JP4963912B2 - 集積電気配列コネクタ - Google Patents
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Description
そして、コンタクト部61が前述のように銅が含浸されたポーラスシリコンから成るものであるところ、銅が含浸されたポーラスシリコンの電気伝導率σが約100000〔Ω-1m-1〕であり、コンタクト部61の半径及び長さは100〔μm〕及び1〔mm〕であるから、コンタクト部61の動作抵抗Rd は、約0.6〔Ω〕となる。このことから、本実施の形態におけるコネクタ1は、実際的な電気コネクタであることが分かる。
2WF6 +3Si→2W+3SiF4 ・・・式(2)
続いて、マスク91を除去した後に、図4(c)に示されるように、前記コンタクト部61の上面に導電性金属層としてのコンタクト上部611が形成される。該コンタクト上部611は、導電性の高い金、銅等の金属から成る導電領域であり、電解めっき、蒸着、スパッタリング等の方法によって形成され、前記コンタクト部61の上面に付着させられる。したがって、前記コンタクト上部611も、コンタクト部61と同様に、各々がハウジング基礎部12中において孤立し、隣接するもの同士が互いに離間した状態となり、図示される例においては、図面に垂直な方向に延在するように形成された帯状の形状を有している。
1B 第2コネクタ
11 ハウジング部
11A 第1ハウジング部
11B 第2ハウジング部
12 ハウジング基礎部
12A 第1ハウジング基礎部
12B 第2ハウジング基礎部
61 コンタクト部
61A 第1コンタクト部
61B 第2コンタクト部
62A 第1電極
62B 第2電極
66A 第1当接面
66B 第2当接面
67A 第1背面
67B 第2背面
91 マスク
91a 開口部
92 タングステンフッ化物(WF6 )ガス
93 含浸用金属
94 スタンプ用具
95 突起部
611 コンタクト上部
801 ウェハ
802 連結層
803 絶縁層
804 フォトレジスト
805 矢印
806 コネクタ
Claims (8)
- (a)絶縁性材料から成る絶縁領域と、
(b)該絶縁領域中に存在する複数の孤立した導電領域とを有する集積電気配列コネクタであって、
(c)前記絶縁領域は、Si、Ge、SiC、GaP、GaAs、InP又はAl 2 O 3 から成り、
(d)前記絶縁領域の少なくとも一部は、多孔質性の絶縁性材料から成る多孔質絶縁領域であり、
(e)前記導電領域は、前記多孔質絶縁領域に選択的に導電性物質を含浸させて形成されることを特徴とする集積電気配列コネクタ。 - 前記多孔質絶縁領域に前記導電性物質を堆積させることによって、該導電性物質を前記多孔質絶縁領域に含浸させる請求項1に記載の集積電気配列コネクタ。
- 前記多孔質絶縁領域を前記導電性物質を含むガスに曝すことによって、前記導電性物質を前記多孔質絶縁領域に含浸させる請求項1に記載の集積電気配列コネクタ。
- 前記多孔質絶縁領域に前記導電性物質を押圧することによって、該導電性物質を前記多孔質絶縁領域に含浸させる請求項1に記載の集積電気配列コネクタ。
- (a)前記絶縁領域は、相手側コネクタと当接する当接面を備える板状の領域であり、
(b)前記導電領域は、前記絶縁領域の厚さ方向に延在する柱状の領域であり、少なくとも一方の端面が前記当接面に露出する請求項1に記載の集積電気配列コネクタ。 - (a)前記絶縁領域は板状の領域であり、
(b)前記導電領域は、前記絶縁領域の一方の面に沿って延在する帯状の領域である請求項1に記載の集積電気配列コネクタ。 - 前記導電領域の上には、導電性金属層が更に形成される請求項1に記載の集積電気配列コネクタ。
- (a)前記導電領域は、一方の端面が前記当接面に露出するとともに、他方の端面が前記当接面と対向する背面に露出し、
(b)前記他方の端面に電極が接続されている請求項5に記載の集積電気配列コネクタ。
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