JP4992581B2 - 磁気ディスク、磁気ディスク装置、および磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、磁気記録を行う領域がドット状に配列されたいわゆるパターンドメディアと呼称される磁気ディスク、この磁気ディスクを備える磁気ディスク装置、およびその磁気ディスクの製造方法に関する。

ハードディスクなどの記憶装置を構成するための記録媒体として、磁気ディスク（磁気記録媒体）が知られている。磁気ディスクは、ディスク基板と所定の磁性構造を有する記録層とを含む積層構造を有する。コンピュータシステムにおける情報処理量の増大に伴い、磁気ディスクについては高記録密度化の要求が高まっている。

磁気ディスクへのデータ記録に際しては、磁気ディスクの記録面に対して記録用の磁気ヘッドが近接配置（浮上配置）され、当該磁気ヘッドにより、記録層に対し、その保磁力より強い記録磁界が印加される。磁気ディスクに対して磁気ヘッドを相対移動させつつ磁気ヘッドからの記録磁界の向きを順次反転させることにより、記録層のデータ記録領域において、磁化方向が順次反転する複数の記録マーク（磁区）がディスク周方向に連なって形成される。このとき、記録磁界方向を反転させるタイミングが制御されることにより、各々に所定の長さで記録マークが形成される。このようにして、記録層において、磁化方向の変化として所定のデータが記録される。

磁気ディスクにおいて記録密度を高めるには、データ記録領域における磁性体の結晶粒（磁性粒子）を実質的に小さくする必要がある。しかしながら、当該磁性粒子の微細化が進むと、磁性粒子の磁化方向が熱エネルギーによって変化しやすくなり、いわゆる熱揺らぎと呼ばれるデータ消失の不具合を招く虞れがある。

この熱揺らぎに対する耐性を高めるとともに高記録密度化を図るのに好ましい媒体として、パターンドメディア（ＰＴＭ）が知られている。パターンドメディアにおいては、たとえば記録層となるべき非磁性層中に、磁性領域からなる複数の記録ドットがディスク周方向およびディスク径方向に沿ってドット状に配列された構成とされている。ここで、各記録ドットは、非磁性層によって物理的に分離されて磁気的に孤立している。したがって、パターンドメディアにおいては、従来型の磁気ディスクに比べて記録ドット間の磁気的干渉を低減することが可能となる。さらにパターンドメディアは記録単位が磁性ドット１つで構成されるため、熱ゆらぎ耐性を満足するところまで磁性ドットを縮小することができるので、高記録密度化を図るのに好ましい。

一方、パターンドメディアでは、データが記録される記録ドットは、同一トラック内においても分離されており、その位置が絶対的に決まっている。このため、パターンドメディアにおけるデータ記録の際には、記録ドットに対して磁気ヘッドからの記録磁界の印加のタイミングを正確に同期させる必要がある。これに対し、たとえば同一トラック内の記録ドット列において磁気ヘッドの同期をとるためのクロックドット（同期ドット）を一定周期で設け、データ記録の際には、クロックドットの前後でデータリード動作を行い、同期ドットによる出力信号とクロック信号との同期をとることによって、その後に続く記録ドットへのデータ記録のタイミングを一致させる構成が提案されている（たとえば特許文献１を参照）。

しかしながら、この特許文献１に開示された構成では、クロックドットはデータ記録に寄与しない部分であり、このクロックドットがディスク周方向に沿った記録ドット列の途中に設けられているため、記録密度の低下を招くこととなっていた。

特開２００３−１５７５０７号公報

本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、磁気記録を行う領域がドット状に配列された磁気ディスクにおいて、同期信号用のドット（クロックドット）を設けるにあたり、記録密度の低下を防止することを目的とする。

上記課題を解決するため、本発明では、次の技術的手段を講じている。

本発明の第１の側面によって提供される磁気ディスクは、非磁性層と、当該非磁性層におけるディスク周方向およびディスク径方向に沿ってドット状に配列された磁性領域からなる複数の記録ドットと、を備える磁気ディスクであって、ディスク径方向に隣接する上記記録ドット間には、上記記録ドットのディスク周方向への周期に対してずれた位置に磁性領域からなるクロックドットが設けられていることを特徴としている。

好ましくは、上記クロックドットは、上記記録ドットのディスク周方向への周期に対して実質的に半周期ずれた位置に形成されている。

好ましくは、上記クロックドットは、ディスク周方向において上記記録ドットのディスク周方向への周期よりも大きい所定の周期で形成されている。

好ましくは、上記クロックドットは、ディスク径方向に隣接する上記記録ドットに対して実質的に中間の位置に形成されている。

好ましくは、上記クロックドットは、保磁力の値および飽和磁束密度の値が上記記録ドットよりも大とされている。

本発明の第２の側面によって提供される磁気ディスク装置は、非磁性層と、当該非磁性層におけるディスク周方向およびディスク径方向に沿ってドット状に配列された磁性領域からなる複数の記録ドットとを備えた磁気ディスクを内部に備えた磁気ディスク装置であって、上記磁気ディスクのディスク径方向に隣接する上記記録ドット間には、上記記録ドットのディスク周方向への周期に対してずれた位置に磁性領域からなるクロックドットが設けられていることを特徴としている。

本発明の第３の側面によって提供される磁気ディスクの製造方法は、非磁性層上に形成された第１のレジストに対し、本発明の第１の側面によって提供される磁気ディスクにおける上記記録ドットに対応する部位が凸部とされた所定の凹凸パターンを有する第１のスタンパを押圧することにより凹凸パターンを転写し、上記非磁性層を部分的に露出させる工程と、上記凹凸パターン転写後の上記第１のレジストをマスクとして上記非磁性層にエッチングを施すことにより上記非磁性層の露出部分に第１の凹部を形成する工程と、上記第１の凹部に第１の磁性材料を充填するとともに上記第１のレジストを除去して上記非磁性層の表面を平坦化する工程と、上記非磁性層上に第２のレジストを形成する工程と、上記第２のレジストに対し、本発明の第１の側面によって提供される磁気ディスクにおける上記クロックドットに対応する部位が凸部とされた所定の凹凸パターンを有する第２のスタンパを押圧することにより凹凸パターンを転写し、上記非磁性層を部分的に露出させる工程と、上記凹凸パターン転写後の上記第２のレジストをマスクとして上記非磁性層にエッチングを施すことにより上記非磁性層の露出部分に第２の凹部を形成する工程と、上記第２の凹部に第２の磁性材料を充填するとともに上記第２のレジストを除去して上記非磁性層の表面を平坦化する工程と、を有することを特徴としている。

好ましくは、上記第２の凹部の深さは、上記第１の凹部の深さよりも大とされている。

好ましくは、上記第１および第２の磁性材料はＣｏＰｔを含んで構成されており、上記第２の磁性材料におけるＰｔの組成比は、上記第１の磁性材料におけるＰｔの組成比よりも大とされている。

本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。

以下、本発明の好ましい実施の形態を、図面を参照して具体的に説明する。

図１は、本発明に係る磁気ディスクＸを含んで構成された磁気ディスク装置の一例を示している。磁気ディスク装置Ａは、磁気ディスクＸ、磁気ヘッド１、スピンドルモータ２、スイングアーム３、アクチュエータ４、およびディスクコントローラ５を備えて構成されている。磁気ディスクＸは、その複数枚が所定の間隔を空けて上下に重ねられており、各磁気ディスクＸは、表裏両面が記録面とされている。磁気ヘッド１は、磁気ディスクＸに対してデータを読み書きするものであり、磁気ディスクＸの記録面と対向するように各スイングアーム３の先端に設けられている。スピンドルモータ２は、磁気ディスクＸを高速回転させるためのものである。スイングアーム３は、磁気ヘッド１を磁気ディスクＸの略径方向に往復移動させるものであり、アクチュエータ４によって敏速に動作させられる。アクチュエータ４は、たとえばボイスコイルモータなどからなる。ディスクコントローラ５は、磁気ヘッド１、スピンドルモータ２、ならびにアクチュエータ４を駆動制御するものであり、ＣＰＵやメモリなどを備えたマイクロコンピュータ、あるいはマイクロコンピュータと同等の機能を備えたワイヤードロジック回路で構成される。

磁気ディスクＸは、図１および図２に表れているように、ディスク周方向に沿って周期的に配列された記録ドット２３ａによって同心円状に形成された複数のトラックＴを有し、パターンドメディアとして構成されたものである。より具体的には、磁気ディスクＸは、剛性のあるディスク基板の表面近傍にある記録層としての非磁性層２１を備え、記録ドット２３ａは、この非磁性層２１中に物理的に孤立した状態で設けられている。記録ドット２３ａは、所定の保磁力、および所定の飽和磁束密度を有する。記録ドット２３ａのディスク周方向における配列周期Ｃｐは例えば２５ｎｍ程度であり、ディスク径方向における配列周期（トラックピッチＴｐ）は例えば２５ｎｍ程度である。記録ドット２３ａにおいては、磁気ヘッド１からの記録磁界の印加によって磁化方向が制御されることにより、データが記録される。

また、非磁性層２１中における隣接するトラックＴの間（すなわちディスク径方向に隣接する記録ドット２３ａの間）には、磁性領域からなるクロックドット２５ａが設けられている。このクロックドット２５ａは、所定の磁化方向が所定の強度をもって帯磁した領域であり、データ記録の際に必要となるクロック信号に対する同期信号（クロック同期信号）を得るためのものである。クロックドット２５ａは、径方向においてはトッラクＴ内の記録ドット２３ａ列に対してトラックピッチＴｐの半分ずれて位置し、周方向においては記録ドット２３ａの周期に対して半周期ずれて位置する。また、クロックドット２５ａは、ディスク周方向において、記録ドット２３ａの周期よりも大きい周期で規則的に配置されている。クロックドット２５ａは、記録ドット２３ａに比べて、保磁力および飽和磁束密度の値が大とされている。なお、各トラックＴには、磁気ヘッド１の位置決めに用いられる図示しないサーボ領域が設けられている。

次に、上記構成の磁気ディスクＸにおいて、クロック同期信号を検出する手順の一例を説明する。まず、図３（ａ）に示すように、磁気ヘッド１を記録ドット２３ａ上に追従させ、磁気ヘッド１の読み取りヘッド部１１により読み取り動作を行うことにより、図３（ｂ）に示す再生波形が得られる。この再生波形は、記録ドット２３ａからの磁気信号とクロックドット２５ａからの磁気信号の合成波形となる。ここで、クロックドット２５ａは記録ドット２３ａよりも飽和磁束密度が大であり、また、同一トラックＴを構成する記録ドット２３ａ列を挟んで対をなして位置するため、クロックドット２５ａによる信号波形の振幅は、記録ドット２３ａによる信号波形の振幅よりも大きくなる。次いで、記録ドット２３ａによる再生波形の振幅よりも高い信号レベルにスライスレベルを設定し、クロックドット２５ａによる再生波形の２値化信号を検出する（図３（ｃ）参照）。また、図３（ｂ）の再生波形に対し、微分回路を用いて図３（ｄ）に示す微分再生波形を得る。次いで、図３（ｄ）の波形に対し、ゼロクロス検出回路を用いてゼロクロス点を検出する（図３（ｅ）参照）。そして、上記のスライス２値化信号とゼロクロス点をアンドゲートで組み合わせることにより、図３（ｆ）に示すクロック同期信号を得ることができる。

このようにして得られたクロック同期信号は、ＰＬＬ回路に基準信号として供給される。ＰＬＬ回路は、電圧制御発振器、分周回路、位相比較器から構成されており、電圧制御発振器で生成されるクロック信号を上記基準信号に同期させる位相制御を行う。これにより、クロック信号の立ち上がりをクロック同期信号の立ち上がりに正確に一致させることが可能となり、記録ドット２３ａに対するデータ記録の際には、記録ドット２３ａの位置にクロック信号を正確に合わせることができる。

次に、上記した磁気ディスクＸの製造方法の一例を図４〜図６を参照して説明する。

磁気ディスクＸは、スタンパを用いたナノインプリント法を利用して製造される。ナノインプリント法においては、まず、スタンパを作製する。スタンパの作製においては、たとえば基板上のレジスト膜に電子ビーム描画装置によって所定パターンを露光形成した後、当該レジスト膜に現像処理を施してレジストパターンを形成する。次に、このレジストパターンをマスクとして上記基板にＲＩＥなどのドライエッチングを施して凹部を形成し、レジストパターンを除去する。これにより、所定パターンの凹部を有する基板（スタンパの原盤）が得られる。次に、当該基板に対して電鋳処理を行うことにより、ニッケルなどの金属からなるスタンパが得られる。スタンパの表面には、上記基板の凹凸形状が転写されており、上記基板の凹部に対応する箇所において凸部が形成される。本実施形態においては、上記の方法により、磁気ディスクＸの記録ドット２３ａとなるべき部位を凸部３１ａとする凹凸パターンを有する記録ドット用スタンパ３１（図４（ａ）参照）と、磁気ディスクＸのクロックドット２５ａとなるべき部位を凸部４１ａとする凹凸パターンを有するクロックドット用スタンパ４１（図５（ｃ）参照）とが作製される。

次いで、図４（ａ）に示すように、所定の非磁性材料からなるディスク基板２０上にレジスト２２を形成する。ディスク基板２０の表面近傍は、非磁性層２１に相当する部分である。レジスト２２は、たとえばＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）などの熱可塑性樹脂からなる。

次に、レジスト２２をガラス転移点以上の温度に加熱したうえで、図４（ｂ）に示すように、記録ドット用スタンパ３１を当該レジスト２２に押圧することにより、当該スタンパ３１の凹凸パターンが転写される。次いで、図４（ｃ）に示すように、レジスト残渣をたとえば酸素プラズマを利用したアッシングにより除去し、非磁性層２１表面を部分的に露出させて、レジストパターン２２Ａを形成する。次いで、図４（ｄ）に示すように、レジストパターン２２Ａをマスクとして非磁性層２１にドライエッチングを施すことにより、非磁性層２１の露出部が除去されて凹部２１ａが形成される。ここで、凹部２１ａの深さが１０ｎｍ程度となるように制御される。

次いで、図５（ａ）に示すように、スパッタリング法により、凹部２１ａないしレジストパターン２２Ａ上に磁性材料からなる磁性膜２３を積層形成する。当該磁性材料としては、たとえばＣｏＰｔを挙げることができ、Ｐｔの組成比はたとえば１０％程度である。次に、図５（ｂ）に示すように、レジストパターン２２Ａを除去し、非磁性層２１の表面を平坦化する。このようにして上記凹部２１ａに充填された磁性材料が記録ドット２３ａとなる。

次に、図５（ｃ）に示すように、非磁性層２１上にレジスト２４を形成する。レジスト２４の材質は、上述のレジスト２２と同様である。次いで、レジスト２４をガラス転移点以上の温度に加熱したうえで、図５（ｄ）に示すように、クロックドット用スタンパ４１を当該レジスト２４に押圧することにより、当該スタンパ４１の凹凸パターンが転写される。次いで、図６（ａ）に示すように、レジスト残渣をたとえば酸素プラズマを利用したアッシングにより除去し、非磁性層２１表面を部分的に露出させて、レジストパターン２４Ａを形成する。次いで、図６（ｂ）に示すように、レジストパターン２４Ａをマスクとして非磁性層２１にドライエッチングを施すことにより、非磁性層２１の露出部が除去されて凹部２１ｂが形成される。ここで、凹部２１ｂの深さが２０ｎｍ程度となるように制御される。

次いで、図６（ｃ）に示すように、スパッタリング法により、凹部２１ｂないしレジストパターン２４Ａ上に磁性材料からなる磁性膜２５を積層形成する。当該磁性材料としては、たとえばＣｏＰｔを挙げることができ、Ｐｔの組成比はたとえば２０％程度である。次いで、図６（ｄ）に示すように、レジストパターン２４Ａを除去し、非磁性層２１の表面を平坦化する。このようにして上記凹部２１ｂに充填された磁性材料がクロックドット２５ａとなる。次いで、たとえば非磁性層２１上に保護膜を形成することにより、磁気ディスクＸを得ることができる。

本実施形態に係る磁気ディスクＸにおいて、クロックドット２５ａは、ディスク周方向に隣接する記録ドット２３ａの中間で、かつ、ディスク径方向に隣接する記録ドット２３ａの中間に位置して設けられている。このような構成によれば、記録ドット２３ａの配列に何ら影響を与えることはない。このため、磁気ディスクＸにおいては、記録密度を実質的に低下させることなく、クロックドット２５ａを設けることができる。また、記録密度（ディスク周方向の記録密度）が低下しないため、転送速度が低下することもない。

また、磁気ディスクＸにおけるクロックドット２５ａは、記録ドット２３ａに対し保磁力が大きくされている。このため、記録ドット２３ａへのデータ記録に際し、漏れ磁場の影響でクロックドット２５ａの磁化が失われるといった不都合が生じることもない。

本実施形態に係る磁気ディスクＸの製造においては、記録ドット用スタンパ３１およびクロックドット用スタンパ４１の２種類のスタンパを用い、２段階の工程を経ることにより、磁気特性の異なる記録ドット２３ａとクロックドット２５ａとを適切に形成することができる。ここでは、クロックドット２５ａを構成する磁性材料におけるＰｔの組成比を、記録ドット２３ａを構成する磁性材料におけるＰｔの組成比よりも大とすることにより、クロックドット２５ａの保磁力を記録ドット２３ａの保磁力よりも高めることができる。また、クロックドット２５ａの厚みは、記録ドット２３ａの厚みよりも大とされている。このような構成は高保磁力、高飽和磁束密度を確保するうえで好適である。

加えて、上記２段階の工程を経ることにより、クロックドット２５ａを、ディスク周方向およびディスク径方向に隣接する記録ドット２３ａの中間位置といった狭いスペースに設けることができる。

以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明の技術的範囲は上記した実施形態に限定されるものではない。

たとえば、上記実施形態では、記録ドットおよびクロックドットの平面視形状は略円形とされているが、これに限定されるものではなく、たとえば楕円形など他の形状を採用してもよい。これらのドットの形状としては、高記録密度化や製造における歩留りなどの観点から適切なものを採用すればよい。

上記実施形態においては、ディスク基板の表面近傍を非磁性層とする構成にしたが、これに代えて、ディスク基板上に非磁性材料からなる非磁性層を別途形成した積層構造としてもよい。また、必要に応じて、ディスク基板上に他の中間層を設けてもよい。

以上のまとめとして、本発明の構成およびそのバリエーションを以下に付記として列挙する。

（付記１）非磁性層と、当該非磁性層におけるディスク周方向およびディスク径方向に沿ってドット状に配列された磁性領域からなる複数の記録ドットと、を備える磁気ディスクであって、
ディスク径方向に隣接する上記記録ドット間には、上記記録ドットのディスク周方向への周期に対してずれた位置に磁性領域からなるクロックドットが設けられていることを特徴とする、磁気ディスク。
（付記２）上記クロックドットは、上記記録ドットのディスク周方向への周期に対して実質的に半周期ずれた位置に形成されている、付記１に記載の磁気ディスク。
（付記３）上記クロックドットは、ディスク周方向において上記記録ドットのディスク周方向への周期よりも大きい所定の周期で形成されている、付記１または２に記載の磁気ディスク。
（付記４）上記クロックドットは、ディスク径方向に隣接する上記記録ドットに対して実質的に中間の位置に形成されている、付記１ないし３のいずれかに記載の磁気ディスク。
（付記５）上記クロックドットは、保磁力の値および飽和磁束密度の値が上記記録ドットよりも大とされている、付記１ないし４のいずれかに記載の磁気ディスク。
（付記６）非磁性層と、当該非磁性層におけるディスク周方向およびディスク径方向に沿ってドット状に配列された磁性領域からなる複数の記録ドットとを備えた磁気ディスクを内部に備えた磁気ディスク装置であって、上記磁気ディスクのディスク径方向に隣接する上記記録ドット間には、上記記録ドットのディスク周方向への周期に対してずれた位置に磁性領域からなるクロックドットが設けられていることを特徴とする、磁気ディスク装置。
（付記７）非磁性層上に形成された第１のレジストに対し、付記１ないし５のいずれかに記載の磁気ディスクにおける上記記録ドットに対応する部位が凸部とされた所定の凹凸パターンを有する第１のスタンパを押圧することにより凹凸パターンを転写し、上記非磁性層を部分的に露出させる工程と、
上記凹凸パターン転写後の上記第１のレジストをマスクとして上記非磁性層にエッチングを施すことにより上記非磁性層の露出部分に第１の凹部を形成する工程と、
上記第１の凹部に第１の磁性材料を充填するとともに上記第１のレジストを除去して上記非磁性層の表面を平坦化する工程と、
上記非磁性層上に第２のレジストを形成する工程と、
上記第２のレジストに対し、付記１ないし５のいずれかに記載の磁気ディスクにおける上記クロックドットに対応する部位が凸部とされた所定の凹凸パターンを有する第２のスタンパを押圧することにより凹凸パターンを転写し、上記非磁性層を部分的に露出させる工程と、
上記凹凸パターン転写後の上記第２のレジストをマスクとして上記非磁性層にエッチングを施すことにより上記非磁性層の露出部分に第２の凹部を形成する工程と、
上記第２の凹部に第２の磁性材料を充填するとともに上記第２のレジストを除去して上記非磁性層の表面を平坦化する工程と、
を有することを特徴とする、磁気ディスクの製造方法。
（付記８）上記第２の凹部の深さは、上記第１の凹部の深さよりも大とされている、付記７に記載の磁気ディスクの製造方法。
（付記９）上記第１および第２の磁性材料はＣｏＰｔを含んで構成されており、上記第２の磁性材料におけるＰｔの組成比は、上記第１の磁性材料におけるＰｔの組成比よりも大とされている、付記７または８に記載の磁気ディスクの製造方法。

本発明に係る磁気ディスクを含んで構成された磁気ディスク装置の一例を示す全体斜視図である。 図１に示す磁気ディスクのトラック構造を示す部分拡大平面図である。 クロック同期信号の検出手順の一例を説明するための図である。 本発明に係る磁気ディスクの製造方法における一部の工程を示す部分拡大断面図である。 図４の後に続く工程を示す部分拡大断面図である。 図５の後に続く工程を示す部分拡大断面図である。

符号の説明

Ａ 磁気ディスク装置
Ｘ 磁気ディスク
Ｔ トラック
１ 磁気ヘッド
２ スピンドルモータ
３ スイングアーム
４ アクチュエータ
５ ディスクコントローラ
１１ 読み取りヘッド部
２１ 非磁性層
２１ａ 凹部（第１の凹部）
２１ｂ 凹部（第２の凹部）
２２ レジスト（第１のレジスト）
２３ａ 記録ドット
２４ レジスト（第２のレジスト）
２５ａ クロックドット
３１ 記録ドット用スタンパ（第１のスタンパ）
４１ クロックドット用スタンパ（第２のスタンパ）

Claims (7)

1. 非磁性層と、当該非磁性層におけるディスク周方向およびディスク径方向に沿ってドット状に配列された磁性領域からなる複数の記録ドットと、を備える磁気ディスクであって、
   ディスク径方向に隣接する上記記録ドット間には、上記記録ドットのディスク周方向への周期に対してずれた位置に磁性領域からなるクロックドットが設けられていることを特徴とする、磁気ディスク。
2. 上記クロックドットは、上記記録ドットのディスク周方向への周期に対して実質的に半周期ずれた位置に形成されている、請求項１に記載の磁気ディスク。
3. 上記クロックドットは、ディスク周方向において上記記録ドットのディスク周方向への周期よりも大きい所定の周期で形成されている、請求項１または２に記載の磁気ディスク。
4. 上記クロックドットは、保磁力の値および飽和磁束密度の値が上記記録ドットよりも大とされている、請求項１ないし３のいずれかに記載の磁気ディスク。
5. 非磁性層と、当該非磁性層におけるディスク周方向およびディスク径方向に沿ってドット状に配列された磁性領域からなる複数の記録ドットとを備えた磁気ディスクを内部に備えた磁気ディスク装置であって、
   上記磁気ディスクのディスク径方向に隣接する上記記録ドット間には、上記記録ドットのディスク周方向への周期に対してずれた位置に磁性領域からなるクロックドットが設けられていることを特徴とする、磁気ディスク装置。
6. 非磁性層上に形成された第１のレジストに対し、請求項１ないし４のいずれかに記載の磁気ディスクにおける上記記録ドットに対応する部位が凸部とされた所定の凹凸パターンを有する第１のスタンパを押圧することにより凹凸パターンを転写し、上記非磁性層を部分的に露出させる工程と、
   上記凹凸パターン転写後の上記第１のレジストをマスクとして上記非磁性層にエッチングを施すことにより上記非磁性層の露出部分に第１の凹部を形成する工程と、
   上記第１の凹部に第１の磁性材料を充填するとともに上記第１のレジストを除去して上記非磁性層の表面を平坦化する工程と、
   上記非磁性層上に第２のレジストを形成する工程と、
   上記第２のレジストに対し、請求項１ないし４のいずれかに記載の磁気ディスクにおける上記クロックドットに対応する部位が凸部とされた所定の凹凸パターンを有する第２のスタンパを押圧することにより凹凸パターンを転写し、上記非磁性層を部分的に露出させる工程と、
   上記凹凸パターン転写後の上記第２のレジストをマスクとして上記非磁性層にエッチングを施すことにより上記非磁性層の露出部分に第２の凹部を形成する工程と、
   上記第２の凹部に第２の磁性材料を充填するとともに上記第２のレジストを除去して上記非磁性層の表面を平坦化する工程と、
   を有することを特徴とする、磁気ディスクの製造方法。
7. 上記第２の凹部の深さは、上記第１の凹部の深さよりも大とされている、請求項６に記載の磁気ディスクの製造方法。

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