JP5009114B2 - 液晶表示装置及び電子機器 - Google Patents
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Description
図1は本発明の第1実施形態の液晶表示装置100の1画素の平面図である。液晶表示装置100は、画素スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;以下「TFT」という。)を備えた半透過反射型の液晶表示装置である。
図4は本発明の第2実施形態の液晶表示装置200の断面図である。液晶表示装置200の基本構成は第1実施形態の液晶表示装置100と同じである。異なるのは、基体60Aの裏面(液晶層とは反対側の面)を加工して集光レンズを形成した点である。したがって、図4では液晶表示装置200の素子基板10の構成のみを示し、第1実施形態の液晶表示装置100と共通する構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
図5は本発明の第3実施形態の液晶表示装置300の断面図である。液晶表示装置300の基本構成は第1実施形態の液晶表示装置100と同じである。異なるのは、非散乱反射膜41と基体65Aとの間に屈折率の異なる第1層間絶縁膜66と第2層間絶縁膜67とが積層され、第1層間絶縁膜66の表面に凹部66aが形成され、前記凹部66aを覆って第2層間絶縁膜67が積層されることにより、集光レンズ68が形成されている点である。したがって、図5では液晶表示装置300の素子基板10の構成のみを示し、第1実施形態の液晶表示装置100と共通する構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
図6は本発明の第4実施形態の液晶表示装置400の1画素の平面図である。液晶表示装置400の基本構成は第1実施形態の液晶表示装置100と同じである。異なるのは、反射表示用画素電極90rと透過表示用画素電極90tの形状を平面視八角形状に形成し、反射表示用画素電極90rの外側にはみ出した非散乱反射膜41と重なる領域に黒色樹脂等からなる遮光膜49を設けた点である。したがって、図6では第1実施形態の液晶表示装置100と共通する構成については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
図7は、本発明の電子機器の一例である携帯電話1300の概略斜視図である。携帯電話1300は、本発明の液晶表示装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。上記実施形態の液晶表示装置は、携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、反射表示と透過表示の双方において高輝度、高コントラストな画像表示が実現できる。
Claims (10)
- 一対の基板と、
前記一対の基板間に挟持された液晶層と、
前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層とは反対側に設けられた照明装置と、
表示領域を構成する複数のサブ画素と、
前記複数のサブ画素の各々に設けられた反射表示領域及び透過表示領域と、
前記一方の基板の液晶層側において前記反射表示領域と平面的に重なる領域に設けられた散乱反射膜と、
前記散乱反射膜と前記一方の基板との間において前記散乱反射膜と平面的に重なる領域に設けられた非散乱反射膜と、を備え、
前記非散乱反射膜と前記照明装置との間に、前記照明装置から前記散乱反射膜に向けて照射された光を前記非散乱反射膜の平面領域内に集光する集光レンズが設けられている、
液晶表示装置。 - 前記非散乱反射膜と前記散乱反射膜との大きさが同じである、
請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記非散乱反射膜と前記一方の基板との間に屈折率の異なる第1層間絶縁膜と第2層間絶縁膜とが積層され、前記第1層間絶縁膜の表面に凹部が形成され、前記凹部を覆って前記第2層間絶縁膜が積層されることにより、前記集光レンズが形成されている、
請求項1又は2に記載の液晶表示装置。 - 前記集光レンズは、前記一方の基板の前記液晶層とは反対側の面を凹凸状に加工することによって形成されている、
請求項1又は2に記載の液晶表示装置。 - 前記非散乱反射膜が前記散乱反射膜よりも大きく、前記非散乱反射膜の液晶層側において、前記散乱反射膜からはみ出した部分の前記非散乱反射膜と重なる位置に、遮光膜が設けられている、
請求項1に記載の液晶表示装置。 - 一対の基板と、
前記一対の基板間に挟持された液晶層と、
前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層とは反対側に設けられた照明装置と、
表示領域を構成する複数のサブ画素と、
前記複数のサブ画素の各々に設けられた反射表示領域及び透過表示領域と、
前記一方の基板の液晶層側において前記反射表示領域と平面的に重なる領域に設けられた散乱反射膜と、
前記散乱反射膜と前記一方の基板との間において前記散乱反射膜と平面的に重なる領域に設けられた非散乱反射膜と、を備え、
前記一方の基板と前記非散乱反射膜との間に絶縁膜が設けられ、前記反射表示領域と前記透過表示領域との境界部に、前記絶縁膜を厚み方向に貫通する遮光膜が設けられている、
液晶表示装置。 - 前記遮光膜は前記非散乱反射膜と重なるように配置されている、
請求項6に記載の液晶表示装置。 - 前記遮光膜は黒色樹脂からなる、
請求項6又は7に記載の液晶表示装置。 - 前記一方の基板に画素スイッチング素子が設けられ、前記画素スイッチング素子を覆って前記絶縁膜と前記非散乱反射膜が積層され、前記画素スイッチング素子の周囲に前記遮光膜が設けられ、前記遮光膜によって前記画素スイッチング素子と前記透過表示領域とが仕切られている、
請求項6〜8のいずれか1項に記載の液晶表示装置。 - 請求項1〜9のいずれか1項に記載の液晶表示装置を備えている、
電子機器。
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