンデータ補正
３６ データベースＨ
３７ ＯＰＣ禁止枠作成
３８ データベースＩ
３９ セルの置き換え
４０ データベースＪ
４１ 判断
４２ パターンデータ補正
４３ データベースＫ
４４ データベースＺ
５０ セル及びセルの配置イメージ
５１ ＴＯＰセル
５２ セルＡ
５３ セルＢ
５４ セルＤ
５５ セルＣ
５６ セルＥ
６０ 登録データ
７０ パターンデータ処理システム
７１ ディスプレイ
７２ 通信装置
７３ キーボード
７４ マウス
７５ Ｉ／Ｆ（インターフェイス）
７６ ＣＰＵ
７７ 記憶媒体
７８ ＲＡＭ
７９ ＲＯＭ
８０、８１、８２ セル内のパターン
８３ ＴＯＰセル
９０、９２ セル
９１、９３ ＯＰＣ禁止枠
９４ セルＤ
９５ 拡大図

Claims (8)

1. 階層構造を構成する複数の第１セルからなる入力データから、フォトマスクのパターンに対するパターンデータを作成する方法であって、
   前記階層構造に基づいて、前記第１セル毎に、その上位となる前記第１セルの情報を追加する工程と、
   前記階層構造のすべての階層について順次、一の階層に着目したとき、前記一の階層に属する前記第１セルの内、前記一の階層より上位階層に属する前記第１セルのいずれかと同一となる前記第１セル及び前記一の階層の直上の上位階層において２以上存在する前記第１セルに配置されている前記第１セル、を選択して第１セル群に追加していく、第１セル群構成工程と、
   前記階層構造のすべての階層について順次、前記第１セル群構成工程において、選択されなかった前記第１セルを第２セル群に追加していく第２セル群構成工程と、
   前記第２セル群に属する前記第１セルから前記第１セル群に属する前記第１セルと同一の前記第１セルを除いて、第３セル群を構成する第３セル群構成工程と、
   第３セル群に属する前記第１セルを構成するパターンデータに対し、
   光学的近接効果を補正するように変換したパターンデータを作成し、変換後のパターンデータを含む第２セルより第４セル群を構成する第４セル群構成工程と、
   前記入力データにおいて、前記第１セルを、対応する前記第２セルに置き換える工程と、
   を有することを特徴とするフォトマスクパターンデータの作成方法。
2. 前記第１セル群構成工程において、相似な前記第１セルを同一性の判断において同一であると判断することを特徴とする請求項１記載のフォトマスクパターンデータの作成方法。
3. 前記入力データをテキストデータに変換する工程を、さらに、有し、前記各工程の実行において、テキストデータを使用することを特徴とする請求項１記載のフォトマスクパターンデータの作成方法。
4. 前記第２セル群に属する前記第１セルから前記第１セル群に属する第１セルと同一の前記第１セルを加えて第５セル群を構成する第５セル群構成工程を、さらに、有することを特徴とする請求項３記載のパターンデータ作成方法。
5. 階層構造を構成する複数の第１セルからなる入力データを受け取ったパターンデータ処理システムに対し、フォトマスクのパターンに対するパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体であって、
   前記プログラムは、
   パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造に基づいて、前記第１セル毎に、その上位となる前記第１セルの情報を、前記第１セルに追加させるステップと、
   パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造のすべての階層について順次、一の階層に着目したとき、前記一の階層に属する前記第１セルの内、前記一の階層より上位階層に属する前記第１セルのいずれかと同一となる前記第１セル及び前記一の階層の直上の上位階層において２以上存在する前記第１セルに配置されている前記第１セル、を選択して第１セル群に追加させる、第１セル群構成ステップと、
   パターンデータ処理システムに対し、前記階層構造のすべての階層について順次、前記第１セル群構成工程において、選択されなかった前記第１セルを第２セル群に追加させる、第２セル群構ステップと、
   パターンデータ処理システムに対し、前記第２セル群に属する前記第１セルから前記第１セル群に属する前記第１セルと同一の前記第１セルを除いて、第３セル群を構成させる第３セル群構成ステップと、
   パターンデータ処理システムに対し、第３セル群に属する前記第１セルを構成するパターンデータに対し、光学的近接効果を補正するように変換したパターンデータを作成させ、変換後のパターンデータを含む第２セルより第４セル群を構成させる第４セル群構成ステップと、
   パターンデータ処理システムに対し、前記入力データにおいて、前記第１セルを、対応する前記第２セルに置き換させるステップと、
   を有することを特徴とするプログラムを格納する媒体。
6. 前記第１セル群構成ステップにおいて、パターンデータ処理システムに対し、相似な前記第１セルを同一性の判断において同一であると判断させることを特徴とする請求項５記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体。
7. 前記入力データをテキストデータに変換させるステップを、さらに、有し、パターンデータ処理システムに対し、前記各ステップの実行において、テキストデータを使用させることを特徴とする付記６記載のフォトマスクパターンデータを作成させるプログラムを格納する媒体。
8. 請求項６記載のプログラムを実行するパターンデータ処置システムであって、
   前記入力データを受け取り、データ変換を行うインターフェイスと、
   前記入力データを受け取り、前記プログラムを実行するＣＰＵと、
   前記ＣＰＵにおいて使用する前記プログラムを格納するＲＯＭと、
   前記ＣＰＵからの処理結果を記憶する記憶媒体と、を備えるパターンデータ処理システム。