JP4992934B2 - Chip inspection apparatus and chip inspection method - Google Patents

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Description

本発明は、マトリクス状に並んだ複数のチップ載置領域が形成された所定領域内の各チップ載置領域を順次個別に画像認識して各チップ載置領域内に載置されたチップの検査を行うチップ検査装置及びチップ検査方法に関するものである。   According to the present invention, an image of each chip mounting area in a predetermined area where a plurality of chip mounting areas arranged in a matrix is formed is individually recognized to sequentially inspect the chips mounted in each chip mounting area. The present invention relates to a chip inspection apparatus and a chip inspection method.

チップ検査装置は、マトリクス状に並んだ複数のチップ載置領域が形成された所定領域(チップ載置領域の形成領域)内の各チップ載置領域を順次個別に画像認識することによって、各チップ載置領域内に載置されたチップに異常が認められないかどうか等の検査を行うものであり、例えばピックアップヘッドにより半導体ウェハからチップをひとつずつピックアップして基板に装着するダイボンディング装置等に備えられている。   The chip inspection apparatus recognizes each chip placement area in a predetermined area (chip placement area formation area) in which a plurality of chip placement areas arranged in a matrix are formed, and sequentially recognizes each chip. Inspects whether there is any abnormality in the chips placed in the placement area, for example, a die bonding apparatus that picks up chips from a semiconductor wafer one by one with a pick-up head and attaches them to the substrate Is provided.

チップ検査装置は撮像視野を下方に向けたカメラ等の撮像手段を備えており、半導体ウェハをウェハ載置台に載置してこれを撮像手段の下方に位置させ、画像認識対象として選択したチップ載置領域(画像認識対象チップ載置領域)が撮像手段の撮像視野の中央に位置するようにして撮像を行う。画像認識対象のチップ載置領域の変更はウェハ載置台を撮像手段に対して相対移動させることによって行い、半導体ウェハに並んだ一列分のチップ載置領域の画像認識が終了したらその隣の列のチップ載置領域に移動(いわゆる段落ち)して同様の画像認識を行う。   The chip inspection apparatus includes an imaging unit such as a camera with an imaging field of view facing downward, and a semiconductor wafer is placed on the wafer mounting table, is positioned below the imaging unit, and is selected as an image recognition target. Imaging is performed such that the placement area (image recognition target chip placement area) is positioned at the center of the imaging field of view of the imaging means. The chip placement area of the image recognition target is changed by moving the wafer placement table relative to the imaging means. When the image recognition of the chip placement area for one row arranged on the semiconductor wafer is completed, the next row is changed. Similar image recognition is performed by moving to the chip placement area (so-called step-down).

このようなチップ検査装置では、撮像手段がチップ載置領域の形成領域の端に至ったときにはこれを検知して段落ちをするが、半導体ウェハの半径等を考慮した半導体ウェハと撮像手段の間の相対移動を行うことによって、検査対象となり得るチップの存在しない半導体ウェハの端の部分で画像認識が無駄に行われることを回避することができるようにしたものが知られている(例えば特許文献1)。   In such a chip inspection apparatus, when the imaging means reaches the end of the chip mounting area formation area, this is detected and stepped down, but between the semiconductor wafer and the imaging means considering the radius of the semiconductor wafer and the like. By performing the relative movement, it is known that image recognition can be avoided from being performed wastefully at the end portion of the semiconductor wafer where there is no chip that can be inspected (for example, patent document) 1).

特開平2−90641号公報JP-A-2-90641

しかしながら、チップ検査装置が実際に検査を行う半導体ウェハは、その中央部(端ではない部分)のところどころに歯抜け的にチップがないものがあり、従来のチップ検査装置では、このような半導体ウェハについては検査対象となり得るチップが存在しないチップ載置領域についても画像認識が行われてしまうという不都合があった。   However, semiconductor wafers that are actually inspected by the chip inspection apparatus include those that do not have chips in the center (non-end) portion. There is a disadvantage that image recognition is also performed on a chip placement area where no chip that can be inspected exists.

そこで本発明は、チップ載置領域の形成領域の端の部分はもとより、チップ載置領域の形成領域の中央部においてもチップのない部分について画像認識が無駄に行われることを回避できるようにしたチップ検査装置及びチップ検査方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention can avoid wasteful image recognition not only on the end portion of the chip mounting area forming area but also on the chip-free area at the center of the chip mounting area forming area. An object is to provide a chip inspection apparatus and a chip inspection method.

請求項1に記載のチップ検査装置は、マトリクス状に並んだ複数のチップ載置領域が形成された所定領域内の各チップ載置領域を順次個別に画像認識することによって、各チップ載置領域内に載置されたチップの検査を行うチップ検査装置であって、前記所定領域の中から画像認識の対象として選択された画像認識対象チップ載置領域及びその画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域を撮像視野に入れて撮像を行う撮像手段と、
撮像手段の撮像により得られた画像に基づく画像認識対象チップ載置領域の画像認識を行って、その画像認識対象チップ載置領域内に載置されているチップの検査を行う検査手段と、撮像手段の撮像により得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を行う判断手段とを備えた。
The chip inspection apparatus according to claim 1, wherein each chip placement area is recognized by sequentially and individually recognizing each chip placement area within a predetermined area where a plurality of chip placement areas arranged in a matrix are formed. A chip inspection apparatus for inspecting a chip mounted in an image recognition target chip mounting region selected as an image recognition target from the predetermined region and adjacent to the image recognition target chip mounting region An imaging means for taking an image with a chip placement area to be taken in an imaging field;
An inspection unit for performing image recognition of an image recognition target chip mounting area based on an image obtained by imaging by the imaging unit and inspecting a chip mounted in the image recognition target chip mounting area; And determining means for determining whether or not there is a chip that can be inspected in a chip mounting area adjacent to the image recognition target chip mounting area based on an image obtained by imaging of the means.

請求項2に記載のチップ検査装置は、請求項1に記載のチップ検査装置であって、判断手段は、画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を、その隣接するチップ載置領域において検出される輝度に基づいて行う。   The chip inspection apparatus according to claim 2 is the chip inspection apparatus according to claim 1, wherein the determination means includes a chip that can be inspected in a chip mounting area adjacent to the image recognition target chip mounting area. The presence or absence is determined based on the luminance detected in the adjacent chip mounting area.

請求項3に記載のチップ検査装置は、請求項1又は2に記載のチップ検査装置であって、判断手段は、撮像手段の撮像により得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域の特定の方向に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を行う。   The chip inspection apparatus according to claim 3 is the chip inspection apparatus according to claim 1 or 2, wherein the determination unit is configured to determine an image recognition target chip placement region based on an image obtained by imaging by the imaging unit. It is determined whether or not there is a chip that can be inspected in the chip placement area adjacent to the specific direction.

請求項4に記載のチップ検査装置は、請求項3に記載のチップ検査装置であって、判断手段により、画像認識対象チップ載置領域の特定の方向に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在すると判断されたときには、その特定の方向に隣接するチップ載置領域を次に画像認識を行う対象として選択し、判断手段により、画像認識対象チップ載置領域の特定の方向に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在しないと判断されたときには、その特定の方向に隣接するチップ載置領域とは異なるチップ載置領域を次に画像認識を行う対象として選択する画像認識対象選択手段を備えた。   The chip inspection apparatus according to claim 4 is the chip inspection apparatus according to claim 3, wherein the determination unit is configured to inspect the chip mounting area adjacent to the image recognition target chip mounting area in a specific direction. When it is determined that there is a chip that can be, the chip mounting area adjacent to the specific direction is selected as a target for the next image recognition, and the determination unit selects the chip mounting area in the specific direction of the image recognition target chip mounting area. When it is determined that there is no chip that can be inspected in the adjacent chip mounting area, a chip mounting area different from the chip mounting area adjacent in the specific direction is selected as a target for next image recognition. The image recognition target selection means is provided.

請求項5に記載のチップ検査方法は、マトリクス状に並んだ複数のチップ載置領域が形成された所定領域内の各チップ載置領域を順次個別に画像認識することによって、各チップ載置領域内に載置されたチップの検査を行うチップ検査方法であって、前記所定領域の中から画像認識の対象として選択した画像認識対象チップ載置領域及びその画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域を撮像手段の撮像視野に入れて撮像を行う撮像工程と、撮像工程で得られた画像に基づく画像認識対象チップ載置領域の画像認識を行って、その画像認識対象チップ載置領域内に載置されているチップの検査を行う検査工程と、撮像工程で得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を行う判断工程とを含む。   The chip inspection method according to claim 5, wherein each chip mounting area is recognized by sequentially recognizing each chip mounting area within a predetermined area in which a plurality of chip mounting areas arranged in a matrix are formed. A chip inspection method for inspecting a chip mounted in an image recognition target chip mounting region selected as an image recognition target from the predetermined region, and adjacent to the image recognition target chip mounting region An imaging step of taking an image by placing the chip placement area in an imaging field of view of the imaging means, and performing image recognition of the image recognition target chip placement area based on the image obtained in the imaging step, and then mounting the image recognition target chip Based on the inspection process for inspecting the chip placed in the area and the image obtained in the imaging process, the chip can be inspected in the chip placement area adjacent to the image recognition target chip placement area. Tsu and a whether step determines to make decisions flop exists.

請求項6に記載のチップ検査方法は、請求項5に記載のチップ検査方法であって、判断工程において、画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を、その隣接するチップ載置領域において検出される輝度に基づいて判断する。   The chip inspection method according to claim 6 is the chip inspection method according to claim 5, wherein in the determination step, a chip that can be inspected is in a chip placement area adjacent to the image recognition target chip placement area. The determination of whether or not it exists is determined based on the luminance detected in the adjacent chip mounting area.

請求項7に記載のチップ検査方法は、請求項5又は6に記載のチップ検査方法であって、判断工程において、撮像工程で得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域の特定の方向に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を行う。   The chip inspection method according to claim 7 is the chip inspection method according to claim 5 or 6, wherein in the determination step, the image recognition target chip placement region is specified based on the image obtained in the imaging step. It is determined whether or not there is a chip that can be inspected in a chip placement area adjacent in the direction.

請求項8に記載のチップ検査方法は、請求項7に記載のチップ検査方法であって、判断工程において、画像認識対象チップ載置領域の特定の方向に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在すると判断したときには、その特定の方向に隣接するチップ載置領域を次に画像認識を行う対象として選択し、判断工程において、画像認識対象チップ載置領域の特定の方向に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在しないと判断したときには、その特定の方向に隣接するチップ載置領域とは異なるチ
ップ載置領域を次に画像認識を行う対象として選択する画像認識対象選択工程を含む。
The chip inspection method according to claim 8 is the chip inspection method according to claim 7, wherein in the determination step, the inspection target is in a chip mounting area adjacent to the specific direction of the image recognition target chip mounting area. When it is determined that there is a chip that can be, the chip mounting area adjacent to the specific direction is selected as a target for the next image recognition, and in the determination process, the chip mounting area adjacent to the specific direction of the image recognition target chip mounting area is selected. When it is determined that there is no chip that can be inspected in the chip placement area to be selected, an image that selects a chip placement area that is different from the chip placement area adjacent in the specific direction as the next image recognition target A recognition target selection step is included.

本発明では、マトリクス状に並んだ複数のチップ載置領域の中から選択された画像認識対象チップ載置領域及びその画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域を撮像手段の撮像視野に入れて撮像を行い、得られた画像に基づく画像認識対象チップ載置領域の画像認識を行って、その画像認識対象チップ載置領域内に載置されているチップの検査を行うとともに、得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を行うようになっている。このため、画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域に検査対象となり得るチップが存在しない場合にはこれが前もって分かることになり、検査対象となり得るチップの存在しないチップ載置領域を画像認識の対象から除外することができるので、チップ載置領域の形成領域の端の部分はもとより、チップ載置領域の形成領域の中央部においてもチップのない部分について画像認識が無駄に行われることを回避することができる。   In the present invention, an imaging field of view of an image recognition target chip mounting area selected from a plurality of chip mounting areas arranged in a matrix and a chip mounting area adjacent to the image recognition target chip mounting area The image recognition target chip placement area is recognized based on the obtained image, and the chip placed in the image recognition target chip placement area is inspected and obtained. Based on the obtained image, it is determined whether or not there is a chip that can be inspected in the chip placement area adjacent to the image recognition target chip placement area. For this reason, if there is no chip that can be inspected in the chip placement area adjacent to the image recognition target chip placement area, this can be known in advance, and the chip placement area in which there is no chip that can be inspected is imaged. Since it can be excluded from the recognition target, not only the end portion of the chip mounting area formation region but also the image recognition is performed wastefully in the central portion of the chip mounting region formation area. Can be avoided.

本発明の一実施の形態におけるチップ検査装置の概略構成を示す図The figure which shows schematic structure of the chip | tip inspection apparatus in one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態におけるチップ検査装置により検査される半導体ウェハの平面図The top view of the semiconductor wafer inspected by the chip inspection device in one embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるチップ検査装置により行うチップ検査方法の実行手順を示すフローチャートThe flowchart which shows the execution procedure of the chip | tip inspection method performed with the chip | tip inspection apparatus in one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態におけるチップ検査装置により検査される半導体ウェハの平面図The top view of the semiconductor wafer inspected by the chip inspection device in one embodiment of the present invention

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1において、本実施の形態におけるチップ検査装置1は、複数のチップPに切断された半導体ウェハWが載置されるウェハ載置台10、ウェハ載置台10の上方に設置された撮像手段としてのカメラ11及びウェハ載置台10及びカメラ11の作動制御を行う制御装置12等を備えて成り、例えばピックアップヘッドにより半導体ウェハWからチップPをピックアップして基板(図示せず)に装着するダイボンディング装置等に備えられている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 1, a chip inspection apparatus 1 according to the present embodiment includes a wafer mounting table 10 on which a semiconductor wafer W cut into a plurality of chips P is mounted, and an imaging unit installed above the wafer mounting table 10. A die bonding apparatus comprising a camera 11, a wafer mounting table 10, a control device 12 for controlling the operation of the camera 11, and the like, for example, picking up a chip P from a semiconductor wafer W by a pick-up head and mounting it on a substrate (not shown). Etc. are provided.

図1において、ウェハ載置台10はウェハ載置台作動機構13を介して制御装置12によって作動制御がなされ、半導体ウェハWを水平面内(XY面内)で移動させてその位置決めを行う。カメラ11は撮像視野を下方に向けており、カメラ作動機構14を介して制御装置12によって作動制御がなされて合焦及び撮像動作を行う。カメラ11の撮像によって得られた画像データは制御装置12に送られる。   In FIG. 1, operation control of the wafer mounting table 10 is performed by a control device 12 via a wafer mounting table operating mechanism 13, and the semiconductor wafer W is moved in a horizontal plane (in the XY plane) and positioned. The camera 11 has its imaging field of view facing downward, and is controlled by the control device 12 via the camera operating mechanism 14 to perform focusing and imaging operations. Image data obtained by imaging by the camera 11 is sent to the control device 12.

図1において、半導体ウェハWの裏面(下面)には粘着シートBSが貼り付けられており、半導体ウェハWの中央部の所定領域(図2中に示すチップ載置領域形成領域R)内には、複数の矩形のチップPが互いに縦横一定間隔をおいたマトリクス状に並んで粘着シートBSに貼り付けられた状態となっている。すなわち、粘着シートBSの上面にはチップPよりもひとまわり大きい矩形のチップ載置領域CRが複数マトリクス状に並び、各チップ載置領域CR内にチップPがひとつずつ載置された状態となっている。但し、このチップ検査装置1が備えられるダイボンディング装置等のピックアップヘッドによってチップ載置領域CRからチップPがピックアップされている場合には、そのチップ載置領域CR内にはチップPは載置されていない。すなわち、チップ載置領域形成領域R内の全てのチップ載置領域CRにチップPが載置された状態となっているわけではない。   In FIG. 1, an adhesive sheet BS is attached to the back surface (lower surface) of the semiconductor wafer W, and in a predetermined region (chip placement region forming region R shown in FIG. 2) in the center of the semiconductor wafer W. In this state, a plurality of rectangular chips P are affixed to the adhesive sheet BS in a matrix with a certain vertical and horizontal interval. That is, a plurality of rectangular chip placement areas CR that are slightly larger than the chips P are arranged in a matrix on the upper surface of the adhesive sheet BS, and one chip P is placed in each chip placement area CR. ing. However, when the chip P is picked up from the chip placement region CR by a pickup head such as a die bonding apparatus provided in the chip inspection apparatus 1, the chip P is placed in the chip placement region CR. Not. That is, the chip P is not placed in all the chip placement regions CR in the chip placement region formation region R.

制御装置12は、ウェハ載置台作動機構13の作動制御を行って、後述する画像認識対象選択部12dにより画像認識対象として選択されたチップ載置領域CR(以下、画像認識対象チップ載置領域CR0と称する)をカメラ11の下方に位置させた後、カメラ11にその画像認識対象チップ載置領域CR0を撮像させる。このときカメラ11の撮像視野11a(図2)内には、画像認識対象チップ載置領域CR0のほか、その画像認識対象チップ載置領域CR0に隣接する周囲(前後左右及び各斜め方向)の8つのチップ載置領域CR(図2において符号CR1〜CR8で示す)それぞれの一部が入るようにする。このため、画像認識対象チップ載置領域CR0を撮像すると、画像認識対象チップ載置領域CR0の全体の画像だけでなく、その画像認識対象チップ載置領域CR0の周囲の8つのチップ載置領域CR1〜CR8それぞれの一部の画像が取得される。   The control device 12 controls the operation of the wafer mounting table operating mechanism 13 and selects a chip mounting region CR (hereinafter, image recognition target chip mounting region CR0) selected as an image recognition target by an image recognition target selection unit 12d described later. The image recognition target chip placement region CR0 is imaged by the camera 11. At this time, in the imaging field of view 11a (FIG. 2) of the camera 11, in addition to the image recognition target chip placement region CR0, the surroundings (front and rear, right and left, and diagonal directions) adjacent to the image recognition target chip placement region CR0. A part of each of the chip mounting regions CR (indicated by reference characters CR1 to CR8 in FIG. 2) is inserted. For this reason, when the image recognition target chip placement region CR0 is imaged, not only the entire image recognition target chip placement region CR0 but also the eight chip placement regions CR1 around the image recognition target chip placement region CR0. A part of each image of CR8 is acquired.

制御装置12の記憶部12a(図1)には、各チップPの横方向寸法L1と縦方向寸法L2(図2参照)及び隣接するチップPとの横方向間隔T1と縦方向間隔T2(図2参照)の各データが記憶されており、制御装置12はこれらのデータに基づいて、各チップPの大きさ及び各チップ載置領域CRの大きさを把握できるようになっている。このため制御装置12は、任意の画像認識対象チップ載置領域CR0の中心をカメラ11の撮像視野11aの中央に位置させてカメラ11に撮像を行わせることにより、得られた画像から、画像認識対象チップ載置領域CR0の全部及び画像認識対象チップ載置領域CR0の周囲のチップ載置領域CR1〜CR8それぞれの一部を認識することができる。なお、本実施の形態では説明の便宜上、図1及び図2に示すように、半導体ウェハWのオリエンテーションフラットOFと平行な水平面内方向をX軸方向(横方向)とし、オリエンテーションフラットOFと直交する水平面内方向をY軸方向(縦方向)としている。   The storage unit 12a (FIG. 1) of the control device 12 includes a horizontal dimension L1 and a vertical dimension L2 (see FIG. 2) of each chip P, and a horizontal interval T1 and a vertical interval T2 between adjacent chips P (FIG. 1). 2), and the control device 12 can grasp the size of each chip P and the size of each chip mounting region CR based on these data. For this reason, the control device 12 positions the center of an arbitrary image recognition target chip mounting region CR0 in the center of the imaging field of view 11a of the camera 11 and causes the camera 11 to perform imaging. All of the target chip mounting area CR0 and a part of each of the chip mounting areas CR1 to CR8 around the image recognition target chip mounting area CR0 can be recognized. In the present embodiment, for convenience of explanation, as shown in FIGS. 1 and 2, the horizontal plane direction parallel to the orientation flat OF of the semiconductor wafer W is defined as the X-axis direction (lateral direction) and orthogonal to the orientation flat OF. The horizontal plane direction is the Y-axis direction (vertical direction).

図1において、制御装置12には上記記憶部12aのほか、検査部12b、判断部12c及び画像認識対象選択部12dが備えられている。検査部12bは、カメラ11の撮像により得られた画像に基づいて画像認識対象チップ載置領域CR0の画像認識を行い、その画像認識対象チップ載置領域CR0内に載置されているチップPに異常が認められないかどうか等の検査を行う。   In FIG. 1, the control device 12 includes an inspection unit 12b, a determination unit 12c, and an image recognition target selection unit 12d in addition to the storage unit 12a. The inspection unit 12b performs image recognition of the image recognition target chip placement region CR0 based on an image obtained by imaging by the camera 11, and applies to the chip P placed in the image recognition target chip placement region CR0. Inspect for abnormalities.

制御装置12の判断部12cは、カメラ11の撮像により得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域CR0の特定の方向に隣接するチップ載置領域CR(以下、特定領域CRTと称する)内に検査対象となり得るチップPが存在するか否かの判断を行う。ここで、「特定の方向」とは、半導体ウェハWに対するカメラ11の相対移動方向をいい、本実施の形態ではX軸に沿った一方向をいう。   The determination unit 12c of the control device 12 is based on an image obtained by imaging with the camera 11, and a chip placement area CR (hereinafter referred to as a specific area CRT) adjacent to the image recognition target chip placement area CR0 in a specific direction. It is determined whether or not there is a chip P that can be inspected. Here, the “specific direction” refers to the relative movement direction of the camera 11 with respect to the semiconductor wafer W, and in this embodiment refers to one direction along the X axis.

制御装置12の判断部12cは画像認識対象チップ載置領域CR0に隣接するチップ載置領域CR内に検査対象となり得るチップPが存在するか否かの判断を、そのチップ載置領域CRにおいて検出される輝度に基づいて行う。この判断では、例えば、チップ載置領域CRの8割を白が占める場合にはそのチップ載置領域CR内に「ミラーチップあり」とし、チップ載置領域CRの8割を黒が占める場合にはそのチップ載置領域CR内に「チップもミラーチップもなし」とし、これら双方のいずれでもない場合にはそのチップ載置領域CR内に「チップあり」とする。ここでミラーチップとは、半導体ウェハWの一部から成るチップ形状のものではあるが、表面に電子回路が形成されていないものをいい、チップ載置領域形成領域Rを外れて形成された、或いはチップ載置領域形成領域R内に完全に収まっていない半導体ウェハWのチップ形状部分はミラーチップとなる。   The determination unit 12c of the control device 12 detects, in the chip placement region CR, whether or not there is a chip P that can be inspected in the chip placement region CR adjacent to the image recognition target chip placement region CR0. Is performed based on the brightness. In this determination, for example, when 80% of the chip placement area CR is occupied by white, “there is a mirror chip” in the chip placement area CR, and when 80% of the chip placement area CR is occupied by black. Is “no chip or mirror chip” in the chip placement region CR, and “none is present” in the chip placement region CR if neither of them is present. Here, the mirror chip is a chip shape made of a part of the semiconductor wafer W, but has no electronic circuit formed on the surface, and is formed outside the chip mounting region forming region R. Alternatively, the chip-shaped portion of the semiconductor wafer W that is not completely contained in the chip mounting region forming region R becomes a mirror chip.

画像認識対象選択部12dは、判断部12cにより特定領域CRT内に検査対象となり得るチップPが存在すると判断されたときには、その特定領域CRTを次に画像認識を行う対象として選択し、判断部12cにより特定領域CRT内に検査対象となり得るチップPが存在しないと判断されたときには、その特定領域CRTとは異なるチップ載置領域C
Rを次に画像認識を行う対象として選択する。例えば、特定領域CRTの方向(ここではX軸方向)と直交する方向(ここではY軸方向)に位置するチップ載置領域CRを次の画像認識の対象として選択する。
When the determination unit 12c determines that there is a chip P that can be an inspection target in the specific region CRT, the image recognition target selection unit 12d selects the specific region CRT as a target for next image recognition, and determines the determination unit 12c. When it is determined that there is no chip P that can be inspected in the specific area CRT, a chip placement area C different from the specific area CRT is determined.
R is selected as a target for next image recognition. For example, the chip placement region CR positioned in the direction (here, the Y axis direction) orthogonal to the direction of the specific region CRT (here, the X axis direction) is selected as the next image recognition target.

次に、このチップ検査装置1により半導体ウェハWのチップPの検査を行う方法(チップ検査方法)の実行手順を図3に示すフローチャート及び図4に示す説明図を用いて説明する。チップPの検査においては、先ず、制御装置12(又はチップ検査装置1のオペレータ)が、最初に画像認識を行う画像認識対象チップ載置領域CR0の選択を行う(図3のステップST1)。この最初に画像認識を行う画像認識対象チップ載置領域CR0は、チップ載置領域形成領域R内の任意の位置のチップ載置領域CRから選択される。   Next, an execution procedure of a method (chip inspection method) for inspecting the chip P of the semiconductor wafer W by the chip inspection apparatus 1 will be described with reference to a flowchart shown in FIG. 3 and an explanatory diagram shown in FIG. In the inspection of the chip P, first, the control device 12 (or the operator of the chip inspection device 1) first selects the image recognition target chip placement region CR0 for performing image recognition (step ST1 in FIG. 3). The image recognition target chip placement region CR0 for performing image recognition first is selected from the chip placement region CR at an arbitrary position in the chip placement region formation region R.

最初に画像認識を行う画像認識対象チップ載置領域CR0を選択したら、制御装置12は、その選択した画像認識対象チップ載置領域CR0がカメラ11の直下に位置するように半導体ウェハWを移動させる(ステップST2)。そしてカメラ11により、画像認識対象チップ載置領域CR0を含む一定領域(画像認識対象チップ載置領域CR0の全部及び画像認識対象チップ載置領域CR0の周囲のチップ載置領域CR1〜CR8それぞれの一部)の撮像を行う(ステップST3。撮像工程)。   When the image recognition target chip placement region CR0 for performing image recognition is selected for the first time, the control device 12 moves the semiconductor wafer W so that the selected image recognition target chip placement region CR0 is positioned immediately below the camera 11. (Step ST2). Then, by the camera 11, a predetermined area including the image recognition target chip placement area CR0 (one of the chip placement areas CR1 to CR8 around the entire image recognition target chip placement area CR0 and each of the chip placement areas CR1 to CR8 around the image recognition target chip placement area CR0). (Step ST3, imaging step).

制御装置12は、画像認識対象チップ載置領域CR0を含む一定領域の撮像を行ったら、得られた画像に基づいて画像認識対象チップ載置領域CR0の画像認識を行い、その画像認識対象チップ載置領域CR0内のチップPの検査を行う(ステップST4。検査工程)。このステップST4の検査は前述のように、制御装置12の検査部12bが行う。   When the control device 12 has captured a certain area including the image recognition target chip placement area CR0, the control device 12 performs image recognition of the image recognition target chip placement area CR0 based on the obtained image, and the image recognition target chip placement. The chip P in the placement area CR0 is inspected (step ST4, inspection process). The inspection in step ST4 is performed by the inspection unit 12b of the control device 12 as described above.

制御装置12はチップPの検査が終わったら、カメラ11の撮像により得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域CR0の周囲のチップ載置領域CR1〜CR8のうち、特定領域CRT内に次の検査対象となり得るチップPが存在するか否かの判断を行う(ステップST5。判断工程)。なお、現在画像認識を行っている画像認識対象チップ載置領域CR0にとってどの方向が特定の方向になるかは、現在の半導体ウェハWに対するカメラ11の相対移動方向による。   When the inspection of the chip P is completed, the control device 12 is based on the image obtained by the imaging of the camera 11 and in the specific area CRT among the chip mounting areas CR1 to CR8 around the image recognition target chip mounting area CR0. Next, it is determined whether there is a chip P that can be the next inspection target (step ST5, determination step). Note that which direction is the specific direction for the image recognition target chip placement region CR0 that is currently performing image recognition depends on the relative movement direction of the camera 11 with respect to the current semiconductor wafer W.

上記ステップST5の判断は前述のように、制御装置12の判断部12cが、特定領域CRT内において検出される輝度に基づいて行う。このため、特定領域CRT内に検査対象となり得るチップPが存在するかどうかの判断処理を、その特定領域CRTを画像認識対象チップ載置領域CR0の場合と同様の画像認識を実行する場合に比べて迅速に行うことができる。なお、図4は 特定領域CRTであるチップ載置領域CR1内にチップPがない「チップなし」の状態を示している。   As described above, the determination in step ST5 is performed by the determination unit 12c of the control device 12 based on the luminance detected in the specific area CRT. For this reason, the process for determining whether or not the chip P that can be inspected exists in the specific area CRT is compared with the case where the image recognition is performed on the specific area CRT as in the case of the image recognition target chip mounting area CR0. Can be done quickly. FIG. 4 shows a “no chip” state in which the chip P is not in the chip placement area CR1 which is the specific area CRT.

制御装置12は、ステップST5において、特定領域CRT内にチップPが存在すると判断(「チップあり」と判断)した場合には、その特定領域CRTを次の画像認識対象(画像認識対象チップ載置領域CR0)として選択したうえで(ステップST6)、ステップST2に戻る。これにより、今回画像認識を行った画像認識対象チップ載置領域CR0に続いて、その画像認識対象チップ載置領域CR0から見て特定の方向に1つ隣に位置するチップ載置領域CR(すなわち特定領域CRT)の画像認識がなされ、そのチップ載置領域CR(特定領域CRT)内のチップPの検査が行われる。なお、このステップST6における次の画像認識の対象の選択は、前述のように、制御装置12の画像認識対象選択部12dが行う。   If the control device 12 determines in step ST5 that the chip P is present in the specific area CRT (determined “chip is present”), the control area 12 uses the specific area CRT as the next image recognition target (image recognition target chip placement). After selecting as region CR0) (step ST6), the process returns to step ST2. Thus, subsequent to the image recognition target chip placement area CR0 that has been subjected to image recognition this time, the chip placement area CR that is located next to the image recognition target chip placement area CR0 in a specific direction (that is, Image recognition of the specific area CRT) is performed, and the chip P in the chip placement area CR (specific area CRT) is inspected. The selection of the next image recognition target in step ST6 is performed by the image recognition target selection unit 12d of the control device 12 as described above.

一方、制御装置12は、ステップST5において、特定領域CRT内にチップPが存在しないと判断(「チップなし」或いは「ミラーチップあり」と判断)した場合には、連続スキップ数が所定回数に達しているかどうかの判断を行う(ステップST7)。ここでス
キップとは、現在画像認識を行っている画像認識対象チップ載置領域CR0から見た特定の方向のチップ載置領域CR(すなわち特定領域CRT)の画像認識を実行しないことをいい、連続スキップ数とはスキップを連続して行った回数のことをいう。
On the other hand, when the control device 12 determines in step ST5 that the chip P does not exist in the specific area CRT (determined “no chip” or “has a mirror chip”), the number of consecutive skips reaches a predetermined number. It is determined whether or not (step ST7). Here, “skip” means that the image recognition of the chip placement region CR (that is, the specific region CRT) in a specific direction viewed from the image recognition target chip placement region CR0 that is currently performing image recognition is not executed. The number of skips refers to the number of skips that have been performed consecutively.

制御装置12は、ステップST7において連続スキップ数が予め定めた所定回数(例えば3回)に達していなかった場合には特定領域CRTの画像認識をスキップし、そのスキップした特定領域CRTの特定の方向に隣接するチップ載置領域CR(すなわち特定領域CRTから見た特定領域CRT)を次の画像認識対象として選択し(ステップST8)、このスキップを含めた連続スキップ数を記憶部12aに記憶したうえで(ステップST9)、ステップST2に戻る。これにより、今回画像認識を行った画像認識対象チップ載置領域CR0内のチップPに続いて、その画像認識対象チップ載置領域CR0から見て特定の方向に2つ隣に位置するチップ載置領域CRの画像認識が行われる。そして、この画像認識対象チップ載置領域CR0から見て特定の方向に2つ隣に位置するチップ載置領域CR内にチップPが存在するときにはそのチップPの検査が行われる。   The control device 12 skips image recognition of the specific area CRT when the number of consecutive skips has not reached a predetermined number of times (for example, 3 times) determined in advance in step ST7, and the specific direction of the skipped specific area CRT. Is selected as the next image recognition target (step ST8), and the number of consecutive skips including this skip is stored in the storage unit 12a. (Step ST9), the process returns to Step ST2. As a result, after the chip P in the image recognition target chip placement area CR0 that has been subjected to image recognition this time, the chip placement that is located next to the chip recognition area CR0 by two in a specific direction. Image recognition of the region CR is performed. When the chip P is present in the chip placement region CR that is adjacent to the image recognition target chip placement region CR0 by two in a specific direction, the chip P is inspected.

一方、制御装置12は、ステップST7で連続スキップ回数が所定回数に達していた場合は、上記のスキップを行わずに、ステップST3で得られた画像に基づいて、現在画像認識を行っている画像認識対象チップ載置領域CR0から見た特定の方向(特定領域CRTのある方向であり、ここではX軸方向)と直交する方向(Y軸方向)にチップ載置領域CRがあるかどうかの判断を行う(ステップST10)。そして、制御装置12は、このステップST10の判断において、現在画像認識を行っている画像認識対象チップ載置領域CR0から見た特定の方向(特定領域CRTのある方向)と直交する方向にチップ載置領域CRがあると判断したときには、その特定領域CRTの方向と直交する方向のチップ載置領域CRを次の画像認識の対象として選択し、特定の方向(すなわち半導体ウェハWに対するカメラ11の相対移動方向)をそれまでの方向とは反対の方向へ反転させる切り替えをしたうえで(ステップST11)、ステップST2に戻る。これにより制御装置12は、カメラ11を用いて、チップ載置領域形成領域R内のチップ載置領域CRを順次個別に画像認識することができる(図4中に示すカメラ11の半導体ウェハWに対する相対移動軌跡TR参照)。なお、ステップST11における次の画像認識の対象の選択は、ステップST6における選択の場合と同様、制御装置12の画像認識対象選択部12dが行う。   On the other hand, if the number of consecutive skips has reached the predetermined number in step ST7, the control device 12 does not perform the above-described skipping, and currently performs image recognition based on the image obtained in step ST3. Determination of whether or not there is a chip placement region CR in a direction (Y axis direction) orthogonal to a specific direction (a direction in which the specific region CRT is present, here the X axis direction) viewed from the recognition target chip placement region CR0. Is performed (step ST10). Then, in the determination of step ST10, the controller 12 mounts the chip in a direction orthogonal to a specific direction (a direction in which the specific area CRT is present) viewed from the image recognition target chip mounting area CR0 that is currently performing image recognition. When it is determined that there is a placement region CR, a chip placement region CR in a direction orthogonal to the direction of the specific region CRT is selected as a target for the next image recognition, and the relative direction of the camera 11 with respect to the specific direction (that is, relative to the semiconductor wafer W). After switching the moving direction) to the opposite direction to the previous direction (step ST11), the process returns to step ST2. Thereby, the control device 12 can recognize images of the chip placement regions CR in the chip placement region formation region R sequentially and individually using the camera 11 (for the semiconductor wafer W of the camera 11 shown in FIG. 4). Relative movement trajectory TR). Note that the selection of the next image recognition target in step ST11 is performed by the image recognition target selection unit 12d of the control device 12 as in the case of the selection in step ST6.

以上説明したように、本実施の形態におけるチップ検査装置1は、マトリクス状に並んだ複数のチップ載置領域CRが形成された所定領域(チップ載置領域形成領域R)内の各チップ載置領域CRを順次個別に画像認識することによって、各チップ載置領域CR内に載置されたチップPの検査を行うものであり、チップ載置領域形成領域Rの中から画像認識の対象として選択された画像認識対象チップ載置領域CR0及びその画像認識対象チップ載置領域CR0に隣接するチップ載置領域CRを撮像視野に入れて撮像を行う撮像手段としてのカメラ11と、カメラ11の撮像により得られた画像に基づく画像認識対象チップ載置領域CR0の画像認識を行って、その画像認識対象チップ載置領域CR0内に載置されているチップPの検査を行う検査手段(制御装置12の検査部12b)と、カメラ11の撮像により得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域CR0に隣接するチップ載置領域CR内に検査対象となり得るチップPが存在するか否かの判断を行う判断手段(制御装置12の判断部12c)を備えたものとなっている。   As described above, the chip inspection apparatus 1 according to the present embodiment mounts each chip in a predetermined region (chip mounting region forming region R) in which a plurality of chip mounting regions CR arranged in a matrix are formed. The chip P placed in each chip placement region CR is inspected by sequentially recognizing the region CR individually and selected as an image recognition target from the chip placement region formation region R. The image recognition target chip placement region CR0 and the chip placement region CR adjacent to the image recognition target chip placement region CR0 are placed in the imaging field of view, and the camera 11 is used as an imaging unit. The image recognition target chip placement area CR0 is recognized based on the obtained image, and the chip P placed in the image recognition target chip placement area CR0 is inspected. Based on the inspection means (inspection unit 12b of the control device 12) and the image obtained by the imaging of the camera 11, the chip P that can be an inspection object in the chip placement region CR adjacent to the image recognition target chip placement region CR0. Is provided with a determination means (determination unit 12c of the control device 12) for determining whether or not there exists.

また、本実施の形態におけるチップ検査方法は、上記チップ載置領域形成領域R内の各チップ載置領域CRを順次個別に画像認識することによって、各チップ載置領域CR内に載置されたチップPの検査を行う方法であり、チップ載置領域形成領域Rの中から画像認識の対象として選択した画像認識対象チップ載置領域CR0及びその画像認識対象チップ載置領域CR0に隣接するチップ載置領域CRを撮像手段としてのカメラ11の撮像視野
に入れて撮像を行う撮像工程(ステップST3)と、撮像工程で得られた画像に基づく画像認識対象チップ載置領域CR0の画像認識を行って、その画像認識対象チップ載置領域CR0内に載置されているチップPの検査を行う検査工程(ステップST4)と、撮像工程で得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域CR0に隣接するチップ載置領域CR内に検査対象となり得るチップPが存在するか否かの判断を行う判断工程(ステップST5)を含むものとなっている。
Further, in the chip inspection method according to the present embodiment, each chip placement region CR in the chip placement region formation region R is placed in each chip placement region CR by sequentially recognizing the images individually. This is a method for inspecting a chip P, and an image recognition target chip placement region CR0 selected as an image recognition target from the chip placement region formation region R and a chip placement adjacent to the image recognition target chip placement region CR0. An imaging process (step ST3) in which the placement area CR is placed in the imaging field of view of the camera 11 as an imaging means, and image recognition of the image recognition target chip placement area CR0 based on the image obtained in the imaging process is performed. Based on the image obtained in the inspection step (step ST4) for inspecting the chip P placed in the image recognition target chip placement region CR0 and the imaging step, It has to include an image recognition target chip-placing area CR0 step determines to perform the inspection object capable of becoming whether chip P is present determines the adjacent chips placing area in CR (step ST5).

このように本実施の形態におけるチップ検査装置1(チップ検査方法)では、マトリクス状に並んだ複数のチップ載置領域CRの中から選択された画像認識対象チップ載置領域CR0及びその画像認識対象チップ載置領域CR0に隣接するチップ載置領域CRをカメラ11の撮像視野に入れて撮像を行い、得られた画像に基づく画像認識対象チップ載置領域CR0の画像認識を行って、その画像認識対象チップ載置領域CR0内に載置されているチップPの検査を行うとともに、得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域CR0に隣接するチップ載置領域CR内に検査対象となり得るチップPが存在するか否かの判断を行うようになっている。このため、画像認識対象チップ載置領域CR0に隣接するチップ載置領域CRに検査対象となり得るチップPが存在しない場合にはこれが前もって分かることになり、検査対象となり得るチップPの存在しないチップ載置領域CRを画像認識の対象から除外することができるので、チップ載置領域形成領域Rの端の部分はもとより、チップ載置領域形成領域Rの中央部においてもチップのない部分について画像認識が無駄に行われることを回避することができる。   As described above, in the chip inspection apparatus 1 (chip inspection method) according to the present embodiment, the image recognition target chip placement region CR0 selected from the plurality of chip placement regions CR arranged in a matrix and the image recognition target thereof. The chip placement area CR adjacent to the chip placement area CR0 is placed in the imaging field of view of the camera 11 and imaged. The image recognition target chip placement area CR0 is recognized based on the obtained image, and the image recognition is performed. The chip P placed in the target chip placement area CR0 is inspected, and based on the obtained image, the chip placement area CR adjacent to the image recognition target chip placement area CR0 becomes an inspection target. It is determined whether or not there is a chip P to be obtained. For this reason, if there is no chip P that can be inspected in the chip placement area CR adjacent to the image recognition target chip placement area CR0, this can be known in advance, and the chip placement in which there is no chip P that can be the inspection object exists. Since the placement region CR can be excluded from the object of image recognition, image recognition is performed not only on the end portion of the chip placement region formation region R but also on the chip-free portion in the central portion of the chip placement region formation region R. It is possible to avoid being performed in vain.

また、本実施の形態におけるチップ検査装置1では、カメラ11の撮像により得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域CR0の特定の方向に隣接するチップ載置領域CR内に検査対象となり得るチップPが存在するか否かの判断を行うようになっており、判断手段により、画像認識対象チップ載置領域CR0の特定の方向に隣接するチップ載置領域CR(特定領域CRT)内に検査対象となり得るチップPが存在すると判断されたときには、その特定領域CRTを次に画像認識を行う対象として選択し、判断手段により、特定領域CRT内に検査対象となり得るチップPが存在しないと判断されたときには、その特定領域CRTとは異なるチップ載置領域CRを次に画像認識を行う対象として選択する画像認識対象選択手段(制御装置12の画像認識対象選択部12d)を備えたものとなっている。   Further, in the chip inspection apparatus 1 according to the present embodiment, based on the image obtained by the imaging of the camera 11, the inspection target is in the chip placement region CR adjacent to the image recognition target chip placement region CR0 in a specific direction. It is determined whether or not there is a chip P that can be a target, and by the determination means, in a chip mounting region CR (specific region CRT) adjacent in a specific direction of the image recognition target chip mounting region CR0. If it is determined that there is a chip P that can be inspected, the specific area CRT is selected as a target for the next image recognition, and the determination means determines that there is no chip P that can be inspected in the specific area CRT. When the determination is made, an image recognition target selection means (for selecting a chip placement region CR different from the specific region CRT as a target for the next image recognition) It has become one with the image recognition target selecting unit 12d of the control device 12).

また、本実施の形態におけるチップ検査方法では、判断工程において、撮像工程で得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域CR0の特定の方向に隣接するチップ載置領域CR(特定領域CRT)内に検査対象となり得るチップPが存在するか否かの判断を行うようになっており、判断工程において、特定領域CRT内に検査対象となり得るチップPが存在すると判断したときには、その特定領域CRTを次に画像認識を行う対象として選択し、判断工程において、特定領域CRT内に検査対象となり得るチップPが存在しないと判断したときには、その特定領域CRTとは異なるチップ載置領域CRを次に画像認識を行う対象として選択する画像認識対象選択工程を含むものとなっている。   Further, in the chip inspection method according to the present embodiment, in the determination step, the chip placement region CR (specific region) adjacent in the specific direction of the image recognition target chip placement region CR0 based on the image obtained in the imaging step. It is determined whether or not there is a chip P that can be inspected in the CRT), and when it is determined in the determination step that there is a chip P that can be inspected in the specific area CRT, the identification is performed. When the region CRT is selected as the next image recognition target and it is determined in the determination step that there is no chip P that can be inspected in the specific region CRT, a chip placement region CR different from the specific region CRT is selected. Next, an image recognition target selection step for selecting as a target for image recognition is included.

このように本実施の形態では、画像認識対象チップ載置領域CR0から見た特定の方向にあるチップ載置領域CRについてのみ、次に画像認識を行う対象となり得るチップPが存在するか否かの判断を行うようにしているので、画像認識対象チップ載置領域CR0の周囲の8つのチップ載置領域CRの全てについてチップPが存在するか否かの判断を行うようにする場合よりも処理速度を速くすることができ、その分作業効率を向上させることができる。   Thus, in the present embodiment, whether or not there is a chip P that can be subject to image recognition next only for the chip placement region CR in a specific direction as viewed from the image recognition target chip placement region CR0. Therefore, the processing is performed more than the case where it is determined whether or not the chip P exists for all the eight chip placement areas CR around the image recognition target chip placement area CR0. The speed can be increased, and work efficiency can be improved accordingly.

これまで本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上述の実施の形態に示したものに限定されない。例えば、上述の実施の形態では、画像認識対象チップ載置領域
CR0を含む一定領域の撮像を行うに際し、画像認識対象チップ載置領域CR0に隣接するチップ載置領域CRについてはその一部のみがカメラ11の撮像視野に入るようにしていたが、隣接するチップ載置領域CRについても画像認識対象チップ載置領域CR0と同様、その全体がカメラ11の撮像視野に入るようにしてもよい。
Although the embodiments of the present invention have been described so far, the present invention is not limited to those shown in the above-described embodiments. For example, in the above-described embodiment, when imaging a certain area including the image recognition target chip placement area CR0, only a part of the chip placement area CR adjacent to the image recognition target chip placement area CR0 is included. Although the image pickup field of view of the camera 11 is entered, the entire chip placement region CR may also enter the image pickup view of the camera 11 as in the case of the image recognition target chip placement region CR0.

また、上述の実施の形態では、画像認識対象チップ載置領域CR0に隣接するチップ載置領域CR内に検査対象となり得るチップPが存在するか否かの判断を、その隣接するチップ載置領域CRにおいて検出される輝度に基づいて行うようになっていたが、必ずしも輝度に基づいて行わなくてもよく、画像認識によって判断してもよい。但し、前述のように、輝度に基づいて判断を行う方が判断処理を迅速に行うことができるという利点がある。   Further, in the above-described embodiment, it is determined whether or not there is a chip P that can be an inspection target in the chip placement region CR adjacent to the image recognition target chip placement region CR0. The determination is made based on the luminance detected in the CR, but it is not always necessary to perform the determination based on the luminance, and may be determined by image recognition. However, as described above, the determination based on the luminance has an advantage that the determination process can be performed quickly.

また、上述の実施の形態では、カメラ11の撮像により得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域CR0の特定の方向に隣接するチップ載置領域CR(特定領域CRT)内に検査対象となり得るチップPが存在するか否かの判断を行うようになっていたが、画像認識対象チップ載置領域CR0の周囲のいずれかの方向に隣接するチップ載置領域CR内に検査対象となり得るチップPが存在するか否かの判断を行い、その結果、いずれかの方向に隣接するチップ載置領域CR内に検査対象となり得るチップPが存在した場合に、そのチップPが存在したチップ載置領域CRを次の画像認識対象とするようにしてもよい。   In the above-described embodiment, the inspection is performed in the chip placement region CR (specific region CRT) adjacent in the specific direction of the image recognition target chip placement region CR0 based on the image obtained by the imaging of the camera 11. Although it has been determined whether or not there is a chip P that can be a target, it becomes an inspection target in a chip placement region CR adjacent in either direction around the image recognition target chip placement region CR0. It is determined whether there is a chip P to be obtained. As a result, if there is a chip P that can be inspected in the chip placement region CR adjacent in any direction, the chip in which the chip P is present. The placement area CR may be set as the next image recognition target.

また、上述の実施の形態では、画像認識対象チップ載置領域CR0を含む一定領域の撮像により得られた画像に基づいて画像認識対象チップ載置領域CR0の画像認識を行い、その画像認識対象チップ載置領域CR0内のチップPの検査(ステップST4)を行った後に、画像認識対象チップ載置領域CR0の周囲のチップ載置領域CR1〜CR8のうち、特定領域CRT内に次の検査対象となり得るチップPが存在するか否かの判断(ステップST5)を行うようになっていたが、これらステップST4とステップST5の順序は逆であってもよい。   In the above-described embodiment, the image recognition target chip mounting region CR0 is image-recognized based on an image obtained by imaging a certain region including the image recognition target chip mounting region CR0, and the image recognition target chip After the inspection of the chip P in the mounting area CR0 (step ST4), among the chip mounting areas CR1 to CR8 around the image recognition target chip mounting area CR0, it becomes the next inspection target in the specific area CRT. Although it is determined whether or not there is a chip P to be obtained (step ST5), the order of these steps ST4 and ST5 may be reversed.

また、上述の実施の形態では、半導体ウェハWに対するカメラ11の相対移動を、カメラ11に対してウェハ載置台10を移動させることによって実現していたが、これとは逆に、ウェハ載置台10に対してカメラ11を移動させる構成としてもよい。   In the above-described embodiment, the relative movement of the camera 11 with respect to the semiconductor wafer W is realized by moving the wafer mounting table 10 with respect to the camera 11, but conversely, the wafer mounting table 10. The camera 11 may be moved with respect to the camera.

チップ載置領域の形成領域の端の部分はもとより、チップ載置領域の形成領域の中央部においてもチップのない部分について画像認識が無駄に行われることを回避できるようにしたチップ検査装置及びチップ検査方法を提供する。   Chip inspection apparatus and chip capable of avoiding wasteful image recognition not only at the end portion of the chip mounting area formation area but also at the center of the chip mounting area formation area. Provide inspection methods.

1 チップ検査装置
11 カメラ(撮像手段)
11a 撮像視野
12b 制御装置の検査部(検査手段)
12c 制御装置の判断部(判断手段)
12d 制御装置の画像認識対象選択部(画像認識対象選択手段)
R チップ載置領域形成領域(所定領域)
P チップ
CR チップ載置領域
CR0 画像認識対象チップ載置領域
CRT 特定の方向に隣接するチップ載置領域
1 Chip inspection device 11 Camera (imaging means)
11a Imaging field of view 12b Control unit inspection unit (inspection means)
12c Determination unit (determination means) of control device
12d Image recognition target selection unit (image recognition target selection means) of control device
R chip mounting area forming area (predetermined area)
P chip CR chip placement area CR0 Image recognition target chip placement area CRT Chip placement area adjacent in a specific direction

Claims (8)

マトリクス状に並んだ複数のチップ載置領域が形成された所定領域内の各チップ載置領域を順次個別に画像認識することによって、各チップ載置領域内に載置されたチップの検査を行うチップ検査装置であって、
前記所定領域の中から画像認識の対象として選択された画像認識対象チップ載置領域及びその画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域を撮像視野に入れて撮像を行う撮像手段と、
撮像手段の撮像により得られた画像に基づく画像認識対象チップ載置領域の画像認識を行って、その画像認識対象チップ載置領域内に載置されているチップの検査を行う検査手段と、
撮像手段の撮像により得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を行う判断手段とを備えたことを特徴とするチップ検査装置。
The chips placed in each chip placement area are inspected by sequentially individually recognizing each chip placement area in a predetermined area where a plurality of chip placement areas arranged in a matrix are formed. A chip inspection device,
An image pickup means for picking up an image recognition target chip placement area selected as an image recognition target from the predetermined area and a chip placement area adjacent to the image recognition target chip placement area in an imaging field;
Inspection means for performing image recognition of an image recognition target chip placement area based on an image obtained by imaging of the image pickup means and inspecting a chip placed in the image recognition target chip placement area;
A determination unit that determines whether or not a chip that can be inspected exists in a chip mounting region adjacent to the image recognition target chip mounting region based on an image obtained by imaging by the imaging unit; A chip inspection apparatus.
判断手段は、画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を、その隣接するチップ載置領域において検出される輝度に基づいて行うことを特徴とする請求項1に記載のチップ検査装置。   The determination means determines whether or not there is a chip that can be inspected in the chip mounting area adjacent to the image recognition target chip mounting area based on the luminance detected in the adjacent chip mounting area. The chip inspection apparatus according to claim 1, wherein the chip inspection apparatus is performed. 判断手段は、撮像手段の撮像により得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域の特定の方向に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載のチップ検査装置。   The determination means determines whether or not there is a chip that can be inspected in a chip placement area adjacent to the image recognition target chip placement area in a specific direction based on an image obtained by imaging by the imaging means. The chip inspection apparatus according to claim 1, wherein: 判断手段により、画像認識対象チップ載置領域の特定の方向に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在すると判断されたときには、その特定の方向に隣接するチップ載置領域を次に画像認識を行う対象として選択し、判断手段により、画像認識対象チップ載置領域の特定の方向に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在しないと判断されたときには、その特定の方向に隣接するチップ載置領域とは異なるチップ載置領域を次に画像認識を行う対象として選択する画像認識対象選択手段を備えたことを特徴とする請求項3に記載のチップ検査装置。   When the determination unit determines that there is a chip that can be inspected in the chip placement area adjacent to the specific direction of the image recognition target chip placement area, the next chip placement area in the specific direction is If the determination means determines that there is no chip that can be inspected in the chip placement area adjacent in the specific direction of the image recognition target chip placement area, the identification is performed. 4. The chip inspection apparatus according to claim 3, further comprising image recognition target selection means for selecting a chip mounting area different from the chip mounting area adjacent in the direction of the next as a target for image recognition. マトリクス状に並んだ複数のチップ載置領域が形成された所定領域内の各チップ載置領域を順次個別に画像認識することによって、各チップ載置領域内に載置されたチップの検査を行うチップ検査方法であって、
前記所定領域の中から画像認識の対象として選択した画像認識対象チップ載置領域及びその画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域を撮像手段の撮像視野に入れて撮像を行う撮像工程と、
撮像工程で得られた画像に基づく画像認識対象チップ載置領域の画像認識を行って、その画像認識対象チップ載置領域内に載置されているチップの検査を行う検査工程と、
撮像工程で得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を行う判断工程とを含むことを特徴とするチップ検査方法。
The chips placed in each chip placement area are inspected by sequentially individually recognizing each chip placement area in a predetermined area where a plurality of chip placement areas arranged in a matrix are formed. A chip inspection method,
An imaging step of performing imaging by placing an image recognition target chip placement area selected as an image recognition target from the predetermined area and a chip placement area adjacent to the image recognition target chip placement area in an imaging field of imaging means When,
An inspection process for performing image recognition of the image recognition target chip mounting area based on the image obtained in the imaging process, and inspecting the chip mounted in the image recognition target chip mounting area;
And a determination step of determining whether or not there is a chip that can be inspected in a chip mounting area adjacent to the image recognition target chip mounting area based on the image obtained in the imaging step. Chip inspection method.
判断工程において、画像認識対象チップ載置領域に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を、その隣接するチップ載置領域において検出される輝度に基づいて判断することを特徴とする請求項5に記載のチップ検査方法。   In the determination step, whether or not there is a chip that can be inspected in the chip placement area adjacent to the image recognition target chip placement area is determined based on the luminance detected in the adjacent chip placement area. 6. The chip inspection method according to claim 5, wherein a determination is made. 判断工程において、撮像工程で得られた画像に基づいて、画像認識対象チップ載置領域の特定の方向に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在するか否かの判断を行うことを特徴とする請求項5又は6に記載のチップ検査方法。   In the determination step, based on the image obtained in the imaging step, it is determined whether or not there is a chip that can be inspected in the chip placement region adjacent to the image recognition target chip placement region in a specific direction. 7. The chip inspection method according to claim 5 or 6, wherein: 判断工程において、画像認識対象チップ載置領域の特定の方向に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在すると判断したときには、その特定の方向に隣接するチップ載置領域を次に画像認識を行う対象として選択し、判断工程において、画像認識対象チップ載置領域の特定の方向に隣接するチップ載置領域内に検査対象となり得るチップが存在しないと判断したときには、その特定の方向に隣接するチップ載置領域とは異なるチップ載置領域を次に画像認識を行う対象として選択する画像認識対象選択工程を含むことを特徴とする請求項7に記載のチップ検査方法。   In the determination step, when it is determined that there is a chip that can be inspected in the chip placement area adjacent to the specific direction of the image recognition target chip placement area, the chip placement area adjacent to the specific direction is When it is selected as a target for image recognition, and it is determined in the determination step that there is no chip that can be inspected in a chip mounting area adjacent to the specific direction of the image recognition target chip mounting area, the specific direction The chip inspection method according to claim 7, further comprising: an image recognition target selection step of selecting a chip placement area different from a chip placement area adjacent to the target as a target for next image recognition.
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