JP5009636B2 - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents
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Description
しかし、タンデム方式の画像形成装置に具備される光走査装置においては、各感光体に対応して光源数が増えるため、部品点数の増加によるコストアップ、複数光源間の波長差に起因する色ずれ等が生じるという課題がある。
また、光走査装置の故障原因として、光源として用いられる半導体レーザの劣化が挙げられ、光源数が増えると故障の確率が増えリサイクルに不利となる。
しかし、斜め入射方式には「走査線曲がり」の発生、「波面収差劣化」によるビームスポット径の像高間偏差増大、という問題がある。この走査線曲がり発生量は、前記各光ビームの副走査方向の斜め入射角により異なり、各々の光ビームで描かれた潜像を各色のトナーにより重ね合わせ可視化した際に、色ずれとなって現れてしまう。また、斜め入射することにより、光束が走査レンズにねじれて入射することで、波面収差も増大し、特に周辺の像高で光学性能が著しく劣化し、ビームスポット径が太ってしまい、高画質化を妨げる要因となる。
また、特許文献6に記載の従来技術においては、斜め入射される光束を走査レンズの軸外を通し、走査レンズの子線の非球面量を主走査方向に沿って変化させる面を用いて走査線の位置を揃える方法が提案されている。この特許文献6に記載の従来技術では、1枚の走査レンズにて補正を行う例を挙げており、前記走査線曲がりの補正は可能であるが、以下に説明する波面収差増大によるビームスポット径の劣化については記述されていない。
しかし、上記「子線頂点を結ぶ母線形状を副走査方向に湾曲させたレンズ面」を有するレンズは母線を湾曲させることで諸問題を解決しており、入射光束に対応した個別の走査レンズが必要となるため、タンデム型の走査光学系に適用する場合、走査レンズの枚数が増大してしまう。すなわち、同一のレンズに異なる被走査面に向かう複数の光束を入射させた場合、母線形状を湾曲させることにより一方の光束に対しては諸問題の解決がなされるが、他方の光束については走査線曲がりや波面収差を低減させることは難しい。
さらに波面収差の補正においても、曲率を持つ面においては入射光束のぶれにより光束のスキュー状態の変化が大きく、良好なビームスポット径を安定して得ることは難しい。
また、本発明は、光源の誤動作を防ぎ良好な画像出力を実現可能な斜め入射方式の光走査装置における走査線曲がりと波面収差の劣化を有効に補正することができる、新規な構成の光走査装置の実現を第2の目的とする。
さらに本発明は、故障率の減少、及びリサイクル性の向上、及び低消費電力などの環境を考慮した光走査装置の提供を第3の目的とする。
さらに本発明は、上記の第1から第3の目的を達成することができる光走査装置を備えた新規な構成の画像形成装置の実現を第4の目的とする。
本発明の第1の手段は、変調駆動される光源と、共通の回転軸に多面の反射鏡を複数段有する偏向手段と、共通の光源からの光ビームを分割して前記偏向手段の異なる段の反射鏡に分割された光ビームを入射させる光束分割手段と、複数の被走査面と、前記偏向手段により走査された光ビームを前記対応する被走査面に導く走査光学系を有し、前記分割された光ビームは異なる被走査面を走査する光走査装置において、前記異なる段の多面の反射鏡は互いに回転方向の角度がずれており、前記光束分割手段は、ハーフミラー面と全反射面とを備え、前記光束分割手段に入射した光ビームは前記ハーフミラー面に入射して透過光と反射光とに分割され、該透過光は前記光束分割手段から出射され、該反射光は前記全反射面により更に反射された後に前記光束分割手段から出射され、前記ハーフミラー面と前記全反射面との副走査方向に対する角度は異なり、前記光束分割手段により分割された、前記共通の光源からの光ビームは、前記多面の反射鏡の法線に対し各々副走査方向に異なる符合の角度を持つことを特徴とする。
また、本発明の第3の手段は、第2の手段の光走査装置において、前記特殊面は、各々異なる被走査面に向かう全ての光ビームで共用されることを特徴とする。
また、本発明の第5の手段は、第1〜第4のいずれか1つの手段の光走査装置において、前記光源を複数有し、各々の光源からの光ビームは、副走査方向に対称な角度で対応する共通の回転軸の多面の反射鏡に入射することを特徴とする。
また、本発明の第7の手段は、第1〜第5のいずれか1つの手段の光走査装置において、前記光源を複数有し、前記走査光学系は、前記複数の光源からの光ビーム毎に配置されるレンズを有し、該複数の光源からの光ビーム毎に配置されるレンズは、副走査方向にパワーを持たず、主走査方向に副走査方向のチルト偏芯量が異なる面を有することを特徴とする。
また、本発明の第9の手段は、第1〜第8のいずれか1つの手段の光走査装置において、複数の光源に対応する異なる被走査面は、少なくとも4つの感光体で構成されることを特徴とする。
さらに、本発明によれば、光源としてマルチビーム光源を用いることにより、同一の被走査面に1度の走査で複数の走査線を形成することが可能であり、画像形成装置の高速、高密度化を実現することができる。また、本発明によれば、適切な濃度で、濃度むらの少ない画像出力が可能な画像形成装置を実現することができる。また、設定光量の調整により、色再現性の優れた画像出力が可能な画像形成装置を実現することができる。
図1は本発明の一実施例を示す光走査装置の概略要部構成図である。同図において符号1−1,1−2は光源としての半導体レーザ(LD)、2はLD(半導体レーザ)ベース、3−1,3−2はカップリングレンズ、4は光束分割手段としての光束分割素子(図示の例ではハーフミラープリズム)、5−1,5−2はシリンドリカルレンズ、6は防音ガラス、7は偏向手段としての多段の多面鏡(ポリゴンミラー)7a,7bを有する光偏向器、8は第1走査レンズ、9はミラー、10は第2走査レンズ、11a,11bは被走査面としての感光体、12は開口絞り(アパーチャ)をそれぞれ示す。半導体レーザ1−1,1−2から出射した2本の発散光束はカップリングレンズ3−1,3−2により、弱い収束光束、または平行光束、または弱い発散光束に変換される。カップリングレンズ3−1,3−2を出た光ビームは被走査面上でのビーム径を安定させるための開口絞り12を通過し、ハーフミラープリズム4に入射する。ハーフミラープリズム4に入射した共通の光源(半導体レーザ1−1または1−2)からの光ビームは上下段に2分割されて出射されるので、ハーフミラープリズム4を出射する光ビームは全部で4本の光ビームとなる。
半導体レーザが端面発光半導体レーザの場合、上記受光素子はカップリングレンズに向かって出射する方向と逆方向に出射した光をモニタするフォトダイオードを用いることが多いが、APCを行なう際に、余計なゴースト光が入射すると、上記受光素子で検出する光量が増加してしまう。例えば、上段のポリゴンミラー7aへの光ビームの入射角が0のとき、そのポリゴンミラー7aの反射面が光源方向に正対しているので、この位置でAPCを行なうと、上段のポリゴンミラー7aでの反射ビームが光源に戻り、受光素子で検出する光量が増加してしまう。そのため、書込みを実施している下段のポリゴンミラー7bからのレーザ出力が狙いより少ない発光出力となってしまい、画像濃度が薄くなってしまったり、濃度むらが発生する。同様に、下段のポリゴンミラー7bへの光ビーム入射角が0になったとき、上段のポリゴンミラー7aからのレーザ出力に関して同様の問題を生ずる。
また、下段の反射鏡(ポリゴンミラー)7bへの光ビーム入射角が0になったときも、上段の反射鏡(ポリゴンミラー)7aからのレーザ出力に関して同様に、反射ビームが光源に戻る事はなく、受光素子で検出する光量も安定し、画像濃度が薄くなってしまったり、濃度むらが発生するという問題は生じない。
前記斜め入射方式(多面の反射鏡(ポリゴンミラー)7a,7bの法線に対し各々副走査方向に角度を持ち入射)を用いたときの光学性能面での課題について説明する。
従来の水平入射に対し副走査方向に斜め入射させる本方式では、「走査線曲がり」が大きいという問題がある。この走査線曲がり発生量は、前記各光ビームの副走査方向の斜め入射角により異なり、各々の光ビームで描かれた潜像を各色のトナーにより重ね合わせて可視化した際に、色ずれとなって現れてしまう。また、斜め入射することにより、光束が走査レンズにねじれて入射することで、波面収差も増大し、特に周辺の像高で光学性能が著しく劣化し、ビームスポット径が太ってしまい、高画質化を妨げる要因となる。
光偏向器7により偏向反射された光ビームの光束は、主走査方向にある幅を持っており、光束内で主走査方向の両端の光ビームは、光偏向器7の偏向反射面から走査レンズ入射面までの距離が異なり、副走査方向に角度を持っている(斜め入射されているため)ことにより、走査レンズにねじれた状態で入射することになる。この結果、波面収差が著しく劣化し、ビームスポット径が太る。図5(a)に示すように、主走査方向の入射角は、周辺像高に行くほどきつくなり、光束の主走査方向両端の光ビームの副走査方向の走査レンズへの入射位置は大きくずれるため、光束のねじれは大きくなり、周辺に行くほど波面収差の劣化によるビームスポット径の太りは大きくなる。
特殊面の一例として、共用レンズ(図5の第1走査レンズL1)の1面を、主走査方向に応じて副走査方向の曲率が変化する面で、且つ、同面の主走査方向の周辺に向かい負の屈折力が強くなる面で構成される面について説明する。
+A・Y4+B・Y6+C・Y8+D・Y10+E・Y12+・・・
+(Cs(Y)・Z2)/{1+√[1-(Cs(Y)・Z)2]}
但し、
Cm=1/RY
Cs(Y)=1/RZ+a・Y+b・Y2+c・Y3+d・Y4+e・Y5+f・Y6
+g・Y7+h・Y8+i・Y9+j・Y10・・・
とする。
共通の光源1−1(または1−2)から分割された光ビームは、前記光偏向器7の多面の反射鏡(ポリゴンミラー)7a,7bの法線に対し各々副走査方向に異なる符合の角度を持ち、共通の光源から光束分割手段により光ビームの進路が偏向され分割される光ビームの、前記多面の反射鏡(ポリゴンミラー)7a,7bの法線に対する副走査方向の角度は、光束分割手段により光ビームの進路が偏向されない光ビームの前記多面の反射鏡(ポリゴンミラー)7a,7bの法線に対する副走査方向の角度より小さいことが望ましい。
また、光偏向器7に近い走査レンズに特殊面を形成することで、特に主走査方向の光束幅が広いため、特殊面の形状設定、波面収差の補正が良好に達成可能となる。波面収差補正のためには、光束内での光線の副走査方向の角度を偏向する必要がある。前に説明したように、特殊面により補正(光線の副走査方向の偏向)を実施するわけだが、光束の幅が小さいとその補正は困難になる。つまり、主走査方向の光束幅が絞られている位置、つまり被走査面(感光体)に近い位置に特殊面を導入しても、光束の方向を変えることはできるが、光束内の光線を副走査方向に偏向することは難しい。
次に第1走査レンズL1の特殊面の別の実施例について説明する。副走査方向にパワーを持たず、主走査方向に副走査方向のチルト偏芯量が異なる面(以下、特殊チルト面)を用いることで、実施例2で説明した特殊面と同様の効果が得られる。
第1走査レンズL1の特殊面の面形状は、以下の形状式による。ただし、この発明の内容は以下の形状式に限定されるものではなく、同一の面形状を別の形状式を用いて特定することも可能である。
+A・Y4+B・Y6+C・Y8+D・Y10+E・Y12+・・・
+(Cs(Y)・Z2)/{1+√[1-(Cs(Y)・Z)2]}
+(F0+F1・Y+F2・Y2+F3・Y3+F4・Y4+・・)Z
但し、
Cm=1/RY
Cs(Y)=1/RZ
とする。
なお、(F0+F1・Y+F2・Y2+F3・Y3+F4・Y4+・・)Zは、チルト量を表す部分であり、チルト量を持たないときは、F0,F1,F2,・・・は全て0である。また、F1,F2,・・・が0で無いとき、チルト量は、主走査方向に変化することになる。
副走査方向に曲率を付けた場合、副走査方向の高さ毎に主走査方向の形状が大きく変化し、温度変動、光学素子の組み付け誤差により副走査方向に光ビームの入射位置がずれた場合に倍率誤差変動が大きく発生し、カラー機においては、各色間でのビームスポット位置がずれ、色ずれが発生してしまう。そこで、本発明の如く特殊面の副走査方向の面形状は、曲率を持たない平面形状とすることで、副走査方向の高さ毎に主走査方向の形状誤差を小さくでき、副走査方向に光ビームの入射位置がずれた場合の倍率誤差変動を小さくすることができ、色ずれの発生を抑えることができる。
そこで、図9に示すような対向走査方式の光走査装置の走査レンズL1に本特殊面を採用することで、2段の特殊面を用いればよく、低コストな走査レンズで対応可能となる。また、このときは、同一の光源1−1(または1−2)から光束分割素子4で分割される各光ビームは同じ角度でも構わない。また、走査レンズL1も一体に限る物ではなく、2段重ねによる物でも構わない。
もちろん、図5(b)に示したような片側走査方式の光走査装置においても、第1走査レンズL1に各光ビーム毎の特殊面を設定しても構わない。
斜入射光学系のもう一つの課題となる走査線曲がりについては、第1走査レンズ(共用レンズ)L1を通過後に、異なる被走査面(感光体11Y,11M,11C,11K)に向かう光ビームごとに配置される第2走査レンズL2により補正可能である。
例えば、図5(b)に示すような、異なる被走査面(感光体11Y,11M,11C,11K)に向かう光ビームごとに配置される第2走査レンズL2を、副走査方向にシフト偏芯しても良いし、チルト偏芯してもよい。このようなことにより、走査線曲がりが改善されるのは公知である。なお、走査線曲がりの発生については、前述したためここでは割愛する。
前記面を用いることで、光ビームの進路を副走査方向に変化させることができる。つまり、副走査方向のシフト偏芯量を主走査方向に最適に与えることで、主走査方向に走査される光ビームを所望の方向(副走査)に偏向可能となり、走査線曲がりを補正することが可能となる。
つまり、波面収差補正のためには、光束径が大きく光束内の光ビームの進行方向を補正しやすい光偏向器7に近い走査レンズ(図5では第1走査レンズL1)が有効となる。
更に、被走査面11に近い走査レンズ(図5では第2走査レンズL2)では、各像高に向かう光ビームがより分離されており、隣り合う光ビームの重なりが小さい。このため、副走査方向のシフト偏芯量を細かく設定可能で、走査線曲がりの補正を良好に補正することが可能となる。
この走査レンズの面形状は、光軸を含み、主走査方向に平行な平断面である「主走査断面」内の近軸曲率半径をRY、光軸から主走査方向の距離をY、高次係数をA,B,C,D・・・とし、主走査断面に直交する「副走査断面」内の近軸曲率半径をRZとすると、以下の形状式によって表せる。
+A・Y4+B・Y6+C・Y8+D・Y10+E・Y12+・・・
+(Cs(Y)・[Z-Z0(Y)]2)/{1+√[1-Cs(Y)2・(Z-Z0(Y))2]}
+(F0+F1・Y+F2・Y2+F3・Y3+F4・Y4+・・)Z
但し、
Cm=1/RY
Cs(Y)=1/RZ+a・Y+b・Y2+c・Y3+d・Y4+e・Y5+f・Y6
+g・Y7+h・Y8+i・Y9+j・Y10・・・
Z0(Y)=D0+D1・Y+D2・Y2+D3・Y3+D4・Y4+・・・
とする。
Z0(Y)=D0+D1・Y+D2・Y2+D3・Y3+D4・Y4+・・・は、副走査方向のシフト量を表す部分であり、Dの係数を持つ場合、シフト量は、主走査方向に変化することになる。
Cs(Y)=1/RZ+a・Y+b・Y2+c・Y3+d・Y4+e・Y5+f・Y6
+g・Y7+h・Y8+i・Y9+j・Y10・・・
は、主走査方向に副走査方向の曲率が変化することを意味する。
すなわち走査光学系は、複数の光源装置からの光ビーム毎に配置される被走査面に近い走査レンズ(図5では第2走査レンズL2)の少なくとも1面を前記主走査方向に副走査方向のシフト偏芯量が異なる面とすることで、良好な走査線曲がり補正が可能となる。
次に走査線曲がり補正の別の実施例について説明する。母線湾曲面の変わりに、副走査方向にパワーを持たず、主走査方向に副走査方向のチルト偏芯量が異なる面(以下特殊チルト面)を用いることで、より良好に走査線曲がりの補正が可能となる。
すなわち、主走査方向に副走査方向のチルト偏芯量を変化させることで、光ビームの進路を副走査方向に変化させることができる。このチルト量を主走査方向に異ならせ最適に与えることで、主走査方向に走査される光ビームを所望の方向(副走査)に偏向可能となり、走査線曲がりを補正可能となる。先の実施例3で説明した、母線湾曲面と同様に、特殊チルト面も最も被走査面側の走査レンズに使用することが望ましい。その理由は、前述の実施例5で述べたとおりであるため、ここでは説明を割愛する。
特殊チルト面の面形状は、光軸を含み、主走査方向に平行な平断面である「主走査断面」内の近軸曲率半径をRY、光軸から主走査方向の距離をY、高次係数をA,B,C,D・・・とし、主走査断面に直交する「副走査断面」内の近軸曲率半径をRZとすると、以下の形状式によって表せる。
+A・Y4+B・Y6+C・Y8+D・Y10+E・Y12+・・・
+(Cs(Y)・Z2)/{1+√[1-(Cs(Y)・Z)2]}
+(F0+F1・Y+F2・Y2+F3・Y3+F4・Y4+・・)Z
但し、
Cm=1/RY
Cs(Y)=1/RZ
とする。
さらに、特殊チルト面の副走査方向の形状を曲率を持たない平面形状としている理由については前述のとおりなので説明は割愛する。
近年、光走査装置、画像形成装置の高速化、高密度化が進んでいる。光偏向器7としてポリゴンスキャナを使う場合、多面の反射鏡(ポリゴンミラー)7a,7bを高速で回転させることで、高速化、高密度化への対応は可能である。しかし、回転数には限界があり、ポリゴンスキャナの回転数を上げることなく高速化、高密度化を図る手段として、本発明では複数の光ビームで同一の被走査面を走査する。
図10において、光源である2つの半導体レーザ(LD)403,404は、各々ベース部材405に形成された嵌合孔405−1,405−2にベース部材の裏側から個別に嵌合されている。上記嵌合孔405−1,405−2は主走査方向に所定角度、本実施形態では約1.5°微小に傾斜していて、この嵌合孔に嵌合された半導体レーザ403,404も主走査方向に約1.5°傾斜している。半導体レーザ403,404は、その円筒状ヒートシンク部403−1,404−1に切り欠きが形成されていて、押え部材406、407の中心丸孔に形成された突起406−1,407−1を上記ヒートシンク部403−1,404−1の切り欠き部に合わせることによって発光源の配列方向が合わせられている。押え部材406,407はベース部材405にその背面側からネジ412で固定されることにより、半導体レーザ403,404がベース部材405に固定されている。また、コリメートレンズ408,409は各々その外周をベース部材405の半円状の取り付けガイド面405−4,405−5に沿わせて光軸方向の調整を行い、発光点から射出した発散ビームが平行光束となるよう位置決めされ接着されている。
また、ベース部材405の円筒状係合部405−3をホルダ部材410に係合し、ネジ413を貫通孔410−2に通してベース部材405のネジ孔405−6,405−7に螺合することによって、ベース部材405がホルダ部材410に固定され、光源ユニットを構成している。
次に、本発明に係る光走査装置を用いた画像形成装置の一実施例を図11を参照しながら説明する。
本実施例は、本発明に係る光走査装置(例えば図5(b)に示すような片側走査方式の光走査装置)をタンデム型フルカラーレーザプリンタに適用した例である。図11において、装置内の下部側には水平方向に配設された給紙カセット23から給紙される記録材(例えば転写紙)Sを搬送する搬送ベルト27が設けられている。この搬送ベルト27上にはイエロー(Y)用の感光体11Y,マゼンタ(M)用の感光体11M,シアン(C)用の感光体11C及びブラック(K)用の感光体11Kが、転写紙Sの搬送方向上流側から下流側に向けて順に等間隔で配設されている。なお、以下、符号に対する添字Y,M,C,Kを適宜付けて区別するものとする。これらの感光体11Y,11M,11C,11Kは全て同一径に形成されたもので、その周囲には、電子写真プロセスにしたがって各プロセスを実行するプロセス部材が順に配設されている。感光体11Yを例に採れば、帯電チャージャ18Y、光走査装置19の走査結像光学系19Y、現像装置20Y、転写チャージャ21Y、クリーニング装置22Y等が順に配設されている。なお、他の感光体11M,11C,11Kに対しても同様である。
但し、光偏向器7と、第1走査レンズL1は、4つの走査結像光学系19Y,19M,19C,19Kで共通使用しており、第2走査レンズL2と各光学系の光路を折り返す折り返しミラーM1,M2は、各光学系にそれぞれ設けられている。なお、図示を省略しているが、光走査装置19の光偏向器7の入射側には、図1に示したような複数の光源1−1,1−2、カップリングレンズ3−1,3−2、開口絞り12、光束分割素子4、シリンドリカルレンズ5−1,5−2等が設けられている。
なお、ここでは片側走査方式の光走査装置19を例に上げて説明したが、この他、図9に示したような構成の対向走査方式の光走査装置としても良く、その場合には、光偏向器7を中央に配置し、その光偏向器7を挟んで一方の側にY用とM用の走査結像光学系(走査レンズ、ミラー等)を配置し、他方の側にC用とK用の走査結像光学系(走査レンズ、ミラー等)を配置すれば、一つの光偏向器7で4つの光ビームを2方向に振り分けて同時に偏向走査することができる。また、この場合にも、各色の走査結像光学系を前述の実施例1〜7で説明した光走査装置の構成とすることで、走査線曲がりと波面収差の劣化を有効に補正し、色ずれが無く、高品位な画像再現性が確保できる画像形成装置を実現することができる。
さらに、本発明によれば、光源1−1,1−2としてマルチビーム光源を用いることにより、同一の被走査面に1度の走査で複数の走査線を形成することが可能であり、画像形成装置の高速、高密度化を実現することができる。また、本発明によれば、適切な濃度で、濃度むらの少ない画像出力が可能な画像形成装置を実現することができる。また、設定光量の調整により、色再現性の優れた画像出力が可能な画像形成装置を実現することができる。
2:LD(半導体レーザ)ベース
3−1,3−2:カップリングレンズ
4:光束分割手段としての光束分割素子(ハーフミラープリズム)
5−1,5−2:シリンドリカルレンズ
6:防音ガラス
7:偏向手段としての光偏向器
7a,7b:多面の反射鏡(ポリゴンミラー)
8,L1:第1走査レンズ
9,M1,M2:折り返しミラー
10a,10b,L2:第2走査レンズ
11:被走査面
11a,11b:被走査面としての感光体
11Y,11M,11C,11K:被走査面としての感光体
12:開口絞り(アパーチャ)
14:遮光部材
18Y,18M,18C,18K:帯電チャージャ
19:光走査装置
20Y,20M,20C,20K:現像装置
21Y,21M,21C,21K:転写チャージャ
22Y,22M,22C,22K:クリーニング装置
23:給紙カセット
24:給紙ローラ
25:搬送ローラ
26:レジストローラ
27:搬送ベルト
28:駆動ローラ
29:従動ローラ
30:ベルト帯電チャージャ
31:ベルト分離チャージャ
32:除電チャージャ
33:ベルトクリーニング装置
34:定着装置
35:排紙ローラ
36:排紙トレイ
S:転写紙
Claims (10)
- 変調駆動される光源と、共通の回転軸に多面の反射鏡を複数段有する偏向手段と、共通の光源からの光ビームを分割して前記偏向手段の異なる段の反射鏡に分割された光ビームを入射させる光束分割手段と、複数の被走査面と、前記偏向手段により走査された光ビームを前記対応する被走査面に導く走査光学系を有し、前記分割された光ビームは異なる被走査面を走査する光走査装置において、
前記異なる段の多面の反射鏡は互いに回転方向の角度がずれており、
前記光束分割手段は、ハーフミラー面と全反射面とを備え、
前記光束分割手段に入射した光ビームは前記ハーフミラー面に入射して透過光と反射光とに分割され、該透過光は前記光束分割手段から出射され、該反射光は前記全反射面により更に反射された後に前記光束分割手段から出射され、
前記ハーフミラー面と前記全反射面との副走査方向に対する角度は異なり、
前記光束分割手段により分割された、前記共通の光源からの光ビームは、前記多面の反射鏡の法線に対し各々副走査方向に異なる符合の角度を持つことを特徴とする光走査装置。 - 請求項1記載の光走査装置において、
前記走査光学系を構成する少なくとも一枚の走査レンズの少なくとも1面は、主走査方向の周辺に向かい該走査レンズに入射する光束の前記多面の反射鏡の法線に対する副走査方向の角度を射出時に大きくする特殊面を有することを特徴とする光走査装置。 - 請求項2記載の光走査装置において、
前記特殊面は、各々異なる被走査面に向かう全ての光ビームで共用されることを特徴とする光走査装置。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の光走査装置において、
前記共通の光源から前記光束分割手段により光ビームの進路が偏向され分割される光ビームの、前記多面の反射鏡の法線に対する副走査方向の角度は、前記光束分割手段により光ビームの進路が偏向されない光ビームの前記多面の反射鏡の法線に対する副走査方向の角度より小さいことを特徴とする光走査装置。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光走査装置において、
前記光源を複数有し、各々の光源からの光ビームは、副走査方向に対称な角度で対応する共通の回転軸の多面の反射鏡に入射することを特徴とする光走査装置。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の光走査装置において、
前記光源を複数有し、前記走査光学系は、前記複数の光源からの光ビーム毎に配置されるレンズを有し、該複数の光源からの光ビーム毎に配置されるレンズの少なくとも1面は、主走査方向に副走査方向のシフト偏芯量が異なる面であることを特徴とする光走査装置。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光走査装置において、
前記光源を複数有し、前記走査光学系は、前記複数の光源からの光ビーム毎に配置されるレンズを有し、該複数の光源からの光ビーム毎に配置されるレンズは、副走査方向にパワーを持たず、主走査方向に副走査方向のチルト偏芯量が異なる面を有することを特徴とする光走査装置。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載の光走査装置において、
前記光源として、複数の光ビームを射出するマルチビーム光源を用いたことを特徴とする光走査装置。 - 請求項1〜8のいずれか1項に記載の光走査装置において、
複数の光源に対応する異なる被走査面は、少なくとも4つの感光体で構成されることを特徴とする光走査装置。 - 電子写真プロセスを実行することによって画像を形成する画像形成装置において、
前記電子写真プロセスの露光プロセスを実行する手段として、請求項1〜9のいずれか1項に記載の光走査装置を具備したことを特徴とする画像形成装置。
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