JP5011952B2 - 金属蒸着層のパターン形成方法、および回路基板の製造方法 - Google Patents
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[1]基材上に設けた金属蒸着層上に、ウェットエッチング用レジストインクをパターン積層し、次いで、該レジストインクを熱乾燥させ、しかるのち、ウェットエッチングにより金属蒸着層からなるパターンを形成させるパターン形成方法において、前記基材がポリエステルフィルム、ポリオレフィンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、およびナイロンフィルムからなる群より選ばれる1つであり、前記レジストインクが、バインダー樹脂と、下記(1)〜(7)からなる群より選ばれる少なくとも1種以上の基本骨格を持つ化合物(A)を含有するものであり、前記レジストインクをパターン積層する前に、もしくは、パターン積層した前記ウェットエッチング用レジストインクを熱乾燥させた後に、前記金属蒸着層を80〜160℃の温度で加熱処理するパターン形成方法。
[3]前記バインダー樹脂が、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂である上記[1]または[2]に記載のパターン形成方法。
である。
[4]金属蒸着層をベースとした回路基板の製造において、上記[1]〜[3]のいずれかに記載のパターン形成方法を用いる回路基板の製造方法。
[5]前記金属蒸着層の表面抵抗値が100mΩ/□以下である上記[4]に記載の回路基板の製造方法。
[6]前記レジストインクの乾燥後の厚みが0.3〜6μmである上記[4]または[5]に記載の回路基板の製造方法。
である。
1.金属蒸着層とレジストインクの密着性
実施例1〜16,比較例1については、刷版T−250メッシュのスクリーン印刷法にて、金属蒸着層上にレジストインク(I)をパターン印刷した後(インク厚み10μm)、100℃で30分間加熱乾燥してサンプルを作製した。次いで作製したサンプルを50℃の5%水酸化ナトリウム水溶液で5分間処理し、金属蒸着層上の、パターンを印刷していない部分を溶解除去して、所望のパターン(B)を得た。このようにして得られた所望のパターン(B)の不良率を下記(1)式にて算出した。不良率1%以下を密着性良好とした。尚、1つのサンプルにパターン(B)が100個印刷されており、その100個の中の欠落率を不良率とした。
・不良率(%)=(欠落が見られるパターン(B)の個数/パターン(B)100個)×100 (1)式。
評価方法1で得られたパターン(B)において、パターン(B)の断面を10000倍のSEMを用いて観察し、蒸着層の厚み並びにレジストインクの厚みを測定した。測定は、1視野あたり5点の厚み測定を行い、その平均値を蒸着層厚み並びにレジストインク(I)の厚みとした。
評価方法1で得られたパターン(B)において、金属蒸着層上のレジストインク(I)を樹脂剥離剤(横浜油脂工業社製DF−7)を用いて30℃の温度に浸積後、水洗し、該レジストインク(I)層を除去した。次いで金属蒸着層のパターン部分を幅1mmに切断し、このものを表面抵抗測定器(ダイアインスツルメンツ社製ロレスタGP、タイプMCP−T600、QPPプローブ:形式MCP−TPQPPを使用)にて、温度25℃、湿度50%RH下にて評価した。なお、測定は、6サンプル実施し、最大値と最小値を除いた4サンプルの算術平均値を表面抵抗値とした。
Claims (6)
- 基材上に設けた金属蒸着層上に、ウェットエッチング用レジストインクをパターン積層し、次いで、該レジストインクを熱乾燥させ、しかるのち、ウェットエッチングにより金属蒸着層からなるパターンを形成させるパターン形成方法において、前記基材がポリエステルフィルム、ポリオレフィンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、およびナイロンフィルムからなる群より選ばれる1つであり、前記レジストインクが、バインダー樹脂と、下記(1)〜(7)からなる群より選ばれる少なくとも1種以上の基本骨格を持つ化合物(A)を含有するものであり、前記レジストインクをパターン積層する前に、もしくは、パターン積層した前記ウェットエッチング用レジストインクを熱乾燥させた後に、前記金属蒸着層を80〜160℃の温度で加熱処理するパターン形成方法。
- 前記レジストインクの配合割合が、バインダー樹脂100重量部に対して化合物(A)5〜50重量部である請求項1に記載のパターン形成方法。
- 前記バインダー樹脂が、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂である請求項1または2に記載のパターン形成方法。
- 金属蒸着層をベースとした回路基板の製造方法において、請求項1〜3のいずれかに記載のパターン形成方法を用いた回路基板の製造方法。
- 前記金属蒸着層の表面抵抗値が100mΩ/□以下である請求項4に記載の回路基板の製造方法。
- 前記レジストインクの乾燥後の厚みが0.3〜6μmである請求項4または5に記載の回路基板の製造方法。
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