JP4939108B2 - マイクロチップ - Google Patents
マイクロチップ Download PDFInfo
- Publication number
- JP4939108B2 JP4939108B2 JP2006128589A JP2006128589A JP4939108B2 JP 4939108 B2 JP4939108 B2 JP 4939108B2 JP 2006128589 A JP2006128589 A JP 2006128589A JP 2006128589 A JP2006128589 A JP 2006128589A JP 4939108 B2 JP4939108 B2 JP 4939108B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- detection path
- light
- substrate
- incident
- inclined surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 264
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 194
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 72
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 28
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 24
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 17
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 238000013461 design Methods 0.000 description 12
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 12
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 11
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 10
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 10
- 239000000306 component Substances 0.000 description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 8
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 8
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 8
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 210000000601 blood cell Anatomy 0.000 description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 5
- 239000012503 blood component Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 3
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 3
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 108010026552 Proteome Proteins 0.000 description 2
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229920002988 biodegradable polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004621 biodegradable polymer Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000007876 drug discovery Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 238000003891 environmental analysis Methods 0.000 description 2
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 2
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 2
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 2
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 1
- 239000012620 biological material Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007791 dehumidification Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000002032 lab-on-a-chip Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Measuring Cells (AREA)
- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
Description
また、特許文献1では、スリットを成す金属クロム膜と蓋部をなす石英ガラス基板との材質が異なるため、溶着等の手法で貼り合わせた場合にはマイクロチップの強度が弱くなってしまい、またそもそも貼り合わせが困難である。そのため、金属クロム膜上に石英ガラスをスパッタリングすることで材質を同一にし、両基板の接着性を高める必要がある。このような別途の膜の成膜により製造コストはさらに高くなってしまう。
また、出射端部の切り欠き部及び入射端部の面取り部の形成と検出路の形成とが同一工程のため、出射端部の切り欠き部及び入射端部の面取り部を形成するための特別な工程が不要であり製造コストの低下を図ることができる。さらに、射出成形でのマイクロチップの製造には、フォトレジストをパターンニングするための熱処理、アルカリ溶液等を用いたウェットエッチングやドライエッチング等のエッチング工程が不要である。そのため、エッチングに対する耐性が比較的弱い材料よってもキュベット部を形成可能である。例えば、プラスチック基板等のガラス基板以外への適用を検討できる。また、射出成形は、前述のようなエッチング工程と比較して低コストであるため、マイクロチップを安価に製造することが可能となる。
検出路の内壁には、検出路への試料の導入の際などに気泡が発生する場合がある。この検出路内壁に付着した気泡により、検出路の内壁付近を通過した光は散乱され、出射端部から検出される光の透過量に変動を与える可能性がある。本発明の出射端部の切り欠き部及び入射端部の面取り部は、検出路の内壁付近を通過し気泡により乱反射されるなど影響を受けた光が出射端部から出射されるのを阻止し、検出路の中央部分を通過した光のみを出射させる。これにより、検出路の内壁に付着した気泡に起因した光の透過量の変動をなくし、試料を正確に定量することができる。
n1は前記基板の屈折率。
出射端部の切り欠き部の底面と傾斜面とがなす角θ1が関係式(1)を満たす臨界角θxよりも大きい場合、出射端部の切り欠き部の傾斜面に入射された光は全反射される。よって、出射端部の切り欠き部がこのような傾斜面を有する場合には、検出路を通過した光のうち出射端部の切り欠き部の傾斜面に入射された光は検出路の外側に全反射され、切り欠き部の底面に入射された光は出射端部から基板外部に出射される。このようにして、出射端部から出射される光の出射面積を所定面積に制限することで、試料を正確に定量することができる。
本願第7発明は、第1発明において、前記入射端部には、前記検出路内壁に面取り部が形成されており、前記入射端部の面取り部は、前記検出路を通過する光の光軸と概ね垂直な底面と、前記底面を囲む少なくとも1面の傾斜面を含む側面と、からなる凹部を形成し、前記凹部は、前記凹部の開口が前記底面に向かうほど狭まるように形成されているマイクロチップを提供する。
さらに、入射端部の傾斜面が光の出射方向に向かうにつれて光軸から離れるように傾斜しているため、傾斜面に入射された光は検出路の外側方向に反射され、検出路内部に向かわない。そのため、傾斜面で反射された光が凹部の底面に入射される光に影響を与えて、光の透過量に変動を与えるのを阻止することができる。
n2は前記検出路に導入される試料の屈折率である。
入射端部の面取り部の底面と傾斜面とがなす角θ4が関係式(3)を満たす臨界角θxよりも大きい場合、入射端部の面取り部の傾斜面に入射された光は全反射される。よって、入射端部の面取り部がこのような傾斜面を有する場合には、入射端部に入射された光のうち入射端部の面取り部の傾斜面に入射された光は検出路の外側方向に全反射され、面取り部の底面に入射された光は検出路に入射される。このようにして、出射端部から出射される光の出射面積を所定面積に制限することで、試料を正確に定量することができる。
マイクロチップ内に形成される本発明に係るキュベット部は、検出路、入射端部及び出射端部により形成される。検出路は、基板内部に形成され、定量対象の試料が導入される。入射端部は、検出路の一端の基板により形成され、検出路に光を入射する。出射端部は、検出路の他端の基板により形成され、検出路を通過後の光を基板外部に出射する。ここで、キュベット部は、出射端部の切り欠き部又は入射端部の面取り部の少なくともいずれかを有して形成されている。出射端部の切り欠き部及び入射端部の面取り部は、検出路から出射される光の出射面積を制限する。
また、出射端部の切り欠き部及び入射端部の面取り部の形成と検出路の形成とが同一工程のため、出射端部の切り欠き部及び入射端部の面取り部を形成するための特別な工程が不要であり製造コストの低下を図ることができる。さらに、射出成形でのマイクロチップの製造には、フォトレジストをパターンニングするための熱処理、アルカリ溶液等を用いたウェットエッチングやドライエッチング等のエッチング工程が不要である。そのため、エッチングに対する耐性が比較的弱い材料よってもキュベット部を形成可能である。例えば、プラスチック基板等のガラス基板以外への適用を検討できる。また、射出成形は、前述のようなエッチング工程と比較して低コストであるため、マイクロチップを安価に製造することが可能となる。
なお、出射端部の切り欠き部及び入射端部の面取り部は、検出路の断面方向の中央部分を通過した光が選択的に出射されるように、光の出射方向を制御することもできる。検出路の内壁には、検出路への試料の導入の際などに気泡が発生する場合がある。この検出路内壁に付着した気泡により、検出路の内壁付近を通過した光は散乱され、出射端部から検出される光の透過量に変動を与える可能性がある。本発明の出射端部の切り欠き部及び入射端部の面取り部は、検出路の内壁付近を通過し気泡により乱反射されるなど影響を受けた光が出射端部から出射されるのを阻止し、検出路の中央部分を通過した光のみを出射させる。これにより、検出路の内壁に付着した気泡に起因した光の透過量の変動をなくし、試料を正確に定量することができる。
(1)マイクロチップの全体構成
図1は、本発明の第1実施形態例に係るキュベット部を含むマイクロチップの全体斜視図である。
マイクロチップ100は、基板である上部基板100aと下部基板100bとで形成されている。マイクロチップ100の下部基板100bは、対象成分を含む試料の取込口1、遠心分離管3、保持部5、計量部7、廃液溜9、試薬が貯蔵される試薬溜(11a、11b)11、1次混合部13、ミキサ部からなる2次混合部15、取出口17、検出路19を含むキュベット部20及びこれらの各部を接続するマイクロ流路を有している。また、マイクロチップ100の上部基板100aは、下部基板100bを覆い、試料の取込口1や取出口17などの基板外部に貫通する開口を有している。このマイクロチップ100は、図1に示すように、中心1及び中心2を中心する回転により対象成分を分離、秤量及び試薬との混合を行う。以下に、マイクロチップ100に導入する試料を血液とし、血漿中に定量対象の成分が含まれるものとして、各部の説明を行う。
遠心分離管3は、中心1に対して開口を有するように概ねU字形をしており、一方の開口した端部は計量部7に、他方の開口した端部は取込口1に接続されている。また、遠心分離管3は、中心1を中心とする回転により取込口1から血液を取り込み、かつ血液から対象成分を含む血漿を遠心分離する。ここで、中心1を中心とする回転とは、中心1を中心としてマイクロチップ100を回転し、マイクロチップ100内部の液体に所定方向の遠心力を印加することを意味する。中心2及び中心3についても同様である。
計量部7は、遠心分離管3と接続されており、遠心分離管3から血液中の血漿が導入される。また、計量部7は廃液溜9と接続されており、所定の容積を有する。よって、所定の容積を超える過剰量の血漿が導入されると、廃液溜9に排出される。
試薬溜11a、11bは、1次混合部13に接続されており、マイクロチップ100の使用前に試薬が予め導入されている。試薬溜11a、11b内の試薬は、遠心分離の際の中心1を中心とする回転により1次混合部13に導入される。
1次混合部13は、マイクロ流路を介して計量部7に接続されており、計量部7から血漿が導入される。さらに、1次混合部13は、試薬が蓄積された試薬溜11と接続されており、試薬が導入される。そのため、1次混合部13では血漿及び試薬が合流、混合される。
検出路19は、キュベット部20に形成されており、2次混合部15に接続されて、試薬と血漿との混合試料が導入される。混合試料の定量を光学的に行う場合には、キュベット部20の一端から検出路19に光を導入し、検出路19を通過後の光を他端から取り出す。そして、光の透過量を測定することで、血液成分の定量を行う。
(2)キュベット部の各種構成
以下に、キュベット部20の構成について各種例を挙げて説明する。
(2−1)パターンA
(i)構成
図2は、パターンAのキュベット部の一例を示す構成図である。ここで、図2(a)はパターンAのキュベット部20Aの斜視図であり、図2(b)は同図(a)のA1−A1’断面図であり、図2(c)は同図(b)のA2−A2’断面図である。
検出路23に血漿及び試薬の混合試料を導入後、入射端部29の入射端部外壁面29aに光が照射され、入射端部29に光が入射される。光は、入射端部29を通過し、入射面23aから検出路23に導入され、混合試料で満たされた検出路23内部を通過する。そして、検出路23の内部を通過した光は、出射面23bから出射端部31に導入される。次に、出射端部31を通過した光は、出射端部31外壁の切り欠き部33に導入される。ここで、切り欠き部33を形成する凹部の底面33−2は検出路23を通過する光の光軸と垂直であり、底面33−2を囲む傾斜面33−1は底面33−2に対して光軸から離れるように傾斜している。よって、検出路23を通過した光のうち傾斜面33−1に入射された光は反射されて出射端部31から基板外部に出射されない。一方、検出路23を通過した光のうち、光軸と概ね垂直な底面33−2に入射された光は、底面33−2を通過して基板外部に出射される。よって、出射端部31から基板外部に出射される光の出射面積を、出射端部31における凹部の底面33−2の面積に制限することができる。これにより、光の出射面積が異なることによる光の透過量の誤差をなくし、定量対象の血液成分を正確に定量することができる。
さらに、切り欠き部33の傾斜面33−1が光の出射方向に向かうにつれて光軸から離れるように傾斜しているため、傾斜面33−1に入射された光は検出路23の外側方向に反射され、検出路23内部に向かわない。よって、傾斜面33−1で反射された光が凹部の底面33−2に入射される光に影響を与えて、光の透過量に変動を与えるのを阻止することができる。
図3は、光が全反射されるための条件を示す説明図である。
切り欠き部33の底面33−2と傾斜面33−1とがなす角θa(θa<90°)は、下記式(5)で表される臨界角θxよりも大きい(θa>θx)。
n1は下部基板21bの屈折率である。
出射端部31の切り欠き部33における底面33−2と傾斜面33−1とがなす角θaが関係式(5)を満たす臨界角θxよりも大きい場合、切り欠き部33の傾斜面33−1に入射された光は全反射される。よって、出射端部31の切り欠き部33がこのような傾斜面33−1を有する場合には、検出路23を通過した光のうち切り欠き部33の傾斜面33−1に入射された光は検出路23の外側に全反射され、切り欠き部33の底面33−2に入射された光は出射端部31から基板外部に出射される。このようにして、出射端部31から出射される光の出射面積を所定面積に制限することで、試料を正確に定量することができる。
(i)構成
図4は、パターンBのキュベット部の一例を示す構成図である。ここで、図4(a)はパターンBのキュベット部20Bの斜視図であり、図4(b)は同図(a)のB1−B1’断面図であり、図4(c)は同図(b)のB2−B2’断面図である。
血漿及び試薬の混合試料で満たされた検出路43内部を通過した光は、出射端部51の面取り部43bに入射される。ここで、面取り部43bを形成する凹部の底面43b−2は検出路43を通過する光の光軸と垂直であり、底面43b−2を囲む傾斜面43b−1は底面43b−2に対して光軸に近づくように傾斜している。よって、検出路43を通過した光のうち、出射端部51の面取り部43bの傾斜面43b−1に入射された光は光軸から離れるように屈折されて出射端部内を進み、切り欠き部53の傾斜面53−1に入射される。結局、出射端部側において、面取り部43bの傾斜面43b−1に入射され屈折された光は、切り欠き部53の傾斜面53−1で反射されて出射端部51から基板外部に出射されない。このように出射端部51の面取り部43bの傾斜面43b−1で光軸から離れるように光を屈折させた後に、出射端部51の切り欠き部53の傾斜面53−1に入射することで、切り欠き部53の底面53−2及び傾斜面53−1がなす角θb(θb<90°)を小さくすることができる。これは、面取り部43bの傾斜面43b−1で屈折された光を切り欠き部53の傾斜面53−1に入射することで、切り欠き部53の傾斜面53−1への光の入射角が大きくなり、角θbを小さくしても切り欠き部53の傾斜面53−1での光の反射条件を維持することができるからである。これにより、出射端部51と透過光の検出器(図示せず)との距離を、より近づけることができ埃等によるノイズの除去が期待できる。
さらに、切り欠き部53の傾斜面53−1が光の出射方向に向かうにつれて光軸から離れるように傾斜しているため、傾斜面53−1に入射された光は検出路43の外側方向に反射され、検出路43内部に向かわない。よって、傾斜面53−1で反射された光が凹部の底面53−2に入射される光に影響を与えて、光の透過量に変動を与えるのを阻止することができる。
(iii)全反射の条件
図5(a)は光が全反射されるための条件を示す説明図、図5(b)は同図(a)の拡大図である。
具体的に、図5(b)を用いて説明する。
ここで、キュベット部20Bを空気中(屈折率n0=1)に載置し、試料の屈折率をn2=1.33とし、角θc=45°とした場合、キュベット部20Bを形成する基板の屈折率n1と上記角θbとの関係は、例えば表2のようになる。
なお、前述の通り、出射端部に切り欠き部及び面取り部を設けるパターンBの構成は、出射端部に切り欠き部のみを設けるパターンAの構成よりもノイズの除去が期待できるが、一方でパターンBの面取り部の傾斜面に付着した気泡により検出路内の光が乱反射される可能性がある。しかし、検出路に導入される液体の濡れ性が高く気泡が発生し難い場合や、界面活性剤等が混合され気泡の発生が抑制されている場合などには、パターンBを採用することでノイズの除去という効果をより活用することができる。
(i)構成
図6は、パターンCのキュベット部の一例を示す構成図である。ここで、図6(a)はパターンCのキュベット部20Cの斜視図であり、図6(b)は同図(a)のC1−C1’断面図であり、図6(c)は同図(b)のC2−C2’断面図である。
検出路63に血漿及び試薬の混合試料を導入後、入射端部69の入射端部外壁面69aに光が照射され、入射端部69に光が入射される。光は、入射端部69を通過し検出路63に入射される。ここで、面取り部63aを形成する凹部の底面63a−2は検出路63を通過する光の光軸と垂直であり、底面63a−2を囲む傾斜面63a−1は底面63a−2に対して光軸から離れるように傾斜している。よって、入射端部69に入射された光のうち傾斜面63a−1に入射された光は、反射されて検出路63に入射されない。そして、入射端部69に入射された光のうち、光軸と概ね垂直な底面に入射された光は、底面63a−2を通過して検出路63に入射される。よって、出射端部71から出射される光の出射面積を、入射端部69の面取り部63aの底面63a−2の面積に制限することができる。これにより、光の出射面積が異なることによる光の透過量の誤差をなくし、試料を正確に定量することができる。
さらに、入射端部69の傾斜面63a−2が光の出射方向に向かうにつれて光軸から離れるように傾斜しているため、傾斜面63a−1に入射された光は検出路63の外側方向に反射され、検出路63内部に向かわない。よって、傾斜面63a−1で反射された光が凹部の底面63a−2に入射される光に影響を与えて、光の透過量に変動を与えるのを阻止することができる。
(iii)全反射の条件
図7は、光が全反射されるための条件を示す説明図である。
n2は検出路63に導入される試料の屈折率である。
面取り部63aの底面63a−2と傾斜面63a−1とがなす角θfが関係式(9)を満たす臨界角θxよりも大きい場合、面取り部63の傾斜面63a−1に入射された光は全反射される。よって、入射端部69の面取り部63aがこのような傾斜面63a−1を有する場合には、入射端部69に入射された光のうち面取り部63aの傾斜面63a−1に入射された光は検出路63の外側方向に全反射され、面取り部63aの底面63a−2に入射された光は検出路63に入射される。このようにして、出射端部71から出射される光の出射面積を所定面積に制限することで、試料を正確に定量することができる。
(i)構成
図8は、パターンDのキュベット部の一例を示す構成図である。ここで、図8(a)はパターンDのキュベット部20Dの斜視図であり、図8(b)は同図(a)のD1−D1’断面図であり、図8(c)は同図(b)のD2−D2’断面図である。
まず、入射端部89を通過した光は、入射端部89外壁の切り欠き部93に導入される。ここで、切り欠き部83を形成する凹部の底面93−2は光軸と垂直であり、底面93−2を囲む傾斜面93−1は光の出射方向に向かうにつれて凹部の底面93−2に対して光軸に近づくように傾斜している。よって、入射端部89の外壁に入射された光のうち、入射端部89の切り欠き部93の傾斜面93−1に入射された光は、光軸から離れるように屈折されて入射端部内を進み、面取り部83aの傾斜面83a−1に入射される。結局、入射端部側において、切り欠き部93の傾斜面93−1に入射され屈折された光は、面取り部83aの傾斜面83a−1で反射されて検出路83内に入射されない。このように入射端部89の切り欠き部93の傾斜面93−1で光軸から離れるように光を屈折させた後に、入射端部89の面取り部83aの傾斜面83a−1に入射することで、面取り部83aの底面83a−2及び傾斜面83a−1がなす角θg(θg<90°)を小さくすることができる。これは、切り欠き部93の傾斜面93−1で屈折された光を面取り部83aの傾斜面83a−1に入射することで、面取り部83aの傾斜面83a−1への光の入射角が大きくなり、角θgを小さくしても面取り部83aの傾斜面83a−1での光の反射条件を維持することができるからである。これにより、面取り部83aの底面83a−2から検出路83に入射された光が、面取り部83aの傾斜面83a−1に付着した気泡により乱反射されるのが抑制され得る。
なお、切り欠き部93の底面93−2の面積と面取り部83aの底面83a−2の面積とは、光の出射面積を一定にするために同一であるのが好ましい。
図9は光が全反射されるための条件を示す説明図である。
図9において、入射端部93における面取り部83aの底面83a−2及び傾斜面83a−1がなす角θg(θg<90°)は、入射端部93における切り欠き部93の底面93−2及び傾斜面93−1がなす角θh(θh<90°)との関係が下記式(10)で表される臨界各θxよりも大きい(θg>θx)。
(i)構成
図10は、パターンEのキュベット部の一例を示す構成図である。ここで、図10(a)はパターンEのキュベット部20Eの斜視図であり、図10(b)は同図(a)のE1−E1’断面図であり、図10(c)は同図(b)のE2−E2’断面図である。
キュベット部20Eは、上部基板101a及び下部基板101bから形成されている。キュベット部20Eは、検出路103、導入路105、排出路107、検出路103の一端の基板により形成されている入射端部109、及び検出路103の他端の基板により形成されている出射端部111を含む。
(ii)キュベット部での光の挙動
キュベット部20Eでの光の挙動は、前述のパターンAのキュベット部20A及びパターンCのキュベットCと同様である。そして、このキュベット部20E構成では、パターンAのキュベット部20A及びパターンCのキュベット部20Cそれぞれにより得られる作用効果に加えて次のような作用効果を得ることができる。
図11は、パターンEにおけるキュベット部20Eの設計の一例を示す説明図である。ここで、キュベット部20Eの各部の寸法は、次の通りである。
a(入射端部外壁面109a〜底面103a−2)=0.5mm
b(傾斜面103a−1の傾斜している距離)=0.7mm
c(検出路の長さ:底面103a−2〜出射端部内壁面103b)=10.0mm
d(出射端部内壁面103b〜底面113−2)=0.5mm
e(底面113−2〜入射端部外壁面)=0.5mm
f(底面103a−2及び底面113−2の幅)=0.7mm
g(切り欠き部113の開口の最大幅)=1.9mm
h(検出路103の幅)=1.5mm
i(検出路103の深さ)=1.5mm
W(基板外部から入射端部外壁面109aに入射される入射光の幅)=1.0mm
ここで、上述のような本発明の効果を得るためには、W>fである必要がある。
(2−6)パターンF
(i)構成
図12は、パターンFのキュベット部の一例を示す構成図である。ここで、図12(a)はパターンFのキュベット部20Fの斜視図であり、図12(b)は同図(a)のF1−F1’断面図であり、図12(c)は同図(b)のF2−F2’断面図である。
キュベット部20Fは、上部基板121a及び下部基板121bから形成されている。キュベット部20Eは、検出路123、導入路125、排出路127、検出路123の一端の基板により形成されている入射端部129、及び検出路123の他端の基板により形成されている出射端部131を含む。
(ii)キュベット部での光の挙動
キュベット部20Fでの光の挙動は、前述のパターンBのキュベット部20B及びパターンDのキュベット部20Dと同様である。そして、このキュベット部20F構成では、パターンBのキュベット部20B及びパターンDのキュベット部20Dそれぞれにより得られる作用効果に加えて次のような作用効果を得ることができる。
図13は、パターンFにおけるキュベット部20Fの設計の一例を示す説明図である。ここで、キュベット部20Fの各部の寸法は、次の通りである。
a(入射端部外壁面〜底面143−2)=0.5mm
b(底面143−2〜底面123a−2)=0.5mm
c(傾斜面123a−1の傾斜している距離)=0.2mm
d(傾斜面123b−1の傾斜している距離)=0.2mm
e(底面123b−2〜底面133−2)=0.5mm
f(傾斜面133−1の傾斜している距離)=0.5mm
g(切り欠き部133の開口の最大幅)=1.5mm
h(底面143−2及び底面123a−2の幅)=0.5mm
i(検出路123の幅)=0.9mm
j(底面123b−2及び底面133−2の幅)=0.5mm
k(切り欠き部133の開口の最大幅)=1.9mm
l(検出路の長さ:底面123a−2〜底面123b−2)=10.0mm
m(検出路123の深さ)=0.9mm
W(基板外部から入射端部外壁面に入射される入射光の幅)=0.9mm
ここで、上述のような本発明の効果を得るためには、W>h及びW>jである必要がある。
(2−7)その他のパターン
その他、パターンAのキュベット部20A及びパターンDのキュベット部20Dを組み合わせても良い。これらを組み合わせたキュベットは、キュベット部20Aに示す切り欠き部33を有する出射端部と、キュベット部20Dに示す切り欠き部93及び面取り部83aを有する入射端部とを含む。この場合には、キュベット部20A及びキュベット部20Dの効果を奏するキュベット部を形成することができる。
出射面積を確実に制限する構成としては、パターンA、B、E、Fのように出射端部外壁面に切り欠き部を設けている構成が好ましい。透過光の検出器に最も近接した出射端部を加工して光の出射面積を制限するので、確実に出射面積を制限することができる。特に、パターンAのキュベット部20Aでは、入射端部及び出射端部に面取り部が形成されていないため、面取り部の傾斜面に付着した気泡により光が乱反射されることがないので好ましい。なお、検出路に導入される液体の濡れ性が高く気泡が発生し難い場合や、界面活性剤等が混合され気泡の発生が抑制されている場合などには、面取り部が設けられているパターンB、E、Fのような構成であっても面取り部の傾斜面に気泡が付着し難い。
以上より、流体の性質及び透過光の測定環境等に応じて各パターンのキュベット部を選択的に適用するのが良い。
次に、上記キュベット部20を有するマイクロチップ100の製造方法について説明する。マイクロチップ100は、当該分野で公知の射出成形を用いることにより、簡便に製造することができる。
下部基板100bに各部を射出成形により形成し、上部基板100aには基板外部から試料を導入するための開口や排出するための開口を射出成形により形成する。そして、これらの上部基板100a及び下部基板100bを互いに貼り合わせることでマイクロチップ100が完成する。
例えば、金型としては三菱レーヨン製ダイアナイトMA521を用い、基板としてPET(poly ethylene terephthalate)を用いた。また、PET及び三菱レーヨン製ダイアナイトMA521を熱風式乾燥機により150℃で5〜10時間乾燥して除湿し、成形温度(シリンダー温度)275℃、樹脂圧15kg/cm2により射出成形を行った。さらに、第3基板25〜第1基板21の貼り合わせには熱圧着を用い、例えば基板上下側から加圧する金属プレートの温度を80℃に設定し、0.1MPaで3〜5分加圧して基板を貼り合わせた。
(4)マイクロチップの動作
次に、マイクロチップの使用方法及びマイクロチップ内での各種処理の手順を説明する。図14は、マイクロチップでの使用方法及びマイクロチップ内での各種処理の手順を示すフローチャートの一例である。
マイクロチップ100の試薬溜11a、11bには、予め試薬が保持されている。まず、取込口1に血液が導入される。次に、中心1を中心とする回転により、マイクロチップ100内の液体に矢印方向(同図(a)参照)の遠心力を印加する。これにより、まず、血液は、取込口1から遠心分離管3に導入される。この中心1と中心とする遠心分離の際に、試薬溜11a、11bに保持されている試薬が1次混合部13に導入される。
さらなる中心1を中心とする回転により、血液中の血球は保持部5の底部に導入され、血漿が上澄みとして分離される(同図(b)参照)。
(c)血漿の計量
次に、中心2を中心とする回転により矢印方向(同図(c)参照)の遠心力を印加し、遠心分離管3内の血漿を計量部7に導入する。血球は、保持部5に保持され計量部7には導入されない。計量部7に導入された血漿のうち計量部7の容積を超える過剰量の血漿は、計量部7から廃液溜9に廃棄される。
次に、中心1を中心とする回転により矢印方向(同図(d)参照)の遠心力を印加し、計量部7で計量された血漿を1次混合部13に導入し、血漿と試薬とを混合する。
(e)2次混合
取出口17にポンプを接続して吸引することで、1次混合部13で混合された混合試料を2次混合部15に導入し、さらに混合試料を混合する(同図(e)参照)。
さらに、ポンプで吸引して混合試料を検出部20に導入する(同図(f)参照)。そして、混合試料が導入されたキュベット部20に光を透過させて、キュベット部20を通過後の光の透過量を測定することで、血液成分の定量を行う。
上記で、試料及び定量対象の対象成分を血液及び血液成分としたが、マイクロチップに導入される試料等はこれらに限定されない。また、出射端部の切り欠き部の傾斜面及び/又は入射端部の面取り部の傾斜面により、出射端部から基板外部に出射される光の出射面積を所望の面積に制限できれば良く、傾斜面の面数は限定されない。例えば、底面を囲む面の一部のみを傾斜面で形成しても良いし、底面を囲む全面を傾斜面で形成しても良い。よって、上記のように傾斜面の面数は3面に限られず、全面が傾斜していても良い。
(1)マイクロチップの全体構成
図15は、本発明の第2実施形態例に係るキュベット部を含むマイクロチップの全体斜視図である。
マイクロチップ200は、基板である第1基板200a、第2基板200b及び第3基板200cで形成されている。このように、第2実施形態例のマイクロチップ200は3枚の基板から形成されている点が第1実施形態例と異なる。その他の構成は同様であるので、以下に簡単に説明する。
以下に、キュベット部220の構成について各種例を挙げて説明する。
(2−1)パターンA
(i)構成
図16は、パターンAのキュベット部の一例を示す斜視図、図17は図16のパターンAのキュベット部の各断面図である。このパターンAのキュベット部220Aは、第1実施形態例のパターンEのキュベット部20E構成と同様に、出射端部に切り欠き部を有し、入射端部に面取り部を有する。ここで、パターンAのキュベット部220Aは、検出路が第2基板の深さ方向に形成されているという点と、切り欠き部及び面取り部が円錐状に形成されている点とにおいて、第1実施形態例のパターンEのキュベット部20Eと異なるのみでその他の構成は同様の構成である。よって、以下に簡単にのみ説明を行う。
出射端部231の出射端部外壁には、切り欠き部233が形成されている。切り欠き部233は、検出路223を通過する光の光軸と概ね垂直な底面233−2と、底面233−2を囲む円錐状の傾斜面233−1である側面と、からなる凹部有するように形成されている。この凹部は、凹部の開口が底面233−2に向かうほど狭まるように形成されている。
(ii)キュベット部での光の挙動
キュベット部220Aでは、第3基板221c側の入射端部229から光が照射され、第1基板221a側の出射端部231から光が出射される。キュベット部220Aでの光の挙動は、第1実施形態例のパターンEのキュベット部20Eと同様であるので説明を省略する。
図18は、パターンAにおけるキュベット部220Aの設計の一例を示す説明図である。ここで、キュベット部220Aの各部の寸法は、次の通りである。
a(入射端部外壁面〜底面223a−2)=0.5mm
b(傾斜面223a−1の傾斜している距離)=0.5mm
c(検出路の長さ:底面223a−2〜出射端部内壁面)=5.0mm
d(出射端部内壁面〜底面233−2)=0.5mm
e(底面233−2〜入射端部外壁面)=0.5mm
f(底面223a−1及び底面233−2の幅)=0.5mm
g(切り欠き部233の開口の最大幅)=1.6mm
h(検出路223の幅)=0.9mm
W(基板外部から入射端部外壁面に入射される入射光の幅)=0.7mm
ここで、上述のような本発明の効果を得るためには、W>hである必要がある。
(2−2)パターンB
(i)構成
図19は、パターンBのキュベット部の一例を示す斜視図、図20は図19のパターンBのキュベット部の各断面図である。このパターンBのキュベット部220Bは、第1実施形態例のパターンFのキュベット部20F構成と同様に、出射端部及び入射端部ともに、面取り部及び切り欠き部を有する。ここで、パターンBのキュベット部220Bは、検出路が第2基板の深さ方向に形成されているという点と、切り欠き部及び面取り部が円錐状に形成されている点とにおいて、第1実施形態例のパターンFのキュベット部20Fと異なるのみでその他の構成は同様の構成である。よって、以下に簡単にのみ説明を行う。
入射端部249の入射端部外壁には、切り欠き部263が形成されている。切り欠き部263は、検出路243を通過する光の光軸と概ね垂直な底面263−2と、底面263−2を囲む円錐状の傾斜面263−1である側面と、からなる凹部有するように形成されている。この凹部は、凹部の開口が底面263−2に向かうほど狭まるように形成されている。また、入射端部249の入射端部内壁面には、面取り部243aが形成されている。面取り部243aは、光軸と概ね垂直な底面243a−2と、底面243a−2を囲む円錐状の傾斜面243a−1である側面と、からなる凹部を有するように形成されている。この凹部は、凹部の開口が底面243a−2に向かうほど狭まるように形成されている。
キュベット部220Bでは、第3基板241c側の入射端部249から光が照射され、第1基板241a側の出射端部251から光が出射される。キュベット部220Bでの光の挙動は、第1実施形態例のパターンFのキュベット部20Fと同様であるので説明を省略する。
図21は、パターンBにおけるキュベット部220Bの設計の一例を示す説明図である。ここで、キュベット部220Bの各部の寸法は、次の通りである。
a(入射端部外壁面〜底面263−2)=0.5mm
b(底面263−2〜底面243a−2)=0.5mm
c(傾斜面243a−1の傾斜している距離)=0.2mm
d(傾斜面243b−1の傾斜している距離)=0.2mm
e(底面243b−2〜底面253−2)=0.5mm
f(傾斜面253−1の傾斜している距離)=0.5mm
g(切り欠き部253の開口の最大幅)=1.5mm
h(底面263−2及び底面243a−2の幅)=0.5mm
i(検出路243の幅)=0.9mm
j(底面243b−2及び底面253−2の幅)=0.5mm
k(切り欠き部253の開口の最大幅)=1.9mm
l(検出路の長さ:底面243a−2〜底面243b−2)=10.0mm
W(基板外部から入射端部外壁面に入射される入射光の幅)=0.9mm
ここで、上述のような本発明の効果を得るためには、W>h及びW>jである必要がある。
遠心分離管:3、203
保持部:5、205
計量部:7、207
廃液溜:9、209
試薬溜:11a 、11b、211a、211b
1次混合部:13、213
2次混合部:15、215
取出口:17、217
検出路:19、219
キュベット部:20A、20B、20C、20E、20F、220A、220B
検出路:23、43、63、83、103、123、223、243
入射端部:29、49、69、89、109、129、229、249
出射端部:31、51、71、91、111、131、231、251
切り欠き部:33、53、93、113、133、143、233、253、263
面取り部:43、63a、83a、103a、123a、123b、223a、243a
マイクロチップ:100、200
Claims (8)
- 基板内部に形成され、定量対象の試料が導入される検出路と、
前記検出路の一端の基板により形成され、検出路に光を入射する入射端部と、
前記検出路の他端の基板により形成され、前記検出路を通過後の光を前記基板外部に出射する出射端部とを含み、
前記検出路から出射される光の出射面積を制限するために、前記出射端部の前記検出路の一端に対応する基板外壁の切り欠き部及び前記入射端部の検出路内壁の面取り部の少なくともいずれかが形成されており、
前記出射端部には、前記検出路の一端に対応する基板外壁に切り欠き部と、前記検出路内壁に面取り部と、が形成されており、
前記出射端部の切り欠き部は、前記検出路を通過する光の光軸と概ね垂直な底面と、前記底面を囲む少なくとも1面の傾斜面を含む側面と、からなる凹部を形成し、前記凹部は、前記凹部の開口が前記底面に向かうほど狭まるように形成されており、
前記出射端部の面取り部は、前記検出路を通過する光の光軸と概ね垂直な底面と、前記底面を囲む少なくとも1面の傾斜面を含む側面と、からなる凹部を形成し、前記凹部は、前記凹部の開口が前記底面に向かうほど狭まるように形成されている、マイクロチップ。 - 前記出射端部の切り欠き部及び/又は前記入射端部の面取り部は、前記検出路の断面方向の中央部分を通過した光が選択的に出射されるように、光の出射方向を制御する、請求項1に記載のマイクロチップ。
- 基板内部に形成され、定量対象の試料が導入される検出路と、
前記検出路の一端の基板により形成され、検出路に光を入射する入射端部と、
前記検出路の他端の基板により形成され、前記検出路を通過後の光を前記基板外部に出射する出射端部とを含み、
前記検出路から出射される光の出射面積を制限するために、前記出射端部の前記検出路の一端に対応する基板外壁の切り欠き部及び前記入射端部の検出路内壁の面取り部の少なくともいずれかが形成されており、
前記入射端部には、前記検出路内壁に面取り部が形成されており、
前記入射端部の面取り部は、前記検出路を通過する光の光軸と概ね垂直な底面と、前記底面を囲む少なくとも1面の傾斜面を含む側面と、からなる凹部を形成し、前記凹部は、前記凹部の開口が前記底面に向かうほど狭まるように形成されている、マイクロチップ。 - 前記入射端部には、前記検出路の他端に対応する基板外壁に切り欠き部がさらに形成されており、
前記入射端部の切り欠き部は、前記検出路を通過する光の光軸と概ね垂直な底面と、前記底面を囲む少なくとも1面の傾斜面を含む側面と、からなる凹部を形成し、前記凹部は、前記凹部の開口が前記底面に向かうほど狭まるように形成されている、請求項5に記載のマイクロチップ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006128589A JP4939108B2 (ja) | 2006-05-02 | 2006-05-02 | マイクロチップ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006128589A JP4939108B2 (ja) | 2006-05-02 | 2006-05-02 | マイクロチップ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007298474A JP2007298474A (ja) | 2007-11-15 |
JP4939108B2 true JP4939108B2 (ja) | 2012-05-23 |
Family
ID=38768076
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006128589A Expired - Fee Related JP4939108B2 (ja) | 2006-05-02 | 2006-05-02 | マイクロチップ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4939108B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009128229A (ja) * | 2007-11-26 | 2009-06-11 | Rohm Co Ltd | マイクロチップ |
JP5137010B2 (ja) * | 2007-11-28 | 2013-02-06 | ローム株式会社 | マイクロチップの製造方法 |
JP2009175138A (ja) | 2007-12-27 | 2009-08-06 | Rohm Co Ltd | マイクロチップ |
JP2009281869A (ja) * | 2008-05-22 | 2009-12-03 | Rohm Co Ltd | マイクロチップ |
CN102105800B (zh) * | 2008-07-22 | 2014-05-28 | 爱科来株式会社 | 微型模件以及分析装置 |
JP5902086B2 (ja) * | 2010-07-22 | 2016-04-13 | 株式会社エンプラス | 分析用具及びマイクロ分析システム |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4019372A (en) * | 1974-05-16 | 1977-04-26 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Chromatographic detector system |
JPS57201837A (en) * | 1982-04-08 | 1982-12-10 | Olympus Optical Co Ltd | Cuvette for chemical analysis |
JPH07109313B2 (ja) * | 1987-09-17 | 1995-11-22 | 株式会社日立製作所 | 空気調和機 |
US4886356A (en) * | 1988-04-01 | 1989-12-12 | The Perkin-Elmer Corporation | Detector cell for liquid chromatography |
JP3530078B2 (ja) * | 1999-07-06 | 2004-05-24 | リオン株式会社 | フローセル及びこのフローセルを用いた粒子測定装置 |
JP2002221485A (ja) * | 2000-11-22 | 2002-08-09 | Minolta Co Ltd | マイクロチップ |
US6678051B2 (en) * | 2001-01-18 | 2004-01-13 | Systec, Inc. | Flow cells utilizing photometric techniques |
JP4380087B2 (ja) * | 2001-05-28 | 2009-12-09 | 富士電機システムズ株式会社 | フローセル |
JP2004053345A (ja) * | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Tosoh Quartz Corp | 平面型フローセル、その製造方法、及び測定方法 |
JP2005329330A (ja) * | 2004-05-20 | 2005-12-02 | Yokogawa Electric Corp | 高温・高圧用容器用窓の構造 |
-
2006
- 2006-05-02 JP JP2006128589A patent/JP4939108B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007298474A (ja) | 2007-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8075853B2 (en) | Microchip | |
JP4754394B2 (ja) | マイクロチップ | |
JP4939108B2 (ja) | マイクロチップ | |
JP4407271B2 (ja) | チップ、反応分析装置、反応分析方法 | |
KR101562318B1 (ko) | 미세유체 칩 및 이를 이용한 실시간 분석 장치 | |
US20050175273A1 (en) | Microchip, method of manufacturing microchip, and method of detecting compositions | |
US20090155125A1 (en) | Microchip | |
EP2226623A1 (en) | Flow cell | |
JPWO2005033666A1 (ja) | チップの使用方法及び検査チップ | |
US20110243795A1 (en) | Chip for analyzing fluids being moved without an outside power source | |
WO2008047875A1 (fr) | Appareil de mesure de microanalyse et procédé de mesure de microanalyse utilisant cet appareil | |
JP4391790B2 (ja) | チップの使用方法及び検査チップ | |
JP2013533489A (ja) | 試料流体中の検体の存在を検出するための改善されたセンサユニット | |
US20130280144A1 (en) | Microchip | |
Zuo et al. | An integrated microfluidic system for multi-target biochemical analysis of a single drop of blood | |
JP5125680B2 (ja) | 分離チップおよび分離方法 | |
JP2009121912A (ja) | マイクロチップ | |
KR101885087B1 (ko) | 랩온어칩 기반 분자진단칩 | |
JP4637610B2 (ja) | マイクロ流路及びマイクロチップ | |
US20090291025A1 (en) | Microchip And Method Of Using The Same | |
KR20120056442A (ko) | 생체 시료 분석용 미세유체제어 칩 | |
JP6017793B2 (ja) | マイクロチップ | |
JP5841328B2 (ja) | マイクロチップの製造方法およびマイクロチップ | |
JP6049446B2 (ja) | マイクロチップ | |
KR101894100B1 (ko) | 바이오 센서 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090115 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120131 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120202 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120221 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120224 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150302 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4939108 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |