JP4983031B2 - Laminated film - Google Patents
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Description
本発明は、積層フィルムに関するものである。 The present invention relates to a laminated film.
更に詳しくは、液晶ディプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ、リアプロジェクションテレビ、フィールドエミッションディスプレイ、フロントスクリーンなどの各種ディスプレイに好適な積層フィルムに関するものである。 More specifically, the present invention relates to a laminated film suitable for various displays such as a liquid crystal display, a plasma display, an EL display, a rear projection television, a field emission display, and a front screen.
熱可塑性樹脂を多層に積層したフィルムは、種々提案されており、例えば、耐引裂性に優れた多層に積層したフィルムをガラス表面に貼りつけることにより、ガラスの破損および飛散を大幅に防止できるもの（たとえば特許文献１〜３参照）、屈折率の異なる樹脂層を交互に多層に積層することより、選択的に特定の波長を反射するフィルム（たとえば特許文献４〜６参照）等が存在する。これらの中で選択的に特定の波長を反射するフィルムは、特定の光を透過あるいは反射するフィルターとして作用し、液晶ディスプレイなどのバックライト用のフィルムとして利用されている。
Various films have been proposed in which a thermoplastic resin is laminated in multiple layers. For example, by sticking a film laminated in a multilayer with excellent tear resistance on the glass surface, breakage and scattering of the glass can be largely prevented. (For example, refer to
一方、、液晶ディプレイやプラズマディスプレイやＥＬディスプレイなどの各種ディスプレイにおいては、剛性、透明性、耐熱性、寸法安定性、耐薬品性、コストなどの点から、光学機能フィルムの基材として、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートからなる二軸延伸フィルムが用いられている。通常、各種ディスプレイで用いられる光学機能フィルムは、数枚のフィルムを粘着剤等で貼り合わされて使用される。このため、しばしば、基材フィルムと粘着剤との屈折率差による反射が問題となる。すなわち、このわずかな反射が、写り込みや暗視野下でのコントラストを低減するためである。 On the other hand, in various displays such as liquid crystal displays, plasma displays, and EL displays, polyethylene is used as a base material for optical functional films in terms of rigidity, transparency, heat resistance, dimensional stability, chemical resistance, cost, and the like. Biaxially stretched films made of terephthalate or polyethylene naphthalate are used. Usually, an optical functional film used in various displays is used by bonding several films with an adhesive or the like. For this reason, the reflection by the refractive index difference of a base film and an adhesive often becomes a problem. That is, this slight reflection is for reducing the contrast under the reflected image or dark field.
また、光学機能フィルムでは、基材フィルムの表面にアクリル樹脂などを用いて、ハードコート層、反射防止層、近赤外線吸収層、拡散層、色補正層、電磁波吸収層、プリズムやレンチキュラーなどの光学素子が形成されている。この際、例えばハードコートフィルムなどでは、ハードコート層の屈折率と基材フィルムの屈折率に差があると、干渉縞と呼ばれるむらが見えるようになる問題がある。 For optical functional films, acrylic resin is used on the surface of the base film, and hard coat layers, antireflection layers, near infrared absorption layers, diffusion layers, color correction layers, electromagnetic wave absorption layers, prisms and lenticular optics An element is formed. At this time, for example, in the case of a hard coat film or the like, if there is a difference between the refractive index of the hard coat layer and the refractive index of the substrate film, there is a problem that unevenness called interference fringes becomes visible.
本発明者らは、屈折率の異なる樹脂層を特殊な層厚みで多層に積層することにより、光の損失がほどんどない材料を提案している（たとえば特許文献７参照）。本方法では、フィルムの屈折率を制御できるものの、その構造的特徴のため、剛性、耐熱性、寸法安定性、耐薬品性などが不足し、各種ディスプレイに用いられる光学機能フィルムの基材としては必ずしも満足できるものではなかった。
本発明の課題は、かかる問題を解決し、写り込みやコントラストの低下が少なく、干渉縞もなく、剛性・透明性・耐熱性・寸法安定性・耐薬品性にすぐれた積層フィルムを提供するものである。 An object of the present invention is to provide a laminated film that solves such problems and has excellent rigidity, transparency, heat resistance, dimensional stability, and chemical resistance, with little reduction in reflection and contrast, no interference fringes. It is.
上記課題を解決するため、本発明は、以下の構成を有する。すなわち、層厚みが１５μｍ以上の樹脂Ａを主成分とする層を１層以上含んでなり、層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ａまたは樹脂Ｃを主成分とする層を３層以上含み、層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ｂを主成分とする層を３層以上含み、樹脂Ｂが樹脂Ａまたは樹脂Ｃと屈折率が異なっており、前記層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａまたは樹脂Ｃを主成分とする層と前記層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ｂを主成分とする層とを交互に積層し、かつ表面から内部に向かうにつれ、樹脂Ｂを主成分とする層の厚みが減少し、かつ、前記樹脂Ａまたは樹脂Ｃを主成分とする層の厚みが増加する層構成を含んでなることを特徴とする積層フィルム。
In order to solve the above problems, the present invention has the following configuration. That is, it includes one or more layers mainly composed of resin A having a layer thickness of 15 μm or more, and includes three or more layers mainly composed of resin A or resin C having a layer thickness of 30 nm or less. A layer containing three or more layers mainly composed of a resin B of 30 nm or less, the resin B having a refractive index different from that of the resin A or the resin C, and a layer mainly composed of the resin A or the resin C having a layer thickness of 30 nm or less. And a layer mainly composed of resin B having a layer thickness of 30 nm or less, and the thickness of the layer mainly composed of resin B decreases as it goes from the surface to the inside , and the resin A Or the laminated film characterized by including the layer structure which the thickness of the layer which has resin C as a main component increases .
本発明の積層フィルムは、層厚みが１５μｍ以上の樹脂Ａを主成分とする層を１層以上含んでなり、層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ａまたは樹脂Ｃを主成分とする層を３層以上含み、層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ｂを主成分とする層を３層以上含み、樹脂Ｂが樹脂Ａまたは樹脂Ｃと屈折率が異なっており、前記層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａまたは樹脂Ｃを主成分とする層と前記層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ｂを主成分とする層とを交互に積層し、かつ表面から内部に向かうにつれ、樹脂Ｂを主成分とする層の厚みが減少し、かつ、前記樹脂Ａまたは樹脂Ｃを主成分とする層の厚みが増加する層構成を含んでなるので、写り込みやコントラストの低下を抑制可能である。また干渉縞もなく、透明性・耐熱性・寸法安定性・耐薬品性にもすぐれるものである。
The laminated film of the present invention comprises one or more layers mainly composed of a resin A having a layer thickness of 15 μm or more, and three or more layers mainly composed of a resin A or a resin C having a layer thickness of 30 nm or less. 3 or more layers including a resin B having a layer thickness of 30 nm or less as a main component, the resin B having a refractive index different from that of the resin A or the resin C, and the resin A or the resin C having a layer thickness of 30 nm or less. Layers of the main component and layers having the layer thickness of 30 nm or less as a main component of the resin B are alternately laminated, and the thickness of the layer of the main component of the resin B decreases as it goes from the surface to the inside . And since it comprises the layer structure which the thickness of the layer which has the said resin A or resin C as a main component increases, it can suppress a reflection and the fall of contrast. In addition, it has no interference fringes and is excellent in transparency, heat resistance, dimensional stability, and chemical resistance.
上記目的を達成するため、本発明は、層厚みが１５μｍ以上の樹脂Ａを主成分とする層を１層以上含んでなり、層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ａまたは樹脂Ｃを主成分とする層を３層以上含み、層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ｂを主成分とする層を３層以上含み、樹脂Ｂが樹脂Ａまたは樹脂Ｃと屈折率が異なっており、前記層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａまたは樹脂Ｃを主成分とする層と前記層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ｂを主成分とする層とを交互に積層し、かつ表面から内部に向かうにつれ、樹脂Ｂを主成分とする層の厚みが減少し、かつ、前記樹脂Ａまたは樹脂Ｃを主成分とする層の厚みが増加する層構成を含んでなる積層フィルムでなければならない。
In order to achieve the above object, the present invention comprises one or more layers mainly composed of a resin A having a layer thickness of 15 μm or more, and a layer mainly composed of a resin A or a resin C having a layer thickness of 30 nm or less. 3 or more layers, and a layer thickness of 30 nm or less is the main component of resin B, and resin B has a refractive index different from that of resin A or resin C. Alternatively, the thickness of the layer mainly composed of the resin B as the layer mainly composed of the resin C and the layer composed mainly of the resin B having a layer thickness of 30 nm or less are alternately laminated and from the surface toward the inside. And a laminated film including a layer structure in which the thickness of the layer mainly composed of the resin A or the resin C is increased .
ここで、樹脂Ａとしては透明性、耐熱性、寸法安定性、耐薬品性、剛性に優れる樹脂であることが好ましい。樹脂Ａとしては、例えば、ポリエチレン・ポリプロピレン・ポリスチレン・ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン樹脂、脂環族ポリオレフィン樹脂、ナイロン６・ナイロン６６などのポリアミド樹脂、アラミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート・ポリブチレンテレフタレート・ポリプロピレンテレフタレート・ポリブチルサクシネート・ポリエチレン−２，６−ナフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、４フッ化エチレン樹脂・３フッ化エチレン樹脂・３フッ化塩化エチレン樹脂・４フッ化エチレン−６フッ化プロピレン共重合体・フッ化ビニリデン樹脂などのフッ素樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリグリコール酸樹脂、ポリ乳酸樹脂、などを用いることができる。この中で、特に、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレートなどのポリエステルが好ましい。ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレートは、透明性、耐熱性、寸法安定性、耐薬品性、剛性にすぐれながら低コストであるからである。また、樹脂Ａはホモ樹脂であってもよく、共重合または２種類以上樹脂がブレンドされた樹脂であってもよい。また、樹脂Ａに各種添加剤、例えば、酸化防止剤、帯電防止剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、熱安定剤、滑剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、屈折率調整のためのドープ剤などが添加されていてもよい。
Here, the resin A is preferably a resin excellent in transparency, heat resistance, dimensional stability, chemical resistance, and rigidity. Examples of the resin A include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polymethylpentene, alicyclic polyolefin resins, polyamide resins such as
層厚みが１５μｍ以上の樹脂Ａを主成分とする層を１層以上含んでなると、耐熱性、寸法安定性、剛性に優れるフィルムとなる。本発明者らは、ＷＯ２００５−０３７５４４にて特殊な層構成とすることによりフィルム内部の屈折率を調整する技術を提案しているが、本技術では１０μｍ以上のコアとなる厚い層を形成することは困難であったため、積層する一方の樹脂の特性により、耐熱性、寸法安定性、剛性を満足するフィルムを得ることは難しかった。本発明では、この課題を解決することにより、フィルムの屈折率を制御しつつ、透明性、耐熱性、寸法安定性、耐薬品性、剛性にすぐれるフィルムを提供できるようになったものである。 When one or more layers mainly composed of the resin A having a layer thickness of 15 μm or more are included, a film having excellent heat resistance, dimensional stability, and rigidity is obtained. The present inventors have proposed a technique for adjusting the refractive index inside the film by making a special layer structure in WO2005-037544. In this technique, a thick layer that becomes a core of 10 μm or more is formed. Therefore, it was difficult to obtain a film satisfying heat resistance, dimensional stability, and rigidity due to the characteristics of one of the laminated resins. In the present invention, by solving this problem, it is possible to provide a film having excellent transparency, heat resistance, dimensional stability, chemical resistance, and rigidity while controlling the refractive index of the film. .
フィルムの屈折率を制御するため、本発明では層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ｂを主成分とする層を３層以上含み、かつ表面から内部に向かうにつれ、樹脂Ｂを主成分とする層の厚みが減少し、かつ、前記樹脂Ａまたは樹脂Ｃを主成分とする層の厚みが増加する層構成を含んでなければならない。ここで樹脂Ｂは、樹脂Ａとは屈折率が異なる樹脂でなければならない。より好ましくは、樹脂Ａの屈折率と樹脂Ｂの屈折率の差の絶対値が０．０１以上であることが好ましい。さらに好ましくは、０．０３以上である。
In order to control the refractive index of the film, in the present invention, the thickness of the layer containing the resin B as a main component is contained in three or more layers having a resin thickness of 30 nm or less as the main component and from the surface toward the inside. And a layer structure in which the thickness of the layer mainly composed of the resin A or the resin C is increased . Here, the resin B must be a resin having a refractive index different from that of the resin A. More preferably, the absolute value of the difference between the refractive index of the resin A and the refractive index of the resin B is preferably 0.01 or more. More preferably, it is 0.03 or more.
層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ｂを主成分とする層を３層以上含み、かつ表面から内部に向かうにつれ、樹脂Ｂを主成分とする層の厚みが減少または増加する層構成を含んでいると、フィルムの表層部や中心部などのごく一部分の屈折率を制御することが可能となる。また、可視光線を干渉などにより強く反射することもなく、層による散乱も低く抑えることができる。より好ましくは、樹脂Ｂを主成分とする層を９層以上含んでいる。樹脂Ｂを主成分とする層を９層以上含んでいると、ハードコートフィルムの基材とした場合、より干渉縞が見えにくくなる。 When the layer thickness includes three or more layers mainly composed of the resin B having a thickness of 30 nm or less and the thickness of the layer mainly composed of the resin B decreases or increases from the surface toward the inside. It becomes possible to control the refractive index of a very small part such as the surface layer part and the center part of the film. Further, visible light is not strongly reflected by interference or the like, and scattering by the layer can be suppressed to a low level. More preferably, nine or more layers containing resin B as a main component are included. When nine or more layers containing resin B as a main component are included, interference fringes are more difficult to see when used as a base material for a hard coat film.
より好ましくは層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ａを主成分とする層を３層以上含み、かつ表面から内部に向かうにつれ、樹脂Ａを主成分とする層の厚みが減少または増加する層構成を含む。このような層構成を有すると、さらにフィルムのごく一部分の屈折率を制御することが容易となる。 More preferably, it includes three or more layers mainly composed of resin A having a thickness of 30 nm or less, and includes a layer structure in which the thickness of the layer mainly composed of resin A decreases or increases from the surface toward the inside. . With such a layer structure, it becomes easier to control the refractive index of a very small part of the film.
ここで、本発明の層構成について例示する。まず、Ａ１／Ｂ１／Ａ２／Ｂ２／Ａ３／Ｂ３／Ａ０の層構成を考える。ここで、Ａｎ（ｎ＝０，１，２，３）は樹脂Ａを主成分とする層であり、Ｂｎ（ｎ＝１，２，３）は樹脂Ｂを主成分とする層である。本発明では、Ａ１、Ａ２、Ａ３の層厚みは３０ｎｍ以下であり、Ａ０は１５μｍ以上であるとよい。また、表層側のＡ１からＡ２、Ａ３になるに従い、層の厚みは減少または増加することが好ましい。一方、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３の層厚みは３０ｎｍ以下であり、表面側Ｂ１からＢ２、Ｂ３になるに従い、層の厚みは減少または増加する。ここで、樹脂Ａを主成分とする層がＡ１からＡ２、Ａ３になるに従い、層の厚みが増加する場合、樹脂Ｂを主成分とする層はＢ１からＢ２、Ｂ３になるに従い、層の厚みが減少すると好ましい。このような層構成において、例えば樹脂Ａの屈折率が樹脂Ｂの屈折率よりも高い場合、散乱や強い干渉反射を引き起こすことなく、Ａ１側表面の積層フィルムの屈折率を、Ａ０側表面の屈折率よりも低くすることができる。また、逆に樹脂Ａの屈折率が樹脂Ｂの屈折率よりも低い場合、散乱や強い干渉反射を引き起こすことなく、Ａ１側表面の積層フィルムの屈折率を、Ａ０側表面の屈折率よりも高くすることができる。これは見かけ上、徐々に屈折率が変化しているように捉えられるためである。また、層厚みが１５μｍ未満の層について、隣接する層の厚みの比（Ａ層厚み／Ｂ層厚み）の最大値が、５以上であることが好ましい。より好ましくは、１０以上である。さらに好ましくは２０以上である。層厚みが１５μｍ未満の層について、隣接する層の厚みの比の最大値が大きいほど、樹脂Ａと樹脂Ｂの屈折率差が有効に寄与するため、フィルムの屈折率制御が容易となる。 Here, the layer configuration of the present invention will be exemplified. First, consider the layer structure of A1 / B1 / A2 / B2 / A3 / B3 / A0. Here, An (n = 0, 1, 2, 3) is a layer mainly composed of the resin A, and Bn (n = 1, 2, 3) is a layer mainly composed of the resin B. In the present invention, the layer thicknesses of A1, A2, and A3 are preferably 30 nm or less, and A0 is preferably 15 μm or more. Moreover, it is preferable that the thickness of the layer decreases or increases as A1 on the surface layer side changes to A2 and A3. On the other hand, the layer thicknesses of B1, B2, and B3 are 30 nm or less, and the layer thicknesses decrease or increase from the surface side B1 to B2 and B3. Here, when the layer thickness increases as the layer mainly composed of the resin A changes from A1 to A2 and A3, the thickness of the layer mainly composed of the resin B increases from B1 to B2 and B3. Is preferably reduced. In such a layer configuration, for example, when the refractive index of the resin A is higher than the refractive index of the resin B, the refractive index of the laminated film on the A1 side surface is set to the refractive index of the A0 side surface without causing scattering or strong interference reflection. Can be lower than the rate. Conversely, when the refractive index of the resin A is lower than that of the resin B, the refractive index of the laminated film on the A1 side surface is higher than the refractive index of the A0 side surface without causing scattering or strong interference reflection. can do. This is because it seems that the refractive index is gradually changing. In addition, for a layer having a layer thickness of less than 15 μm, the maximum value of the ratio of adjacent layer thicknesses (A layer thickness / B layer thickness) is preferably 5 or more. More preferably, it is 10 or more. More preferably, it is 20 or more. For a layer having a layer thickness of less than 15 μm, the larger the maximum value of the ratio of the thicknesses of adjacent layers, the more effectively the refractive index difference between the resin A and the resin B contributes, and the refractive index control of the film becomes easier.
また、本発明では、Ａ１／Ｂ１／Ａ２／Ｂ２／Ａ３／Ｂ３／Ａ０／Ｂ４／Ａ４／Ｂ５／Ａ５／Ｂ６／Ａ６のような層構成でもよい。Ａ１〜Ａ６とＢ１〜Ｂ６の層の厚みが３０ｎｍ以下とし、Ａ０の層厚みを１５μｍ以上と想定しているが、この場合、フィルム両表面の屈折率と内部の屈折率が異なることとなる。さらに、本発明では、Ａ１／Ｂ１／Ａ２／Ｂ２・・・Ａｘ／Ｂｘ／Ａ０のような層構成でもよい。ここでｘは整数とし、Ａ１〜ＡｘとＢ１〜Ｂｘの層厚みが３０ｎｍ以下である。このように３０ｎｍ以下の層数が多くなると、より干渉縞が見えにくくなる。 In the present invention, a layer structure such as A1 / B1 / A2 / B2 / A3 / B3 / A0 / B4 / A4 / B5 / A5 / B6 / A6 may be used. The thicknesses of the layers A1 to A6 and B1 to B6 are assumed to be 30 nm or less, and the layer thickness of A0 is assumed to be 15 μm or more. In this case, the refractive index on both surfaces of the film is different from the internal refractive index. Further, in the present invention, a layer structure such as A1 / B1 / A2 / B2... Ax / Bx / A0 may be used. Here, x is an integer, and the layer thicknesses of A1 to Ax and B1 to Bx are 30 nm or less. Thus, when the number of layers of 30 nm or less increases, interference fringes become more difficult to see.
また、層厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ｃを主成分とする層を３層以上含み、かつ表面から内部に向かうにつれ、樹脂Ｃを主成分とする層の厚みが減少または増加する層構成を含んでなることも好ましい。このような層構成を有する場合も、さらにフィルムのごく一部分の屈折率を制御することが容易となる。ここで樹脂Ｃは、樹脂Ｂとは屈折率が異なる樹脂でなければならない。より好ましくは、樹脂Ｃの屈折率と樹脂Ｂの屈折率の差の絶対値が０．０１以上であることが好ましい。さらに好ましくは、０．０３以上である。 In addition, the layer thickness includes three or more layers mainly composed of resin C having a thickness of 30 nm or less, and includes a layer configuration in which the thickness of the layer mainly composed of resin C decreases or increases from the surface toward the inside. It is also preferable that Even with such a layer structure, it becomes easier to control the refractive index of a very small part of the film. Here, the resin C must be a resin having a refractive index different from that of the resin B. More preferably, the absolute value of the difference between the refractive index of the resin C and the refractive index of the resin B is preferably 0.01 or more. More preferably, it is 0.03 or more.
樹脂Ｂ、樹脂Ｃとしては、例えば、ポリエチレン・ポリプロピレン・ポリスチレン・ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン樹脂、脂環族ポリオレフィン樹脂、ナイロン６・ナイロン６６などのポリアミド樹脂、アラミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート・ポリブチレンテレフタレート・ポリプロピレンテレフタレート・ポリブチルサクシネート・ポリエチレン−２，６−ナフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、４フッ化エチレン樹脂・３フッ化エチレン樹脂・３フッ化塩化エチレン樹脂・４フッ化エチレン−６フッ化プロピレン共重合体・フッ化ビニリデン樹脂などのフッ素樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリグリコール酸樹脂、ポリ乳酸樹脂、などを用いることができる。また、樹脂Ｂ、樹脂Ｃはホモ樹脂であってもよく、共重合または２種類以上樹脂がブレンドされた樹脂であってもよい。また、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、帯電防止剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、熱安定剤、滑剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、屈折率調整のためのドープ剤などが添加されていてもよい。
Examples of the resin B and the resin C include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polymethylpentene, alicyclic polyolefin resins, polyamide resins such as
この中で、特に、樹脂Ｂは、屈折率が１．５６以下のポリエステルであることが好ましい。樹脂Ａがポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレートであり、樹脂Ｂの屈折率が１．５６以下のポリエステルであると、層間密着力が高く、かつフィルムの一部分の屈折率を容易に制御することが可能となる。このため、光学機能フィルムの基材として本発明のフィルムを使用しても、機械特性・熱特性にも優れつつ、写り込みや干渉縞などが生じにくいものとなる。 Among these, the resin B is particularly preferably a polyester having a refractive index of 1.56 or less. When the resin A is polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate and the resin B is a polyester having a refractive index of 1.56 or less, the interlayer adhesion is high, and the refractive index of a part of the film can be easily controlled. Become. For this reason, even if the film of the present invention is used as the base material of the optical functional film, it is excellent in mechanical properties and thermal properties, and reflection and interference fringes are hardly generated.
ここで、屈折率が１．５６以下のポリエステルとしては、ジカルボン酸成分またはジオール成分として少なくとも以下の一つ以上の成分が重合されていることが好ましい。
ジカルボン酸：脂肪族ジカルボン酸（例えば、ＨＯＯＣ（ＣＨ２）ｎＣＯＯＨ ここで、ｎは０〜１２の整数）、脂環族ジカルボン酸（例えば、シクロヘキサンジカルボン酸）、およびこれらのエステル誘導体
ジオール：脂肪族ジオール（例えば、ＨＯ（ＣＨ２）ｎＯＨ、ここで、ｎは２〜２０の整数）、脂環族ジオール（シクロヘキサンジメタノール）、ネオペンチルグリコール、スピログリコール、フルオレン、ポリエチレングリコール、ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物。
Here, as a polyester having a refractive index of 1.56 or less, it is preferable that at least one of the following components is polymerized as a dicarboxylic acid component or a diol component.
Dicarboxylic acid: aliphatic dicarboxylic acids (e.g., HOOC (CH 2) nCOOH where, n represents 0 to 12 integer), alicyclic dicarboxylic acids (e.g., cyclohexane dicarboxylic acid), and their ester derivatives diols: aliphatic diol (e.g., HO (CH 2) nOH, wherein, n is 2-20 integer), alicyclic diols (cyclohexanedimethanol), neopentyl glycol, spiro glycol, fluorene, polyethylene glycol, bisphenol a ethylene oxide adduct object.
特に好ましくは、樹脂Ａがポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレンナフタレートであり、樹脂Ｂが脂肪族ジカルボン酸成分および／または脂環族ジカルボン酸成分を有するポリエステルである。また、樹脂Ｂのガラス転移温度が６０℃以上であるとさらに好ましくなる。樹脂Ｂのガラス転移温度が６０℃より低いと、経時で樹脂Ｂが結晶化するため、白化などの問題が発生するためである。 Particularly preferably, the resin A is polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, and the resin B is a polyester having an aliphatic dicarboxylic acid component and / or an alicyclic dicarboxylic acid component. Further, the glass transition temperature of the resin B is more preferably 60 ° C. or higher. This is because if the glass transition temperature of the resin B is lower than 60 ° C., the resin B crystallizes with time, and problems such as whitening occur.
本発明の積層フィルムは、全光線透過率が９１％以上９９．９％以下であることが好ましい。全光線透過率が９１％以上９９．９％以下であると、光学用機能フィルムの基材として好適となる。より好ましくは、９２％以上９９．９％以下である。 The laminated film of the present invention preferably has a total light transmittance of 91% or more and 99.9% or less. When the total light transmittance is 91% or more and 99.9% or less, it is suitable as a base material for an optical functional film. More preferably, it is 92% or more and 99.9% or less.
本発明の積層フィルムは、少なくとも片面の長手方向または幅方向の屈折率が、１．４７以上１．５５以下であることが好ましい。なお、このフィルムの屈折率は、本発明の実施例に記載の測定法に従って測定しなければならない。少なくとも片面の長手方向または幅方向の屈折率が、１．４７以上１．５５以下であると、粘着剤やハードコート層との屈折率差が非常に小さくなるため、界面での反射がおきにくくなり、写り込みや干渉縞などの問題が起きにくくなる。 The laminated film of the present invention preferably has a refractive index of 1.47 or more and 1.55 or less on at least one side in the longitudinal direction or the width direction. The refractive index of this film must be measured according to the measurement method described in the examples of the present invention. If the refractive index in the longitudinal direction or the width direction of at least one side is 1.47 or more and 1.55 or less, the difference in refractive index from the adhesive or hard coat layer becomes very small, and reflection at the interface is difficult to occur. Therefore, problems such as reflection and interference fringes are less likely to occur.
また、本発明の積層フィルムでは、その表面に易接着層、易滑層、ハードコート層、帯電防止層、耐摩耗性層、反射防止層、色補正層、紫外線吸収層、印刷層、金属層、透明導電層、ガスバリア層、ホログラム層、剥離層、粘着層、エンボス層、接着層などの機能性層を形成してもよい。 In the laminated film of the present invention, an easy-adhesion layer, an easy-slip layer, a hard coat layer, an antistatic layer, an anti-abrasion layer, an antireflection layer, a color correction layer, an ultraviolet absorption layer, a printing layer, a metal layer are provided on the surface. Functional layers such as a transparent conductive layer, a gas barrier layer, a hologram layer, a release layer, an adhesive layer, an emboss layer, and an adhesive layer may be formed.
次に、本発明の積層フィルムの好ましい製造方法を以下に説明する。 Next, the preferable manufacturing method of the laminated | multilayer film of this invention is demonstrated below.
２種類の樹脂ＡおよびＢをペレットなどの形態で用意する。ペレットは、必要に応じて、事前乾燥を熱風中あるいは真空下で行い、押出機に供給される。押出機内において、融点以上に加熱溶融された樹脂は、ギヤポンプ等で樹脂の押出量を均一化され、フィルタ等を介して異物や変性した樹脂をろ過される。さらに、樹脂はダイにて目的の形状に成形された後、吐出される。 Two types of resins A and B are prepared in the form of pellets. If necessary, the pellets are pre-dried in hot air or under vacuum and supplied to an extruder. In the extruder, the resin melted by heating to the melting point or higher is made uniform in the amount of resin extruded by a gear pump or the like, and foreign matter or modified resin is filtered through a filter or the like. Further, the resin is formed into a desired shape with a die and then discharged.
本発明の積層フィルムを得るための方法としては、２台以上の押出機を用いて異なる流路から送り出された樹脂を、以下に例示する積層装置にて多層に積層する方法が好ましい。なお、ここでは、両表面側に厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ａを主成分とする層と樹脂Ｂを主成分とする層を複数形成する例を示すが、これに限定するものではない。 As a method for obtaining the laminated film of the present invention, a method of laminating resins sent from different flow paths using two or more extruders in a multilayer apparatus exemplified below is preferable. Here, an example is shown in which a plurality of layers mainly composed of resin A having a thickness of 30 nm or less and layers mainly composed of resin B are formed on both surface sides, but the present invention is not limited to this.
図１は、厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ａを主成分とする層と厚みが３０ｎｍ以下の樹脂Ｂを主成分とする層を交互に積層し、かつ樹脂Ａの厚みが表面側から中心部にむかうにつれ、徐々に増加するのに対し、樹脂Ｂの厚みが表面側から中心部にむかうにつれ、徐々に減少する層構成を形成するための装置である。ここで本装置を第一積層装置と称することとする。図１において、部材１〜７がこの順に重ねられ、第一積層装置８を形成する。
In FIG. 1, a layer mainly composed of a resin A having a thickness of 30 nm or less and a layer mainly composed of a resin B having a thickness of 30 nm or less are alternately laminated, and the thickness of the resin A extends from the surface side to the center. As the thickness of the resin B gradually increases from the surface side to the central portion, the layer structure gradually decreases. Here, this apparatus is referred to as a first stacking apparatus. In FIG. 1,
図１の第一積層装置８は、樹脂導入部材２，４，６に由来して３つの樹脂導入口を有するが、例えば樹脂Ａを樹脂導入部材４の導入口９から供給し、樹脂Ｂを樹脂導入部材２，６の導入口９から供給する。
1 has three resin inlets derived from the
すると、
スリット部材３は、樹脂導入部材４から樹脂Ａ、樹脂導入部材２から樹脂Ｂの供給を受け、
スリット部材５は、樹脂導入部材４から樹脂Ａ、樹脂導入部材６から樹脂Ｂの供給を受けることになる。
Then
The
The
ここで、各スリットに導入される樹脂の種類は、樹脂導入部材２，４，６における液溜部１０の底面とスリット部材における各スリットの端部との位置関係により決定される。すなわち、図３に示すように、スリット部材における各スリットの頂部の稜線１２は、スリット部材の厚み方向に対して傾斜を有する（図２（ｂ），（ｃ））。そして、樹脂導入部材２，４，６における液溜部１０の底面の高さは、前記稜線１２の上端部１３と下端部１４との間の高さに位置する。このことにより、前記稜線１２が上がった側からは樹脂導入部材２，４，６の液溜部１０から樹脂が導入されるが（図３中１５）、前記稜線１２が下がった側からはスリットが封鎖された状態となり樹脂は導入されない。かくして各スリットごとに樹脂ＡまたはＢが選択的に導入されるので、積層構造を有する樹脂の流れがスリット部材３，５中に形成され、当該部材３，５の下方の流出口１１より流出する。
Here, the type of resin introduced into each slit is determined by the positional relationship between the bottom surface of the
スリットの形状としては、樹脂が導入される側のスリット面積と樹脂が導入されない側のスリット面積が同一ではないことが好ましい。さらには、（樹脂が導入されない側のスリット面積）／（樹脂が導入される側のスリット面積）が２０％以上９０％以下であることが好ましい。より好ましくは５０％以下である。また、スリット長（図１中Ｚ方向スリット長さの内、長い方）を１００ｍｍ以上とすることが好ましい。 As the shape of the slit, it is preferable that the slit area on the side where the resin is introduced is not the same as the slit area on the side where the resin is not introduced. Furthermore, it is preferable that (the slit area on the side where the resin is not introduced) / (the slit area on the side where the resin is introduced) is 20% or more and 90% or less. More preferably, it is 50% or less. Moreover, it is preferable that the slit length (the longer one of the slit lengths in the Z direction in FIG. 1) is 100 mm or more.
次に、樹脂Ａの厚みが表面側から中心部にむかうにつれ、徐々に増加するのに対し、樹脂Ｂの厚みが表面側から中心部にむかうにつれ、徐々に減少する層構成を形成するための方法を例示する。この場合、図１のスリット部材３における樹脂Ａが供給されるスリットは、スリットの間隙または長さが紙面左から右にむかうにつれ、広くなるまたは短くなるとともに、スリット部材５における樹脂Ａが供給されるスリットは、スリットの間隙または長さが紙面右から左にむかうにつれ、広くなるまたは短くなるものである。一方、スリット部材３における樹脂Ｂが供給されるスリットは、スリットの間隙または長さが紙面左から右にむかうにつれ、狭くなるまたは長くなるとともに、スリット部材５における樹脂Ａが供給されるスリットは、スリットの間隙または長さが紙面右から左にむかうにつれ、狭くなるまたは長くなるものである。本発明では、各層の厚みはスリットの間隙で調整する方が好ましい。本発明では、隣接する層の厚みの比の最大値が５以上であることが好ましいが、この場合、スリット長さで各層の厚みを調整すると、スリットの長さを５倍以上変化させる必要があり、高い積層精度を維持することが難しいためである。
Next, as the thickness of the resin A gradually increases from the surface side to the central portion, the layer structure for gradually decreasing the thickness of the resin B from the surface side to the central portion is formed. The method is illustrated. In this case, the slit to which the resin A in the
また、第一積層装置内部に各スリットに対応したマニホールドを有していることも好ましい。マニホールドにより、スリット内部での幅方向（図１中Ｙ方向）の流速分布が均一化するため、積層されたフィルムの幅方向の積層比率を均一化することができ、大面積のフィルムでも精度良く屈折率を制御することができる。 It is also preferable to have a manifold corresponding to each slit inside the first laminating apparatus. Because the manifold makes the flow velocity distribution in the width direction (Y direction in FIG. 1) uniform inside the slit, the lamination ratio in the width direction of the laminated films can be made uniform, and even a large area film can be accurately obtained. The refractive index can be controlled.
次に、第二積層装置にて、層厚み１５ミクロン以上となる樹脂Ａを主成分とする層を形成する流れと、第一積層装置にて形成した多層流れとの合流装置を、図４に示す。この合流装置を、第二積層装置（図４中の１６）と称する。まず、第一積層装置では、スリット部材３，５の下方の流出口１１は、２者の樹脂流れの積層構造が並列となる位置関係で配置され、また、樹脂導入部材４によって互いに隔てられている。第一積層装置で形成された２者の多層流れは、それぞれ図４中第二積層装置の１７Ｌ、１９Ｌに分配される。また、１８Ｌには、別の供給手段によって供給された樹脂Ａもしくは、第一積層装置に供給される前にあらかじめ必要な流量となるように分割された別の樹脂Ａを供給する。
Next, FIG. 4 shows a joining device of a flow for forming a layer mainly composed of resin A having a layer thickness of 15 microns or more in the second laminating apparatus and a multilayer flow formed in the first laminating apparatus. Show. This merging device is referred to as a second laminating device (16 in FIG. 4). First, in the first laminating apparatus, the
そこで、中Ｌ−Ｌ’からＭ−Ｍ’にかけてのような、流路の規制による配置の転換が行われ（図４中１７Ｍ，１８Ｍ，１９Ｍ）、３者の樹脂流れの積層構造も直列となる。当該樹脂流れは図４中Ｍ−Ｍ’からＮ−Ｎ’にかけて拡幅され、図４中Ｎ−Ｎ’より下流にて合流する。この際、１７Ｌおよび１９Ｌの流量に比較して、１８Ｌの流量は非常に大きいため、最終的に合流する前のＮ−Ｎ’では、流速差が０．５倍以上３倍以下になるように流路の形状を設計することが必要である。このような第二積層装置での合流方法とすることにより、従来の積層装置では困難であった流量比の大きな積層を可能とするものである。 Therefore, the arrangement is changed by restricting the flow path as in the middle LL ′ to MM ′ (17M, 18M, and 19M in FIG. 4), and the three-layer structure of the resin flow is also in series. Become. The resin flow is widened from M-M ′ to N-N ′ in FIG. 4 and merges downstream from N-N ′ in FIG. 4. At this time, since the flow rate of 18L is much larger than the flow rates of 17L and 19L, the flow rate difference is 0.5 times or more and 3 times or less at NN ′ before finally joining. It is necessary to design the shape of the flow path. By using such a merging method in the second laminating apparatus, it is possible to perform laminating with a large flow rate ratio, which was difficult with the conventional laminating apparatus.
また、第二積層装置のかわりに、マルチマニホールドダイを用いてもよい。この場合も、
中心の樹脂Ａを主成分とする厚い層は、別の供給手段によって樹脂Ａを供給するか、もしくは、第一積層装置に供給される前にあらかじめ必要な流量となるように分割された別の樹脂Ａを供給することが好ましい。また、ダイ内での合流前の流速差が０．５倍以上３倍以下となるようにダイ形状を設計することが好ましい。
Further, a multi-manifold die may be used instead of the second stacking apparatus. Again,
The thick layer mainly composed of the resin A in the center is supplied with the resin A by another supply means, or another layer divided in advance so as to have a necessary flow rate before being supplied to the first laminating apparatus. It is preferable to supply the resin A. Moreover, it is preferable to design the die shape so that the flow velocity difference before merging in the die is 0.5 to 3 times.
かくして形成された多層流れは、ダイから吐出され、キャスティングドラム等の冷却体上に押し出され、冷却固化され、キャスティングフィルムとなる。この際、ワイヤー状、テープ状、針状あるいはナイフ状等の電極を用いて、静電気力によりキャスティングドラム等の冷却体に密着させ急冷固化させる方法や、スリット状、スポット状、面状の装置からエアーを吹き出してキャスティングドラム等の冷却体に密着させ急冷固化させる方法、タッチロールにて冷却体に密着させ急冷固化させる方法が好ましい。 The multilayer flow thus formed is discharged from a die, extruded onto a cooling body such as a casting drum, and cooled and solidified to form a casting film. At this time, using a wire-like, tape-like, needle-like or knife-like electrode, it is brought into close contact with a cooling body such as a casting drum by electrostatic force and rapidly cooled and solidified, or from a slit-like, spot-like, or planar device. A method in which air is blown out and brought into close contact with a cooling body such as a casting drum and rapidly cooled and solidified, and a method in which the air is brought into close contact with the cooling body with a touch roll and rapidly solidified is preferable.
このようにして得られたキャスティングフィルムは、必要に応じて二軸延伸することが好ましい。二軸延伸とは、縦方向および横方向に延伸することをいう。延伸は、逐次二軸延伸しても良いし、同時に二方向に延伸してもよい。また、さらに縦および／または横方向に再延伸を行ってもよい。 The casting film thus obtained is preferably biaxially stretched as necessary. Biaxial stretching refers to stretching in the longitudinal direction and the transverse direction. Stretching may be performed sequentially biaxially or simultaneously in two directions. Further, re-stretching may be performed in the longitudinal and / or transverse direction.
ここで、縦方向への延伸とは、フィルムに長手方向の分子配向を与えるための延伸を言い、通常は、ロールの周速差により施される。この延伸は１段階で行ってもよく、また、複数本のロール対を使用して多段階に行っても良い。延伸の倍率としては樹脂の種類により異なるが、通常、２〜１５倍が好ましく、積層フィルムを構成する樹脂の過半量がポリエチレンテレフタレートを用いた場合には、２〜７倍が特に好ましく用いられる。また、延伸温度としては積層フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度〜ガラス転移温度＋１００℃が好ましい。 Here, the stretching in the longitudinal direction refers to stretching for imparting molecular orientation in the longitudinal direction to the film, and is usually performed by a difference in peripheral speed between rolls. This stretching may be performed in one stage, or may be performed in multiple stages using a plurality of roll pairs. Although it changes with kinds of resin as a magnification of extending | stretching, 2 to 15 times is preferable normally, and when the majority of resin which comprises a laminated | multilayer film uses a polyethylene terephthalate, 2 to 7 times is used especially preferable. Moreover, as extending | stretching temperature, the glass transition temperature-glass transition temperature +100 degreeC of resin which comprises a laminated | multilayer film are preferable.
このようにして得られた一軸延伸されたフィルムに、必要に応じてコロナ処理やフレーム処理、プラズマ処理などの表面処理を施した後、易滑性、易接着性、帯電防止性などの機能をインラインコーティングにより付与してもよい。 The uniaxially stretched film thus obtained is subjected to surface treatment such as corona treatment, flame treatment, and plasma treatment as necessary, and then functions such as slipperiness, easy adhesion, and antistatic properties are provided. It may be applied by in-line coating.
また、横方向の延伸とは、フィルムに幅方向の配向を与えるための延伸を言い、通常は、テンターを用いて、フィルムの両端をクリップで把持しながら搬送して、幅方向に延伸する。延伸の倍率としては樹脂の種類により異なるが、通常、２〜１５倍が好ましく、積層フィルムを構成する樹脂の過半量がポリエチレンテレフタレートを用いた場合には、２〜７倍が特に好ましく用いられる。また、延伸温度としては積層フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度〜ガラス転移温度＋１２０℃が好ましい。 The stretching in the transverse direction refers to stretching for imparting the orientation in the width direction to the film. Usually, the film is stretched in the width direction by using a tenter while conveying both ends of the film with clips. Although it changes with kinds of resin as a magnification of extending | stretching, 2 to 15 times is preferable normally, and when the majority of resin which comprises a laminated | multilayer film uses a polyethylene terephthalate, 2 to 7 times is used especially preferable. Moreover, as extending | stretching temperature, the glass transition temperature-glass transition temperature +120 degreeC of resin which comprises a laminated | multilayer film are preferable.
こうして二軸延伸されたフィルムは、平面性、寸法安定性を付与するために、テンター内で延伸温度以上融点以下の熱処理を行うのが好ましい。より好ましくは、樹脂Ｂの融点以上樹脂Ａの融点以下で熱処理を行う。このようにして熱処理された後、均一に徐冷後、室温まで冷やして巻き取られる。また、必要に応じて、熱処理から徐冷の際に弛緩処理などを併用してもよい。 The biaxially stretched film is preferably subjected to a heat treatment at a temperature not lower than the stretching temperature and not higher than the melting point in the tenter in order to impart flatness and dimensional stability. More preferably, the heat treatment is performed at a melting point of the resin B or more and a melting point of the resin A or less. After being heat-treated in this way, it is gradually cooled down uniformly, then cooled to room temperature and wound up. Moreover, you may use a relaxation process etc. together in the case of annealing from heat processing as needed.
本発明に使用した物性値の評価法を記載する。
（物性値の評価法）
（１）固有粘度
オルトクロロフェノール中、２５℃でオストワルド粘度計を用いて溶液粘度を測定し、当該溶液粘度から、算出した。固有粘度の単位は［ｄｌ／ｇ］で示される。なお、ｎ数は３とし、その平均値を採用した。
An evaluation method of physical property values used in the present invention will be described.
(Method for evaluating physical properties)
(1) Intrinsic viscosity The solution viscosity was measured in orthochlorophenol at 25 ° C using an Ostwald viscometer, and calculated from the solution viscosity. The unit of intrinsic viscosity is indicated by [dl / g]. The n number was 3, and the average value was adopted.
（２）樹脂の屈折率
積層フィルムの構成に供給したものと同一組成の樹脂について、ＪＩＳ Ｋ７１４２（１９９６）Ａ法に従って測定した。なお、この際、樹脂は一旦加熱溶融した後、室温まで急冷したシートサンプルについて測定を行った。
(2) Refractive index of resin The resin having the same composition as that supplied to the laminated film was measured according to JIS K7142 (1996) A method. At this time, after the resin was once heated and melted, measurement was performed on a sheet sample that was rapidly cooled to room temperature.
（３）層厚み、積層数
フィルムの層構成は、ミクロトームを用いて断面を切り出したサンプルについて、電子顕微鏡観察により求めた。すなわち、透過型電子顕微鏡ＨＵ−１２型（（株）日立製作所製）を用い、フィルムの断面を３０００〜２０００００倍に拡大観察し、断面写真を撮影し、当該断面写真より層厚みおよび積層数を測定した。なお、層構成を明確にするためにＲｕＯ４染色法にて染色を行い、異なる樹脂層同士の染め分けを行った。
(3) Layer thickness and number of layers The layer structure of the film was determined by observation with an electron microscope for a sample whose cross section was cut out using a microtome. That is, using a transmission electron microscope HU-12 (manufactured by Hitachi, Ltd.), the cross section of the film was magnified 3000 to 200000 times, a cross-sectional photograph was taken, and the layer thickness and the number of layers were determined from the cross-sectional photograph. It was measured. In addition, in order to clarify a layer structure, it dye | stained by RuO4 dyeing | staining method and dye | stained different resin layers.
（４）フィルム表面屈折率
ビームプロファイル反射率測定法にて、積層フィルム表面の屈折率を計測した。測定条件を以下に記す。
(4) Film surface refractive index The refractive index of the laminated film surface was measured by the beam profile reflectance measurement method. The measurement conditions are described below.
装置：サーマウェーブ社製 高精度膜厚計Ｏｐｔｉ−Ｐｒｏｂｅ２０００
測定波長：６７５ｎｍ
ビームスポット：１μｍ
ステージ精度：±０．２μｍ
検出器：アレイディテクター
測定：ライン測定（１００ミクロン）にて、長手方向屈折率および幅方向屈折率を測定した。各方向の屈折率は、ライン測定の平均値を採用した。
Apparatus: High precision film thickness meter Opti-Probe 2000 manufactured by Therma Wave
Measurement wavelength: 675 nm
Beam spot: 1μm
Stage accuracy: ± 0.2μm
Detector: Array detector Measurement: The refractive index in the longitudinal direction and the refractive index in the width direction were measured by line measurement (100 microns). The average value of line measurement was adopted as the refractive index in each direction.
（５）全光線透過率
直読式ヘイズメーター ＨＧＭ−２ＤＰ（Ｃ光源用）（スガ試験機器製作所）を用いてＪＩＳ Ｋ７１０５ Ａ法（１９８１）に従って、測定した。ｎ数は３回とし、その平均値を採用した。
(5) Total light transmittance This was measured according to JIS K7105 A method (1981) using a direct reading haze meter HGM-2DP (for C light source) (Suga Test Instruments Co., Ltd.). The number of n was 3 times, and the average value was adopted.
（６）耐剥離性
ＪＩＳ Ｋ５６００（２００２年）に従って試験を行った。なお、フィルムを硬い素地とみなし、２ｍｍ間隔で２５個の格子状パターンを切り込んだ。また、約７５ｍｍの長さに切ったテープを格子の部分に接着し、テープを６０°に近い角度で０．５〜１．０秒の時間で引き剥がした。ここで、テープにはセキスイ製セロテープ（登録商標）Ｎｏ．２５２（幅１８ｍｍ）を用いた。評価結果は、格子１つ分が完全に剥離した格子の数で表した。
(6) Peel resistance The test was performed according to JIS K5600 (2002). The film was regarded as a hard substrate, and 25 lattice patterns were cut at intervals of 2 mm. Further, a tape cut to a length of about 75 mm was adhered to the lattice portion, and the tape was peeled off at an angle close to 60 ° in a time of 0.5 to 1.0 seconds. Here, Sekisui's cello tape (registered trademark) no. 252 (width 18 mm) was used. The evaluation result was expressed by the number of lattices in which one lattice was completely separated.
（７）ヤング率
測定は、ＡＳＴＭ試験方法Ｄ８８２−８８に準じて行った。インストロンタイプの引張試験機（オリエンテック（株）製フィルム強伸度自動測定装置“テンシロンＡＭＦ／ＲＴＡ−１００”）を用い、幅１０ｍｍの試料フィルムを、試長間１００ｍｍ、引張り速度２００ｍｍ／分の条件で測定した。ｎ数は５回とし、その平均値を採用した。また、評価結果については、長手方向のヤング率と幅方向のヤング率の平均値で示した。
(7) Young's modulus The measurement was performed according to ASTM test method D882-88. Using an Instron type tensile tester (Orientec Co., Ltd. film tensile strength automatic measuring device “Tensilon AMF / RTA-100”), a sample film having a width of 10 mm is set to a test length of 100 mm and a tensile speed of 200 mm / min. It measured on condition of this. The number of n was 5 times, and the average value was adopted. Moreover, about the evaluation result, it showed by the average value of the Young's modulus of a longitudinal direction, and the Young's modulus of the width direction.
（８）リップル値
ハードコート層を形成したフィルムについて、リップル値を以下の方法にて測定した。日立製作所製 分光光度計（Ｕ−３４１０ Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍａｔｅｒ）に平行光線透過セルを用いて透過率を測定した。なお、サンプルは長手方向が上下方向になるようにセットし、バンドパラメーターは２／ｓｅｒｖｏとし、ゲインは３と設定し、３００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲を１２０ｎｍ／ｍｉｎ．の検出速度で測定した。リップル値は、波長５００〜６００の区間における最大値と最小値の差とした。なお、リップル値が大きいほど干渉縞がはっきりと見えるようになる。
(8) Ripple value About the film which formed the hard-coat layer, the ripple value was measured with the following method. The transmittance was measured with a spectrophotometer (U-3410 Spectrophotometer) manufactured by Hitachi, Ltd. using a parallel light transmission cell. The sample is set so that the longitudinal direction is the vertical direction, the band parameter is set to 2 / servo, the gain is set to 3, and the range of 300 nm to 800 nm is set to 120 nm / min. Measured at a detection speed of The ripple value was defined as the difference between the maximum value and the minimum value in the section of wavelengths 500 to 600. The larger the ripple value, the clearer the interference fringes can be seen.
（実施例１）
１．ポリエステル１の合成
テレフタル酸ジメチルを６７．６重量部、シス／トランス比率が７２／２８である１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルを１７．４重量部、エチレングリコールを５４重量部、スピログリコールを２０重量部、酢酸マンガン四水塩を０．０４重量部、三酸化アンチモンを０．０２重量部それぞれ計量し、エステル交換反応装置に仕込んだ。内容物を１５０℃で溶解させて撹拌した。
Example 1
1. Synthesis of
撹拌しながら反応内容物の温度を２３５℃までゆっくり昇温しながらメタノールを留出させた。所定量のメタノールが留出したのち、トリメチルリン酸を０．０２重量部含んだエチレングリコール溶液を添加した。トリメチルリン酸を添加した後１０分間撹拌してエステル交換反応を終了した。その後エステル交換反応物を重合装置に移行した。
次いで重合装置内容物を撹拌しながら減圧および昇温し、エチレングリコールを留出させながら重合をおこなった。なお、減圧は９０分かけて常圧から１３３Ｐａ以下に減圧し、昇温は９０分かけて２３５℃から２８５℃まで昇温した。
While stirring, methanol was distilled while slowly raising the temperature of the reaction contents to 235 ° C. After distillation of a predetermined amount of methanol, an ethylene glycol solution containing 0.02 part by weight of trimethyl phosphoric acid was added. After adding trimethyl phosphoric acid, the mixture was stirred for 10 minutes to complete the transesterification reaction. Thereafter, the transesterification reaction product was transferred to a polymerization apparatus.
Next, the content of the polymerization apparatus was stirred and the pressure was reduced and the temperature was raised, and polymerization was carried out while distilling ethylene glycol. The reduced pressure was reduced from normal pressure to 133 Pa or less over 90 minutes, and the temperature was raised from 235 ° C. to 285 ° C. over 90 minutes.
重合装置の撹拌トルクが所定の値に達したら重合装置内を窒素ガスにて常圧へ戻し、重合装置下部のバルブを開けてガット状のポリマーを水槽へ吐出した。水槽で冷却されたポリエステルガットはカッターにてカッティングし、チップとし、ポリエステル１を得た。
When the stirring torque of the polymerization apparatus reached a predetermined value, the inside of the polymerization apparatus was returned to normal pressure with nitrogen gas, the valve at the bottom of the polymerization apparatus was opened, and a gut-shaped polymer was discharged into the water tank. The polyester gut cooled in the water tank was cut with a cutter to obtain chips, and
得られたポリエステル１の固有粘度は０．７８であった。このポリエステル１のジカルボン酸成分は、テレフタル酸が８０ｍｏｌ％であり、シクロヘキサンジカルボン酸が２０ｍｏｌ％であった。また、ポリエステル１のジオール成分は、エチレングリコールが８５ｍｏｌ％であり、スピログリコールが１５ｍｏｌ％であった。
The obtained
２．ポリエステル２の合成
同様にテレフタル酸ジメチルを１００重量部、エチレングリコールを６４重量部用いる以外は前記と同様にしてポリエステル２（ポリエチレンテレフタレート）を重合した。得られたポリエステル２の固有粘度は０．６５でありＴｇは８０℃であった。
2. Synthesis of
３．積層フィルムの製膜
樹脂Ａ、樹脂Ｂとして、
樹脂Ａ：ポリエステル２
樹脂Ｂ：ポリエステル１を用いた。
3. Formation of laminated film As resin A and resin B,
Resin A:
Resin B:
これら樹脂Ａ、Ｂをそれぞれ乾燥した後、押出機１および押出機２に別個に供給し、２８０℃の溶融状態とした。
After these resins A and B were dried, they were separately supplied to the
溶融した樹脂Ａ，Ｂは、それぞれギヤポンプおよびフィルタを経た後、１００個のスリットを有するスリット部が２つある図１のごとき積層装置１に供給した。当該樹脂Ａ，Ｂは、スリット部材にて各層の厚みが表層側から中央側に向かうにつれ徐々に変化し、樹脂Ａが５０層、樹脂Ｂが５０層からなる厚み方向に交互に積層された構造（フィルム表面側が樹脂Ａとなる）とした。各層の厚みは、積層装置１内のスリットの間隙により調整した。また樹脂Ａ，Ｂの吐出量は、全体の積層比（＝重量比）がＸ／Ｙ＝１になるよう調整した。
The melted resins A and B were respectively supplied to the
また、樹脂Ａを乾燥した後、押出機３にも供給し、２８０℃の溶融状態とした。押出機３にて溶融状態となった樹脂Ａは、ギヤポンプおよびフィルタを経た後、積層装置１にて形成された計１００層からなる２つの多層流体と、図４のごとき積層装置２で合流せしめた。なお、３者の合流前の平均流速がほぼ等速となる合流部の形状とした。このようにして得られた多層流をコートハンガーダイに供給しシート状に成形した後、静電印加しながら、表面温度２０℃に保たれたキャスティングドラム上で急冷固化した。
Further, after drying the resin A, the resin A was also supplied to the
このキャストフィルムを、９０℃の温度に設定したロール群で加熱し、縦方向に３．２倍延伸した。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施し、基材フィルムの濡れ張力を５５ｍＮ／ｍとし、その処理面にアクリル樹脂（メチルメタクリレート／エチレンアクリレート共重合体）／メチロール化メラミン／平均粒径１００ｎｍのシリカ粒子からなる水系塗液を塗布し、易滑・易接着層を形成した。 This cast film was heated with a group of rolls set to a temperature of 90 ° C. and stretched 3.2 times in the longitudinal direction. Both sides of this uniaxially stretched film are subjected to corona discharge treatment in air, the base film has a wetting tension of 55 mN / m, and the treated surface is acrylic resin (methyl methacrylate / ethylene acrylate copolymer) / methylolated melamine / average An aqueous coating liquid composed of silica particles having a particle diameter of 100 nm was applied to form an easy-sliding / adhesive layer.
次いでこの一軸延伸フィルムをテンターに導き、９５℃の熱風で予熱後、横方向に４．０倍延伸した。延伸したフィルムは、そのまま、テンター内で２３５℃の熱風にて熱処理を行い、つづいて５％の弛緩処理を施し、室温まで徐冷後、巻き取った。 Next, this uniaxially stretched film was guided to a tenter, preheated with hot air at 95 ° C., and then stretched 4.0 times in the transverse direction. The stretched film was directly heat-treated in a tenter with hot air at 235 ° C., subsequently subjected to a relaxation treatment of 5%, gradually cooled to room temperature, and wound up.
得られたフィルムの厚みは１０３μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、最中心部には１００μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ１００層存在していた。
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表１に示す。
The thickness of the obtained film was 103 μm. The layer thickness of the resin A gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from both surfaces toward the center, and the layer configuration was such that one 100 μm layer was present at the center. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from both surfaces toward the center. Further, 100 layers each composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and 100 layers each composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less existed.
Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表１に示すが、干渉縞はほとんど見えなかった。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 1, but interference fringes were hardly seen.
（実施例２）
１．ポリエステル３の合成
テレフタル酸ジメチル、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル、エチレングリコール、スピログリコールの量比を変更する以外は実施例１と同様にしてポリエステル３を重合した。
(Example 2)
1. Synthesis of
得られたポリエステル３の固有粘度は０．８０であった。このポリエステル１のジカルボン酸成分は、テレフタル酸が４０ｍｏｌ％であり、シクロヘキサンジカルボン酸が６０ｍｏｌ％であった。また、ポリエステル１のジオール成分は、エチレングリコールが４０ｍｏｌ％であり、スピログリコールが６０ｍｏｌ％であった。
The obtained
２．積層フィルムの製膜
樹脂Ａ、樹脂Ｂとして、
樹脂Ａ：ポリエステル２
樹脂Ｂ：ポリエステル３
を用いた以外は、実施例１と同様に製膜した。
2. Formation of laminated film As resin A and resin B,
Resin A:
Resin B:
A film was formed in the same manner as in Example 1 except that was used.
得られたフィルムの厚みは１０３μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、最中心部には１００μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ１００層存在していた。
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表１に示す。
The thickness of the obtained film was 103 μm. The layer thickness of the resin A gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from both surfaces toward the center, and the layer configuration was such that one 100 μm layer was present at the center. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from both surfaces toward the center. Further, 100 layers each composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and 100 layers each composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less existed.
Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表１に示すが、干渉縞は見えなかった。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 1, but no interference fringes were visible.
（実施例３）
６個のスリットを有するスリット部が一つある積層装置１と、積層装置１で形成された多層流と押出機３にて溶融状態となった樹脂Ａとを合流する２つの流路からなる積層装置２を用い、各押出機およびギヤポンプの吐出量を調整し、易滑・易接着層を片面のみに形成した以外は、実施例２と同様に製膜した。
Example 3
得られたフィルムの厚みは１６μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは片側の表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、反対の表面側には約１６μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは片側の表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ３層存在していた。 The thickness of the obtained film was 16 μm. The layer thickness of the resin A was gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from the surface on one side to the center, and a layer structure in which one layer of about 16 μm existed on the opposite surface side. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from the surface on one side to the center. In addition, there were three layers composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and three layers composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less.
さらに、３０ｎｍ以下の層が６層存在する側の最表面には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表１に示す。 Furthermore, the slippery / adhesive layer exists on the outermost surface on the side where six layers of 30 nm or less are present, the thickness is 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer is 1. 52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.
また、得られたフィルムの易滑・易接着層形成側の面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表１に示すが、干渉縞はわずかに見られたが、問題とならないレベルであった。 Further, a hard coat layer having a refractive index of 1.52 made of a photocurable acrylic resin was formed on the surface of the obtained film on the side where the slippery / adhesive layer was formed so as to have a layer thickness of 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 1. Although slight interference fringes were observed, it was at a level not causing a problem.
（実施例４）
１８個のスリットを有するスリット部が一つある積層装置１と、積層装置１で形成された多層流と押出機３にて溶融状態となった樹脂Ａとを合流する２つの流路からなる積層装置２を用い、各押出機およびギヤポンプの吐出量を調整し、易滑・易接着層を片面のみに形成した以外は、実施例３と同様に製膜した。
Example 4
得られたフィルムの厚みは１６μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは片側の表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、反対の表面側には約１６μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは片側の表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ９層存在していた。 The thickness of the obtained film was 16 μm. The layer thickness of the resin A was gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from the surface on one side to the center, and a layer structure in which one layer of about 16 μm existed on the opposite surface side. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from the surface on one side to the center. Further, there were 9 layers each composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and 9 layers each composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less.
さらに、３０ｎｍ以下の層が１８層存在する側の最表面には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表１に示す。 Furthermore, the slippery / adhesive layer exists on the outermost surface on the side where 18 layers of 30 nm or less are present, the thickness thereof is 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer is 1. 52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.
また、得られたフィルムの易滑・易接着層形成側の面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表１に示すが、干渉縞はほとんど見えなかった。 Further, a hard coat layer having a refractive index of 1.52 made of a photocurable acrylic resin was formed on the surface of the obtained film on the side where the slippery / adhesive layer was formed so as to have a layer thickness of 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 1, but interference fringes were hardly seen.
（実施例５）
１．ポリエステル４
９５ｗｔ％のポリエステル２と、５ｗｔ％のポリエステル３を、二軸押出機にてコンパウンドし、ポリエステル４とした。
(Example 5)
1.
95% by weight of
２．積層フィルムの製膜
樹脂Ａ、樹脂Ｂ、樹脂Ｃとして、
樹脂Ａ：ポリエステル２
樹脂Ｂ：ポリエステル３
樹脂Ｃ：ポリエステル４を用いた。
2. Formation of laminated film As resin A, resin B, and resin C,
Resin A:
Resin B:
Resin C:
これら樹脂Ｂ、Ｃをそれぞれ乾燥した後、押出機１および押出機２に別個に供給し、２８０℃の溶融状態とした。
After these resins B and C were dried, they were separately supplied to the
溶融した樹脂Ｂ、Ｃは、それぞれギヤポンプおよびフィルタを経た後、１００個のスリットを有するスリット部が２つある図１のごとき積層装置１に供給した。当該樹脂Ｃ，Ｂは、スリット部材内にて各層の厚みが表層側から中央側に向かうにつれ徐々に変化し、樹脂Ｃが５０層、樹脂Ｂが５０層からなる厚み方向に交互に積層された構造（フィルム表面側が樹脂Ｃとなる）とした。各層の厚みは、積層装置１内のスリットの間隙により調整した。また樹脂Ｃ，Ｂの吐出量は、全体の積層比（＝重量比）がＸ／Ｙ＝１になるよう調整した。
The melted resins B and C were respectively supplied to a
また、樹脂Ａを乾燥した後、押出機３にも供給し、２８０℃の溶融状態とした。押出機３にて溶融状態となった樹脂Ａは、ギヤポンプおよびフィルタを経た後、積層装置１にて形成された計１００層からなる２つの多層流体と、図４のごとき積層装置２で合流せしめた。なお、３者の合流前の平均流速がほぼ等速となる合流部の形状とした。このようにして得られた多層流をコートハンガーダイに供給しシート状に成形した後、静電印加しながら、表面温度２０℃に保たれたキャスティングドラム上で急冷固化した。
Further, after drying the resin A, the resin A was also supplied to the
このキャストフィルムを、９０℃の温度に設定したロール群で加熱し、縦方向に３．２倍延伸した。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施し、基材フィルムの濡れ張力を５５ｍＮ／ｍとし、その処理面にアクリル樹脂（メチルメタクリレート／エチレンアクリレート共重合体）／メチロール化メラミン／平均粒径１００ｎｍのシリカ粒子からなる水系塗液を塗布し、易滑・易接着層を形成した。 This cast film was heated with a group of rolls set to a temperature of 90 ° C. and stretched 3.2 times in the longitudinal direction. Both sides of this uniaxially stretched film are subjected to corona discharge treatment in air, the base film has a wetting tension of 55 mN / m, and the treated surface is acrylic resin (methyl methacrylate / ethylene acrylate copolymer) / methylolated melamine / average An aqueous coating liquid composed of silica particles having a particle diameter of 100 nm was applied to form an easy-sliding / adhesive layer.
次いでこの一軸延伸フィルムをテンターに導き、９５℃の熱風で予熱後、横方向に４．０倍延伸した。延伸したフィルムは、そのまま、テンター内で２３５℃の熱風にて熱処理を行い、つづいて５％の弛緩処理を施し、室温まで徐冷後、巻き取った。 Next, this uniaxially stretched film was guided to a tenter, preheated with hot air at 95 ° C., and then stretched 4.0 times in the transverse direction. The stretched film was directly heat-treated in a tenter with hot air at 235 ° C., subsequently subjected to a relaxation treatment of 5%, gradually cooled to room temperature, and wound up.
得られたフィルムの厚みは１０３μｍであった。なお、樹脂Ａからなる層が中心部に存在し、その層厚みは１００μｍであった。また、樹脂Ｃの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなる層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｃからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ１００層存在していた。
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表１に示す。本例のフィルムは、非常に層間密着性に優れ、耐剥離性が特に良好であった。
The thickness of the obtained film was 103 μm. In addition, the layer which consists of resin A exists in center part, The layer thickness was 100 micrometers. Further, the layer thickness of the resin C was a layer configuration that gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from both surfaces toward the center. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from both surfaces toward the center. In addition, there were 100 layers composed of a resin C having a layer thickness of 30 nm or less and 100 layers composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less.
Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1. The film of this example was extremely excellent in interlayer adhesion and particularly excellent in peel resistance.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表１に示すが、干渉縞は見えなかった。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 1, but no interference fringes were visible.
（実施例６）
スリットの間隙が実施例２の積層装置１とは異なる以外は、実施例２と同様に製膜した。
(Example 6)
A film was formed in the same manner as in Example 2 except that the slit gap was different from that of the
得られたフィルムの厚みは１０３μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、最中心部には１００μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから３ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ１００層存在していた。 The thickness of the obtained film was 103 μm. The layer thickness of the resin A gradually increased from 3 nm to 30 nm as it went from both surfaces to the central portion, and the layer configuration was such that one layer of 100 μm existed in the most central portion. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 3 nm as it went from both surfaces toward the center. Further, 100 layers each composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and 100 layers each composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less existed.
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表１に示す。 Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表１に示すが、干渉縞は見えなかった。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 1, but no interference fringes were visible.
（実施例７）
スリットの間隙が実施例２の積層装置１とは異なる以外は、実施例２と同様に製膜した。
(Example 7)
A film was formed in the same manner as in Example 2 except that the slit gap was different from that of the
得られたフィルムの厚みは１０３μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、６ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、最中心部には１００μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから６ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ１００層存在していた。 The thickness of the obtained film was 103 μm. The layer thickness of the resin A gradually increased from 6 nm to 30 nm as it went from both surfaces to the central portion, and the layer configuration was such that one layer of 100 μm existed in the most central portion. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer configuration that gradually decreased from 30 nm to 6 nm as it went from both surfaces to the center. Further, 100 layers each composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and 100 layers each composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less existed.
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表１に示す。 Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 1.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表１に示すが、干渉縞はほとんど見えなかった。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 1, but interference fringes were hardly seen.
（実施例８）
１００個のスリットを有するスリット部が一つある積層装置１と、積層装置１で形成された多層流と押出機３にて溶融状態となった樹脂Ａとを合流する２つの流路からなる積層装置２を用い、各押出機およびギヤポンプの吐出量を調整し、易滑・易接着層を片面のみに形成した以外は、実施例３と同様に製膜した。
(Example 8)
得られたフィルムの厚みは１０２μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは片側の表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、反対の表面側には約１００μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは片側の表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ５０層存在していた。 The thickness of the obtained film was 102 μm. The layer thickness of the resin A gradually increased from 1 nm to 30 nm as it moved from the surface on one side to the center, and a layer structure in which one layer of about 100 μm existed on the opposite surface side. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from the surface on one side to the center. In addition, 50 layers each composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and 50 layers each composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less existed.
さらに、３０ｎｍ以下の層が１００層存在する側の最表面には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表２に示す。 Furthermore, the slippery / adhesive layer exists on the outermost surface on the side where 100 layers of 30 nm or less are present, the thickness thereof is 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer is 1. 52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.
また、得られたフィルムの易滑・易接着層形成側の面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表２に示すが、干渉縞は見えなかった。 Further, a hard coat layer having a refractive index of 1.52 made of a photocurable acrylic resin was formed on the surface of the obtained film on the side where the slippery / adhesive layer was formed so as to have a layer thickness of 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 2, but no interference fringes were visible.
（実施例９）
５０個のスリットを有するスリット部が２つある積層装置１と、合流部手前の流路断面積を変更した積層装置２を用い、各押出機およびギヤポンプの吐出量を調整した以外は、実施例２と同様に製膜した。
Example 9
Except for adjusting the discharge amount of each extruder and gear pump using the
得られたフィルムの厚みは１０２μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、最中心部には１００μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ５０層存在していた。
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表２に示す。
The thickness of the obtained film was 102 μm. The layer thickness of the resin A gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from both surfaces toward the center, and the layer configuration was such that one 100 μm layer was present at the center. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from both surfaces toward the center. In addition, 50 layers each composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and 50 layers each composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less existed.
Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表２に示すが、干渉縞は見えなかった。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 2, but no interference fringes were visible.
（実施例１０）
２４個のスリットを有するスリット部が２つある積層装置１と、合流部手前の流路断面積を変更した積層装置２を用い、各押出機およびギヤポンプの吐出量を調整した以外は、実施例２と同様に製膜した。
(Example 10)
Example except that the
得られたフィルムの厚みは１０１μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、最中心部には１００μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ２４層存在していた。
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表２に示す。
The thickness of the obtained film was 101 μm. The layer thickness of the resin A gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from both surfaces toward the center, and the layer configuration was such that one 100 μm layer was present at the center. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from both surfaces toward the center. In addition, there were 24 layers composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and 24 layers composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less.
Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表２に示すが、干渉縞は見えなかった。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 2, but no interference fringes were visible.
（実施例１１）
合流部手前の断面積を変更した積層装置２を用い、各押出機およびギヤポンプの吐出量を調整した以外は、実施例２と同様に製膜した。
(Example 11)
A film was formed in the same manner as in Example 2 except that the
得られたフィルムの厚みは５３μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、最中心部には５０μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ１００層存在していた。
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表２に示す。
The thickness of the obtained film was 53 μm. The layer thickness of the resin A gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from both surfaces toward the center, and the layer configuration was such that one 50 μm layer was present at the center. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from both surfaces toward the center. Further, 100 layers each composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and 100 layers each composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less existed.
Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表２に示すが、干渉縞は見えなかった。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 2, but no interference fringes were visible.
（実施例１２）
合流部手前の断面積を変更した積層装置２を用い、各押出機およびギヤポンプの吐出量を調整した以外は、実施例２と同様に製膜した。
(Example 12)
A film was formed in the same manner as in Example 2 except that the
得られたフィルムの厚みは１９１μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、最中心部には１８８μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ１００層存在していた。
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表２に示す。
The thickness of the obtained film was 191 μm. The layer thickness of the resin A gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from both surfaces to the central portion, and the layer configuration was such that one layer of 188 μm existed in the most central portion. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from both surfaces toward the center. Further, 100 layers each composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and 100 layers each composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less existed.
Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表２に示すが、干渉縞は見えなかった。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 2, but no interference fringes were visible.
（実施例１３）
合流部手前の断面積を変更した積層装置２を用い、各押出機およびギヤポンプの吐出量を調整した以外は、実施例２と同様に製膜した。
(Example 13)
A film was formed in the same manner as in Example 2 except that the
得られたフィルムの厚みは２５３μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、最中心部には２５０μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ１００層存在していた。
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表２に示す。
The thickness of the obtained film was 253 μm. The layer thickness of the resin A gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from both surfaces to the central portion, and the layer configuration was such that one layer of 250 μm existed in the most central portion. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from both surfaces toward the center. Further, 100 layers each composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and 100 layers each composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less existed.
Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表２に示すが、干渉縞は見えなかった。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 2, but no interference fringes were visible.
（実施例１４）
１．ポリエステル４の合成
ナフタレンジカルボン酸ジメチルを１００重量部、エチレングリコールを６０重量部用いる以外は前記と同様にしてポリエステル４（ポリエチレンナフタレート）を重合した。得られたポリエステル２の固有粘度は０．６２でありＴｇは１２０℃であった。
(Example 14)
1. Synthesis of
２．積層フィルムの製膜
樹脂Ａ、樹脂Ｂとして、
樹脂Ａ：ポリエステル４
樹脂Ｂ：ポリエステル３
を用い、縦延伸倍率を４．１倍とし、横延伸倍率を４．９倍とした以外は、実施例１と同様に製膜した。
2. Formation of laminated film As resin A and resin B,
Resin A:
Resin B:
The film was formed in the same manner as in Example 1 except that the longitudinal draw ratio was 4.1 times and the transverse draw ratio was 4.9 times.
得られたフィルムの厚みは１０３μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、最中心部には１００μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ１００層存在していた。
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表２に示す。
The thickness of the obtained film was 103 μm. The layer thickness of the resin A gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from both surfaces toward the center, and the layer configuration was such that one 100 μm layer was present at the center. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from both surfaces toward the center. Further, 100 layers each composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and 100 layers each composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less existed.
Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 2.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表２に示すが、干渉縞は見えなかった。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 2, but no interference fringes were visible.
（比較例１）
積層装置を用いずに、ポリエステル２からなる単層フィルムを、実施例２と同様の製膜条件にて製膜した。
(Comparative Example 1)
A single layer film made of
得られたフィルムの厚みは、１００μｍであった。最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表３に示す。 The thickness of the obtained film was 100 μm. The outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 3.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表３に示すが、干渉縞がはっきりと見えた。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 3, and interference fringes were clearly visible.
（比較例２）
３層の一般的なフィードブロックを用い、ポリエステル２とポリエステル３からなる２層フィルムを、実施例２と同様の製膜条件にて製膜した。
(Comparative Example 2)
A two-layer film composed of
得られたフィルムは厚みが１００μｍであり、両表面側にポリエステル３からなる１０μｍの層を有し、中心部にポリエステル２からなる８０μｍの層を有していた。また、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表３に示す。
The obtained film had a thickness of 100 μm, had a 10 μm layer made of
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表３に示すが、干渉縞がはっきりと見えた。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 3, and interference fringes were clearly visible.
（比較例３）
合流部手前の断面積を変更した積層装置２を用い、各押出機およびギヤポンプの吐出量を調整した以外は、実施例２と同様に製膜した。
(Comparative Example 3)
A film was formed in the same manner as in Example 2 except that the
得られたフィルムの厚みは１１８μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３１ｎｍから１５０ｎｍに徐々に厚くなり、最中心部には１００μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、１５０ｎｍから３１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層は、存在しなかった。
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表３に示す。
The thickness of the obtained film was 118 μm. The layer thickness of the resin A gradually increased from 31 nm to 150 nm as it went from both surfaces to the center, and the layer configuration was such that one 100 μm layer was present at the center. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 150 nm to 31 nm as it went from both surfaces toward the center. Moreover, the layer which consists of resin A with a layer thickness of 30 nm or less and the layer which consists of resin B with a layer thickness of 30 nm or less did not exist.
Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 3.
また、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表３に示すが、干渉反射が生じ、緑色の反射色を示すフィルムとなった。 Further, a hard coat layer made of a photocurable acrylic resin and having a refractive index of 1.52 was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple values of this hard coat film are shown in Table 3. Interference reflection occurred and the film showed a green reflected color.
（比較例４）
４個のスリットを有するスリット部が一つある積層装置１と、積層装置１で形成された多層流と押出機３にて溶融状態となった樹脂Ａとを合流する２つの流路からなる積層装置２を用い、各押出機およびギヤポンプの吐出量を調整し、易滑・易接着層を片面のみに形成した以外は、実施例２と同様に製膜した。
(Comparative Example 4)
得られたフィルムの厚みは１６μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは片側の表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなり、反対の表面側には約１６μｍの層が１層存在する層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは片側の表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層がそれぞれ２層存在していた。 The thickness of the obtained film was 16 μm. The layer thickness of the resin A was gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from the surface on one side to the center, and a layer structure in which one layer of about 16 μm existed on the opposite surface side. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from the surface on one side to the center. In addition, there were two layers composed of a resin A having a layer thickness of 30 nm or less and two layers composed of a resin B having a layer thickness of 30 nm or less.
さらに、３０ｎｍ以下の層が４層存在する側の最表面には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表３に示す。 Furthermore, the slippery / adhesive layer is present on the outermost surface on the side where four layers of 30 nm or less are present, the thickness thereof is 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer is 1. 52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 3.
また、得られたフィルムの易滑・易接着層形成側の面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表３に示すが、干渉縞がはっきりと見えた。 Further, a hard coat layer having a refractive index of 1.52 made of a photocurable acrylic resin was formed on the surface of the obtained film on the side where the slippery / adhesive layer was formed so as to have a layer thickness of 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 3, and interference fringes were clearly visible.
（比較例５）
２６７個のスリットを有するスリット部が３つある積層装置１と、積層装置１で形成された３つの多層中を合流せしめる積層装置２を用い、各押出機およびギヤポンプの吐出量を調整した以外は、実施例２と同様に製膜した。
(Comparative Example 5)
Except for adjusting the discharge amount of each extruder and gear pump using a
得られたフィルムの厚みは１６μｍであった。なお、樹脂Ａの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、１ｎｍから３０ｎｍに徐々に厚くなる層構成であった。一方、樹脂Ｂの層厚みは両表面から中央部に向かうにつれ、３０ｎｍから１ｎｍに徐々に薄くなる層構成であった。また、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ａからなる層と、層厚み３０ｎｍ以下の樹脂Ｂからなる層は、それぞれ４０１層と４００層が存在していたが、層厚み１５μｍ以上の樹脂Ａからなる層は存在しなかった。 The thickness of the obtained film was 16 μm. The layer thickness of the resin A was a layer structure that gradually increased from 1 nm to 30 nm as it went from both surfaces toward the center. On the other hand, the layer thickness of the resin B was a layer structure that gradually decreased from 30 nm to 1 nm as it went from both surfaces toward the center. In addition, a layer made of resin A having a layer thickness of 30 nm or less and a layer made of resin B having a layer thickness of 30 nm or less were 401 layers and 400 layers, respectively, but a layer made of resin A having a layer thickness of 15 μm or more was Did not exist.
さらに、最表層には易滑・易接着層が存在し、その厚みは８０ｎｍであり、易滑・易接着層を形成する組成の屈折率は１．５２であった。得られたフィルムの評価結果を表３に示す。表１に示すとおり、ヤング率が低くなり、剛性不足となった。また、耐熱性も不足しており、８０℃以上での使用は困難であった。 Further, the outermost layer had a slippery / adhesive layer having a thickness of 80 nm, and the refractive index of the composition forming the slippery / adhesive layer was 1.52. The evaluation results of the obtained film are shown in Table 3. As shown in Table 1, the Young's modulus was lowered and the rigidity was insufficient. Moreover, the heat resistance was insufficient, and it was difficult to use at 80 ° C. or higher.
次に、得られたフィルムの片面に、光硬化性アクリル樹脂からなる屈折率１．５２のハードコート層をその層厚みが５μｍとなるように形成した。このハードコートフィルムのリップル値を表３に示すが、干渉縞は見えなかった。 Next, a hard coat layer having a refractive index of 1.52 made of a photocurable acrylic resin was formed on one side of the obtained film so that the layer thickness was 5 μm. The ripple value of this hard coat film is shown in Table 3, but no interference fringes were visible.
本発明は、各種ディスプレイに用いられる反射防止フィルム、ハードコートフィルム、拡散フィルム、異方拡散フィルム、近赤外線カットフィルム、電磁波カットフィルム、色補正フィルム、集光フィルムなどの基材フィルムとして好適であるが、その応用範囲が、これらに限られるものではない。 The present invention is suitable as a base film such as an antireflection film, a hard coat film, a diffusion film, an anisotropic diffusion film, a near-infrared cut film, an electromagnetic wave cut film, a color correction film, and a light collecting film used for various displays. However, the application range is not limited to these.
１： 側板
２： 樹脂Ｂ供給部
３： スリット部
３ａ、３ｂ： スリット
４： 樹脂Ａ供給部
５： スリット部
６： 樹脂Ｂ供給部
７： 側板
８： 積層装置１
９： 導入口
１０： 液溜部
１１： 流出口
１２： スリット稜線
１３： 上端部
１４： 下端部
１５： 流体流れ方向
１７： 積層装置２
1: Side plate 2: Resin B supply unit 3:
9: Inlet 10: Liquid reservoir 11: Outlet 12: Slit ridge 13: Upper end 14: Lower end 15: Fluid flow direction 17:
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