JP4957020B2 - Manufacturing method of color filter for liquid crystal display device and color filter for liquid crystal display device - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタに関するものであり、特に、積層フォトスペーサーを形成する際の分割露光時におけるブラインドシャッターの作動の不具合の有無を、カラーフィルタの画面内を比較検査することによって容易に検出することのできる液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法に関する。   The present invention relates to a color filter for a liquid crystal display device, and in particular, by comparing and inspecting the screen of the color filter for the presence or absence of a malfunction of a blind shutter at the time of divided exposure when forming a laminated photo spacer. The present invention relates to a method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display device that can be easily detected.

図４は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図５は、図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図４、及び図５に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ（４）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図４、及び図５はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１７インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。 FIG. 4 is a plan view schematically showing an example of a color filter used in the liquid crystal display device. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line XX ′ of the color filter shown in FIG.
As shown in FIGS. 4 and 5, the color filter (4) used in the liquid crystal display device has a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) on a glass substrate (40). Are formed sequentially.
4 and 5 schematically show a color filter, and 12 colored pixels (42) are represented. In an actual color filter, for example, several hundreds are displayed on a 17-inch diagonal screen. A large number of colored pixels of about μm are arranged.

液晶表示装置の多くに用いられている、上記構造のカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成してブラックマトリックス基板とし、次に、このブラックマトリックス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜を位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。
ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、透明導電膜（４３）は、透明な電極として設けられたものである。 As a method for manufacturing a color filter having the above structure used in many liquid crystal display devices, a black matrix is first formed on a glass substrate to form a black matrix substrate, and then the black matrix on the black matrix substrate is used. A method is widely used in which a colored pixel is formed by aligning with the pattern, and a transparent conductive film is aligned and formed.
The black matrix (41) is a matrix having light shielding properties, the colored pixels (42) have, for example, red, green, and blue filter functions, and the transparent conductive film (43) is transparent. Provided as a simple electrode.

ブラックマトリックス（４１）は、着色画素（４２）間のマトリックス部（４１Ａ）と、着色画素（４２）が形成された領域（表示部）の周辺部を囲む額縁部（４１Ｂ）とで構成されている。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。 The black matrix (41) is composed of a matrix portion (41A) between the colored pixels (42) and a frame portion (41B) surrounding the peripheral portion of the region (display portion) where the colored pixels (42) are formed. Yes.
The black matrix determines the position of the colored pixels of the color filter, makes the size uniform, and shields unwanted light when used in a display device, making the image of the display device uniform and uniform. In addition, it has a function of making an image with improved contrast.

このブラックマトリックス基板の製造には、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックスの材料としてのクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯ_X ）などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜し、成膜された薄膜上に、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Ｃｒ、ＣｒＯ_X などの金属薄膜からなるブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。
或いは、ガラス基板（４０）上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス（４１）を形成するといった方法がとられている。 For the production of this black matrix substrate, a metal or a metal compound such as chromium (Cr) or chromium oxide (CrO _x ) as a black matrix material is formed into a thin film on a glass substrate (40). An etching resist pattern is formed on the formed thin film using, for example, a positive photoresist, and then an exposed portion of the formed metal thin film is etched and an etching resist pattern is stripped, and Cr, CrO _A method has been adopted in which a black matrix (41) made of a metal thin film such as _X is formed.
Alternatively, the black matrix (41) is formed on the glass substrate (40) by photolithography using a black photosensitive resin for forming a black matrix.

また、着色画素（４２）の形成は、このブラックマトリックス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜（４３）の形成は、着色画素が形成されたブラックマトリックス基板上
に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。 In addition, the colored pixels (42) are formed by providing a coating film on the black matrix substrate using, for example, a negative photoresist in which a pigment or other pigment is dispersed, and exposing and developing the coating film. A method of forming colored pixels is used.
The transparent conductive film (43) is formed on the black matrix substrate on which the colored pixels are formed by, for example, forming a transparent conductive film by sputtering using ITO (Indium Tin Oxide). .

図４、及び図５に示すカラーフィルタ（４）は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタとして基本的な機能を備えたものである。液晶表示装置は、このようなカラーフィルタを内蔵することにより、フルカラー表示が実現し、その応用範囲が飛躍的に広がり、液晶カラーＴＶ、ノート型ＰＣなど液晶表示装置を用いた多くの商品が創出された。
多様な液晶表示装置の開発、実用に伴い、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタには、上記基本的な機能に付随して下記のような、種々な機能が付加されるようになった。 The color filter (4) shown in FIGS. 4 and 5 has a basic function as a color filter used in a liquid crystal display device. The liquid crystal display device incorporates such a color filter to realize full color display, and its application range is dramatically expanded, and many products using liquid crystal display devices such as liquid crystal color TVs and notebook PCs are created. It was done.
With the development and practical use of various liquid crystal display devices, the following various functions have been added to the color filters used in the liquid crystal display devices in addition to the above basic functions.

例えば、スペーサー機能。従来の液晶表示装置に於いては、基板間にギャップを形成するために、スペーサーと呼ばれるガラス又は合成樹脂の透明球状体粒子（ビーズ）を散布している。
このスペーサーは透明な粒子であることから、画素内に液晶と一諸にスペーサーが入っていると、黒色表示時にスペーサーを介して光がもれてしまい、また、液晶材料が封入されている基板間にスペーサーが存在することによって、スペーサー近傍の液晶分子の配列が乱され、この部分で光もれを生じ、コントラストが低下し表示品質に悪影響を及ぼす、などの問題を有していた。 For example, spacer function. In a conventional liquid crystal display device, transparent spherical particles (beads) of glass or synthetic resin called spacers are dispersed to form a gap between substrates.
Since these spacers are transparent particles, if a spacer is included with the liquid crystal in the pixel, light will leak through the spacer during black display, and the substrate in which the liquid crystal material is enclosed Due to the presence of the spacers between them, the alignment of the liquid crystal molecules in the vicinity of the spacers is disturbed, and light leakage occurs at this part, and the contrast is lowered and the display quality is adversely affected.

このような問題を解決する技術として、感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法により、例えば、画素間のブラックマトリックスの位置にスペーサー機能を有するフォトスペーサー（突起部）を形成する方法が開発された。
図７は、このような液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。図７に示すように、液晶表示装置用カラーフィルタ（７）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成され、ブラックマトリックス（４１）上方の透明導電膜（４３）上にスペーサー機能を有する突起部としてのフォトスペーサー（４４）が形成されている。このような液晶表示装置用カラーフィルタ（７）を用いた液晶表示装置には、フォトスペーサー（４４）が画素内を避けた位置に形成されているので、上記コントラストの改善がみられる。 As a technique for solving such a problem, a method of forming a photo spacer (protrusion) having a spacer function at a position of a black matrix between pixels by using a photosensitive resin and by a photolithography method has been developed.
FIG. 7 is a partial cross-sectional view of such a color filter for a liquid crystal display device. As shown in FIG. 7, in the color filter (7) for a liquid crystal display device, a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) are sequentially formed on a glass substrate (40). A photospacer (44) as a protrusion having a spacer function is formed on the transparent conductive film (43) above the black matrix (41). In the liquid crystal display device using such a color filter (7) for the liquid crystal display device, the photo spacer (44) is formed at a position avoiding the inside of the pixel, and thus the contrast is improved.

また、例えば、配向分割機能。従来の液晶表示装置に於いては、液晶分子を一様に配向させるために、液晶を挟持する両基板に設けられた透明導電膜上に、予めポリイミドを塗布し、その表面に一様なラビング処理をしておく。
しかし、多くの液晶表示装置に用いられているＴＮ型液晶においては、原理的に広い視野角を得ることは困難であり、中間調表示状態では斜め視角において光がもれ、コントラストが低下し表示品質が悪化する。すなわち、コントラストが良好な視野角は狭いといった問題を有していた。 Also, for example, an alignment division function. In conventional liquid crystal display devices, in order to uniformly align the liquid crystal molecules, polyimide is applied in advance on the transparent conductive film provided on both substrates sandwiching the liquid crystal, and the surface is uniformly rubbed. Process it.
However, in TN type liquid crystal used in many liquid crystal display devices, in principle, it is difficult to obtain a wide viewing angle. In a halftone display state, light leaks at an oblique viewing angle, and the contrast is lowered and displayed. Quality deteriorates. That is, there is a problem that the viewing angle with good contrast is narrow.

このような問題を解決する一技術として、一画素内での液晶分子の配向方向が一方向でなく、複数の方向になるように制御し、複数の方向で均一な中間調表示をするようにした、すなわち視野角の広い、配向分割垂直配向型液晶表示装置（ＭＶＡ、Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ−ＬＣＤ）が開発された。   As one technique for solving such a problem, the liquid crystal molecules in one pixel are controlled so that the alignment direction of the liquid crystal molecules is not a single direction but a plurality of directions, and uniform halftone display is performed in a plurality of directions. In other words, an alignment-divided vertical alignment type liquid crystal display (MVA, Multi-domain Vertical Alignment-LCD) having a wide viewing angle has been developed.

図８（ａ）は、このようなＭＶＡ−ＬＣＤの断面を模式的に示した説明図である。図８（ａ）に示すように、ＭＶＡ−ＬＣＤ（８０）は、液晶分子（２１）を介して配向制御突起（２２ａ）、（２２ｂ）が設けられたＴＦＴ側基板（２０）と、配向制御突起（２３）が設けられたカラーフィルタ（８）とを配置した構造であるが、配向制御突起（２２ａ）、（２２ｂ）及び配向制御突起（２３）は一画素内で互い違いの位置に設けられている。   FIG. 8A is an explanatory diagram schematically showing a cross section of such an MVA-LCD. As shown in FIG. 8A, the MVA-LCD (80) includes a TFT side substrate (20) provided with alignment control protrusions (22a) and (22b) via liquid crystal molecules (21), and an alignment control. The color filter (8) provided with the protrusions (23) is arranged, but the alignment control protrusions (22a), (22b) and the alignment control protrusions (23) are provided at alternate positions in one pixel. ing.

図８（ａ）に白太矢印で示すように、電圧印加時の状態では、一画素内で配向制御突起
（２２ａ）〜配向制御突起（２３）間の液晶分子は、図中左斜めに傾斜し、配向制御突起（２３）〜配向制御突起（２２ｂ）間の液晶分子は、右斜めに傾斜する。すなわち、ラビング処理に代わり、突起を設けることにより液晶分子の配向を制御するものである。
図８（ａ）に示す例では、一画素が２分割されたものとなり、一画素内で液晶分子の傾斜方向が２方向になり視野角特性の優れた液晶表示装置となる。また、図８（ｂ）、（ｃ）は、ＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタの他例の一画素を拡大して示す平面図、及び断面図である。この例は、平面形状が円形の配向制御突起（９３）が形成されたカラーフィルタ（９）である。一画素内で液晶分子の傾斜方向が多方向になる。 As shown by the thick white arrow in FIG. 8A, in the state at the time of voltage application, the liquid crystal molecules between the alignment control protrusion (22a) to the alignment control protrusion (23) are inclined diagonally to the left in the figure. The liquid crystal molecules between the alignment control protrusion (23) and the alignment control protrusion (22b) are inclined obliquely to the right. That is, the alignment of the liquid crystal molecules is controlled by providing protrusions instead of the rubbing treatment.
In the example shown in FIG. 8A, one pixel is divided into two, and the tilt direction of the liquid crystal molecules is two in one pixel, and the liquid crystal display device has excellent viewing angle characteristics. 8B and 8C are an enlarged plan view and a cross-sectional view showing another pixel of another example of the color filter for MVA-LCD. This example is a color filter (9) on which an orientation control protrusion (93) having a circular planar shape is formed. The tilt direction of the liquid crystal molecules becomes multidirectional within one pixel.

図４に示すカラーフィルタ（４）に追加される機能としては、上記スペーサー機能、配向分割機能の他に、高信頼性機能、透過・反射併用機能、分光特性調整機能、光路調整機能、光分散機能などがあげられる。これら諸機能の内、そのカラーフィルタの用途、仕様にもとづき１機能或いは複数の機能が図４に示すカラーフィルタ（４）に追加される。
従って、例えば、図４に示すカラーフィルタ（４）にスペーサー機能及び配向分割機能が追加された仕様のカラーフィルタを製造する際には、図４に示すカラーフィルタ（４）を作製した後に、例えば、図８に示す配向制御突起（９３）を形成し、続いて図７に示すフォトスペーサー（４４）を形成する。
すなわち、配向制御突起を形成する工程と、フォトスペーサーを形成する工程の２工程が追加され所望する仕様のカラーフィルタを製造することになる。 Functions added to the color filter (4) shown in FIG. 4 include the above-described spacer function and orientation dividing function, as well as a high reliability function, combined transmission and reflection function, spectral characteristic adjustment function, optical path adjustment function, and light dispersion. Function etc. are given. Among these functions, one function or a plurality of functions are added to the color filter (4) shown in FIG. 4 based on the use and specification of the color filter.
Therefore, for example, when manufacturing a color filter having a specification in which a spacer function and an orientation division function are added to the color filter (4) shown in FIG. 4, after producing the color filter (4) shown in FIG. Then, the alignment control protrusion (93) shown in FIG. 8 is formed, and then the photo spacer (44) shown in FIG. 7 is formed.
That is, two steps of forming the alignment control protrusion and forming the photospacer are added to manufacture a color filter having a desired specification.

これに対し、図６は、基本となるカラーフィルタに配向制御突起とフォトスペーサーを具備させたカラーフィルタの一例の部分断面図であるが、このカラーフィルタは、そのフォトスペーサーが積層構造となっている。フォトスペーサーを構成する複数の中間層を着色画素の形成と同時に形成し、また、フォトスペーサーを構成する上部パターンを配向制御突起の形成と同時に形成することによって、フォトスペーサーを形成するための上記追加する工程を低減させ、配向制御突起とフォトスペーサーを具備させたカラーフィルタを廉価に製造することができる。   On the other hand, FIG. 6 is a partial cross-sectional view of an example of a color filter in which an alignment control protrusion and a photo spacer are provided on a basic color filter. This color filter has a laminated structure of the photo spacer. Yes. The above-mentioned addition for forming a photo spacer by forming a plurality of intermediate layers constituting the photo spacer simultaneously with the formation of the colored pixels and forming an upper pattern constituting the photo spacer simultaneously with the formation of the alignment control protrusion. Therefore, the color filter including the alignment control protrusion and the photo spacer can be manufactured at low cost.

図６に示すように、このカラーフィルタは、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（図示せず）と同時に形成された画素内遮光部（４１Ｐ）、着色画素（４２）、透明導電膜（４３）、配向制御用突起（Ｍｖ）、積層フォトスペーサー（Ｐｓ）が形成されたものである。
この一例として示す積層フォトスペーサー（Ｐｓ）は、画素内遮光部（４１Ｐ）上の第一色目の着色画素の延長パターン（Ｐ１）と、第二色目のスペーサーパターン（Ｐ２）と、第三色目のスペーサーパターン（Ｐ３）と、透明導電膜（４３）と、上部パターン（Ｐ４）を積層した構成である。積層フォトスペーサー（Ｐｓ）の高さは、第一色目の着色画素（４２）の上面から積層フォトスペーサーの上部パターン（Ｐ４）の上面までの高さ（Ｈ）である。 As shown in FIG. 6, this color filter includes an in-pixel light shielding portion (41 </ b> P), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) formed simultaneously with a black matrix (not shown) on a glass substrate (40). ), Alignment control protrusions (Mv), and laminated photospacers (Ps).
The laminated photo spacer (Ps) shown as an example includes an extension pattern (P1) of the first color pixel on the in-pixel light shielding portion (41P), a spacer pattern (P2) of the second color, and a third color spacer. The spacer pattern (P3), the transparent conductive film (43), and the upper pattern (P4) are laminated. The height of the laminated photo spacer (Ps) is the height (H) from the upper surface of the first color pixel (42) to the upper surface of the upper pattern (P4) of the laminated photo spacer.

第一色目の着色画素の延長パターン（Ｐ１）は、第一色目の着色画素（４２）を延長したものである。第二色目のスペーサーパターン（Ｐ２）は、第二色目の着色画素（図示せず）の形成と同時に形成されたものである。また、第三色目のスペーサーパターン（Ｐ３）は、第三色目の着色画素（図示せず）の形成と同時に形成されたものである。透明導電膜（４３）は、第三色目のスペーサーパターン（Ｐ３）等が形成されたガラス基板（４０）上の全面に、また、積層フォトスペーサーの上部パターン（Ｐ４）は、配向制御突起（Ｍｖ）の形成と同時に形成されたものである。従って、フォトスペーサーを形成するための前記追加工程は不要なものとなる。   The extension pattern (P1) of the first color pixel is an extension of the first color pixel (42). The second color spacer pattern (P2) is formed simultaneously with the formation of the second color coloring pixels (not shown). The third-color spacer pattern (P3) is formed simultaneously with the formation of the third-color colored pixels (not shown). The transparent conductive film (43) is formed on the entire surface of the glass substrate (40) on which the third-color spacer pattern (P3) or the like is formed, and the upper pattern (P4) of the laminated photo spacer is provided with an alignment control protrusion (Mv). ). Therefore, the additional step for forming the photospacer is unnecessary.

カラーフィルタを製造する場合、カラーフィルタを構成するブラックマトリックス（４１）、画素内遮光部（４１Ｐ）、着色画素（４２）、配向制御用突起（Ｍｖ）、積層フォ
トスペーサー（Ｐｓ）などをフォトリソグラフィ法により形成する際の露光は、ガラス基板（４０）のサイズと略同程度のサイズのフォトマスクを用いて露光する方法が広く採用されている。カラーフィルタの画面全体を１回の露光で一括して行う、所謂、一括露光法である。
フォトリソグラフィ法によりカラーフィルタを製造する際の露光方法として、この一括露光法は廉価に大量にカラーフィルタを製造することのできる優れた露光法といえる。 When manufacturing a color filter, the black matrix (41), the light shielding part (41P) within the pixel, the colored pixel (42), the alignment control protrusion (Mv), the laminated photospacer (Ps), etc. that constitute the color filter are photolithography. For the exposure when forming by the method, a method of exposing using a photomask having a size substantially the same as the size of the glass substrate (40) is widely adopted. This is a so-called batch exposure method in which the entire screen of the color filter is collectively performed by one exposure.
As an exposure method for producing a color filter by photolithography, this collective exposure method can be said to be an excellent exposure method capable of producing a large number of color filters at low cost.

しかし、ガラス基板のサイズが次第に大きくなり、５５０ｍｍ×６５０ｍｍを越えて、例えば、１ｍ×１．３ｍ、或いは１．５ｍ×１．８ｍ程度のサイズとなると、このサイズに対応したサイズのフォトマスクを製造する際の制約、及びそのフォトマスクを使用する際の制約が大きなものとなってくる。
従って、１ｍ×１．３ｍ、或いは１．５ｍ×１．８ｍ程度のサイズのガラス基板への露光には、１枚の同一フォトマスクを用い、例えば、カラーフィルタの画面を左右に２分割した分割露光法が採用されることになる。 However, when the size of the glass substrate gradually increases and exceeds 550 mm × 650 mm, for example, about 1 m × 1.3 m, or 1.5 m × 1.8 m, a photomask having a size corresponding to this size is formed. The restrictions in manufacturing and the restrictions in using the photomask become significant.
Therefore, the same photomask is used for exposure to a glass substrate having a size of about 1 m × 1.3 m or 1.5 m × 1.8 m. For example, the color filter screen is divided into left and right parts. An exposure method will be adopted.

図９は、分割露光法で製造したカラーフィルタの一例の概略を示す平面図である。図９は、図４に示すようなカラーフィルタとして基本的な機能を備えたカラーフィルタである。図９に示すカラーフィルタは、ガラス基板（１０）上に既にブラックマトリックス、着色画素、及び透明導電膜が順次に形成されたものであるが、説明上、画面内には着色画素（４２）のみが示されている。   FIG. 9 is a plan view showing an outline of an example of a color filter manufactured by the division exposure method. FIG. 9 shows a color filter having a basic function as the color filter shown in FIG. In the color filter shown in FIG. 9, a black matrix, colored pixels, and a transparent conductive film are already sequentially formed on a glass substrate (10). For the sake of explanation, only the colored pixels (42) are included in the screen. It is shown.

着色画素（４２）は、カラーフィルタの画面（１１）の全面に形成されているが、図９では、その描画の多くを省略してある。カラーフィルタの画面（１１）は、実線で示すように、左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）で構成されている。（Ｘ₀ ）、及び（Ｙ₀ ）は、各々カラーフィルタ（ガラス基板（１０））の、図９中、上下中央のＸ軸、及び左右中央のＹ軸を表している。また、（Ａ₀ ）は、ガラス基板（１０）上に形成された左右のアライメントマークを表している。 The colored pixels (42) are formed on the entire surface of the color filter screen (11), but in FIG. 9, most of the drawing is omitted. The color filter screen (11) is composed of a left screen (11L) and a right screen (11R) as shown by the solid line. (X ₀ ) and (Y ₀ ) respectively represent the X axis at the center in the vertical direction and the Y axis at the left and right center in FIG. 9 of the color filter (glass substrate (10)). (A ₀ ) represents left and right alignment marks formed on the glass substrate (10).

図１０は、図９に示すカラーフィルタの一例の着色画素（４２）を形成する際に用いるフォトマスクの概略を示す平面図である。図１０に示すように、フォトマスク（ＰＭ１）において、符号（１２）で示す領域は、上記カラーフィルタの左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）に対応した領域を表している。フォトマスク（ＰＭ１）のこの領域が２回の露光に用いられる。
このパターン領域（１２）内には、着色画素（４２）を形成するためのマスクパターン（４５）が全面に設けられている。図１０では、その描画の多くを省略してある。 FIG. 10 is a plan view showing an outline of a photomask used when forming colored pixels (42) as an example of the color filter shown in FIG. As shown in FIG. 10, in the photomask (PM1), an area indicated by reference numeral (12) represents an area corresponding to the left screen (11L) and the right screen (11R) of the color filter. This area of the photomask (PM1) is used for two exposures.
In the pattern region (12), a mask pattern (45) for forming the colored pixels (42) is provided on the entire surface. In FIG. 10, much of the drawing is omitted.

パターン領域（１２）内の、図１０中、左方のマスクパターン（４５）は、説明上、右上り斜線にて、右方のマスクパターン（４５）は右下がり斜線にて表している。
（Ｘ₁ ）、及び（Ｙ₁ ）は、各々フォトマスク（ＰＭ１）のパターン領域（１２）中心を通るＸ軸、及びＹ軸を表している。（Ｙ₃ ）は、分割露光によって得られるカラーフィルタの画面（１１）における左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）との間の継ぎ部に対応したフォトマスク（ＰＭ１）上の継ぎ部の位置を表している。また、（Ａ₁ ）は、フォトマスク（ＰＭ１）のＹ軸（Ｙ₁ ）上に形成されたアライメントマークを表している。 In the pattern region (12), in FIG. 10, the left mask pattern (45) is represented by a diagonal line at the upper right and the right mask pattern (45) is represented by a diagonal line at the lower right.
(X ₁ ) and (Y ₁ ) respectively represent an X axis and a Y axis that pass through the center of the pattern region (12) of the photomask (PM1). (Y ₃ ) is the position of the joint on the photomask (PM1) corresponding to the joint between the left screen (11L) and the right screen (11R) in the color filter screen (11) obtained by the divided exposure. Represents. (A ₁ ) represents an alignment mark formed on the Y axis (Y ₁ ) of the photomask (PM1).

図９に示す着色画素（４２）の形成は、先ず、フォトマスク（ＰＭ１）上のアライメントマーク（Ａ₁ ）を、カラーフィルタ（ガラス基板（１０））上の、図９中、左のアライメントマーク（Ａ₀ ）に合わせて第１露光を行う。この際、フォトマスク（ＰＭ１）の右端の継ぎ部（Ｙ₃ ）は、カラーフィルタ（ガラス基板（１０））のＹ軸（Ｙ₀ ）に合致している。
この左画面（１１Ｌ）への第１露光の際には、右画面（１１Ｒ）の内、Ｙ軸（Ｙ₀ ）近傍
の領域はフォトマスク（ＰＭ１）の右遮光帯（１３Ｒ）によって遮光されるが、右画面（１１Ｒ）の大部分は遮光されないので、フォトマスク（ＰＭ１）の光源側にブラインド・シャッター（図示せず）を設け右画面（１１Ｒ）を遮光しておく。 The colored pixel (42) shown in FIG. 9 is formed by first aligning the alignment mark (A ₁ ) on the photomask (PM1) with the left alignment mark in FIG. 9 on the color filter (glass substrate (10)). First exposure is performed in accordance with (A ₀ ). At this time, the joint (Y ₃ ) at the right end of the photomask (PM1) matches the Y axis (Y ₀ ) of the color filter (glass substrate (10)).
During the first exposure to the left screen (11L), the area near the Y axis (Y ₀ ) in the right screen (11R) is shielded by the right light shielding band (13R) of the photomask (PM1). However, since most of the right screen (11R) is not shielded, a blind shutter (not shown) is provided on the light source side of the photomask (PM1) to shield the right screen (11R).

次に、フォトマスク（ＰＭ１）上のアライメントマーク（Ａ₁ ）を、カラーフィルタ（ガラス基板（１０））上の、図９中、右のアライメントマーク（Ａ₀ ）に合わせて第２露光を行う。この際、フォトマスク（ＰＭ１）の左端の継ぎ部（Ｙ₃ ）は、カラーフィルタ（ガラス基板（１０））のＹ軸（Ｙ₀ ）に合致している。この右画面（１１Ｒ）への第２露光の際には、左画面（１１Ｌ）を遮光しておくために、フォトマスク（ＰＭ１）の光源側にブラインド・シャッター（図示せず）を設け左画面（１１Ｌ）を遮光しておく。
上記分割露光に続き、現像処理が行われカラーフィルタの着色画素（４２）が形成される。 Next, the second exposure is performed by aligning the alignment mark (A ₁ ) on the photomask (PM1) with the alignment mark (A ₀ ) on the right side in FIG. 9 on the color filter (glass substrate (10)). . At this time, the joint (Y ₃ ) at the left end of the photomask (PM1) matches the Y axis (Y ₀ ) of the color filter (glass substrate (10)). During the second exposure of the right screen (11R), a blind shutter (not shown) is provided on the light source side of the photomask (PM1) in order to shield the left screen (11L). (11L) is shielded from light.
Subsequent to the divided exposure, development processing is performed to form colored pixels (42) of the color filter.

一方、上記図９に示すような分割露光法で製造されるサイズの大きなカラーフィルタに、上記基本的な機能に加え、前記、例えば、図７に示す１層からなるフォトスペーサー（４４）を設ける際には、上記図９に示す画面（１１）の外周部、例えば、画面（１１）外の左右に画面内のフォトスペーサーと同様なフォトスペーサーを設けている。
これは、カラーフィルタと対向基板を貼り合わせてパネルを作製する際に、大きなサイズの基板間のギャップを全面にわたり均一に保たせるために行われるものである。 On the other hand, in addition to the basic functions described above, for example, a photo spacer (44) consisting of one layer as shown in FIG. 7 is provided in a large color filter manufactured by the division exposure method as shown in FIG. In this case, photo spacers similar to the photo spacers in the screen are provided on the outer periphery of the screen (11) shown in FIG.
This is performed in order to maintain a uniform gap between large-sized substrates over the entire surface when a panel is manufactured by bonding a color filter and a counter substrate.

図１１（ａ）は、上記基本的な機能に加えフォトスペーサーが設けられた、サイズの大きなカラーフィルタにおけるフォトスペーサーの配列を示す平面図である。また、図１１（ｂ）は、上記フォトスペーサーが設けられたカラーフィルタと、対向基板を貼り合わせた際の関係を示す図１１（ａ）のＡ−Ａ線での断面図である。図１１（ａ）、（ｂ）に示すように、カラーフィルタの画面（１１）は、実線で示すように、左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）で構成され、フォトスペーサー（４４）は、カラーフィルタの画面（１１）の全面に形成されている。また、画面左外（１４Ｌ）には画面左外フォトスペーサー（４４Ｌ）が、画面右外（１４Ｒ）には画面右外フォトスペーサー（４４Ｒ）が設けられている。   FIG. 11A is a plan view showing the arrangement of photo spacers in a large color filter in which photo spacers are provided in addition to the above basic functions. FIG. 11B is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 11A showing the relationship when the color filter provided with the photo spacer and the counter substrate are bonded to each other. As shown in FIGS. 11 (a) and 11 (b), the color filter screen (11) is composed of a left screen (11L) and a right screen (11R) as shown by a solid line, and the photo spacer (44) is The color filter is formed on the entire surface of the screen (11). Further, a screen left outside photo spacer (44L) is provided on the left outside screen (14L), and a screen right outside photo spacer (44R) is provided on the right outside screen (14R).

画面左外フォトスペーサー（４４Ｌ）及び画面右外フォトスペーサー（４４Ｒ）の配列、ピッチは、画面内のフォトスペーサー（４４）と同じであり、画面内のフォトスペーサー（４４）の配列、ピッチが延長された状態のものである。
画面内に設けられたフォトスペーサー（４４）は、例えば、前記着色画素（４２）の配列に対応して設けられている。
図１１（ａ）では、画面（１１）内、画面左外（１４Ｌ）、及び画面右外（１４Ｒ）のフォトスペーサーの描画の多くを省略してある。 The arrangement and pitch of the photo spacer (44L) outside the screen left and the photo spacer (44R) outside the screen right are the same as the photo spacer (44) in the screen, and the arrangement and pitch of the photo spacer (44) in the screen are extended. It is the state of being done.
The photo spacer (44) provided in the screen is provided corresponding to the arrangement of the colored pixels (42), for example.
In FIG. 11A, many of the drawing of the photo spacers in the screen (11), the screen left outside (14L), and the screen right outside (14R) are omitted.

対向基板（１５）とカラーフィルタを貼り合わせるシール（１６）は、画面の外周部にある。シール（１６）を介し、画面（１１）内と、画面左外（１４Ｌ）及び画面右外（１４Ｒ）にはフォトスペーサーが一様に設けられているので、貼り合わせの際の押圧によって、例えば、画面（１１）内のギャップ（Ｇ）が外周部のギャップより大きくなることはなく、基板間のギャップ（Ｇ）は全面にわたり均一に保たれる。   The seal (16) for bonding the counter substrate (15) and the color filter is on the outer periphery of the screen. The photo spacers are uniformly provided in the screen (11), the screen left outside (14L), and the screen right outside (14R) through the seal (16). The gap (G) in the screen (11) does not become larger than the gap in the outer peripheral portion, and the gap (G) between the substrates is kept uniform over the entire surface.

図１２は、図１１（ａ）に示すカラーフィルタのフォトスペーサー（４４）を形成する際に用いるフォトマスクの概略を示す平面図である。図１２に示すように、フォトマスク（ＰＭ２）において、符号（１２）で示す領域は、上記カラーフィルタの左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）に対応した領域を表している。
このパターン領域（１２）内には、フォトスペーサー（４４）を形成するためのマスクパターン（４６）が全面に設けられている。 FIG. 12 is a plan view schematically showing a photomask used when forming the photo spacer (44) of the color filter shown in FIG. As shown in FIG. 12, in the photomask (PM2), an area indicated by reference numeral (12) represents an area corresponding to the left screen (11L) and the right screen (11R) of the color filter.
In the pattern region (12), a mask pattern (46) for forming a photospacer (44) is provided on the entire surface.

また、パターン領域左外（１３Ｌ）には、画面左外フォトスペーサー（４４Ｌ）を形成するためのマスクパターン（４６Ｌ）が、パターン領域右外（１３Ｒ）には、画面右外フォトスペーサー（４４Ｒ）を形成するためのマスクパターン（４６Ｒ）が、画面内のマスクパターン（４６）の配列が延長された状態の配列で設けられている。図１２では、その描画の多くを省略してある。 図９に示す着色画素（４２）が形成されたガラス基板（１０）上へのフォトスペーサー（４４、４４Ｌ、４４Ｒ）の形成は、図９に示す着色画素（４２）の形成と同様に、左画面（１１Ｌ）への第１露光及び右画面（１１Ｒ）への第２露光が行われ、続く現像処理によって行われる。   Further, a mask pattern (46L) for forming a screen left-outside photo spacer (44L) is formed in the pattern region left outside (13L), and a screen region right outside photo spacer (44R) is formed in the pattern region right outside (13R). The mask pattern (46R) for forming the mask pattern is provided in an arrangement in which the arrangement of the mask pattern (46) in the screen is extended. In FIG. 12, much of the drawing is omitted. The formation of the photo spacers (44, 44L, 44R) on the glass substrate (10) on which the colored pixels (42) shown in FIG. 9 are formed is similar to the formation of the colored pixels (42) shown in FIG. The first exposure on the screen (11L) and the second exposure on the right screen (11R) are performed, and the subsequent development processing is performed.

図９に示すカラーフィルタは、ガラス基板（１０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものであるが、前記のように、説明上、着色画素（４２）のみが示されている。同様に、図１１（ａ）では、ブラックマトリックス（４１）及び透明導電膜（４３）は省略されている。
すなわち、図１１（ａ）に示すカラーフィルタは、画面（１１）内には、ブラックマトリックス（図示せず）、着色画素（４２）、透明導電膜（図示せず）、及び１層からなるフォトスペーサー（４４）が形成されており、画面左外（１４Ｌ）及び画面右外（１４Ｒ）には、ブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜は形成されておらず、１層からなる画面左外フォトスペーサー（４４Ｌ）及び画面右外フォトスペーサー（４４Ｒ）のみが設けられているカラーフィルタである。 The color filter shown in FIG. 9 is obtained by sequentially forming a black matrix (41), a colored pixel (42), and a transparent conductive film (43) on a glass substrate (10). For illustration purposes, only the colored pixels (42) are shown. Similarly, in FIG. 11A, the black matrix (41) and the transparent conductive film (43) are omitted.
That is, the color filter shown in FIG. 11A has a black matrix (not shown), a colored pixel (42), a transparent conductive film (not shown), and a single layer photo in the screen (11). A spacer (44) is formed, and a black matrix, colored pixels, and a transparent conductive film are not formed on the left outside screen (14L) and the right outside screen (14R). This is a color filter in which only the spacer (44L) and the right outer photo spacer (44R) are provided.

また、上記１層からなるフォトスペーサー（４４）に代わり、前記図６に示す積層フォトスペーサー（Ｐｓ）を図９に示すカラーフィルタに設けた際には、図１１（ａ）に示すフォトスペーサー（４４）、画面左外フォトスペーサー（４４Ｌ）及び画面右外フォトスペーサー（４４Ｒ）の各々の位置に、前記画素内遮光部（４１Ｐ）、第一色目の着色画素の延長パターン（Ｐ１）、第二色目のスペーサーパターン（Ｐ２）、第三色目のスペーサーパターン（Ｐ３）の積層が設けられることになる。   Further, when the laminated photospacer (Ps) shown in FIG. 6 is provided in the color filter shown in FIG. 9 instead of the single-layer photospacer (44), the photospacer shown in FIG. 44), the in-pixel light shielding portion (41P), the extension pattern (P1) of the first color pixel, and the second color at the positions of the screen left outer photo spacer (44L) and the screen right outer photo spacer (44R). A stack of the spacer pattern (P2) for the color and the spacer pattern (P3) for the third color is provided.

すなわち、画面（１１）内においては、ガラス基板（１０）上にブラックマトリックス（４１）及び画素内遮光部（４１Ｐ）、着色画素（４２）及び第一色目の着色画素の延長パターン（Ｐ１）、第二色目のスペーサーパターン（Ｐ２）、第三色目のスペーサーパターン（Ｐ３）の積層が設けられる。また、画面左外（１４Ｌ）及び画面右外（１４Ｒ）においては、画素内遮光部（４１Ｐ）、第一色目の着色画素の延長パターン（ドットパターン）（Ｐ１）、第二色目のスペーサーパターン（Ｐ２）、第三色目のスペーサーパターン（Ｐ３）の積層が設けられたカラーフィルタとなる。   That is, in the screen (11), on the glass substrate (10), the black matrix (41), the in-pixel light shielding portion (41P), the colored pixel (42), and the extended pattern (P1) of the first color pixel, A stack of the second color spacer pattern (P2) and the third color spacer pattern (P3) is provided. Further, in the screen left outside (14L) and screen right outside (14R), the in-pixel light shielding portion (41P), the first color pixel extension pattern (dot pattern) (P1), the second color spacer pattern ( P2) is a color filter provided with a stack of third-color spacer patterns (P3).

また一方、図９に示すような分割露光法で製造されるサイズの大きなカラーフィルタに、前記基本的な機能に加え、例えば、図６に示す配向制御突起（Ｍｖ）を設ける際には、図９に示す画面（１１）の継ぎ部（Ｙ₃ ）のＸ軸方向左右近傍に配向制御突起（Ｍｖ）のモザイク配列を設ける。
仮に、モザイク配列を設けず、着色画素（４２）の形成時のように左画面に第１露光を行い、右画面に第２露光を行う分割露光によって配向制御突起（Ｍｖ）を形成したカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、その液晶表示装置においては、液晶表示装置のＹ軸（Ｙ₀ ）、すなわち、継ぎ部（Ｙ₃ ）の左右近傍、図９中、上下方向（Ｙ₀ −Ｙ₀ ’）に継ぎ部（Ｙ₃ ）の存在を示す継ぎムラが観視されるといった問題が発生する。 On the other hand, in addition to the above basic function, for example, when an alignment control protrusion (Mv) shown in FIG. 6 is provided in a large color filter manufactured by the division exposure method as shown in FIG. A mosaic arrangement of orientation control protrusions (Mv) is provided near the left and right of the joint (Y ₃ ) of the screen (11) shown in FIG.
Temporarily, a color filter in which the alignment control protrusion (Mv) is formed by divided exposure in which the first exposure is performed on the left screen and the second exposure is performed on the right screen as in the formation of the colored pixels (42) without providing the mosaic arrangement. Is used in a liquid crystal display device, the Y-axis (Y ₀ ) of the liquid crystal display device, that is, the vicinity of the left and right of the joint (Y ₃ ), in FIG. 9, the vertical direction (Y ₀ -Y _0). There is a problem that the joint unevenness indicating the presence of the joint portion (Y ₃ ) is observed in ').

画面（１１）の継ぎ部（Ｙ₃ ）の左右近傍に配向制御突起（Ｍｖ）のモザイク配列を設けるのは、この継ぎムラが観視されるのを回避するために行われるのである。この継ぎムラが観視される原因としては、継ぎ部（Ｙ₃ ）の左右近傍にある配向制御突起（Ｍｖ）の高さ、形状、位置などの変動が液晶分子の配向に影響を与えているものと推量されている
。 The mosaic arrangement of the orientation control protrusions (Mv) is provided in the vicinity of the left and right of the joint portion (Y ₃ ) of the screen (11) in order to avoid viewing the joint unevenness. The reason why the joint unevenness is observed is that variations in the height, shape, position, etc. of the alignment control protrusions (Mv) in the vicinity of the left and right of the joint (Y ₃ ) affect the alignment of the liquid crystal molecules. It is guessed.

図１３は、前記基本的な機能に加え配向制御突起（Ｍｖ）が設けられた、サイズの大きなカラーフィルタにおける配向制御突起（Ｍｖ）の配列の一例を示す平面図である。図１３に示すように、カラーフィルタの画面（１１）は、実線で示すように、左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）で構成され、配向制御突起（Ｍｖ）は画面（１１）の全面、画面左外（１４Ｌ）及び画面右外（１４Ｒ）に形成されている。
画面（１１）内に形成されている配向制御突起（Ｍｖ）は、例えば、図９に示す着色画素（４２）の配列に対応して設けられている。図１３において、カラーフィルタの左右中央のＹ軸（Ｙ₀ ）、すなわち、継ぎ部（Ｙ₃ ）の左右近傍にはモザイク配列部（Ｍ₀ ）が設けられている。 FIG. 13 is a plan view showing an example of the arrangement of the alignment control protrusions (Mv) in the large-size color filter provided with the alignment control protrusions (Mv) in addition to the basic functions. As shown in FIG. 13, the color filter screen (11) is composed of a left screen (11L) and a right screen (11R) as shown by a solid line, and the orientation control protrusion (Mv) is the entire surface of the screen (11). The screen is formed on the left outside (14L) and the screen right outside (14R).
The orientation control protrusions (Mv) formed in the screen (11) are provided corresponding to the arrangement of the colored pixels (42) shown in FIG. 9, for example. In FIG. 13, the mosaic arrangement part (M ₀ ) is provided in the Y axis (Y ₀ ) at the center of the left and right of the color filter, that is, in the vicinity of the left and right of the joint part (Y ₃ ).

図１４は、図１３に示すカラーフィルタの配向制御突起（Ｍｖ）を形成する際に用いるフォトマスクの一例の概略を示す平面図である。図１４に示すように、フォトマスク（ＰＭ４）において、符号（１２）で示す実線は、マスクパターンが形成されている領域を表している。フォトマスク（ＰＭ４）のこの領域が２回の露光に用いられる。
符号（１２Ｌ）は、カラーフィルタの左画面（１１Ｌ）に対応した領域を、また、符号（１２Ｒ）は、右画面（１１Ｒ）に対応した領域を表している。このパターン領域（１２）内には、配向制御突起（Ｍｖ）を形成するためのマスクパターン（４７、４７Ｌ、４７Ｒ）が全面に設けられている。図１４では、その描画の多くは個数は省略してある。 FIG. 14 is a plan view schematically showing an example of a photomask used when forming the alignment control protrusion (Mv) of the color filter shown in FIG. As shown in FIG. 14, in the photomask (PM4), the solid line indicated by reference numeral (12) represents a region where a mask pattern is formed. This area of the photomask (PM4) is used for two exposures.
Reference numeral (12L) represents an area corresponding to the left screen (11L) of the color filter, and reference numeral (12R) represents an area corresponding to the right screen (11R). In this pattern region (12), mask patterns (47, 47L, 47R) for forming alignment control protrusions (Mv) are provided on the entire surface. In FIG. 14, many of the drawings are omitted.

パターン領域（１２）内の、図１４中、左方のマスクパターン（４７、４７Ｌ）は、説明上、白点にて、右方のマスクパターン（４７、４７Ｒ）は黒点にて表している。
（Ｘ₄ ）、及び（Ｙ₄ ）は、各々フォトマスク（ＰＭ４）のパターン領域（１２）中心を通るＸ軸、及びＹ軸を表している。（Ｙ₃ ）は、分割露光によって得られるカラーフィルタの画面（１１）における左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）との間の継ぎ部（Ｙ₃ ）に対応したフォトマスク（ＰＭ４）上の継ぎ部の位置を表している。また、（Ａ₄ ）は、フォトマスク（ＰＭ４）のＹ軸（Ｙ₄ ）上に形成されたアライメントマークを表している。モザイク配列の左端は（Ｙ₅ ）、右端は（Ｙ₆ ）で表している。 In FIG. 14, in the pattern area (12), the left mask pattern (47, 47L) is represented by a white dot and the right mask pattern (47, 47R) is represented by a black dot.
(X ₄ ) and (Y ₄ ) respectively represent the X axis and the Y axis that pass through the center of the pattern region (12) of the photomask (PM4). (Y ₃ ) is on the photomask (PM4) corresponding to the joint (Y ₃ ) between the left screen (11L) and the right screen (11R) in the color filter screen (11) obtained by the divided exposure. It represents the position of the joint. (A ₄ ) represents an alignment mark formed on the Y-axis (Y ₄ ) of the photomask (PM4). The left end of the mosaic arrangement is represented by (Y ₅ ) and the right end is represented by (Y ₆ ).

フォトマスク（ＰＭ４）のパターン領域（１２）内のＸ軸（Ｘ₄ ）方向は、左方から左端モザイク配列部（Ｍ_L ）、パターン領域中央部（Ｃ）、右端モザイク配列部（Ｍ_R ）となっている。
パターン領域中央部（Ｃ）には、配向制御突起（Ｍｖ）を形成するためのマスクパターン（４７）が正規のマスクパターン配列をしている。また、右端モザイク配列部（Ｍ_R ）には、配向制御突起を形成するためのマスクパターン（４７Ｒ）が左モザイク配列をしており、左端モザイク配列部（Ｍ_L ）には、配向制御突起を形成するためのマスクパターン（４７Ｌ）が右モザイク配列をしている。 The X-axis (X ₄ ) direction in the pattern area (12) of the photomask (PM4) is from the left to the left end mosaic arrangement part (M _L ), the pattern area center part (C), and the right end mosaic arrangement part (M _R ). It has become.
A mask pattern (47) for forming the alignment control protrusion (Mv) has a regular mask pattern arrangement in the central portion (C) of the pattern region. A mask pattern (47R) for forming alignment control protrusions is arranged in a left mosaic arrangement in the right end mosaic arrangement part (M _R ), and an alignment control protrusion is provided in the left end mosaic arrangement part (M _L ). A mask pattern (47L) for forming a right mosaic arrangement.

右端モザイク配列部（Ｍ_R ）の左モザイク配列と、左端モザイク配列部（Ｍ_L ）の右モザイク配列は、相互に補間し正規の配列となりカラーフィルタの左右中央のＹ軸（Ｙ₀ ）、すなわち、継ぎ部（Ｙ₃ ）の左右近傍のモザイク配列部（Ｍ₀ ）を構成する。
図１５は、本発明によるフォトマスクにおける左モザイク配列と右モザイク配列が相互に補間する関係を説明する平面図である。図１５に示す平面図は、図１４に示す右端モザイク配列部（Ｍ_R ）の継ぎ部（Ｙ₃ ）とＸ軸の交点（Ｏ_R ）と、左端モザイク配列部（Ｍ_L ）の継ぎ部（Ｙ₃ ）とＸ軸の交点（Ｏ_L ）を重ね合わせた状態を表している。 The left mosaic arrangement of the right end mosaic arrangement portion (M _R ) and the right mosaic arrangement of the left end mosaic arrangement portion (M _L ) are interpolated to become a normal arrangement, that is, the Y axis (Y ₀ ) at the left and right center of the color filter, The mosaic arrangement part (M ₀ ) in the vicinity of the left and right of the joint part (Y ₃ ) is formed.
FIG. 15 is a plan view for explaining the interpolating relationship between the left mosaic arrangement and the right mosaic arrangement in the photomask according to the present invention. The plan view shown in FIG. 15 shows the intersection (Y ₃ ) of the right end mosaic arrangement part (M _R ) and the intersection (O _R ) of the X axis and the connection part (M _L ) of the left end mosaic arrangement part (M _L ) shown in FIG. Y ₃ ) and the intersection (O _L ) of the X axis are superimposed.

また、図１５は、両継ぎ部（Ｙ₃ ）を重ね合わせた分割露光によって形成されたりカラーフィルタ、すなわち、図１３に示すカラーフィルタの符号（Ｓ）で表す領域を拡大して説明するものでもある。
この右端モザイク配列部（Ｍ_R ）と左端モザイク配列部（Ｍ_L ）とを重ね合わせた領域がモザイク配列部（Ｍ_O ）となる。図１５に示すように、継ぎ部（Ｙ₃ ）の左右近傍では右端モザイク配列部（Ｍ_R ）のマスクパターン（Ｐ１〜Ｐ８）と、左端モザイク配列部（Ｍ_L ）のマスクパターン（Ｑ１〜Ｑ８）とが相互に補間し、モザイク配列部（Ｍ_O ）ではパターン領域中央部（Ｃ）と同様に、正規のマスクパターン配列を構成している。従って、カラーフィルタにおいても、モザイク配列部（Ｍ_O ）では配向制御突起は正規の配列をしている。 FIG. 15 is an enlarged view of the color filter, that is, the region represented by the reference numeral (S) of the color filter shown in FIG. 13, which is formed by divided exposure in which the joint portions (Y ₃ ) are overlapped. is there.
A region where the right end mosaic arrangement portion (M _R ) and the left end mosaic arrangement portion (M _L ) are overlapped becomes the mosaic arrangement portion (M _O ). As shown in FIG. 15, in the vicinity of the left and right of the joint portion (Y ₃ ), the mask pattern (P1 to P8) of the right end mosaic arrangement portion (M _R ) and the mask pattern (Q1 to Q8) of the left end mosaic arrangement portion (M _L ). Are interpolated with each other, and the mosaic array portion (M _O ) forms a normal mask pattern array in the same manner as the pattern region central portion (C). Therefore, also in the color filter, the orientation control protrusions are regularly arranged in the mosaic arrangement portion (M _O ).

図１３に示すように、画面（１１）内の配向制御突起（Ｍｖ）は正規の配列となるが、画面右外（１４Ｒ）には左モザイク配列をした画面右外配向制御突起（Ｍｖ−Ｒ）が形成され、また、画面左外（１４Ｌ）には右モザイク配列をした画面左外配向制御突起（Ｍｖ−Ｌ）が形成されたものとなる。
図１３に示す一例は、モザイク配列の概略を説明するものであり、モザイク配列部（Ｍ_O ）内にはＹ軸に平行に２列の配向制御突起が設けられている。しかし、実際には、例えば、２００列程度のモザイク配列にすることによって、前記液晶表示装置において継ぎムラが観視されるのを回避することができる。 As shown in FIG. 13, the orientation control protrusions (Mv) in the screen (11) are in a regular array, but the screen right outside orientation control protrusions (Mv-R) in the left mosaic arrangement are on the screen right outside (14R). ) And the screen left outer orientation control protrusion (Mv-L) having a right mosaic arrangement is formed on the screen left outer (14L).
The example shown in FIG. 13 describes the outline of the mosaic arrangement, and two rows of alignment control projections are provided in parallel to the Y axis in the mosaic arrangement portion (M _O ). However, in practice, for example, by making a mosaic arrangement of about 200 rows, it is possible to avoid seeing joint unevenness in the liquid crystal display device.

尚、上述した説明においては、配向制御突起について説明を加えてきたが、前記図６に示す積層フォトスペーサー（Ｐｓ）は、画素内遮光部（４１Ｐ）上に形成された第一色目の着色画素の延長パターン（Ｐ１）と、第二色目のスペーサーパターン（Ｐ２）と、第三色目のスペーサーパターン（Ｐ３）と、透明導電膜（４３）と、上部パターン（Ｐ４）で構成されている。
図６に示すように、基本的な機能のカラーフィルタに、配向制御突起（Ｍｖ）と積層フォトスペーサー（Ｐｓ）を加えたカラーフィルタにいおては、配向制御突起（Ｍｖ）の形成と同時に上部パターン（Ｐ４）を形成する。従って、画素内遮光部（４１Ｐ）の形成と、延長パターン（Ｐ１）、スペーサーパターン（Ｐ２）、スペーサーパターン（Ｐ３）の積層の形成と、上部パターン（Ｐ４）の形成は切り離すことができず、上部パターン（Ｐ４）は、積層の位置、すなわち、延長パターン（Ｐ１）、スペーサーパターン（Ｐ２）、スペーサーパターン（Ｐ３）の積層上に配向制御突起（Ｍｖ）の形成と同時に形成する。 In the above description, the alignment control protrusion has been described. However, the laminated photospacer (Ps) shown in FIG. 6 is a colored pixel of the first color formed on the in-pixel light shielding portion (41P). The extended pattern (P1), the second color spacer pattern (P2), the third color spacer pattern (P3), the transparent conductive film (43), and the upper pattern (P4).
As shown in FIG. 6, in a color filter in which an alignment control protrusion (Mv) and a laminated photospacer (Ps) are added to a color filter having a basic function, simultaneously with the formation of the alignment control protrusion (Mv). An upper pattern (P4) is formed. Therefore, the formation of the in-pixel light shielding portion (41P), the formation of the extension pattern (P1), the spacer pattern (P2), the stack of the spacer pattern (P3), and the formation of the upper pattern (P4) cannot be separated. The upper pattern (P4) is formed simultaneously with the formation of the orientation control protrusion (Mv) on the position of the stack, that is, the stack of the extension pattern (P1), the spacer pattern (P2), and the spacer pattern (P3).

また、図１１（ａ）に示す画面右外フォトスペーサー（４４Ｒ）及び画面左外フォトスペーサー（４４Ｌ）の幅（Ｐ）と、図１３に示す右端モザイク配列部（Ｍ_R ）及び左端モザイク配列部（Ｍ_L ）の幅は、限定はされないが略同一の幅のものとなる。 Further, the width (P) of the screen outer right photo spacer (44R) and the screen left outer photo spacer (44L) shown in FIG. 11A, and the right end mosaic arrangement portion (M _R ) and the left end mosaic arrangement portion shown in FIG. The width of (M _L ) is not limited, but is substantially the same width.

ところで、前記図６に示すカラーフィルタ、すなわち、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、画素内遮光部（４１Ｐ）、着色画素（４２）、透明導電膜（４３）、配向制御用突起（Ｍｖ）、積層フォトスペーサー（Ｐｓ）が形成された構成のカラーフィルタであって、１枚のフォトマスクを用いカラーフィルタの画面を左右に２分割した分割露光を行って、各層を形成するカラーフィルタの実際の製造においては、カラーフィルタを構成する上記各層のパターンの形成毎に各層のパターンの良否判定の検査が行われる。   By the way, the color filter shown in FIG. 6, that is, the black matrix (41), the in-pixel light shielding portion (41 P), the colored pixel (42), the transparent conductive film (43), the alignment control protrusion on the glass substrate (40). (Mv) A color filter having a structure in which a laminated photospacer (Ps) is formed, and a color filter that performs divisional exposure by dividing a color filter screen into left and right using a single photomask to form each layer. In the actual manufacture of the filter, an inspection for determining whether or not the pattern of each layer is good is performed every time the pattern of each layer constituting the color filter is formed.

この検査は、画面内で隣接する検査単位毎の比較検査によって行われ、画面への異物付着、パターン欠け、ピンホールなどを検出するものである。この検査においては、上記異物付着などの欠陥の検出に加え露光装置の不具合、例えば、前記図９、或いは図１１（ａ）における、左画面（１１Ｌ）への第１露光の際に右画面（１１Ｒ）を遮光するブラインドシャッターの不具合、又は右画面（１１Ｒ）への第２露光の際に左画面（１１Ｌ）を遮光するブラインドシャッターの不具合をも検出している。   This inspection is performed by a comparative inspection for each adjacent inspection unit in the screen, and detects foreign matter adhesion, pattern chipping, pinholes, and the like on the screen. In this inspection, in addition to detection of defects such as adhesion of foreign matter, a defect of the exposure apparatus, for example, the right screen (first exposure on the left screen (11L) in FIG. 9 or FIG. 11R) is also detected as a blind shutter failure or a blind shutter failure during the second exposure to the right screen (11R).

遮光するブラインドシャッターの作動に不具合が発生すると、例えば、左画面には左画
面に形成すべきパターンと、左画面に形成すべきでないパターンとが形成されてしまうといった現象が起こる。或いは左画面に形成すべきパターンが形成されないといった現象が起こる。
カラーフィルタを構成するパターンである、ブラックマトリックス（４１）、画素内遮光部（４１Ｐ）、着色画素（４２）、配向制御用突起（Ｍｖ）、延長パターン（Ｐ１）、スペーサーパターン（Ｐ２）、スペーサーパターン（Ｐ３）、上部パターン（Ｐ４）の内、例えば、ブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）など画面（１１）内にのみ形成されるパターンにおいては、形成すべきパターンの欠落、形成すべきでないパターンの形成などは容易に検出することができる。 When a malfunction occurs in the operation of the blind shutter that shields light, for example, a phenomenon occurs in which a pattern that should be formed on the left screen and a pattern that should not be formed on the left screen are formed on the left screen. Alternatively, a phenomenon that a pattern to be formed on the left screen is not formed occurs.
Black matrix (41), in-pixel light shielding portion (41P), colored pixel (42), alignment control projection (Mv), extension pattern (P1), spacer pattern (P2), spacer, which are patterns constituting a color filter Of the pattern (P3) and the upper pattern (P4), for example, in the pattern formed only in the screen (11) such as the black matrix (41) and the colored pixel (42), the pattern to be formed is missing or formed. Formation of a pattern that should not be detected can be easily detected.

しかし、画面（１１）外にも形成する、例えば、スペーサーパターン（Ｐ２）、スペーサーパターン（Ｐ３）など、積層フォトスペーサー（Ｐｓ）を構成するパターンにおいては、例えば、形成すべきでないパターンの形成を検出することは困難なことである。
図１６及び図１７は、図１２に示すフォトマスク（ＰＭ２）を用い、図１１（ａ）に示すカラーフィルタを分割露光によって製造する際の、ブラインドシャッターの作動の不具合による継ぎ部（Ｙ₃ ）の近傍での二重露光の発生を説明する断面図である。図１６は、図１１（ａ）中、符号（ＳＣ）で示す継ぎ部（Ｙ₃ ）の近傍を拡大した断面図である。 However, in the pattern constituting the laminated photospacer (Ps) such as the spacer pattern (P2) and the spacer pattern (P3) formed outside the screen (11), for example, a pattern that should not be formed is formed. It is difficult to detect.
16 and 17 show a joint (Y ₃ ) due to a malfunction of the blind shutter when the color filter shown in FIG. 11A is manufactured by the divided exposure using the photomask (PM2) shown in FIG. It is sectional drawing explaining generation | occurrence | production of the double exposure in the vicinity. FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the joint (Y ₃ ) indicated by reference numeral (SC) in FIG.

また、図１２中、符号（ＳＲ）及び符号（ＳＬ）は、図１１（ａ）に示す継ぎ部の近傍（ＳＣ）に対応したフォトマスク（ＰＭ２）の部分を表している。
図１１（ａ）に示す、Ｙ軸（Ｙ₀ ）の左側に形成された、フォトスペーサー（４４）は、図１２に示す、右側の継ぎ部（Ｙ₃ ）の左方に設けられているマスクパターン（４６）に対応している。また、図１１（ａ）に示す、Ｙ軸（Ｙ₀ ）の右側に形成された、フォトスペーサー（４４）は、図１２に示す、左側の継ぎ部（Ｙ₃ ）の右方に設けられているマスクパターン（４６）に対応している。
フォトスペーサー（４４）として、図６に示すスペーサーパターン（Ｐ２）を例にし、ネガ型のフォトレジストを用いている。 Also, in FIG. 12, reference numerals (SR) and (SL) represent portions of the photomask (PM2) corresponding to the vicinity (SC) of the joint shown in FIG.
The photo spacer (44) formed on the left side of the Y axis (Y ₀ ) shown in FIG. 11A is a mask provided on the left side of the right joint (Y ₃ ) shown in FIG. This corresponds to the pattern (46). Further, the photo spacer (44) formed on the right side of the Y axis (Y ₀ ) shown in FIG. 11 (a) is provided on the right side of the left joint (Y ₃ ) shown in FIG. Corresponds to the mask pattern (46).
As the photospacer (44), the spacer pattern (P2) shown in FIG. 6 is taken as an example, and a negative photoresist is used.

図１６は、分割露光を行った際に、第１露光及び第２露光において右ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｒ）及び左ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｌ）は正常に作動し、右ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｒ）及び左ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｌ）の各端（Ｅ）は、Ｙ軸（Ｙ₀ ）に位置している。
従って、フォトレジストへの二重露光はなく、現像処理後にフォトスペーサー（４４）は正常に形成された場合を説明したものである。 FIG. 16 shows that when the divided exposure is performed, the right blind shutter (BS-R) and the left blind shutter (BS-L) operate normally in the first exposure and the second exposure, and the right blind shutter (BS-R). ) And each end (E) of the left blind shutter (BS-L) is located on the Y axis (Y ₀ ).
Accordingly, there is no double exposure to the photoresist, and the case where the photo spacer (44) is normally formed after the development processing is described.

図１６（ａ）に示すように、ガラス基板（１０）上に設けられたネガ型のフォトレジストの塗膜（１７）に、フォトマスク（ＰＭ２）を介した第１露光（Ｌ１）を与え、現像処理を行うとＹ軸（Ｙ₀ ）左側のフォトスペーサー（４４）が形成される。続いて、図１６（ｂ）に示すように、フォトマスク（ＰＭ２）を介した第２露光（Ｌ２）を与え、現像処理を行うとＹ軸（Ｙ₀ ）右側のフォトスペーサー（４４）が形成される。 As shown in FIG. 16 (a), the first exposure (L1) through the photomask (PM2) is given to the negative photoresist coating film (17) provided on the glass substrate (10), When the development process is performed, a photo spacer (44) on the left side of the Y axis (Y ₀ ) is formed. Subsequently, as shown in FIG. 16B, when the second exposure (L2) through the photomask (PM2) is given and the development process is performed, a photo spacer (44) on the right side of the Y axis (Y ₀ ) is formed. Is done.

第１露光及び第２露光において、右ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｒ）及び左ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｌ）は正常に作動しているためにフォトレジストへの二重露光はなく、フォトスペーサー（４４）は正常に形成されている。尚、図１６においては、現像処理後のフォトスペーサー（４４）の断面形状を示してある。   In the first exposure and the second exposure, the right blind shutter (BS-R) and the left blind shutter (BS-L) operate normally, so there is no double exposure to the photoresist, and the photo spacer (44). Is formed normally. In FIG. 16, the cross-sectional shape of the photospacer (44) after the development processing is shown.

図１７は、分割露光を行った際に、第１露光において右ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｒ）は正常に作動し、第２露光において左ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｌ）が正常に作動せず、左ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｌ）は図１７中、右方への位置ズレが生じ、その端（Ｅ）が符号（Ｙ₁₀）に位置した場合である。
図１７（ａ）に示すように、ガラス基板（１０）上に設けられたネガ型のフォトレジストの塗膜（１７）に、フォトマスク（ＰＭ２）を介した第１露光（Ｌ１）を与え、現像処理を行うとＹ軸（Ｙ₀ ）左側のフォトスペーサー（４４）が形成される。 FIG. 17 shows that when the divided exposure is performed, the right blind shutter (BS-R) operates normally in the first exposure, and the left blind shutter (BS-L) does not operate normally in the second exposure. In FIG. 17, the blind shutter (BS-L) is displaced rightward and its end (E) is positioned at the symbol (Y ₁₀ ).
As shown to Fig.17 (a), the 1st exposure (L1) through a photomask (PM2) was given to the negative photoresist coating film (17) provided on the glass substrate (10), When the development process is performed, a photo spacer (44) on the left side of the Y axis (Y ₀ ) is formed.

続いて、図１７（ｂ）に示すように、ガラス基板（１０）上に設けられたネガ型のフォトレジストの塗膜（１７）に、フォトマスク（ＰＭ２）を介した第２露光（Ｌ２）を与え、現像処理を行うとＹ軸（Ｙ₀ ）右側のフォトスペーサー（４４）が形成される。同時に、左ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｌ）の端（Ｅ）の符号（Ｙ₁₀）への位置ズレによって、Ｙ軸（Ｙ₀ ）左側近傍には第２露光（Ｌ２）が与えられ、フォトマスク（ＰＭ２）のマスクパターン（４６）の配列が延長された配列を有するマスクパターン（４６Ｌ）を介した光によって、先に露光されたＹ軸（Ｙ₀ ）左側のフォトスペーサー（４４）の部分には二重露光がされる。 Subsequently, as shown in FIG. 17B, the second exposure (L2) through the photomask (PM2) is applied to the negative photoresist coating film (17) provided on the glass substrate (10). When the development process is performed, a photo spacer (44) on the right side of the Y axis (Y ₀ ) is formed. At the same time, the second exposure (L2) is given in the vicinity of the left side of the Y axis (Y ₀ ) due to the positional shift of the end (E) of the left blind shutter (BS-L) to the sign (Y ₁₀ ), and the photomask ( The portion of the photo spacer (44) on the left side of the Y axis (Y ₀ ) previously exposed by the light through the mask pattern (46L) having an extended arrangement of the mask pattern (46) of PM2) Double exposure is performed.

このように、マスクパターン（４６）とマスクパターン（４６Ｌ）が二重露光されると、例えば、第１露光時のフォトマスク（ＰＭ２）のアライメントと、第２露光時のフォトマスク（ＰＭ２）のアライメントのズレによって、得られるフォトスペーサー（４４’）の平面形状は円形から長円形へと変化したものとなってしまう。しかし、このアライメントのズレに起因した長円形は、前記画面内で隣接する検査単位毎の比較検査によっては検出することができない。   Thus, when the mask pattern (46) and the mask pattern (46L) are subjected to double exposure, for example, the alignment of the photomask (PM2) at the first exposure and the photomask (PM2) at the second exposure Due to the misalignment, the planar shape of the obtained photo spacer (44 ′) changes from a circular shape to an oval shape. However, the oval shape caused by this misalignment cannot be detected by a comparative inspection for each adjacent inspection unit in the screen.

ブラインドシャッターの作動の不具合によって、長円形のフォトスペーサー（４４’）が形成されてしまったカラーフィルタと、対向基板を貼り合わせてパネルを作製すると、長円形のフォトスペーサー（４４’）の断面積は、正常な円形のフォトスペーサー（４４）の断面積より微小ではあるが大きいので、貼り合わせの際の押圧による変形量が異なり、継ぎ部近傍での基板間にギャップむらが生じる。すなわち、液晶表示装置においては、継ぎ部近傍でのギャップむらに起因した表示むらが発生する。
しかし、継ぎ部近傍での表示むらを引き起こすフォトスペーサーの平面形状の変化を比較検査によっては検出することはできない。
特開２００１−２７２６６７号公報 特開２００４−３０２４３９号公報 特開２００５−３８５４号公報 When a panel is manufactured by bonding a color filter in which an oval photo spacer (44 ') is formed due to a malfunction of the blind shutter and an opposing substrate, a cross-sectional area of the oval photo spacer (44') is obtained. Is smaller than the cross-sectional area of the normal circular photo spacer (44), but is different in the amount of deformation due to pressing during bonding, and gap unevenness occurs between the substrates in the vicinity of the joint. That is, in the liquid crystal display device, display unevenness due to gap unevenness in the vicinity of the joint portion occurs.
However, a change in the planar shape of the photo spacer that causes display unevenness in the vicinity of the joint cannot be detected by comparative inspection.
JP 2001-272667 A JP 2004-302439 A JP 2005-3854 A

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、１枚のフォトマスクを用い、カラーフィルタの１画面を左右に２分割した分割露光を行うフォトリソグラフィ法により配向制御用突起及び積層フォトスペーサーを具備した液晶表示装置用カラーフィルタを製造する方法において、積層フォトスペーサーを形成する際の分割露光時におけるブラインドシャッターの作動の不具合の有無を、カラーフィルタの画面内を比較検査することによって容易に検出することのできる液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供することを課題とするものである。
また、上記製造方法を用いて製造した、継ぎムラを観視させることのない液晶表示装置用カラーフィルタを提供することを課題とする。
これにより、液晶表示装置における、継ぎ部近傍でのギャップむらに起因した表示むらの発生を事前に回避することができる。 The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and uses a single photomask, and alignment control projections and lamination by a photolithography method in which one screen of a color filter is divided into left and right divided exposures. In a method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display device equipped with a photo spacer, by comparing and inspecting the screen of the color filter for the presence or absence of a malfunction of the blind shutter at the time of divided exposure when forming a laminated photo spacer It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display device that can be easily detected.
It is another object of the present invention to provide a color filter for a liquid crystal display device, which is manufactured using the above manufacturing method and does not allow the joint unevenness to be viewed.
Thereby, it is possible to avoid in advance the occurrence of display unevenness due to gap unevenness in the vicinity of the joint in the liquid crystal display device.

本発明は、１枚のフォトマスクを用い該フォトマスクよりサイズの大きなカラーフィルタの画面を左右に２分割した分割露光を行う際に、該画面内の左画面への露光時には右画面をブラインドシャッターにて遮光し、右画面への露光時には左画面をブラインドシャッターにて遮光する露光装置を用い、ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜、上部パターンを順次に積層することで、配向制御突起及び積層フォトスペーサーを形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
１）前記フォトマスクとして、前記画面内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ１）をＬとするとき、前記カラーフィルタの画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ２）を、前記Ｌの約数以外の、前記Ｌより小さいＭとしたフォトマスクを用い、
２）前記繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ１）である前記Ｌを前記検査方向の検査単位として、前記カラーフィルタの画面内の比較検査を行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。 In the present invention, when a single photomask is used and a color filter screen larger in size than the photomask is divided into left and right divided exposures, the right screen is blind-shuttered when the left screen is exposed. By using an exposure device that shields light at the right screen and shades the left screen with a blind shutter at the time of exposure to the right screen, by sequentially laminating at least a black matrix, a colored pixel, a transparent conductive film, and an upper pattern on the glass substrate , In the method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display device that forms alignment control protrusions and laminated photo spacers ,
1) As the photomask, a mask pattern corresponding to the laminated photospacer in the screen, the number of pixels (T1) of the minimum pitch of the mask pattern arrangement in the direction corresponding to the inspection direction for comparatively inspecting the inside of the screen. When L, the mask pattern corresponding to the laminated photo spacer outside the screen of the color filter has the minimum number of pixels of the minimum pitch of the mask pattern arrangement in the direction corresponding to the inspection direction for comparatively inspecting the inside of the screen (T2) Using a photomask with M smaller than L other than a divisor of L ,
2) Production of a color filter for a liquid crystal display device, wherein a comparison inspection within the screen of the color filter is performed using the L, which is the number of pixels (T1) of the minimum pitch, as the inspection unit in the inspection direction. Is the method.

また、本発明は、１枚のフォトマスクを用い該フォトマスクよりサイズの大きなカラーフィルタの画面を左右に２分割した分割露光を行う際に、該画面内の左画面への露光時には右画面をブラインドシャッターにて遮光し、右画面への露光時には左画面をブラインドシャッターにて遮光する露光装置を用い、ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜、上部パターンを順次に積層することで、配向制御突起及び積層フォトスペーサーを形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
１）前記フォトマスクとして、前記画面内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ１）をＬとするとき、前記カラーフィルタの画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ３）を、前記Ｌの約数、又は前記Ｌの倍数のＮとし、前記画面外の積層フォトスペーサーが設けられている着色画素とは異なる色の着色画素の位置に対応したフォトマスク上の位置に、さらに積層フォトスペーサー形成用のマスクパターンを設けたフォトマスクを用い、
２）前記繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ１）である前記Ｌを前記検査方向の検査単位とし、前記着色画素及び該着色画素とは異なる色の着色画素を少なくとも含む画素数を前記検査方向と直角方向の検査単位として、前記カラーフィルタの画面内の比較検査を行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法である。 Further, the present invention provides a right screen for exposure to the left screen in the screen when performing a split exposure by dividing the screen of a color filter having a size larger than that of the photomask into two left and right using a single photomask. Using an exposure device that shields light with a blind shutter and shields the left screen with a blind shutter when exposing to the right screen, at least a black matrix, colored pixels, a transparent conductive film, and an upper pattern are sequentially stacked on the glass substrate. In the method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display device for forming alignment control protrusions and laminated photo spacers ,
1) As the photomask, a mask pattern corresponding to the laminated photospacer in the screen, the number of pixels (T1) of the minimum pitch of the mask pattern arrangement in the direction corresponding to the inspection direction for comparatively inspecting the inside of the screen. When L, the mask pattern corresponding to the laminated photo spacer outside the screen of the color filter, the number of pixels of the minimum pitch of repetition of the mask pattern arrangement in the direction corresponding to the inspection direction for comparatively inspecting the inside of the screen (T3) Is a divisor of L or a multiple of L, and a position on the photomask corresponding to the position of the colored pixel different from the colored pixel provided with the laminated photo spacer outside the screen, Furthermore, using a photomask provided with a mask pattern for forming a laminated photospacer,
2) The L, which is the number of pixels with the minimum pitch (T1), is set as the inspection unit in the inspection direction, and the number of pixels including at least the colored pixels and the colored pixels different from the colored pixels is defined as the inspection direction. A method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display device, wherein a comparison inspection within a screen of the color filter is performed as an inspection unit in a perpendicular direction.

また、本発明は、請求項１又は請求項２に記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタである。   In addition, the present invention is a color filter for a liquid crystal display device manufactured using the method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display device according to claim 1 or 2.

本発明は、１枚のフォトマスクを用い該フォトマスクよりサイズの大きなカラーフィルタの画面を左右に２分割した分割露光を行う際に、該画面内の左画面への露光時には右画面をブラインドシャッターにて遮光し、右画面への露光時には左画面をブラインドシャッターにて遮光する露光装置を用い、ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜、配向制御突起及び積層フォトスペーサーを順次に形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
１）前記フォトマスクとして、前記画面内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小単位（画素数）（Ｔ１）をＬとするとき、前記カラーフィルタの画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小単位（画素数）（Ｔ２）
を、前記画面内の積層フォトスペーサーと前記画面外の積層フォトスペーサーによるパターン露光が合成されたときの最小ピッチが、前記Ｌ及び前記Ｌの約数以外のＭとしたフォトマスクを用い、
２）前記繰り返しの最小単位（画素数）（Ｔ１）である前記Ｌを前記検査方向の検査単位として、前記カラーフィルタの画面内の比較検査を行うので、積層フォトスペーサーを形成する際の分割露光時におけるブラインドシャッターの作動の不具合の有無を、カラーフィルタの画面内を比較検査することによって容易に検出することのできる液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法となる。 In the present invention, when a single photomask is used and a color filter screen larger in size than the photomask is divided into left and right divided exposures, the right screen is blind-shuttered when the left screen is exposed. Using an exposure device that shields the left screen with a blind shutter when exposing to the right screen, at least a black matrix, a colored pixel, a transparent conductive film, an alignment control protrusion, and a laminated photo spacer are sequentially formed on the glass substrate. In the manufacturing method of the color filter for liquid crystal display devices to be formed,
1) As the photomask, the minimum unit (number of pixels) of the mask pattern arrangement of the mask pattern corresponding to the laminated photospacer in the screen in the direction corresponding to the inspection direction for comparative inspection in the screen (number of pixels) (T1) When L is L, the minimum unit (number of pixels) of repetitive mask pattern arrangement in the direction corresponding to the inspection direction for comparatively inspecting the inside of the screen of the mask pattern corresponding to the laminated photo spacer outside the screen of the color filter ( T2)
Using a photomask in which the minimum pitch when pattern exposure by the laminated photo spacer in the screen and the laminated photo spacer outside the screen is combined is M other than L and a divisor of L,
2) Since the L is the minimum unit (number of pixels) (T1) of the repetition and the inspection unit in the inspection direction is used as the inspection unit in the color filter, the divided exposure is performed when forming the laminated photo spacer. This is a method for manufacturing a color filter for a liquid crystal display device that can easily detect the presence or absence of a malfunction of the blind shutter at the time by comparing and inspecting the screen of the color filter.

以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１は、本発明による液晶表示装置用カラーフィルタの一実施例における積層フォトスペーサーを説明する部分断面図である。本発明による液晶表示装置用カラーフィルタは、ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス及び画素内遮光部、着色画素、透明導電膜、配向制御突起及び積層フォトスペーサーが順次に形成されたものであって、１枚のフォトマスクを用い画面を左右に２分割した分割露光によって製造された液晶表示装置用カラーフィルタである。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
FIG. 1 is a partial cross-sectional view illustrating a laminated photospacer in an embodiment of a color filter for a liquid crystal display device according to the present invention. The color filter for a liquid crystal display device according to the present invention is formed by sequentially forming at least a black matrix, an in-pixel light-shielding portion, a colored pixel, a transparent conductive film, an alignment control protrusion, and a laminated photospacer on a glass substrate. It is a color filter for a liquid crystal display device manufactured by divided exposure in which a screen is divided into left and right using a single photomask.

図１（ａ）は、画面内の着色画素の部分断面図であり、また、図１（ｂ）は、画面外の部分断面図である。図１（ａ）に示すように、画面内では、第一色目の着色画素（４２−１）の下方に画素内遮光部（４１Ｐ）が設けられており、積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）は、第一色目の着色画素の延長パターン（Ｐ１）、第二色目のスペーサーパターン（Ｐ２）、第三色目のスペーサーパターン（Ｐ３）、透明導電膜（４３）、上部パターン（Ｐ４）で構成されている。
一方、図１（ｂ）に示すように、画面外には第一色目の着色画素（４２−１）は設けられておらず、画素内遮光部（４１Ｐ）上の第一色目のスペーサーパターン（Ｐ１’）、第二色目のスペーサーパターン（Ｐ２）、第三色目のスペーサーパターン（Ｐ３）、透明導電膜（４３）、上部パターン（Ｐ４）で積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２）を構成している。 FIG. 1A is a partial cross-sectional view of the colored pixels in the screen, and FIG. 1B is a partial cross-sectional view outside the screen. As shown in FIG. 1A, an intra-pixel light-shielding portion (41P) is provided below the first color pixel (42-1) in the screen, and the laminated photospacer (Ps-1) is The first color coloring pixel extension pattern (P1), the second color spacer pattern (P2), the third color spacer pattern (P3), the transparent conductive film (43), and the upper pattern (P4). Yes.
On the other hand, as shown in FIG. 1B, the first-color colored pixel (42-1) is not provided outside the screen, and the first-color spacer pattern (41P) on the in-pixel light-shielding portion (41P). P1 ′), the second color spacer pattern (P2), the third color spacer pattern (P3), the transparent conductive film (43), and the upper pattern (P4) constitute the laminated photospacer (Ps-2). .

図３（ａ）は、カラーフィルタの画面内の一部分を表した平面図であり、図２（ｂ）に示す本発明の液晶表示装置用カラーフィルタの一実施例の画面内の一部分、符号（Ｑ１）で示す領域を拡大したものである。白太矢印で示すＸ、Ｙが各々図２におけるＸ軸、Ｙ軸の方向に対応している。説明上、図３にては、９０°回転させた平面図となっている。
また、図３（ａ）においては、カラーフィルタを構成する各層の内、着色画素と積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）のみを示してある。符号（４２−１）、（４２−２）、（４２−３）は各々第一色目、第二色目、第三色目の着色画素、例えば、赤色、緑色、青色の着色画素を示している。 FIG. 3A is a plan view showing a part of the color filter in the screen. A part of the color filter for the liquid crystal display device of the present invention shown in FIG. This is an enlargement of the area indicated by Q1). X and Y indicated by white thick arrows respectively correspond to the directions of the X axis and the Y axis in FIG. For explanation, FIG. 3 is a plan view rotated by 90 °.
FIG. 3A shows only the colored pixels and the laminated photospacer (Ps-1) among the layers constituting the color filter. Reference numerals (42-1), (42-2), and (42-3) denote first, second, and third color pixels, for example, red, green, and blue color pixels.

各色の着色画素は、矢印で示すＹ軸方向に配列されている。また、図３（ａ）は、積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）が、第一色目の着色画素（４２−１）上にてＹ軸方向に、有、有、無、有、有、無、・・・の順に設けられている例である。図３（ａ）に示すように、画面内を比較検査することが可能な検査単位（Ｋ１）は、Ｘ軸方向は第一色目、第二色目、第三色目の着色画素（（４２−１）、（４２−２）、（４２−３））の３画素、Ｙ軸方向は符号（Ｌ）で示す３画素となる。Ｙ軸方向における積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）の繰り返しの最小ピッチの画素数である（Ｌ）は、図３（ａ）に示す積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）の検査方向の配列状態にかかわり、積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）の配列における繰り返しの最小ピッチの画素数をもって（Ｌ）とする。   The colored pixels of each color are arranged in the Y-axis direction indicated by arrows. 3A shows that the laminated photospacer (Ps-1) has Y, Y, Y, Y, Y, Y, Y in the Y-axis direction on the colored pixel (42-1) of the first color. It is an example provided in the order of. As shown in FIG. 3A, the inspection unit (K1) capable of comparatively inspecting the inside of the screen has colored pixels ((42-1) in the first, second, and third colors in the X-axis direction. ), (42-2), and (42-3)), and the Y-axis direction is three pixels indicated by the symbol (L). (L), which is the number of pixels of the minimum pitch of the laminated photo spacer (Ps-1) in the Y-axis direction, is related to the arrangement state of the laminated photo spacer (Ps-1) in the inspection direction shown in FIG. The number of pixels with the minimum pitch in the arrangement of the stacked photospacers (Ps-1) is defined as (L).

図３（ａ）においては、前記のように、Ｙ軸方向における積層フォトスペーサー（Ｐｓ
−１）の配列が、有、有、無、有、有、無、・・・の順であるために、積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ１）である（Ｌ）は、Ｌ＝３となる。
隣接する検査単位（Ｋ１）での比較検査が繰り返し行われ、検査単位毎の良否判定がされる。白太矢印で示すＹ軸方向の比較検査が終了すると、同様にしてＸ軸方向に隣接する検査単位でのＹ軸方向へと比較検査を行うようになっている。 In FIG. 3A, as described above, the laminated photospacer (Ps in the Y-axis direction).
-1) is the order of presence, presence, absence, presence, presence, absence,..., The number of pixels (T1) with the minimum pitch of the multilayer photospacer (Ps-1) is repeated. (L) is L = 3.
The comparison inspection in the adjacent inspection unit (K1) is repeatedly performed, and pass / fail judgment is performed for each inspection unit. When the comparison inspection in the Y-axis direction indicated by the white arrow is completed, the comparison inspection is similarly performed in the Y-axis direction in the inspection unit adjacent in the X-axis direction.

図３（ｂ）は、カラーフィルタの画面外の一部分を表した平面図であり、図２（ｂ）に示すカラーフィルタの画面外の一部分、符号（Ｑ２Ｒ、Ｑ２Ｌ）で示す領域を拡大したものである。図３（ｂ）においては、前記第一色目、第二色目、第三色目の着色画素（（４２−１）、（４２−２）、（４２−３））は形成されておらず、図１（ｂ）に示す積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２）が、前記画面内の第一色目の着色画素（４２−１）に対応した位置に有、無、有、無、・・・の順に設けられている例である。   FIG. 3B is a plan view showing a part of the color filter outside the screen, and is an enlarged part of the part outside the screen of the color filter shown in FIG. 2B, which is indicated by reference numerals (Q2R, Q2L). It is. In FIG. 3B, the colored pixels ((42-1), (42-2), (42-3)) of the first color, the second color, and the third color are not formed. The laminated photospacer (Ps-2) shown in 1 (b) is provided in the order corresponding to the colored pixel (42-1) of the first color in the screen in the order of presence, absence, presence, absence,. This is an example.

本発明においては、前記画面内における積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）の検査方向の配列の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ１）をＬとするとき（図３（ａ）においてはＬ＝３）、画面外における積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２）の検査方向の配列の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ２）を、前記画面内の積層フォトスペーサーと前記画面外の積層フォトスペーサーによるパターン露光が合成されたときの最小ピッチが、前記Ｌ及び前記Ｌの約数以外のＭとすることを特徴としている。
図３（ｂ）は、繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ１）をＬ＝３において、ＭをＬの約数以外であるＭ＝２と設定した例である。 In the present invention, when the number of pixels (T1) of the minimum pitch of the arrangement in the inspection direction of the laminated photospacer (Ps-1) in the screen is L (L = 3 in FIG. 3A). The pattern exposure by the laminated photo spacer in the screen and the laminated photo spacer outside the screen is combined with the number of pixels (T2) of the minimum pitch of the arrangement in the inspection direction of the laminated photo spacer (Ps-2) outside the screen. In this case, the minimum pitch is M other than L and a divisor of L.
FIG. 3B shows an example in which the number of pixels (T1) having the minimum repetition pitch is set to L = 3, and M is set to M = 2, which is other than a divisor of L.

図２（ａ）は、図２（ｂ）に示すカラーフィルタを形成する際に用いる、本発明におけるフォトマスクの概略を示す平面図である。図２（ａ）に示すように、フォトマスク（ＰＭ５）において、符号（１２）で示す領域は、上記カラーフィルタの左画面（１１Ｌ）と右画面（１１Ｒ）に対応した領域を表している。このパターン領域（１２）内には、画面内の積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）を形成するためのマスクパターン（４８）が全面に設けられている。   FIG. 2A is a plan view schematically showing a photomask according to the present invention used when forming the color filter shown in FIG. As shown in FIG. 2A, in the photomask (PM5), an area indicated by reference numeral (12) represents an area corresponding to the left screen (11L) and the right screen (11R) of the color filter. In the pattern region (12), a mask pattern (48) for forming the laminated photo spacer (Ps-1) in the screen is provided on the entire surface.

前記図３（ａ）はまた、図２（ａ）に示すフォトマスク（ＰＭ５）のパターン領域内の一部分、符号（Ｑ１）で示す領域を拡大して説明する図を兼ねたものでもある。図３（ａ）における積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）の位置がマスクパターン（４８）の位置となる。
また、パターン領域左外（Ｑ２Ｌ）及びパターン領域右外（Ｑ２Ｒ）には、図３（ｂ）に示す積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２）を形成するためのマスクパターン（４８Ｌ、４８Ｒ）設けられている。 FIG. 3A also serves as a diagram for explaining a part of the pattern area of the photomask (PM5) shown in FIG. The position of the laminated photospacer (Ps-1) in FIG. 3A is the position of the mask pattern (48).
Further, mask patterns (48L, 48R) for forming the laminated photo spacer (Ps-2) shown in FIG. 3B are provided on the left outside pattern region (Q2L) and the right outside pattern region (Q2R). Yes.

図１８は、図２（ａ）に示すフォトマスク（ＰＭ５）を用い、図２（ｂ）に示すカラーフィルタを分割露光によって製造する際に、ブラインドシャッターの作動に不具合が発生した場合を説明する断面図である。図１８は、前記図１７に対応した図であり、図１７におけるフォトマスク（ＰＭ２）に代わり、本発明におけるフォトマスク（ＰＭ５）を用いた例である。
積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）として、図１に示すスペーサーパターン（Ｐ２）を例にし、ネガ型のフォトレジストを用いている。 FIG. 18 illustrates a case where a malfunction occurs in the operation of the blind shutter when the color filter shown in FIG. 2B is manufactured by the divided exposure using the photomask (PM5) shown in FIG. It is sectional drawing. FIG. 18 is a diagram corresponding to FIG. 17 and shows an example in which the photomask (PM5) in the present invention is used instead of the photomask (PM2) in FIG.
As the laminated photospacer (Ps-1), the spacer pattern (P2) shown in FIG. 1 is taken as an example, and a negative photoresist is used.

図１８は、分割露光を行った際に、第１露光において右ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｒ）は正常に作動し、第２露光において左ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｌ）が正常に作動せず、左ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｌ）は図１８中、右方への位置ズレが生じ、その端（Ｅ）が符号（Ｙ₁₀）に位置した場合である。
図１８（ａ）に示すように、ガラス基板（１０）上に設けられたネガ型のフォトレジストの塗膜（１７）に、フォトマスク（ＰＭ５）を介した第１露光（Ｌ１）を与え、現像処理を行うとＹ軸（Ｙ₀ ）左側の積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１（Ｐ２））が形成される。この積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）の配列は、図３（ａ）に示す積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）の配列である。 FIG. 18 shows that when the divided exposure is performed, the right blind shutter (BS-R) operates normally in the first exposure, and the left blind shutter (BS-L) does not operate normally in the second exposure. In FIG. 18, the blind shutter (BS-L) is displaced rightward and its end (E) is positioned at the symbol (Y ₁₀ ).
As shown in FIG. 18 (a), the first exposure (L1) through the photomask (PM5) is given to the negative photoresist coating film (17) provided on the glass substrate (10), When the development processing is performed, a laminated photo spacer (Ps-1 (P2)) on the left side of the Y axis (Y ₀ ) is formed. The arrangement of the laminated photo spacers (Ps-1) is the arrangement of the laminated photo spacers (Ps-1) shown in FIG.

続いて、図１８（ｂ）に示すように、ガラス基板（１０）上に設けられたネガ型のフォトレジストの塗膜（１７）に、フォトマスク（ＰＭ５）を介した第２露光（Ｌ２）を与え、現像処理を行うとＹ軸（Ｙ₀ ）右側の積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２（Ｐ２））が形成される。
同時に、左ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｌ）の端（Ｅ）の符号（Ｙ₁₀）への位置ズレによって、Ｙ軸（Ｙ₀ ）左側近傍には第２露光（Ｌ２）が与えられ、フォトマスク（ＰＭ５）のパターン領域左外（Ｑ２Ｌ）のマスクパターン（４８Ｌ）を介した光によって積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２）が形成される。この積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２）の配列は、図３（ｂ）に示す積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２）の配列である。 Subsequently, as shown in FIG. 18B, the second exposure (L2) through the photomask (PM5) is applied to the negative photoresist coating film (17) provided on the glass substrate (10). When the development processing is performed, a laminated photo spacer (Ps-2 (P2)) on the right side of the Y axis (Y ₀ ) is formed.
At the same time, the second exposure (L2) is given in the vicinity of the left side of the Y axis (Y ₀ ) due to the positional shift of the end (E) of the left blind shutter (BS-L) to the sign (Y ₁₀ ), and the photomask ( The laminated photospacer (Ps-2) is formed by light through the mask pattern (48L) on the left outside (Q2L) of the pattern area of PM5). The arrangement of the laminated photo spacers (Ps-2) is the arrangement of the laminated photo spacers (Ps-2) shown in FIG.

図１８（ｂ）においては、説明上、積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）と積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２）を並列して描画してあるが、実際には、図１８（ｂ）の紙面に対し垂直方向が前記Ｙ軸方向となるので、紙面の垂直方向に積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）と積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２）が配列したものとなっている。   In FIG. 18B, for the sake of explanation, the laminated photo spacer (Ps-1) and the laminated photo spacer (Ps-2) are drawn in parallel, but in actuality, on the paper surface of FIG. On the other hand, since the vertical direction is the Y-axis direction, the laminated photospacer (Ps-1) and the laminated photospacer (Ps-2) are arranged in the vertical direction on the paper surface.

図３（ｃ）は、上記のように、左ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｌ）の作動の不具合によって形成されたカラーフィルタにおけるＹ軸（Ｙ₀ ）左側近傍の積層フォトスペーサー（Ｐｓ−１）と積層フォトスペーサー（Ｐｓ−２）の配列の状態を示したものである。
図３（ｃ）は、図３（ａ）に示す配列のマスクパターン（４８）と図３（ｂ）に示す配列のマスクパターン（４８Ｌ）が二重露光されたものなので、図３（ｃ）に示すように、形成された積層フォトスペーサーは、Ｙ軸方向に有、有、有、有、有、無、・・・の順に配列されたものとなる。 FIG. 3 (c) shows a stacked photo spacer (Ps-1) and a stacked layer near the left side of the Y axis (Y ₀ ) in the color filter formed by the malfunction of the left blind shutter (BS-L) as described above. The arrangement state of the photospacer (Ps-2) is shown.
In FIG. 3C, the mask pattern 48 shown in FIG. 3A and the mask pattern 48L shown in FIG. 3B are double-exposed. As shown in FIG. 4, the formed laminated photo spacers are arranged in the order of Yes, Yes, Yes, Yes, Yes, No,... In the Y-axis direction.

このような配列をしたカラーフィルタの画面内を、前記検査単位（Ｋ１）をもってＹ軸方向に比較検査を行うと、検査単位（Ｋ１）間での積層フォトスペーサーの配列の相違からして、ブラインドシャッターにおける作動の不具合の有無を容易に判定することができるものとなる。   When a comparison inspection is performed in the Y-axis direction with the inspection unit (K1) in the screen of the color filter having such an arrangement, a blind is caused by a difference in the arrangement of the laminated photo spacers between the inspection units (K1). It is possible to easily determine whether there is a malfunction in the shutter.

また、図１９は、請求項２に係わる発明における積層フォトスペーサーの配列の一例を示す断面図である。図１９は、前記図３（ｃ）に対応した図であり、左ブラインドシャッター（ＢＳ−Ｌ）の作動に不具合があった際の、カラーフィルタのＹ軸（Ｙ₀ ）左側近傍での積層フォトスペーサーの配列の状態を示したものである。画面内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ１）であるＬは、Ｌ＝３とし、画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ３）であるＮをＬの約数である１（Ｎ＝１）とした例である。 FIG. 19 is a cross-sectional view showing an example of the arrangement of laminated photo spacers in the invention according to claim 2. FIG. 19 is a diagram corresponding to FIG. 3 (c), and shows a laminated photo near the left side of the Y axis (Y ₀ ) of the color filter when there is a malfunction in the operation of the left blind shutter (BS-L). This shows the state of the spacer arrangement. L, which is the number of pixels (T1) of the minimum repeatable pitch of the mask pattern array corresponding to the laminated photospacer in the screen, is L = 3, and the minimum repeatable pitch of the mask pattern array corresponding to the laminated photospacer outside the screen This is an example in which N which is the number of pixels (T3) is 1 (N = 1) which is a divisor of L.

図１９に示すように、第二色目の着色画素の位置に、さらに積層フォトスペーサー（Ｐｓ−３）を設けることにより、前記検査単位（Ｋ１）でのＹ軸方向への比較検査でブラインドシャッターにおける作動の不具合の有無を容易に判定することができる。   As shown in FIG. 19, by providing a laminated photo spacer (Ps-3) at the position of the colored pixel of the second color, in the blind shutter in the comparative inspection in the Y-axis direction in the inspection unit (K1). It is possible to easily determine whether there is a malfunction in the operation.

（ａ）は、本発明の液晶表示装置用カラーフィルタの一実施例の画面内の着色画素の部分断面図である。（ｂ）は、画面外の部分断面図である。(A) is a fragmentary sectional view of the colored pixel in the screen of one Example of the color filter for liquid crystal display devices of this invention. (B) is a partial cross-sectional view outside the screen. （ａ）は、図２（ｂ）に示すカラーフィルタを形成する際に用いるフォトマスクの概略を示す平面図である。（ｂ）は、本発明の液晶表示装置用カラーフィルタの一実施例の平面図である。(A) is a top view which shows the outline of the photomask used when forming the color filter shown in FIG.2 (b). (B) is a top view of one Example of the color filter for liquid crystal display devices of this invention. （ａ）は、図２（ｂ）に示すカラーフィルタの画面内の一部分表した平面図である。（ｂ）は、画面内の一部分表した平面図である。FIG. 3A is a plan view showing a part of the screen of the color filter shown in FIG. FIG. 2B is a plan view showing a part of the screen. 液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically an example of the color filter used for a liquid crystal display device. 図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line X-X ′ of the color filter illustrated in FIG. 4. 配向制御用突起と積層フォトスペーサーを具備させたカラーフィルタの一例の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of an example of the color filter provided with the protrusion for orientation control and the laminated photo spacer. フォトスペーサーが形成された液晶表示装置用カラーフィルタの部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the color filter for liquid crystal display devices in which the photo spacer was formed. （ａ）は、ＭＶＡ−ＬＣＤの断面を模式的に示した説明図である。（ｂ）は、ＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタの他例の一画素を拡大して示す平面図である。（ｃ）は、ＭＶＡ−ＬＣＤ用カラーフィルタの他例の一画素を拡大して示す断面図である。(A) is explanatory drawing which showed the cross section of MVA-LCD typically. (B) is an enlarged plan view showing one pixel of another example of the color filter for MVA-LCD. (C) is sectional drawing which expands and shows one pixel of the other example of the color filter for MVA-LCD. 分割露光法で製造したカラーフィルタの一例の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of an example of the color filter manufactured with the division | segmentation exposure method. 図９に示すカラーフィルタの一例の着色画素を形成する際に用いるフォトマスクの概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of the photomask used when forming the colored pixel of an example of the color filter shown in FIG. （ａ）は、フォトスペーサーが設けられた、サイズの大きなカラーフィルタにおけるフォトスペーサーの配列を示す平面図である。（ｂ）は、対向基板を貼り合わせた際の関係を示す断面図である。(A) is a top view which shows the arrangement | positioning of the photo spacer in the large size color filter provided with the photo spacer. (B) is sectional drawing which shows the relationship at the time of bonding a counter substrate together. 図１１（ａ）に示すカラーフィルタのフォトスペーサーを形成する際に用いるフォトマスクの概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of the photomask used when forming the photo spacer of the color filter shown to Fig.11 (a). サイズの大きなカラーフィルタにおける配向制御突起の配列の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the arrangement | sequence of the orientation control protrusion in a color filter with a big size. 図１３に示す配向制御突起を形成する際に用いるフォトマスクの一例の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of an example of the photomask used when forming the orientation control protrusion shown in FIG. 左モザイク配列と右モザイク配列が相互に補間する関係を説明する平面図である。It is a top view explaining the relationship which a left mosaic arrangement | sequence and a right mosaic arrangement | sequence interpolate mutually. ブラインドシャッターの作動の不具合による二重露光の発生を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining generation | occurrence | production of double exposure by the malfunction of a blind shutter. ブラインドシャッターの作動の不具合による二重露光の発生を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining generation | occurrence | production of double exposure by the malfunction of a blind shutter. 図２（ｂ）に示すカラーフィルタを製造する際に、ブラインドシャッターの作動の不具合が発生した場合を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the case where the malfunction of a blind shutter generate | occur | produced when manufacturing the color filter shown in FIG.2 (b). 請求項２に係わる発明における積層フォトスペーサーの配列の一例を示す断面図である。5 is a cross-sectional view showing an example of an arrangement of laminated photo spacers in the invention according to claim 2. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

４、７、８、９・・・カラーフィルタ
１０、４０・・・ガラス基板
１１・・・カラーフィルタの画面
１１Ｌ・・・カラーフィルタの左画面
１１Ｒ・・・カラーフィルタの右画面
１２・・・フォトマスクのパターン領域
１３Ｌ・・・フォトマスクのパターン領域左外
１３Ｒ・・・フォトマスクのパターン領域右外
１４Ｌ・・・カラーフィルタの画面左外
１４Ｒ・・・カラーフィルタの画面右外
４４Ｌ・・・画面左外フォトスペーサー
４４Ｒ・・・画面右外フォトスペーサー
４５、４６、４６Ｌ、４６Ｒ、４７、４７Ｌ、４７Ｒ、４８、４８Ｌ、４８Ｒ、・・・マスクパターン
２１・・・液晶分子
２２ａ、２２ｂ、２３、９３、Ｍｖ・・・配向制御突起
４１・・・ブラックマトリックス
４１Ｐ・・・画素内遮光部
４２・・・着色画素
４３・・・透明導電膜
４４・・・フォトスペーサー
８０・・・ＭＶＡ−ＬＣＤ
ＢＳ−Ｌ・・・左ブラインドシャッター
ＢＳ−Ｒ・・・右ブラインドシャッター
Ｌ・・・画面内のマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数
Ｍ・・・画面外のマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数
Ｎ・・・請求項２に係わる画面外のマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数Ｍ₀ ・・・カラーフィルタのＹ軸（継ぎ部）の左右近傍のモザイク配列部
Ｍ_L ・・・フォトマスク左端モザイク配列部
Ｍ_R ・・・フォトマスク右端モザイク配列部
Ｍｖ−Ｌ・・・画面左外配向制御突起
Ｍｖ−Ｒ・・・画面右外配向制御突起
Ｐｓ・・・積層フォトスペーサー
Ｐｓ−１・・・画面内の積層フォトスペーサー
Ｐｓ−２・・・画面外の積層フォトスペーサー
Ｐ１・・・第一色目の着色画素の延長パターン
Ｐ２・・・第二色目のスペーサーパターン
Ｐ３・・・第三色目のスペーサーパターン
Ｐ４・・・上部パターン
ＰＭ５・・・本発明におけるフォトマスク
Ｑ２Ｌ・・・本発明におけるフォトマスクのパターン領域左外
Ｑ２Ｒ・・・本発明におけるフォトマスクのパターン領域右外
Ｙ₃ ・・・カラーフィルタの左画面と右画面との間の継ぎ部 4, 7, 8, 9 ... color filter 10, 40 ... glass substrate 11 ... color filter screen 11L ... color filter left screen 11R ... color filter right screen 12 ... Photomask pattern region 13L ... Photomask pattern region left outside 13R ... Photomask pattern region right outside 14L ... Color filter screen left outside 14R ... Color filter screen right outside 44L Screen left outer photo spacer 44R ... Screen right outer photo spacer 45, 46, 46L, 46R, 47, 47L, 47R, 48, 48L, 48R, ... Mask pattern 21 ... Liquid crystal molecules 22a, 22b, 23, 93, Mv... Alignment control protrusion 41... Black matrix 41P. The conductive film 44 ... photo spacer 80 ... MVA-LCD
BS-L ... Left blind shutter BS-R ... Right blind shutter L ... Minimum number of pixels with the minimum pitch of the mask pattern arrangement in the screen M ... Minimum of the repetition of the mask pattern arrangement outside the screen the number of pixels of the pitch N · · · number of pixels minimum repeating pitch of the screen outside the mask pattern arrangement according to claim 2 M ₀ ··· Y-axis of the color filter mosaic array unit M _L of the right and left near the (joint portion)・ ・ ・ Photomask left end mosaic arrangement part M _R ... Photomask right end mosaic arrangement part Mv-L ... Screen left outer alignment control protrusion Mv-R ... Screen right outer alignment control protrusion Ps ... Laminated photo Spacer Ps-1 ... Laminated photo spacer Ps-2 in the screen ... Laminated photo spacer P1 outside the screen ... Extension pattern P2 of colored pixels of the first color ... Second color Spacer pattern P3... Third color spacer pattern P4... Upper pattern PM5... Photomask Q2L according to the present invention. Photomask pattern region left outside Q2R according to the present invention. Photomask according to the present invention. Pattern area right outside Y ₃ ... Joint between the left and right screens of the color filter

Claims (3)

１枚のフォトマスクを用い該フォトマスクよりサイズの大きなカラーフィルタの画面を左右に２分割した分割露光を行う際に、該画面内の左画面への露光時には右画面をブラインドシャッターにて遮光し、右画面への露光時には左画面をブラインドシャッターにて遮光する露光装置を用い、ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜、上部パターンを順次に積層することで、配向制御突起及び積層フォトスペーサーを形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
１）前記フォトマスクとして、前記画面内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ１）をＬとするとき、前記カラーフィルタの画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ２）を、前記Ｌの約数以外の、前記Ｌより小さいＭとしたフォトマスクを用い、
２）前記繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ１）である前記Ｌを前記検査方向の検査単位として、前記カラーフィルタの画面内の比較検査を行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。 When using a single photomask to perform split exposure in which the color filter screen larger than the photomask is divided into left and right parts, the right screen is shielded with a blind shutter when the left screen is exposed. Using an exposure device that shields the left screen with a blind shutter during exposure to the right screen, at least a black matrix, a colored pixel, a transparent conductive film, and an upper pattern are sequentially laminated on the glass substrate, so that the alignment control protrusion and In the method for producing a color filter for a liquid crystal display device for forming a laminated photo spacer ,
1) As the photomask, a mask pattern corresponding to the laminated photospacer in the screen, the number of pixels (T1) of the minimum pitch of the mask pattern arrangement in the direction corresponding to the inspection direction for comparatively inspecting the inside of the screen. When L, the mask pattern corresponding to the laminated photo spacer outside the screen of the color filter has the minimum number of pixels of the minimum pitch of the mask pattern arrangement in the direction corresponding to the inspection direction for comparatively inspecting the inside of the screen (T2) Using a photomask with M smaller than L other than a divisor of L ,
2) Production of a color filter for a liquid crystal display device, wherein a comparison inspection within the screen of the color filter is performed using the L, which is the number of pixels (T1) of the minimum pitch, as the inspection unit in the inspection direction. Method. １枚のフォトマスクを用い該フォトマスクよりサイズの大きなカラーフィルタの画面を左右に２分割した分割露光を行う際に、該画面内の左画面への露光時には右画面をブラインドシャッターにて遮光し、右画面への露光時には左画面をブラインドシャッターにて遮光する露光装置を用い、ガラス基板上に少なくともブラックマトリックス、着色画素、透明導電膜、上部パターンを順次に積層することで、配向制御突起及び積層フォトスペーサーを形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
１）前記フォトマスクとして、前記画面内の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ１）をＬとするとき、前記カラーフィルタの画面外の積層フォトスペーサーに対応したマスクパターンの、前記画面内を比較検査する検査方向に対応した方向におけるマスクパターン配列の繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ３）を、前記Ｌの約数、又は前記Ｌの倍数のＮとし、前記画面外の積層フォトスペーサーが設けられている着色画素とは異なる色の着色画素の位置に対応したフォトマスク上の位置に、さらに積層フォトスペーサー形成用のマスクパターンを設けたフォトマスクを用い、
２）前記繰り返しの最小ピッチの画素数（Ｔ１）である前記Ｌを前記検査方向の検査単位とし、前記着色画素及び該着色画素とは異なる色の着色画素を少なくとも含む画素数を前
記検査方向と直角方向の検査単位として、前記カラーフィルタの画面内の比較検査を行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。 When using a single photomask to perform split exposure in which the color filter screen larger than the photomask is divided into left and right parts, the right screen is shielded with a blind shutter when the left screen is exposed. Using an exposure device that shields the left screen with a blind shutter during exposure to the right screen, at least a black matrix, a colored pixel, a transparent conductive film, and an upper pattern are sequentially laminated on the glass substrate, so that the alignment control protrusion and In the method for producing a color filter for a liquid crystal display device for forming a laminated photo spacer ,
1) As the photomask, a mask pattern corresponding to the laminated photospacer in the screen, the number of pixels (T1) of the minimum pitch of the mask pattern arrangement in the direction corresponding to the inspection direction for comparatively inspecting the inside of the screen. When L, the mask pattern corresponding to the laminated photo spacer outside the screen of the color filter, the number of pixels of the minimum pitch of repetition of the mask pattern arrangement in the direction corresponding to the inspection direction for comparatively inspecting the inside of the screen (T3) Is a divisor of L or a multiple of L, and a position on the photomask corresponding to the position of the colored pixel different from the colored pixel provided with the laminated photo spacer outside the screen, Furthermore, using a photomask provided with a mask pattern for forming a laminated photospacer,
2) The L, which is the number of pixels with the minimum pitch (T1), is set as the inspection unit in the inspection direction, and the number of pixels including at least the colored pixels and the colored pixels different from the colored pixels is defined as the inspection direction. A method for producing a color filter for a liquid crystal display device, wherein a comparison inspection within a screen of the color filter is performed as an inspection unit in a perpendicular direction. 請求項１又は請求項２に記載の液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタ。   A color filter for a liquid crystal display device, produced using the method for producing a color filter for a liquid crystal display device according to claim 1.

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