JP4969832B2 - 成膜装置、パネルの製造方法 - Google Patents
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Description
また、本発明は、前記蒸発源に配置されたMgOに電子ビームを照射する電子ビーム発生装置を有する成膜装置である。
また、本発明は、前記保持手段を移動させる移動機構を有し、前記MgO蒸気は前記移動中の前記成膜対象物表面に到達するように構成された成膜装置である。
また、本発明は、真空槽内にPDP表示装置のパネルを配置し、前記真空槽内に酸素と水を導入しながら、前記真空槽内でMgO蒸気を発生させ、前記パネルの表面にMgO膜を形成するパネルの製造方法であって、前記真空槽内に前記MgO蒸気を放出する蒸発源と、前記蒸発源から放出された前記MgO蒸気の広がりを制限する制限板とを配置し、気体の前記水を、前記制限板と前記パネルの間から、前記MgO膜成長中の前記パネルに向かって噴出させるパネルの製造方法である。
また、本発明は、酸素分圧に対するH2の分圧の比が、0.2以上1.5以下になる様に水を導入するパネルの製造方法である。
また、本発明は、前記真空槽内の全圧が4.0×10-2Pa以上1.5×10-1Pa以下にされたパネルの製造方法である。
屈折率が高い膜は緻密で耐久スパッタ性に優れている。(1 1 1)ピーク強度の大きい膜は2次電子を放出しやすい。
図1の符号1は本発明の成膜装置の一例であり真空槽12を有している。
真空槽12の内部は成膜室14と材料室15とに分けられている。材料室15は成膜室14の下方に配置され、材料室15の天井と成膜室14の底面とは接続されている。
保持手段21は搬送機構に取りつけられている。図1と図2の中で、符号16の一点鎖線は搬送機構を模式的に示している。
真空槽12の外部には搬出入室11が配置されている。この搬出入室11はゲートバルブ24を介して成膜室14に接続されている。
搬出入室11と真空槽12には真空排気系22a、22bが接続されており、ゲートバルブ24を閉じ、真空槽12内を予め真空排気しておく。
その状態で成膜対象であるパネルを保持手段21にのせ、搬出入室11内に搬入し、大気との間の扉を閉じ、搬出入室11内を所定圧力まで真空排気する。
次いで、搬送機構16を動作させ、パネルを保持した状態の保持手段21を蒸発源23の上方位置に向けて移動させる。
酸素ガス導入口26からは、予め材料室15の内部に向けて酸素ガスが導入されており、成膜室14と材料室15は、一定分圧の酸素ガス雰囲気に置かれている。
所定膜厚のMgO膜が形成された後、パネル10は搬出入室11に戻され、未処理のパネルが保持手段に乗せられ、MgO膜の成膜処理が行われる。
(フロント)パネル10は、透明なガラス基板31表面に複数の電極(維持電極又は表示電極)35が平行に配置されており、電極35間及び電極35の表面には絶縁膜32が配置され、絶縁膜32によって各電極35間が絶縁されている。
本発明の(フロント)パネル10では、絶縁膜32上には、上記(1 1 1)ピークの強いMgO膜で構成された保護膜33が形成されている。
保護膜33を構成するMgOはスパッタされにくい材料であり、放電空間47に生成されたプラズマからフロントパネル10の電極35を保護する。
図4は、成膜対象物であるパネル10の温度と、(1 1 1)ピーク強度及び屈折率の関係を示すグラフである。真空槽12内の全圧(成膜圧力)は4.0×10-2Paであり、気体の水は導入しなかった。
このときのパネル温度は250℃であった。
10……パネル
12……真空槽
17……開口
18……制限板
21……保持手段
23……蒸発源
26……酸素ガス導入口
27……気体の水の導入口
Claims (6)
- 真空排気可能な真空槽と、
MgOが配置され、MgO蒸気を前記真空槽内に放出する蒸発源と、
前記MgO蒸気の到達によってMgO膜が形成される成膜対象物を保持する保持手段と、
前記蒸発源と前記保持手段の間に配置され、前記MgO蒸気の前記成膜対象物表面への到達範囲を制限する制限板と、
前記真空槽内に酸素を導入する酸素導入部と、
前記真空槽内に水を導入する水導入部とを有し、
前記制限板は、前記蒸発源と前記水導入部との間に配置され、
前記水導入部は、気体の前記水を、前記MgO膜成長中の前記成膜対象物に向かって噴出されるように構成された成膜装置。 - 前記蒸発源に配置されたMgOに電子ビームを照射する電子ビーム発生装置を有する請求項1記載の成膜装置。
- 前記保持手段を移動させる移動機構を有し、前記MgO蒸気は前記移動中の前記成膜対象物表面に到達するように構成された請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の成膜装置。
- 真空槽内にPDP表示装置のパネルを配置し、
前記真空槽内に酸素と水を導入しながら、前記真空槽内でMgO蒸気を発生させ、前記パネルの表面にMgO膜を形成するパネルの製造方法であって、
前記真空槽内に前記MgO蒸気を放出する蒸発源と、前記蒸発源から放出された前記MgO蒸気の広がりを制限する制限板とを配置し、
気体の前記水を、前記制限板と前記パネルの間から、前記MgO膜成長中の前記パネルに向かって噴出させるパネルの製造方法。 - 酸素分圧に対するH2の分圧の比が、0.2以上1.5以下になる様に水を導入する請求項4記載のパネルの製造方法。
- 前記真空槽内の全圧が4.0×10-2Pa以上1.5×10-1Pa以下にされた請求項5記載のパネルの製造方法。
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