JP4920325B2 - RI compound synthesis apparatus and RI compound synthesis method - Google Patents

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本発明は、放射性同位元素を反応させて、放射性同位元素標識化合物を得るＲＩ化合物合成装置及びＲＩ化合物合成方法に関するものである。   The present invention relates to an RI compound synthesis apparatus and an RI compound synthesis method for obtaining a radioisotope labeled compound by reacting a radioisotope.

従来、ポジトロン放出断層撮影（ＰＥＴ）に用いられるＲＩ化合物の合成は、ホットセル中において、数ｍＬの容積をもつ容器を用いて行われていた。このような反応容器が用いられてきた理由として、サイクロトロンで精製される放射性同位元素と、反応物質との価格の問題があった。従来の臨床用ＰＥＴ検査で用いられる薬剤の反応物質の価格は安く、コストの高い放射性同位元素を重視して、大過剰量の反応物質を用いて合成を行ってきた。このような合成方法に適していたのが、数ｍＬの容積をもつ容器であった。しかし、新しいＰＥＴ薬剤の開発を行う場合、反応物質は市販されていないか、市販されていても非常に高価であり、従来のように大過剰量の反応物質を用いて合成を行うことは難しい。そこで、一回の合成に用いる反応物質の量を減らすことができる合成装置が望まれている。   Conventionally, the synthesis of RI compounds used in positron emission tomography (PET) has been performed in a hot cell using a container having a volume of several mL. The reason why such a reaction vessel has been used is the problem of the price of the radioactive isotope purified by the cyclotron and the reactant. The price of the reactive substance of the drug used in the conventional clinical PET examination is low, and the synthesis has been performed using a large excess amount of the reactive substance, with an emphasis on the high-cost radioisotope. A container having a volume of several mL was suitable for such a synthesis method. However, when developing a new PET drug, the reactant is not commercially available or is very expensive even if it is commercially available, and it is difficult to synthesize using a large excess of reactant as in the past. . Therefore, a synthesis apparatus that can reduce the amount of reactants used for one synthesis is desired.

一つの解決方法として、反応スケールを小さくし、反応物質の物質量を減らして反応を行う方法がある。このような反応では、反応スケールを小さくすることで、反応物質の濃度は維持または向上させることができ、反応効率・反応速度の向上が期待できる。従って、反応物質の物質量を大幅に減らしながら、放射性同位元素の物質量を可能な範囲で増やすことで、実質的に従来の反応並みの収量を確保できると期待されている。   One solution is to reduce the reaction scale and reduce the amount of reactants to carry out the reaction. In such a reaction, by reducing the reaction scale, the concentration of the reactant can be maintained or improved, and improvement in reaction efficiency and reaction rate can be expected. Therefore, it is expected that the yield equivalent to the conventional reaction can be substantially secured by increasing the amount of radioactive isotope as much as possible while greatly reducing the amount of reactant.

類似した技術としては、下記特許文献１に記載のＲＩ化合物合成装置が知られている。この合成装置は、反応物質の量を減らすことを目的としたものではなく、従来の放射性合成をより迅速かつ効率的に実行することを目的としたものであるが、上記目的にも使用可能であると考えられる。この合成装置が備える反応チップ上には、２つの入口ポート各々から導入された液体の反応物質が通過する第１流路及び第２流路と、この第１流路と第２流路との合流点から下流に延びる第３流路とが、微細加工により形成されている。このような反応チップにおいて、導入された２つの反応物質は、それぞれ第１流路と第２流路を通過して第３流路で合流し、第３流路を通過する間に混合され反応する。そして、反応により発生した生成物が、第３流路の下流側に設けられた出口ポートから回収される。このような反応チップを用いた合成装置によって、反応物質を反応させ、生成物を得ることが提案されている。
特開２００５−５２０８２７号公報 As a similar technique, an RI compound synthesizer described in Patent Document 1 below is known. This synthesizer is not intended to reduce the amount of reactants, but rather to perform conventional radiosynthesis more quickly and efficiently, but it can also be used for the above purposes. It is believed that there is. On the reaction chip provided in the synthesizer, a first flow path and a second flow path through which liquid reactant introduced from each of the two inlet ports passes, and the first flow path and the second flow path A third flow path extending downstream from the junction is formed by microfabrication. In such a reaction chip, the two introduced reactants pass through the first flow path and the second flow path, merge in the third flow path, and are mixed and reacted while passing through the third flow path. To do. Then, a product generated by the reaction is recovered from an outlet port provided on the downstream side of the third flow path. It has been proposed to react a reactant with a synthesizer using such a reaction chip to obtain a product.
JP 2005-52027 A

しかしながら、上記合成装置の反応チップにおいては、反応時間を確保するために、２つの反応物質が接触する第３流路は、ある程度の長さが必要である。そして、このような微細な流路においては、液体と流路壁面との接触面積が液体の体積に対して大きいので、流路の壁面に吸着され回収困難となる生成物の割合が多く、その結果、生成物の収率が低下するという問題があった。   However, in the reaction chip of the synthesizer, the third flow path where the two reactants contact needs a certain length in order to ensure the reaction time. In such a fine channel, since the contact area between the liquid and the channel wall surface is large with respect to the volume of the liquid, there is a large proportion of products that are adsorbed on the wall surface of the channel and difficult to recover. As a result, there was a problem that the yield of the product was lowered.

そこで、本発明は、反応物質の量を減らすために微量の反応物質を取り扱うことができ、かつ流路壁面に吸着される生成物を減らすことで放射性同位元素標識化合物の収率を向上することができるＲＩ化合物合成装置及びＲＩ化合物合成方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention can handle a small amount of reactants in order to reduce the amount of reactants, and improve the yield of radioisotope-labeled compounds by reducing the products adsorbed on the channel wall. An object of the present invention is to provide an RI compound synthesizing apparatus and an RI compound synthesizing method.

本発明のＲＩ化合物合成装置は、放射性同位元素を反応させて、放射性同位元素標識化合物を得るＲＩ化合物合成装置において、互いに連結された第１及び第２の反応部を有し、第１の反応部と第２の反応部との間で放射性同位元素標識化合物の第１の原料を含む原料流体を往復移動させる流体往復部と、流体が通過する流体流路と、流体流路上に設けられ放射性同位元素標識化合物の第２の原料を保持すると共に、流体流路を通過する流体に対して、保持する第２の原料を供給する原料供給部と、を有し、流体往復部に第２の原料を導入する原料導入部と、を備えたことを特徴とする。 The RI compound synthesizer of the present invention is a RI compound synthesizer for reacting a radioisotope to obtain a radioisotope-labeled compound. The RI compound synthesizer has first and second reaction units connected to each other. A fluid reciprocating part for reciprocating a source fluid containing the first raw material of the radioisotope labeled compound between the first reaction part and the second reaction part, a fluid channel through which the fluid passes, and a radioactive channel provided on the fluid channel holds the second material of the isotope-labeled compounds, for the fluid passing through the fluid flow path, anda material supply unit for supplying a second raw material holding a second fluid reciprocating portion And a raw material introduction section for introducing the raw material.

この合成装置では、第１の原料を含む原料流体が、流体往復部における第１の反応部と第２の反応部との間で往復移動する。そして、この流体往復部には、原料導入部の原料供給部から供給される第２の原料が導入される。従って、流体往復部では、第１の原料及び第２の原料が混合されて第１及び第２の反応部の間で往復しながら反応するので、第１及び第２の原料を含む流体が反応中に通過する流路の長さを全体として短くすることができる。そして、流路を短くすることで、反応に係る流体と流路壁面との接触面積を全体として小さくすることができ、反応により生成した放射性同位元素標識化合物のうち、流路壁面に吸着される放射性同位元素標識化合物の量が少なくなり、その結果、放射性同位元素標識化合物の収率を向上させることができる。   In this synthesizer, the raw material fluid containing the first raw material reciprocates between the first reaction part and the second reaction part in the fluid reciprocation part. And the 2nd raw material supplied from the raw material supply part of a raw material introduction part is introduce | transduced into this fluid reciprocation part. Therefore, in the fluid reciprocating unit, the first raw material and the second raw material are mixed and reacted while reciprocating between the first and second reaction units, so that the fluid containing the first and second raw materials reacts. As a whole, the length of the flow path passing through can be shortened. By shortening the flow path, the contact area between the fluid involved in the reaction and the flow path wall surface can be reduced as a whole, and the radioisotope-labeled compound generated by the reaction is adsorbed on the flow path wall surface. The amount of the radioisotope labeled compound is reduced, and as a result, the yield of the radioisotope labeled compound can be improved.

また、本発明のＲＩ化合物合成装置は、放射性同位元素を反応させて、放射性同位元素標識化合物を得るＲＩ化合物合成装置において、互いに連結された第１及び第２の反応部を有し、第１の反応部と第２の反応部との間で放射性同位元素標識化合物の第１の原料を含む原料流体を往復移動させる流体往復部と、流体が通過する流体流路と、流体流路上に設けられ流体流路を通過する流体に放射性同位元素標識化合物の第２の原料を供給する原料供給部と、を有し、流体往復部に第２の原料を導入する原料導入部と、を備え、第２の原料を流体流路に通過させ、第２の原料を予め原料供給部に保持させる原料準備手段を更に備えたことを特徴とする。
また、本発明のＲＩ化合物合成装置は、放射性同位元素を反応させて、放射性同位元素標識化合物を得るＲＩ化合物合成装置において、互いに連結された第１及び第２の反応部を有し、第１の反応部と第２の反応部との間で放射性同位元素標識化合物の第１の原料を含む原料流体を往復移動させる流体往復部と、流体が通過する流体流路と、流体流路上に設けられ流体流路を通過する流体に放射性同位元素標識化合物の第２の原料を供給する原料供給部と、を有し、流体往復部に第２の原料を導入する原料導入部と、を備え、原料供給部は、気体として流体流路を通過する第２の原料を捕集すると共に、予め捕集した第２の原料の気体を、流体流路を通過する液体に溶解させることを特徴とする。 The RI compound synthesizing apparatus of the present invention is a RI compound synthesizing apparatus that obtains a radioisotope-labeled compound by reacting a radioisotope, and has first and second reaction units connected to each other. A fluid reciprocating unit for reciprocating a source fluid containing the first raw material of the radioisotope labeled compound between the reaction unit and the second reaction unit, a fluid channel through which the fluid passes, and a fluid channel A raw material supply unit for supplying the second raw material of the radioisotope labeled compound to the fluid passing through the fluid flow path, and a raw material introduction unit for introducing the second raw material into the fluid reciprocating unit, It further comprises a raw material preparation means for passing the second raw material through the fluid flow path and holding the second raw material in advance in the raw material supply unit .
The RI compound synthesizing apparatus of the present invention is a RI compound synthesizing apparatus that obtains a radioisotope-labeled compound by reacting a radioisotope, and has first and second reaction units connected to each other. A fluid reciprocating unit for reciprocating a source fluid containing the first raw material of the radioisotope labeled compound between the reaction unit and the second reaction unit, a fluid channel through which the fluid passes, and a fluid channel A raw material supply unit for supplying the second raw material of the radioisotope labeled compound to the fluid passing through the fluid flow path, and a raw material introduction unit for introducing the second raw material into the fluid reciprocating unit, raw material supply unit is configured to collect the second source material that passes through the fluid flow path as a gas, a second source of gas collected in advance, characterized in that dissolved in the liquid passing through the fluid flow path .

また、本発明のＲＩ化合物合成装置は、第１の反応部の温度を制御する第１の温度制御手段を更に備えることが好ましい。この構成によれば、第１の反応部の温度を適切に制御することで、放射性同位元素標識化合物の合成反応を促進することができる。   The RI compound synthesizer of the present invention preferably further comprises a first temperature control means for controlling the temperature of the first reaction part. According to this configuration, the synthesis reaction of the radioisotope labeled compound can be promoted by appropriately controlling the temperature of the first reaction unit.

また、本発明のＲＩ化合物合成装置は、第２の反応部の温度を制御する第２の温度制御手段を更に備えることが好ましい。この構成によれば、第２の反応部の温度を適切に制御することで、放射性同位元素標識化合物の合成反応を促進することができる。   The RI compound synthesizer of the present invention preferably further comprises a second temperature control means for controlling the temperature of the second reaction section. According to this configuration, the synthesis reaction of the radioisotope labeled compound can be promoted by appropriately controlling the temperature of the second reaction part.

また、本発明のＲＩ化合物合成方法は、 放射性同位元素を反応させて、放射性同位元素標識化合物を得るＲＩ化合物合成方法において、互いに連結された第１及び第２の反応部を有する流体往復部において、第１の反応部と第２の反応部との間で放射性同位元素標識化合物の第１の原料を含む原料流体を往復移動させる流体往復工程と、流体が通過する流体流路と、流体流路上に設けられ放射性同位元素標識化合物の第２の原料を保持すると共に、流体流路を通過する流体に対して、保持する第２の原料を供給する原料供給部とを有する原料導入部によって、流体往復部に第２の原料を導入する原料導入工程と、を備えたことを特徴とする。 Also, the RI compound synthesis method of the present invention is a RI compound synthesis method for obtaining a radioisotope-labeled compound by reacting a radioisotope, in a fluid reciprocating unit having first and second reaction units connected to each other. A fluid reciprocating step of reciprocating a source fluid containing the first raw material of the radioisotope labeled compound between the first reaction unit and the second reaction unit, a fluid flow path through which the fluid passes, and a fluid flow together provided for holding the second material of the radiolabeled compound in the road, for the fluid passing through the fluid flow path, the raw material introduction portion and a second raw material supply raw material supply unit for holding, And a raw material introduction step of introducing the second raw material into the fluid reciprocating part.

この合成方法では、第１の原料を含む原料流体が、流体往復部における第１の反応部と第２の反応部との間で往復移動する。そして、この流体往復部には、原料導入部の原料供給部から供給される第２の原料が導入される。従って、流体往復部では、第１の原料及び第２の原料が混合されて第１及び第２の反応部の間で往復しながら反応するので、第１及び第２の原料を含む流体が反応中に通過する流路の長さを全体として短くすることができる。そして、流路を短くすることで、反応に係る流体と流路壁面との接触面積を全体として小さくすることができ、反応により生成した放射性同位元素標識化合物のうち、反応装置の流路壁面に吸着される放射性同位元素標識化合物の量が少なくなり、その結果、放射性同位元素標識化合物の収率を向上させることができる。   In this synthesis method, the raw material fluid containing the first raw material reciprocates between the first reaction part and the second reaction part in the fluid reciprocation part. And the 2nd raw material supplied from the raw material supply part of a raw material introduction part is introduce | transduced into this fluid reciprocation part. Therefore, in the fluid reciprocating unit, the first raw material and the second raw material are mixed and reacted while reciprocating between the first and second reaction units, so that the fluid containing the first and second raw materials reacts. As a whole, the length of the flow path passing through can be shortened. By shortening the flow path, the contact area between the fluid involved in the reaction and the flow path wall surface can be reduced as a whole, and among the radioisotope-labeled compounds generated by the reaction, The amount of the radioisotope labeled compound to be adsorbed is reduced, and as a result, the yield of the radioisotope labeled compound can be improved.

本発明のＲＩ化合物合成装置及びＲＩ化合物合成方法によれば、反応物質の量を減らすために微量の反応物質を取り扱うことができ、かつ流路壁面に吸着される生成物を減らすことで放射性同位元素標識化合物の収率を向上することができる。   According to the RI compound synthesizing apparatus and the RI compound synthesizing method of the present invention, it is possible to handle a small amount of reactants in order to reduce the amount of reactants, and to reduce radioisotopes by reducing the products adsorbed on the channel wall surface. The yield of the element labeling compound can be improved.

以下、図面を参照しつつ本発明に係るＲＩ化合物合成装置及びＲＩ化合物合成方法の好適な実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of an RI compound synthesizing apparatus and an RI compound synthesizing method according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

（第１実施形態）
図１に示すマイクロシリンジ合成装置１は、スピペロン（第１の原料）と[11C]ヨウ化メチル（第２の原料）とを反応させ、ポジトロン放出断層撮影（ＰＥＴ）に用いられる放射性同位元素標識化合物（ＲＩ化合物）の[11C]メチルスピペロンを合成する装置である。この装置１において、第１の原料のスピペロンは、1 mg/mLのスピペロンDMF溶液20μＬとNaHのDMF溶液1μＬ（NaH 0.1 mg程度を含む）との混合溶液（以下、「原料溶液」という）として導入され、第２の原料の[11C]ヨウ化メチルは、[11C]ヨウ化メチルガスと不活性ガスとの混合ガス（以下、「原料ガス」という）として導入される。 (First embodiment)
1 is a radioisotope used for positron emission tomography (PET) by reacting spiperone (first raw material) with [ 11 C] methyl iodide (second raw material). This is an apparatus for synthesizing a labeled compound (RI compound) [ 11 C] methylspiperone. In this apparatus 1, the first raw material spiperone is a mixed solution (hereinafter referred to as “raw material solution”) of 20 μL of 1 mg / mL spiperone DMF solution and 1 μL of NaH DMF solution (including about 0.1 mg of NaH). The second raw material [ 11 C] methyl iodide is introduced as a mixed gas of [ 11 C] methyl iodide gas and an inert gas (hereinafter referred to as “source gas”).

この合成装置１は、恒温箱３と、恒温箱３内に格納された２本のマイクロシリンジ１０，２０を備えている。このマイクロシリンジ１０，２０としては、容量２５０μＬのガスタイトタイプのものが使用される。このマイクロシリンジ１０は、シリンダ１０ａと、このシリンダ１０ａに対して上下に往復動可能なピストン１０ｂとを備えている。このシリンダ１０ａとピストン１０ｂとで画成される空間により、上記２種類の原料を混合し反応させるための第１反応室（第１の反応部）Ａ１が構成されている。このマイクロシリンジ１０には、ピストン１０ｂを上下動させるシリンジポンプＰ１０が取り付けられている。   The synthesizer 1 includes a thermostatic box 3 and two microsyringes 10 and 20 stored in the thermostatic box 3. As the microsyringes 10 and 20, a gas tight type having a capacity of 250 μL is used. The microsyringe 10 includes a cylinder 10a and a piston 10b that can reciprocate up and down with respect to the cylinder 10a. A space defined by the cylinder 10a and the piston 10b constitutes a first reaction chamber (first reaction section) A1 for mixing and reacting the two types of raw materials. A syringe pump P10 that moves the piston 10b up and down is attached to the microsyringe 10.

また、同様に、マイクロシリンジ２０は、シリンダ２０ａと、このシリンダ２０ａに対して上下に往復動可能なピストン２０ｂとを備えている。このシリンダ２０ａとピストン２０ｂとで画成される空間により、上記２種類の原料を混合し反応させるための第２反応室（第２の反応部）Ａ２が構成されている。このマイクロシリンジ２０には、ピストン２０ｂを上下動させるシリンジポンプＰ２０が取り付けられている。なお、上記シリンジポンプＰ１０，Ｐ２０としては、液体の導入及び排出における流速の調整が可能なものを採用することが好ましい。また、マイクロシリンジ１０，２０の容量は反応液の量に応じて変更することが好ましい。また、汎用的なマイクロシリンジの容量としては、５０μＬから５００μＬを採用するのが好適である。   Similarly, the microsyringe 20 includes a cylinder 20a and a piston 20b that can reciprocate up and down with respect to the cylinder 20a. A space defined by the cylinder 20a and the piston 20b constitutes a second reaction chamber (second reaction part) A2 for mixing and reacting the two types of raw materials. A syringe pump P20 that moves the piston 20b up and down is attached to the microsyringe 20. In addition, it is preferable to employ | adopt what can adjust the flow velocity in the introduction and discharge | emission of a liquid as said syringe pumps P10 and P20. Moreover, it is preferable to change the capacity | capacitance of the microsyringes 10 and 20 according to the quantity of the reaction liquid. Moreover, it is suitable to employ 50 μL to 500 μL as the capacity of a general-purpose microsyringe.

恒温箱３は、マイクロシリンジ１０，２０及びシリンジポンプＰ１０，Ｐ２０を格納する構造体３ａと、構造体３ａを更に覆う断熱体（不図示）及びヒータ（不図示）とを備えている。更に、恒温箱３には、温度制御装置（第１の温度制御手段，第２の温度制御手段）５が接続されており、この温度制御装置５によって構造体３ａ内の温度が制御され、反応室Ａ１，Ａ２における反応温度を制御することが可能である。   The thermostatic box 3 includes a structure 3a that houses the microsyringes 10 and 20 and the syringe pumps P10 and P20, and a heat insulator (not shown) and a heater (not shown) that further cover the structure 3a. Furthermore, a temperature control device (first temperature control means, second temperature control means) 5 is connected to the thermostatic box 3, and the temperature in the structure 3 a is controlled by this temperature control device 5 to react. It is possible to control the reaction temperature in the chambers A1, A2.

この恒温箱３の構造体３ａには、マイクロシリンジ１０，２０及びシリンジポンプＰ１０，Ｐ２０等の取扱いを可能にすべく開閉可能な窓を設けることが好ましい。また、この窓の一部を透明にすれば、窓を閉めたまま内部が観察できるので更に好ましい。恒温箱３のヒータは、構造体３ａの内部に設置してもよい。また、ホットプレートのようなものに構造体３ａをおいて構造体３ａを外部から加熱してもよい。また、構造体３ａ内部の気体が加熱される際、温度勾配を小さくし、且つ、加熱効率を向上させるため、構造体３ａ内にはファンを設置することが好ましい、   The structure 3a of the thermostatic box 3 is preferably provided with a window that can be opened and closed to enable handling of the microsyringe 10, 20 and the syringe pumps P10, P20. Further, it is more preferable to make a part of the window transparent because the inside can be observed with the window closed. The heater of the thermostatic box 3 may be installed inside the structure 3a. Alternatively, the structure 3a may be heated from the outside by placing the structure 3a on a hot plate or the like. Further, when the gas inside the structure 3a is heated, it is preferable to install a fan in the structure 3a in order to reduce the temperature gradient and improve the heating efficiency.

このマイクロシリンジ１０には、チューブＣ３が接続されており、このチューブＣ３は、反応室Ａ１に出入りする液体を通過させる流路Ｌ３を画成している。このチューブＣ３には切り替えバルブＶ１が接続されており、この切り替えバルブＶ１に更に接続されたチューブＣ１は、原料溶液を通過させる流路Ｌ１を画成している。同様に、マイクロシリンジ２０には、チューブＣ４が接続されており、このチューブＣ４は、反応室Ａ２に出入りする液体を通過させる流路Ｌ４を画成している。このチューブＣ４には切り替えバルブＶ２が接続されており、この切り替えバルブＶ２に更に接続されたチューブＣ５は、流路Ｌ５を画成している。なお、切り替えバルブＶ１，Ｖ２は、恒温箱３の構造体３ａ内に格納されている。   A tube C3 is connected to the microsyringe 10, and this tube C3 defines a flow path L3 through which the liquid entering and exiting the reaction chamber A1 passes. A switching valve V1 is connected to the tube C3, and the tube C1 further connected to the switching valve V1 defines a flow path L1 through which the raw material solution passes. Similarly, a tube C4 is connected to the microsyringe 20, and this tube C4 defines a flow path L4 that allows liquid to enter and exit the reaction chamber A2. A switching valve V2 is connected to the tube C4, and the tube C5 further connected to the switching valve V2 defines a flow path L5. The switching valves V1 and V2 are stored in the structure 3a of the thermostatic box 3.

また、流路Ｌ３と流路Ｌ４とは、切り替えバルブＶ１，Ｖ２を介し、チューブＣ２に画成された流路Ｌ２（流体流路）によって連結される。切り替えバルブＶ１はＴ字形の流路を有しており、このＴ字型流路を回転させることで、流路Ｌ１と流路Ｌ３とのみを連結する状態１、流路Ｌ３と流路Ｌ２とのみを連結する状態２、流路Ｌ１と流路Ｌ３と流路Ｌ２とを連結する状態３、及び流路Ｌ１と流路Ｌ２とのみを連結する状態４の４つの状態に切り替えることが可能である。また、同様に、切り替えバルブＶ２もＴ字形の流路を有しており、このＴ字型流路を回転させることで、流路Ｌ５と流路Ｌ４とのみを連結する状態１、及び流路Ｌ４と流路Ｌ２とのみを連結する状態２、流路Ｌ５と流路Ｌ４と流路Ｌ２とを連結する状態３、及び流路Ｌ５と流路Ｌ２とのみを連結する状態４の４つの状態に切り替えることが可能である。   Moreover, the flow path L3 and the flow path L4 are connected by the flow path L2 (fluid flow path) defined by the tube C2 via the switching valves V1 and V2. The switching valve V1 has a T-shaped flow path, and by rotating the T-shaped flow path, the state 1 that connects only the flow path L1 and the flow path L3, the flow path L3 and the flow path L2 It is possible to switch between four states: a state 2 in which only the channel L1, the channel L3 and the channel L2 are coupled, and a state 4 in which only the channel L1 and the channel L2 are coupled. is there. Similarly, the switching valve V2 also has a T-shaped channel, and by rotating the T-shaped channel, the state 1 that connects only the channel L5 and the channel L4, and the channel Four states, state 2 in which only L4 and flow path L2 are connected, state 3 in which flow path L5, flow path L4 and flow path L2 are connected, and state 4 in which only flow path L5 and flow path L2 are connected It is possible to switch to.

そして、上記第１反応室Ａ１と第２反応室Ａ２とは、このようなバルブＶ１，Ｖ２を適宜切り替えることにより連結され、互いの間で流体を往復移動させることが可能な流体往復部２５を構成する。   The first reaction chamber A1 and the second reaction chamber A2 are connected by appropriately switching such valves V1 and V2, and a fluid reciprocating unit 25 capable of reciprocating fluid between each other is provided. Constitute.

また、チューブＣ２の流路Ｌ２上には、ガス捕集器２７が設けられている。流路Ｌ２に原料ガスが導入され、このガス捕集器２７に原料ガスが通過すると、ガス捕集器２７は、この原料ガスに含まれる[11C]ヨウ化メチルガスのみを捕集する。その後、流路Ｌ２に液体が流通され、ガス捕集器２７に液体が通過すると、ガス捕集器２７に捕集されていたガスがこの液体に溶解する。すなわち、この流路Ｌ２（流体流路）とガス捕集器（原料供給部）２７とは、第１反応室Ａ１と第２反応室Ａ２との間を行き来する流体に対して、第２の原料である[11C]ヨウ化メチルを供給可能な原料導入部２８を構成する。 A gas collector 27 is provided on the flow path L2 of the tube C2. When the source gas is introduced into the flow path L2 and the source gas passes through the gas collector 27, the gas collector 27 collects only [ 11 C] methyl iodide gas contained in the source gas. Thereafter, when the liquid is circulated through the flow path L2 and the liquid passes through the gas collector 27, the gas collected in the gas collector 27 is dissolved in this liquid. That is, the flow path L2 (fluid flow path) and the gas collector (raw material supply unit) 27 are in contact with the fluid flowing back and forth between the first reaction chamber A1 and the second reaction chamber A2. A raw material introduction unit 28 capable of supplying [ 11 C] methyl iodide as a raw material is configured.

このようなガス捕集器２７の具体的な構成としては、以下のようなものが考えられる。例えば、図２（ａ）に示すように、ガス捕集器２７は、流体を通過させる管状部２７ａと、その管状部２７ａ内部の温度を調整可能とする温度調節装置２７ｂを備えている。この場合、温度調節装置２７ｂにより管状部２７ａ内部を[11C]ヨウ化メチルの沸点以下の温度に冷却した状態で、原料ガスを管状部２７ａに通過させる。このことで、管状部２７ａの[11C]ヨウ化メチルが凝集して管状部２７ａ内壁に付着するので、[11C]ヨウ化メチルを捕集することができる。そして、溶媒を管状部２７ａに通過させると、捕集されていた[11C]ヨウ化メチルガスが溶媒に溶解する。また、[11C]ヨウ化メチルを捕集するための温度と[11C]メチルスピペロンの合成反応に適した温度とには差異がある場合が多いので、温度調整装置２７ｂは、[11C]ヨウ化メチルの捕集後速やかに上記合成反応に適した温度まで昇温できる能力を有することが好ましい。 As a specific configuration of such a gas collector 27, the following can be considered. For example, as shown to Fig.2 (a), the gas collector 27 is provided with the tubular part 27a which lets a fluid pass, and the temperature control apparatus 27b which can adjust the temperature inside the tubular part 27a. In this case, the raw material gas is passed through the tubular portion 27a in a state where the inside of the tubular portion 27a is cooled to a temperature not higher than the boiling point of [ 11 C] methyl iodide by the temperature adjusting device 27b. As a result, [ 11 C] methyl iodide in the tubular portion 27a aggregates and adheres to the inner wall of the tubular portion 27a, so that [ 11 C] methyl iodide can be collected. When the solvent is passed through the tubular portion 27a, the collected [ 11 C] methyl iodide gas is dissolved in the solvent. In addition, since there are many differences between the temperature for collecting [ 11 C] methyl iodide and the temperature suitable for the synthesis reaction of [ 11 C] methyl spiperone, the temperature adjusting device 27 b is [ 11 C] It is preferable to have the ability to raise the temperature to a temperature suitable for the synthesis reaction immediately after the collection of methyl iodide.

また、この場合、[11C]ヨウ化メチルガスが付着する面の表面積を拡大するため、図２（ｂ）に示すように、管状部２７ａ内部に粒状の充填物２７ｃを挿入しても良く、図２（ｃ）に示すように、内部にスポンジ状の構造をもつ管状部２７ｄを採用してもよい。 In this case, in order to increase the surface area of the surface to which [ 11 C] methyl iodide gas adheres, as shown in FIG. 2 (b), a granular filler 27c may be inserted into the tubular portion 27a. As shown in FIG. 2C, a tubular portion 27d having a sponge-like structure inside may be employed.

また、例えば、図３（ａ）に示すように、ガス捕集器２７が備える管状部２７ｅとしては、物理的或いは化学的に[11C]ヨウ化メチルガスを吸着し易い内壁面を有するものを用いてもよい。このようなガス捕集器２７により、上記温度調節装置２７ｂを省略して[11C]ヨウ化メチルを捕集することができる。 Further, for example, as shown in FIG. 3A, the tubular portion 27e provided in the gas collector 27 has an inner wall surface that is physically or chemically easy to adsorb [ 11 C] methyl iodide gas. It may be used. Such a gas collector 27 can collect [ 11 C] methyl iodide by omitting the temperature control device 27b.

また、この場合も、[11C]ヨウ化メチルガスが付着する面の表面積を拡大するため、図３（ｂ）に示すように、管状部２７ｅ内部に、物理的或いは化学的に[11C]ヨウ化メチルガスを吸着し易い表面をもつ粒状の充填物２７ｆを挿入しても良く、図３（ｃ）に示すように、内部にスポンジ状の構造をもつ管状部２７ｈを採用してもよい。 Also in this case, in order to increase the surface area of the surface to which [ 11 C] methyl iodide gas adheres, as shown in FIG. 3 (b), [ 11 C] is physically or chemically contained inside the tubular portion 27 e. A granular filling 27f having a surface that easily adsorbs methyl iodide gas may be inserted, and as shown in FIG. 3C, a tubular portion 27h having a sponge-like structure may be employed.

更に、図４に示すように、[11C]ヨウ化メチルガスを溶解する液体を充填した容器をガス捕集器２７としてもよい。この場合、流路Ｌ２に液体が通過すると、[11C]ヨウ化メチルガスが溶解した容器内の液体が、流路Ｌ２に流れ出て行くことで、[11C]ヨウ化メチルガスが反応系に供給される。 Furthermore, as shown in FIG. 4, a container filled with a liquid that dissolves [ 11 C] methyl iodide gas may be used as the gas collector 27. In this case, the liquid passes into the flow path L2, the liquid in the container was dissolved [11 C] iodide Mechirugasu is, by going flows in the flow path L2, [11 C] supplied iodide Mechirugasu within the reaction system Is done.

再び図１を参照すると、上記チューブＣ１の他端には、ロータリバルブＶ３が接続されている。このロータリバルブＶ３には、それぞれ流路Ｌ１１，Ｌ１２，Ｌ１３，Ｌ１４を画成するチューブＣ１１，Ｃ１２，Ｃ１３，Ｃ１４の一端が、更に接続されている。そして、ロータリバルブＶ３は、一端が流路Ｌ１に連結され他端が選択的に他の流路Ｌ１１，Ｌ１２，Ｌ１３，Ｌ１４に連結可能な連結用流路を有している。ロータリバルブＶ３は、この連結用流路を回転させることで、流路Ｌ１を流路Ｌ１１に連結する状態１、流路Ｌ１を流路Ｌ１２に連結する状態２、流路Ｌ１を流路Ｌ１３に連結する状態３、及び流路Ｌ１を流路Ｌ１４に連結する状態４の４つの状態に切り替えることが可能である。   Referring to FIG. 1 again, a rotary valve V3 is connected to the other end of the tube C1. One end of tubes C11, C12, C13, C14 that define flow paths L11, L12, L13, L14, respectively, is further connected to the rotary valve V3. The rotary valve V3 has a connecting flow path having one end connected to the flow path L1 and the other end selectively connectable to other flow paths L11, L12, L13, and L14. The rotary valve V3 rotates the connection flow path, thereby connecting the flow path L1 to the flow path L11, state 2 connecting the flow path L1 to the flow path L12, and changing the flow path L1 to the flow path L13. It is possible to switch to four states, a state 3 to be connected and a state 4 to connect the flow path L1 to the flow path L14.

また、チューブＣ５の他端には、ロータリバルブＶ４が接続されている。このロータリバルブＶ４には、それぞれ流路Ｌ２１，Ｌ２２，Ｌ２３，Ｌ２４を画成するチューブＣ２１，Ｃ２２，Ｃ２３，Ｃ２４の一端が、更に接続されている。そして、ロータリバルブＶ４は、一端が流路Ｌ５に連結され他端が選択的に他の流路Ｌ２１，Ｌ２２，Ｌ２３，Ｌ２４に連結可能な連結用流路を有している。ロータリバルブＶ４は、この連結用流路を回転させることで、流路Ｌ５を流路Ｌ２１に連結する状態１、流路Ｌ５を流路Ｌ２２に連結する状態２、流路Ｌ５を流路Ｌ２３に連結する状態３、及び流路Ｌ５を流路Ｌ２４に連結する状態４の４つの状態に切り替えることが可能である。なお、この装置１を３種類以上の反応液が必要なＲＩ化合物の合成に用いる場合には、バルブＶ３又はバルブＶ４に接続される反応液用の容器を追加してもよい。   A rotary valve V4 is connected to the other end of the tube C5. One end of tubes C21, C22, C23, C24 that define flow paths L21, L22, L23, L24, respectively, is further connected to the rotary valve V4. The rotary valve V4 has a connecting flow path having one end connected to the flow path L5 and the other end selectively connectable to the other flow paths L21, L22, L23, and L24. The rotary valve V4 rotates the connecting flow path, so that the flow path L5 is connected to the flow path L21, the flow path L5 is connected to the flow path L22, the flow path L5 is changed to the flow path L23. It is possible to switch to four states, a state 3 to be connected and a state 4 to connect the flow path L5 to the flow path L24. In addition, when using this apparatus 1 for the synthesis | combination of RI compound which requires three or more types of reaction liquids, you may add the container for reaction liquids connected to the valve | bulb V3 or the valve | bulb V4.

上記チューブＣ１１，Ｃ１２，Ｃ１３，Ｃ２１，Ｃ２２，Ｃ２３の他端は、それぞれ、バイアル瓶１１，１２，１３，２１，２２，２３に挿入されている。バイアル瓶１１には、原料溶液が格納されており、バイアル瓶２１には、溶媒としてのＤＭＦが格納されている。また、チューブＣ１４には原料ガスの発生源２６が接続され、流路Ｌ１４は原料ガスを装置１内に導入するための導入路として機能する。この原料ガスに含まれる不活性ガスは、装置１内で消費されずに流路Ｌ２４から排出される。   The other ends of the tubes C11, C12, C13, C21, C22, and C23 are inserted into the vials 11, 12, 13, 21, 22, and 23, respectively. The vial 11 stores a raw material solution, and the vial 21 stores DMF as a solvent. Further, a source gas generation source 26 is connected to the tube C14, and the flow path L14 functions as an introduction path for introducing the source gas into the apparatus 1. The inert gas contained in the source gas is discharged from the flow path L24 without being consumed in the apparatus 1.

上記バイアル瓶１１，２１には、加圧装置１５，１６がそれぞれ接続されており、瓶内部を加圧することによって第１及び第２反応液が、スムーズにチューブＣ１１，Ｃ２１に吸い上げられる。また、このバイアル瓶１１，２１にはインサートが挿入されているので、数〜数十μリットルの液量を効率的にチューブＣ１１，Ｃ２１から吸い上げることができる。なお、このような加圧装置１５，１６やインサートは、必須のものではなく、省略してもよい。   Pressurizing devices 15 and 16 are connected to the vial bottles 11 and 21, respectively, and the first and second reaction liquids are smoothly sucked into the tubes C11 and C21 by pressurizing the inside of the bottles. Further, since the inserts are inserted in the vials 11 and 21, a liquid amount of several to several tens of microliters can be efficiently sucked from the tubes C11 and C21. In addition, such pressurization apparatuses 15 and 16 and insert are not essential, and may be omitted.

バイアル瓶１２には、反応室Ａ１，Ａ２及び流路Ｌ１〜Ｌ５の洗い込みを行うための洗い込み用溶媒としてエタノールが格納されている。また、バイアル瓶１３には、反応室Ａ１，Ａ２及び流路Ｌ１〜Ｌ５を洗浄するための洗浄液が格納されている。バイアル瓶２２には、第１及び第２反応液の反応によって生じる[11C]メチルスピペロンが回収される。また、バイアル瓶２３には、反応室Ａ１，Ａ２及び流路Ｌ１〜Ｌ５を洗浄した後の廃液が回収される。なお、バイアル瓶２２を省略し、チューブＣ２２は、[11C]メチルスピペロンの精製を行うための精製系に直接接続してもよい。 The vial 12 stores ethanol as a washing solvent for washing the reaction chambers A1 and A2 and the flow paths L1 to L5. The vial 13 stores a cleaning solution for cleaning the reaction chambers A1 and A2 and the flow paths L1 to L5. [ 11 C] methyl spiperone generated by the reaction of the first and second reaction liquids is collected in the vial 22. Moreover, the waste liquid after wash | cleaning reaction chamber A1, A2 and flow path L1-L5 is collect | recovered by the vial bottle 23. FIG. The vial bottle 22 may be omitted, and the tube C22 may be directly connected to a purification system for purifying [ 11 C] methyl spiperone.

更に、合成装置１は、上記マイクロシリンジ１０，２０、切り替えバルブＶ１，Ｖ２、ロータリバルブＶ３，Ｖ４の動作を制御するための制御装置１７を備えている。この制御装置１７は、シリンジポンプＰ１０，Ｐ２０に電気信号を送信することで、マイクロシリンジ１０，２０のピストン１０ｂ，２０ｂの往復動を制御する。また、制御装置１７は、各バルブＶ１〜Ｖ４に電気信号を送信することで、バルブＶ１〜Ｖ４の流路を回転させ状態の切り替えを制御する。   Furthermore, the synthesizing device 1 includes a control device 17 for controlling the operations of the microsyringes 10 and 20, the switching valves V1 and V2, and the rotary valves V3 and V4. The control device 17 controls the reciprocation of the pistons 10b and 20b of the microsyringe 10 and 20 by transmitting an electrical signal to the syringe pumps P10 and P20. Moreover, the control apparatus 17 controls the switching of a state by rotating the flow path of valve | bulb V1-V4 by transmitting an electrical signal to each valve | bulb V1-V4.

なお、上記切り替えバルブＶ１，Ｖ２に代えて、回転するＴ字形の流路を有する三方活栓を用いてもよいし、チューブＣ１〜Ｃ５それぞれにシャットオフバルブを取り付けてもよい。また、１つの六方切り替えバルブ等を用いてバルブＶ１，Ｖ２の機能を持たせることも可能である。また、流路Ｌ１（又は流路Ｌ５）と、複数の流路とを選択的に連結できるものであれば、ロータリバルブＶ３，Ｖ４に代えて採用してもよい。例えば、チューブＣ１（又はチューブＣ５）の端部を分岐させ、分岐した各岐にバルブを取り付けるようにすれば、ロータリバルブＶ３，Ｖ４の機能を持たせることが可能である。   Instead of the switching valves V1 and V2, a three-way cock having a rotating T-shaped channel may be used, or a shut-off valve may be attached to each of the tubes C1 to C5. It is also possible to provide the functions of the valves V1 and V2 using a single six-way switching valve or the like. Moreover, as long as it can selectively connect the flow path L1 (or flow path L5) and a plurality of flow paths, it may be adopted instead of the rotary valves V3, V4. For example, if the end of the tube C1 (or the tube C5) is branched and a valve is attached to each branched branch, the functions of the rotary valves V3 and V4 can be provided.

また、チューブＣ１〜Ｃ５，Ｃ１１〜Ｃ１４，Ｃ２１〜２４としては、フューズドシリカキャピラリーチューブ、プラスチックチューブ又は金属チューブ等を用いることができる。ここで、好適なプラスチックチューブの例としては、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン樹脂）製、ＴＥＦＬＯＮ（登録商標）製のチューブが挙げられる。また、好適な金属チューブの例としては、ステンレススチール製のチューブ等が挙げられる。また、この合成装置１で反応させる試薬や合成する化合物によっては、上記フューズドシリカキャピラリーチューブの内壁面を表面処理したものを用いた方がよい場合もある。このようなチューブを用いることで、チューブ内壁面への化合物の付着を抑制することができる。また、チューブＣ１〜Ｃ５，Ｃ１１〜Ｃ１４，Ｃ２１〜２４の好適な内径は、０．１〜０．５ｍｍである。   Further, as the tubes C1 to C5, C11 to C14, and C21 to 24, a fused silica capillary tube, a plastic tube, a metal tube, or the like can be used. Here, examples of suitable plastic tubes include tubes made of PEEK (polyether ether ketone resin) and TEFLON (registered trademark). Examples of suitable metal tubes include stainless steel tubes. Depending on the reagent to be reacted in the synthesizer 1 and the compound to be synthesized, it may be better to use a surface-treated inner wall surface of the fused silica capillary tube. By using such a tube, adhesion of the compound to the inner wall surface of the tube can be suppressed. Moreover, the suitable internal diameter of tubes C1-C5, C11-C14, C21-24 is 0.1-0.5 mm.

以上のような合成装置１の構成に基づき、この合成装置１のＲＩ化合物合成処理における動作について説明する。なお、以下の合成装置１の動作は、シリンジポンプＰ１０，Ｐ２０の駆動によるピストン１０ｂ，２０ｂの上下動、及びバルブＶ１〜Ｖ４の状態の切り替えを、制御装置１７で制御することにより行われる。また、このとき、温度制御装置５によって、予め恒温箱３内の温度が[11C]メチルスピペロンの合成処理に適した温度である約５０℃に加熱されている。 Based on the configuration of the synthesis apparatus 1 as described above, the operation of the synthesis apparatus 1 in the RI compound synthesis process will be described. In addition, the operation | movement of the following synthesizing | combining apparatuses 1 is performed by controlling the vertical movement of piston 10b, 20b by the drive of syringe pump P10, P20, and the switching of the state of valve | bulb V1-V4 with the control apparatus 17. FIG. At this time, the temperature in the thermostatic box 3 is preliminarily heated to about 50 ° C., which is a temperature suitable for the synthesis of [ 11 C] methylspiperone, by the temperature control device 5.

（ガス捕集工程）
まず、バルブＶ１，Ｖ３を切り替えて、流路Ｌ２と流路Ｌ１とを連結すると共に、流路Ｌ１と流路Ｌ１４とを連結する。また、バルブＶ２，Ｖ４を切り替えて、流路Ｌ２と流路Ｌ５とを連結すると共に、流路Ｌ５と流路Ｌ２４とを連結する。この状態で、流路Ｌ１４に原料ガス発生源２６からの原料ガスを導入すると、原料ガスは、流路Ｌ１を通過して流路Ｌ２を流動しガス捕集器２７を通過する。このとき、原料ガス中の[11C]ヨウ化メチルガスは、ガス捕集器２７によって捕集され、不活性ガスのみが流路Ｌ２から流路Ｌ５へ排出される。不活性ガスは、流路Ｌ２４を経て系外へ排出される。このように原料ガス発生源２６や原料ガスをガス捕集器２７に導入するための各流路が、原料準備手段として機能するので、第２の原料である[11C]ヨウ化メチルガスを、ガス捕集器２７に予め捕集させることができる。なお、ここでは、窒素ガスが上記不活性ガスとして用いられる。 (Gas collection process)
First, the valves V1 and V3 are switched to connect the flow path L2 and the flow path L1, and connect the flow path L1 and the flow path L14. Further, the valves V2 and V4 are switched to connect the flow path L2 and the flow path L5, and connect the flow path L5 and the flow path L24. In this state, when the source gas from the source gas generation source 26 is introduced into the flow path L14, the source gas flows through the flow path L1, flows through the flow path L2, and passes through the gas collector 27. At this time, [ 11 C] methyl iodide gas in the raw material gas is collected by the gas collector 27, and only the inert gas is discharged from the flow path L 2 to the flow path L 5. The inert gas is discharged out of the system through the flow path L24. Thus, since each flow path for introducing the raw material gas generation source 26 and the raw material gas into the gas collector 27 functions as a raw material preparation means, [ 11 C] methyl iodide gas, which is the second raw material, The gas collector 27 can collect in advance. Here, nitrogen gas is used as the inert gas.

（反応液導入工程）
次に、バルブＶ１，Ｖ３を切り替えて、流路Ｌ３と流路Ｌ１とを連結すると共に、流路Ｌ１と流路Ｌ１１とを連結する。また、切り替えバルブＶ２，Ｖ４を切り替えて、流路Ｌ４と流路Ｌ５とを連結すると共に、流路Ｌ５と流路Ｌ２１とを連結する。更に、ピストン１０ｂ，２０ｂは、最下点に移動させる。この状態で、シリンジポンプＰ１０，Ｐ２０を動作させピストン１０ｂ，２０ｂを上昇させる。このとき、バイアル瓶１１の原料溶液は、流路Ｌ１１→流路Ｌ１→流路Ｌ３を通じて、全量が反応室Ａ１に導入される。また、バイアル瓶２１のＤＭＦは、流路Ｌ２１→Ｌ５→Ｌ４を通じて、全量が反応室Ａ２に導入される。なお、この工程においては、加圧装置１５，１６によってバイアル瓶１１，２１内部が加圧されているので、反応室Ａ１，Ａ２には原料溶液，ＤＭＦがそれぞれスムーズに導入される。 (Reaction solution introduction process)
Next, the valves V1 and V3 are switched to connect the flow path L3 and the flow path L1, and connect the flow path L1 and the flow path L11. Further, the switching valves V2 and V4 are switched to connect the flow path L4 and the flow path L5, and to connect the flow path L5 and the flow path L21. Further, the pistons 10b and 20b are moved to the lowest point. In this state, the syringe pumps P10 and P20 are operated to raise the pistons 10b and 20b. At this time, the entire amount of the raw material solution in the vial 11 is introduced into the reaction chamber A1 through the flow path L11 → the flow path L1 → the flow path L3. Further, the entire amount of DMF in the vial 21 is introduced into the reaction chamber A2 through the flow paths L21 → L5 → L4. In this process, since the insides of the vial bottles 11 and 21 are pressurized by the pressurizing devices 15 and 16, the raw material solution and DMF are smoothly introduced into the reaction chambers A1 and A2, respectively.

（反応液混合工程）
次に、バルブＶ１，Ｖ２を切り替えて、流路Ｌ３と流路Ｌ２とを連結すると共に、流路Ｌ４と流路Ｌ２とを連結すると、反応室Ａ１と反応室Ａ２とが、流路Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４を介して連通される。この状態で、ピストン１０ｂを更に上昇させながら、同じ速さでピストン２０ｂを下降させると、反応室Ａ２のＤＭＦが流路Ｌ４→流路Ｌ２→流路Ｌ３を通じて反応室Ａ１に移動する。このとき、ＤＭＦが流路Ｌ２のガス捕集器２７を通過すると、ガス捕集器２７に捕集されていた[11C]ヨウ化メチルガスを溶解し、[11C]ヨウ化メチルのＤＭＦ溶液となる。その後、この溶液は、流路Ｌ２を流動し流路Ｌ３を通じて反応室Ａ１に移動する。そして、反応室Ａ１内では、原料溶液と上記[11C]ヨウ化メチルのＤＭＦ溶液とが混合され、スピペロンと[11C]ヨウ化メチルとが反応することになる。 (Reaction mixture process)
Next, the valves V1 and V2 are switched to connect the flow path L3 and the flow path L2, and when the flow path L4 and the flow path L2 are connected, the reaction chamber A1 and the reaction chamber A2 are connected to the flow path L3. It communicates via L2 and L4. In this state, when the piston 20b is lowered at the same speed while further raising the piston 10b, the DMF in the reaction chamber A2 moves to the reaction chamber A1 through the flow path L4 → the flow path L2 → the flow path L3. At this time, when DMF passes through the gas collector 27 in the flow path L2, the [ 11 C] methyl iodide gas collected in the gas collector 27 is dissolved, and a DMF solution of [ 11 C] methyl iodide is dissolved. It becomes. Thereafter, the solution flows through the flow path L2 and moves to the reaction chamber A1 through the flow path L3. In the reaction chamber A1, the raw material solution and the DMF solution of [ 11 C] methyl iodide are mixed, and spiperone and [ 11 C] methyl iodide react.

（混合液往復工程）
その後、ピストン２０ｂを上昇させながら、同じ速さでピストン１０ｂを下降させると、原料溶液と上記[11C]ヨウ化メチルのＤＭＦ溶液との上記混合液が、反応室Ａ１から、流路Ｌ３を通じて排出され、更に流路Ｌ２→流路Ｌ４を通じて反応室Ａ２に導入される。更に、その後、逆にピストン１０ｂを上昇させながら、同じ速さでピストン２０ｂを下降させると、第１及び第２反応液は、反応室Ａ２から、流路Ｌ４を通じて排出され、更に流路Ｌ２→流路Ｌ３を通じて反応室Ａ１に導入される。 (Mixed liquid reciprocation process)
Thereafter, when the piston 10b is lowered at the same speed while raising the piston 20b, the mixed solution of the raw material solution and the D 11 solution of [ 11 C] methyl iodide is passed from the reaction chamber A1 through the flow path L3. It is discharged and further introduced into the reaction chamber A2 through the flow path L2 → flow path L4. Further, when the piston 20b is lowered at the same speed while the piston 10b is raised, the first and second reaction liquids are discharged from the reaction chamber A2 through the flow path L4, and further, the flow path L2 → It is introduced into the reaction chamber A1 through the flow path L3.

以上のようなピストン１０ｂ，２０ｂの上下動を、交互に周期的に繰り返すことで、反応室Ａ１と反応室Ａ２との間で、上記混合液を１分間（例えば２回）往復させる。このように、合成装置１では、マイクロシリンジ１０，２０を採用しているので、ピストン１０ｂ，２０ｂの操作により、混合液を反応室Ａ１，Ａ２間でスムーズに往復させることができる。そして、このような混合液の往復移動により、ガス捕集器２７に捕集されていた[11C]ヨウ化メチルガスは、混合液中に十分に溶解する。また、反応室Ａ１，Ａ２及び流路Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４において、原料溶液と上記[11C]ヨウ化メチルのＤＭＦ溶液とが互いに十分に接触するので、両者が徐々に混合され、均一の液体となる。また、このとき、反応室Ａ１と流路Ｌ３との接続部、及び反応室Ａ２と流路Ｌ４との接続部においては、流路の内径が不連続的に変化することから、混合液は、この接続部において流動が乱され、更に適切に混合され、反応が促進される。 The above-described vertical movement of the pistons 10b and 20b is alternately and periodically repeated, whereby the mixed solution is reciprocated between the reaction chamber A1 and the reaction chamber A2 for 1 minute (for example, twice). Thus, since the synthesizer 1 employs the microsyringes 10 and 20, the mixed solution can be smoothly reciprocated between the reaction chambers A1 and A2 by operating the pistons 10b and 20b. Then, by the reciprocating movement of the mixed solution, [ 11 C] methyl iodide gas collected in the gas collector 27 is sufficiently dissolved in the mixed solution. Further, in the reaction chambers A1 and A2 and the flow paths L3, L2 and L4, the raw material solution and the DMF solution of [ 11 C] methyl iodide are sufficiently in contact with each other. It becomes. At this time, the inner diameter of the flow path changes discontinuously at the connection between the reaction chamber A1 and the flow path L3 and the connection between the reaction chamber A2 and the flow path L4. The flow is disturbed at this connection, and further adequate mixing is achieved to promote the reaction.

（生成物回収工程）
そして、第１の原料であるスピペロンと第２の原料である[11C]ヨウ化メチルとが反応し、十分に[11C]メチルスピペロンが生成された後、この生成物溶液を反応室Ａ２に移動させた状態で、バルブＶ２を切り替えて流路Ｌ４と流路Ｌ５とを連結する。また、バルブＶ４を切り替えて流路Ｌ５と流路Ｌ２２とを連結する。この状態でピストン２０ｂを下降させると、反応室Ａ２内の生成物溶液が、流路Ｌ４→流路Ｌ５→流路Ｌ２２を通じて回収用のバイアル瓶２２に排出される。 (Product recovery process)
Then, after the first raw material, spiperone, and the second raw material, [ 11 C] methyl iodide are reacted to sufficiently generate [ 11 C] methyl spiperone, the product solution is added to the reaction chamber. In the state moved to A2, the valve V2 is switched to connect the flow path L4 and the flow path L5. Further, the valve V4 is switched to connect the flow path L5 and the flow path L22. When the piston 20b is lowered in this state, the product solution in the reaction chamber A2 is discharged to the recovery vial 22 through the flow path L4 → the flow path L5 → the flow path L22.

（洗い込み工程）
その後、バルブＶ１，Ｖ３を切り替えて流路Ｌ３と流路Ｌ１とを連結し、流路Ｌ１と流路Ｌ１２とを連結する。この状態でピストン１０ｂを上昇させると、バイアル瓶１２内のエタノールが反応室Ａ１に導入される。そして、上述した第１及び第２反応液の往復動作と同様に、エタノールを反応室Ａ１，Ａ２間で例えば１回往復させた後、バイアル瓶２２に排出させる。このように、反応室Ａ１，Ａ２及び各流路Ｌ１〜Ｌ５に洗い込み溶媒としてのエタノールを通過させることで、反応室Ａ１，Ａ２及び各流路Ｌ１〜Ｌ５内に残った[11C]メチルスピペロンを回収することができる。 (Washing process)
Thereafter, the valves V1 and V3 are switched to connect the flow path L3 and the flow path L1, and the flow path L1 and the flow path L12 are connected. When the piston 10b is raised in this state, the ethanol in the vial 12 is introduced into the reaction chamber A1. Then, ethanol is reciprocated once between the reaction chambers A 1 and A 2, for example, in the same manner as the reciprocating operation of the first and second reaction liquids described above, and then discharged into the vial 22. Thus, the [ 11 C] methyl remaining in the reaction chambers A 1, A 2 and each of the flow paths L 1 -L 5 is passed through the reaction chambers A 1, A 2 and the flow paths L 1 -L 5 by passing ethanol as a solvent. Spiperone can be recovered.

（装置洗浄工程）
また、上記洗い込み工程と同様の操作により、反応室Ａ１，Ａ２及び各流路Ｌ１〜Ｌ５に、バイアル瓶１３内に準備された洗浄液を通過させて洗浄することも可能である。なお、この場合の洗浄液は、最終的に廃液用のバイアル瓶２３に排出され廃棄される。 (Device cleaning process)
Moreover, it is also possible to carry out washing | cleaning by allowing the washing | cleaning liquid prepared in the vial bottle 13 to pass through reaction chamber A1, A2 and each flow path L1-L5 by operation similar to the said washing | cleaning process. In this case, the cleaning liquid is finally discharged to the waste vial 23 and discarded.

以上のように、合成装置１及び上記合成方法によれば、上記の流路Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４は、反応室Ａ１，Ａ２への原料の導入路としての機能、生成物の排出路としての機能、及び原料を混合し反応させる反応路としての機能を兼ね備えている。このように、少ない流路を繰り返し用いながら混合液を通過させているので、混合液の通過に関わる流路を全体として短くすることができる。また、混合液中の第１の原料であるスピペロンと第２の原料である[11C]ヨウ化メチルとが、２つの反応室Ａ１，Ａ２の間で、流路Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４を繰り返し通過しながら互いに接触する。更に、マイクロシリンジ１０，２０を用いることで、反応室Ａ１と流路Ｌ３との接続部、及び反応室Ａ２と流路Ｌ４との接続部においては、流路の内径が不連続的に変化する。従って、混合液は、この接続部において流動が乱されて適切に混合され、反応が促進される。よって、流路Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４を短くしたとしても、十分に第１及び第２反応液が接触し、反応して[11C]メチルスピペロンが生成される。 As described above, according to the synthesis apparatus 1 and the synthesis method, the flow paths L3, L2, and L4 function as a raw material introduction path into the reaction chambers A1 and A2, and function as a product discharge path. And a function as a reaction path for mixing and reacting raw materials. Thus, since the mixed liquid is allowed to pass while repeatedly using a small number of flow paths, the flow paths relating to the passage of the mixed liquid can be shortened as a whole. In addition, the first raw material spiperone and the second raw material [ 11 C] methyl iodide in the mixed solution repeat the flow paths L3, L2, and L4 between the two reaction chambers A1 and A2. Touch each other while passing. Furthermore, by using the microsyringes 10 and 20, the inner diameter of the flow path changes discontinuously at the connection between the reaction chamber A1 and the flow path L3 and at the connection between the reaction chamber A2 and the flow path L4. . Accordingly, the mixed liquid is appropriately mixed by disturbing the flow at the connection portion, and the reaction is promoted. Therefore, even if the flow paths L3, L2, and L4 are shortened, the first and second reaction liquids are sufficiently in contact with each other and reacted to produce [ 11 C] methyl spiperone.

以上の理由により、合成装置１及び上記合成方法によれば、チューブＣ３，Ｃ２，Ｃ４を短くし、生成物溶液が接触するチューブ内壁面の面積を小さくすることができる。その結果、チューブ内壁面に付着し回収困難となってしまう[11C]メチルスピペロンを少なくすることができ、[11C]メチルスピペロンの収率を向上することができる。 For the above reasons, according to the synthesizer 1 and the above synthesis method, the tubes C3, C2, and C4 can be shortened, and the area of the inner wall surface of the tube that is in contact with the product solution can be reduced. As a result, [ 11 C] methyl spiperone that adheres to the inner wall surface of the tube and is difficult to recover can be reduced, and the yield of [ 11 C] methyl spiperone can be improved.

なお、上記反応液導入工程において、反応室Ａ１，Ａ２への原料溶液又はＤＭＦの導入の前に、ロータリバルブＶ３，Ｖ４を切り替えて流路Ｌ１，Ｌ５を空のポートに連結し、ピストン１０ｂ，２０ｂを上昇させる操作を行ってもよい。この操作により、反応室Ａ１，Ａ２内にそれぞれ数〜数十μＬの空気等の気体が導入され、その後、この気体の下方に原料溶液又はＤＭＦが導入されることになる。このように、原料溶液又はＤＭＦとピストン１０ｂ，２０ｂとの間に気体が存在すると、上記生成物回収工程においては、この気体によって生成物溶液が押し出される。その結果、反応室Ａ１，Ａ２及び各流路内に[11C]メチルスピペロンが取り残されることが抑制されるので、このＲＩ化合物の収率を向上することができる。 In the reaction liquid introduction step, before introducing the raw material solution or DMF into the reaction chambers A1 and A2, the rotary valves V3 and V4 are switched to connect the flow paths L1 and L5 to empty ports, and the pistons 10b, You may perform operation which raises 20b. By this operation, several to several tens of μL of gas such as air is introduced into the reaction chambers A1 and A2, respectively, and then the raw material solution or DMF is introduced below the gas. As described above, when a gas exists between the raw material solution or DMF and the pistons 10b and 20b, the product solution is pushed out by the gas in the product recovery step. As a result, it is suppressed that [ 11 C] methyl spiperone is left in the reaction chambers A1 and A2 and each flow path, so that the yield of this RI compound can be improved.

また、上記反応液混合工程の前に、ピストン１０ｂ，２０ｂの双方を下降させる方向に加圧する操作を行ってもよい。この操作によれば、原料溶液とＤＭＦとの間に挟まれるように残留する気泡を、加圧により小さくしたり、溶解させたりすることができるので、反応液混合工程において原料溶液と[11C]ヨウ化メチルのＤＭＦ溶液とが互いに接触しやすくなり、反応を促進することができる。 Moreover, you may perform operation which pressurizes in the direction which lowers both piston 10b, 20b before the said reaction liquid mixing process. According to this operation, bubbles remaining so as to be sandwiched between the raw material solution and DMF can be reduced or dissolved by pressurization. Therefore, in the reaction liquid mixing step, [ 11 C ] It becomes easy to contact each other with the DMF solution of methyl iodide, and the reaction can be promoted.

また、上記反応液混合工程の後には、必ずしも上記反応液往復工程を行う必要はなく、反応液混合工程において十分な混合及び反応がなされれば、その後、反応液往復工程を省略し、反応室Ａ１から混合液を直接バイアル瓶２２に回収してもよい。   Further, it is not always necessary to perform the reaction solution reciprocation step after the reaction solution mixing step. If sufficient mixing and reaction are performed in the reaction solution mixing step, the reaction solution reciprocation step is omitted thereafter, and the reaction chamber The mixed solution may be directly collected in the vial 22 from A1.

また、上記反応液導入工程においては、反応室Ａ１に原料溶液を導入した後、反応室Ａ２にＤＭＦを導入する工程を省略してもよい。この場合、反応液混合工程において、最初に、反応室Ａ１の原料溶液を反応室Ａ２に移動させる操作を行うことで、原料溶液が流路Ｌ２のガス捕集器２７を通過する。このとき、原料溶液に[11C]ヨウ化メチルガスが溶解し、スピペロンと[11C]ヨウ化メチルとの２つの原料を含んだ状態で原料溶液が反応室Ａ２に導入され、この原料溶液中でスピペロンと[11C]ヨウ化メチルとの反応が進行する。   In the reaction liquid introduction step, the step of introducing DMF into the reaction chamber A2 after introducing the raw material solution into the reaction chamber A1 may be omitted. In this case, in the reaction liquid mixing step, first, the raw material solution passes through the gas collector 27 of the flow path L2 by performing an operation of moving the raw material solution in the reaction chamber A1 to the reaction chamber A2. At this time, [11C] methyl iodide gas is dissolved in the raw material solution, and the raw material solution is introduced into the reaction chamber A2 in a state of containing two raw materials of spiperone and [11C] methyl iodide. And [11C] methyl iodide proceed.

（第２実施形態）
図５に示すマイクロシリンジ合成装置３１は、上述の合成装置１におけるバルブＶ１，Ｖ２に代えて、２ポジション−１０ポートのバルブＶ３３を備えている。なお、図２は、合成装置３１の要部のみを示すものであり、例えば、バルブＶ３，Ｖ４に接続されたチューブＣ１１〜Ｃ１３，Ｃ２１〜Ｃ２３、シリンジポンプＰ１０，Ｐ２０、温度制御装置５、制御装置１７、加圧装置１５，１６等が省略されている。また、この合成装置３１において、上記合成装置１と同一又は同等な構成については、図面に同一符号を付し、その説明は省略する。 (Second Embodiment)
A microsyringe synthesizer 31 shown in FIG. 5 includes a 2-position-10-port valve V33 instead of the valves V1 and V2 in the synthesizer 1 described above. FIG. 2 shows only the main part of the synthesizer 31. For example, tubes C11 to C13 and C21 to C23 connected to valves V3 and V4, syringe pumps P10 and P20, temperature controller 5 and control. The device 17, the pressurizing devices 15, 16 and the like are omitted. In the synthesizer 31, the same or equivalent components as those of the synthesizer 1 are denoted by the same reference numerals in the drawings, and the description thereof is omitted.

この合成装置３１において、バルブＶ３３が、第１のポジション（図２（ａ）参照）に切り替えられると、流路Ｌ１と流路Ｌ３、流路Ｌ５と流路Ｌ４がそれぞれ連結され、流路Ｌ１４と流路Ｌ２と流路Ｌ２４とがこの順に連結される。この状態で、流路Ｌ１４に原料ガス発生源２６からの原料ガスを導入すると、原料ガスは、流路Ｌ２を流動しガス捕集器２７を通過するので、上述のガス捕集工程を行うことができる。また、この状態では、バルブＶ３→流路Ｌ１→流路Ｌ３を通じて反応室Ａ１に原料溶液を導入すると共に、バルブＶ４→流路Ｌ５→流路Ｌ４を通じて反応室Ａ２にＤＭＦを導入することができるので、上述の反応液導入工程を行うことができる。   In the synthesizer 31, when the valve V33 is switched to the first position (see FIG. 2A), the flow path L1 and the flow path L3, the flow path L5 and the flow path L4 are respectively connected, and the flow path L14. And the flow path L2 and the flow path L24 are connected in this order. In this state, when the source gas from the source gas generation source 26 is introduced into the flow path L14, the source gas flows through the flow path L2 and passes through the gas collector 27. Therefore, the above-described gas collection step is performed. Can do. In this state, the raw material solution can be introduced into the reaction chamber A1 through the valve V3 → the flow path L1 → the flow path L3, and DMF can be introduced into the reaction chamber A2 through the valve V4 → the flow path L5 → the flow path L4. Therefore, the above-described reaction liquid introduction step can be performed.

続いて、バルブＶ３３が、第２のポジション（図２（ｂ）参照）に切り替えられると、反応室Ａ１と反応室Ａ２とが、流路Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４を介して連通されるので、上述の反応液混合工程及び混合液往復工程を行うことができる。その後、バルブＶ３３を第１及び第２ポジションに適宜切り替えることで、上述の生産物回収工程、洗い込み工程、及び装置洗浄工程を行うことができる。   Subsequently, when the valve V33 is switched to the second position (see FIG. 2B), the reaction chamber A1 and the reaction chamber A2 communicate with each other via the flow paths L3, L2, and L4. The reaction liquid mixing step and the mixed liquid reciprocating step can be performed. Thereafter, by appropriately switching the valve V33 to the first and second positions, the product recovery process, the washing process, and the apparatus cleaning process described above can be performed.

このような合成装置３１及び上記合成方法によっても、第１実施形態に係る合成装置１及び合成方法と同様の作用効果を得ることができる。   Also by such a synthesizing device 31 and the synthesizing method, the same effects as the synthesizing device 1 and the synthesizing method according to the first embodiment can be obtained.

（第３実施形態）
図６に示すマイクロシリンジ合成装置５１は、３本のマイクロシリンジ１０，２０，３０を備えている点で、上述の合成装置１とは異なる。この合成装置５１において、上記合成装置１と同一又は同等な構成については、図面に同一符号を付し、その説明は省略する。 (Third embodiment)
The microsyringe synthesizer 51 shown in FIG. 6 is different from the synthesizer 1 described above in that it includes three microsyringes 10, 20, and 30. In the synthesizer 51, the same or equivalent components as those of the synthesizer 1 are denoted by the same reference numerals in the drawings, and the description thereof is omitted.

このマイクロシリンジ３０は、マイクロシリンジ１０，２０と同様に構成されており、マイクロシリンジ３０のシリンダ３０ａとピストン３０ｂとにより第３反応室Ａ３が画成されている。また、ピストン３０ｂの動作は、制御装置１７により、シリンジポンプＰ３０を介して制御されている。   The microsyringe 30 is configured in the same manner as the microsyringes 10 and 20, and a third reaction chamber A3 is defined by the cylinder 30a and the piston 30b of the microsyringe 30. The operation of the piston 30b is controlled by the control device 17 via the syringe pump P30.

このマイクロシリンジ３０には、流路Ｌ７を画成するチューブＣ７の一端が接続されている。このチューブＣ７の他端には、チューブＣ１が接続されＴ字形の流路を有する切り替えバルブＶ５３が接続されている。また、チューブＣ３とチューブＣ２とを接続するバルブＶ５１は、回転するＴ字形の流路を有する三方活栓を構成しており、流路Ｌ６を画成するチューブＣ６によりバルブＶ５３に接続されている。このバルブＶ５１，バルブＶ５３の状態の切り替えは、制御装置１７により制御されている。   One end of a tube C7 that defines a flow path L7 is connected to the microsyringe 30. The other end of the tube C7 is connected to a switching valve V53 connected to the tube C1 and having a T-shaped flow path. The valve V51 connecting the tube C3 and the tube C2 constitutes a three-way cock having a rotating T-shaped flow path, and is connected to the valve V53 by a tube C6 that defines the flow path L6. Switching of the states of the valve V51 and the valve V53 is controlled by the control device 17.

このような合成装置５１の構成に基づき、この合成装置５１のＲＩ化合物合成処理における動作について説明する。   Based on the configuration of the synthesizer 51, the operation of the synthesizer 51 in the RI compound synthesis process will be described.

（ガス捕集工程）
まず、バルブＶ３，Ｖ５３、Ｖ５１，Ｖ２，Ｖ４を切り替えて、流路Ｌ１４，Ｌ１，Ｌ６，Ｌ２，Ｌ５，Ｌ２４をこの順に連結させる。この状態で、流路Ｌ１４に原料ガス発生源２６からの原料ガスを導入することで、上記合成装置１と同様に、ガス捕集器２７に、第２の原料である[11C]ヨウ化メチルガスを、予め捕集させることができる。 (Gas collection process)
First, the valves V3, V53, V51, V2, and V4 are switched to connect the flow paths L14, L1, L6, L2, L5, and L24 in this order. In this state, by introducing the raw material gas from the raw material gas generation source 26 into the flow path L14, [ 11 C] iodide, which is the second raw material, is supplied to the gas collector 27 as in the synthesis apparatus 1. Methyl gas can be collected in advance.

（反応液導入工程）
次に、バルブＶ５３，Ｖ３を切り替えて、流路Ｌ７と流路Ｌ１とを連結すると共に、流路Ｌ１と流路Ｌ１１とを連結する。また、切り替えバルブＶ２，Ｖ４を切り替えて、流路Ｌ４と流路Ｌ５とを連結すると共に、流路Ｌ５と流路Ｌ２１とを連結する。更に、ピストン１０ｂ，２０ｂ，３０ｂは、最下点に移動させる。この状態で、シリンジポンプＰ３０，Ｐ２０を動作させてピストン３０ｂ，２０ｂを上昇させる。このとき、バイアル瓶１１の原料溶液は、流路Ｌ１１→流路Ｌ１→流路Ｌ７を通じて、全量が反応室Ａ３に導入される。また、バイアル瓶２１のＤＭＦは、流路Ｌ２１→Ｌ５→Ｌ４を通じて、全量が反応室Ａ２に導入される。 (Reaction solution introduction process)
Next, the valves V53 and V3 are switched to connect the flow path L7 and the flow path L1, and connect the flow path L1 and the flow path L11. Further, the switching valves V2 and V4 are switched to connect the flow path L4 and the flow path L5, and to connect the flow path L5 and the flow path L21. Further, the pistons 10b, 20b, 30b are moved to the lowest point. In this state, the syringe pumps P30 and P20 are operated to raise the pistons 30b and 20b. At this time, the entire amount of the raw material solution in the vial 11 is introduced into the reaction chamber A3 through the flow path L11 → the flow path L1 → the flow path L7. Further, the entire amount of DMF in the vial 21 is introduced into the reaction chamber A2 through the flow paths L21 → L5 → L4.

（反応液混合工程）
次に、バルブＶ５３，Ｖ２を切り替えて、流路Ｌ６と流路Ｌ７とを連結すると共に、流路Ｌ４と流路Ｌ２とを連結する。更に、流路Ｌ３，Ｌ２，Ｌ６が互いに連結されるように、バルブＶ５１を切り替える。このような操作により、反応室Ａ１，Ａ２，Ａ３がすべて連通されることになる。そして、この状態で、ピストン２０ｂ、３０ｂを同じ速度で下降させながら、ピストン１０ｂをその２倍の速度で上昇させる。このとき、反応室Ａ３の原料溶液は、流路Ｌ７→流路Ｌ６→流路Ｌ３を通じて反応室Ａ１（第１の反応部）に移動する。また、反応室Ａ２（第２の反応部）のＤＭＦは、流路Ｌ４→流路Ｌ２（流体流路）→流路Ｌ３を通じて反応室Ａ１に移動する。このとき、ＤＭＦが流路Ｌ２のガス捕集器２７を通過する際に、ガス捕集器２７に捕集されていた[11C]ヨウ化メチルガスを溶解し、[11C]ヨウ化メチルのＤＭＦ溶液として反応室Ａ１に導入される。 (Reaction mixture process)
Next, the valves V53 and V2 are switched to connect the flow path L6 and the flow path L7, and connect the flow path L4 and the flow path L2. Further, the valve V51 is switched so that the flow paths L3, L2, and L6 are connected to each other. By such an operation, the reaction chambers A1, A2, A3 are all in communication. In this state, the piston 10b is raised at twice the speed while lowering the pistons 20b and 30b at the same speed. At this time, the raw material solution in the reaction chamber A3 moves to the reaction chamber A1 (first reaction section) through the flow path L7 → the flow path L6 → the flow path L3. The DMF in the reaction chamber A2 (second reaction part) moves to the reaction chamber A1 through the flow path L4 → the flow path L2 (fluid flow path) → the flow path L3. At this time, when the DMF passes through the gas collector 27 of the flow path L2, the [ 11 C] methyl iodide gas collected in the gas collector 27 is dissolved, and the [ 11 C] methyl iodide is dissolved. A DMF solution is introduced into the reaction chamber A1.

この操作により、原料溶液及び[11C]ヨウ化メチルのＤＭＦ溶液がバルブＶ５１内で合流し混合されながら流路Ｌ３を通じて反応室Ａ１に導入される。この場合、上述の合成装置１における反応液混合工程に比して、第１及び第２反応液の接触面積が大きいので、反応液がより効率よく混合され、反応が更に促進される。 By this operation, the raw material solution and the [ 11 C] methyl iodide DMF solution are introduced into the reaction chamber A1 through the flow path L3 while being merged and mixed in the valve V51. In this case, since the contact area of the first and second reaction liquids is large compared to the reaction liquid mixing step in the synthesis apparatus 1 described above, the reaction liquids are mixed more efficiently and the reaction is further promoted.

（混合液往復工程）
その後、流路Ｌ３と流路Ｌ２のみが連結されるように、バルブＶ５１の切り替えを行うことで、反応室Ａ１と反応室Ａ２のみが流路Ｌ３，Ｌ２，Ｌ４を通じて連通される。この状態でピストン１０ｂ，２０ｂを交互に上下動させ、原料溶液と[11C]ヨウ化メチルのＤＭＦ溶液との混合液を反応室Ａ１と反応室Ａ２との間で往復させると、原料溶液と上記[11C]ヨウ化メチルのＤＭＦ溶液が互いに十分に接触し、[11C]メチルスピペロンが生成される。その後、生成物回収工程、洗い込み工程、装置洗浄工程を上述の合成装置１と同様に行い、処理を終了する。 (Mixed liquid reciprocation process)
Thereafter, by switching the valve V51 so that only the flow path L3 and the flow path L2 are connected, only the reaction chamber A1 and the reaction chamber A2 are communicated through the flow paths L3, L2, and L4. In this state, the pistons 10b and 20b are alternately moved up and down to reciprocate the mixed solution of the raw material solution and the [ 11 C] methyl iodide DMF solution between the reaction chamber A1 and the reaction chamber A2. The [ 11 C] methyl iodide in DMF solution comes into sufficient contact with each other to produce [11 C] methyl spiperone. Thereafter, the product recovery process, the washing process, and the apparatus cleaning process are performed in the same manner as in the synthesis apparatus 1 described above, and the process ends.

なお、上記反応液混合工程において十分な混合及び反応がなされれば、混合液往復工程を省略し、反応室Ａ１から混合液を直接バイアル瓶２２に回収してもよい。また、混合液往復工程では、混合液を、反応室Ａ１，Ａ３間、又は反応室Ａ２，Ａ３間で往復させてもよい。   If sufficient mixing and reaction are performed in the reaction liquid mixing step, the liquid mixture reciprocation step may be omitted, and the liquid mixture may be directly collected in the vial 22 from the reaction chamber A1. In the mixed solution reciprocating step, the mixed solution may be reciprocated between the reaction chambers A1 and A3 or between the reaction chambers A2 and A3.

このような合成装置５１及び上記合成方法によっても、第１実施形態に係る合成装置１及び合成方法と同様の作用効果を得ることができる。   Also by such a synthesizing device 51 and the synthesizing method, the same effects as those of the synthesizing device 1 and the synthesizing method according to the first embodiment can be obtained.

（第４実施形態）
図７に示すマイクロシリンジ合成装置７１は、第１実施形態の合成装置１におけるマイクロシリンジ１０に代えて、チューブＣ３に接続されたチャンバーＡ７１（第１の反応部）とポンプＰ７１とを備えている。ポンプＰ７１は、チャンバーＡ７１に接続され制御装置１７の制御によって流体を吸引又は吐出する。この流体としては、ガスや、反応液と混合しない性質を持つ液体などが好適である。このようなポンプＰ７１の動作により、チャンバーＡ７１内の圧力を変化させ、第１及び第２反応液をチャンバーＡ７１に導入したり、チャンバーＡ７１から排出したりすることができる。また、同様に、この合成装置７１は、マイクロシリンジ２０に代えて、チューブＣ４に接続されたチャンバーＡ７２（第２の反応部）とポンプＰ７２とを備えており、第１及び第２反応液をチャンバーＡ７２に導入したり、チャンバーＡ７２から排出したりすることができる。 (Fourth embodiment)
A microsyringe synthesizer 71 shown in FIG. 7 includes a chamber A71 (first reaction unit) connected to a tube C3 and a pump P71 instead of the microsyringe 10 in the synthesizer 1 of the first embodiment. . The pump P71 is connected to the chamber A71 and sucks or discharges fluid under the control of the control device 17. As this fluid, a gas or a liquid that does not mix with the reaction liquid is suitable. By such an operation of the pump P71, the pressure in the chamber A71 can be changed, and the first and second reaction liquids can be introduced into the chamber A71 and discharged from the chamber A71. Similarly, the synthesizer 71 includes a chamber A72 (second reaction part) connected to the tube C4 and a pump P72 in place of the microsyringe 20, and the first and second reaction liquids are supplied. It can be introduced into the chamber A72 or discharged from the chamber A72.

このような合成装置７１によっても、第１実施形態に係る合成装置１と同様の方法でＲＩ化合物の合成を行うことができ、同様の作用効果を得ることができる。なお、この合成装置７１において、上記合成装置１と同一又は同等な構成については、図面に同一符号を付し、その説明は省略する。   Also with such a synthesizer 71, it is possible to synthesize an RI compound by the same method as the synthesizer 1 according to the first embodiment, and it is possible to obtain the same effects. Note that in this synthesizer 71, the same or equivalent components as those of the synthesizer 1 are given the same reference numerals in the drawings, and the description thereof is omitted.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では原料溶液として、溶液を用いているが、懸濁液としてもよい。また、上記各実施形態は、ＰＥＴ用の放射性薬剤の合成装置及び合成方法であるが、本発明は、ＰＥＴ用以外の放射性薬剤の合成装置及び合成方法にも適用が可能である。   The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above embodiment, a solution is used as the raw material solution, but it may be a suspension. Moreover, although each said embodiment is a synthetic | combination apparatus and a synthesis | combining method of the radiopharmaceutical for PET, this invention is applicable also to the synthetic | combination apparatus and the synthetic | combination method of a radiopharmaceutical other than for PET.

本発明に係るＲＩ化合物合成装置の第１実施形態を示す図である。1 is a diagram showing a first embodiment of an RI compound synthesis device according to the present invention. （ａ），（ｂ），（ｃ）は、ガス捕集器の例を示す図である。(A), (b), (c) is a figure which shows the example of a gas collector. （ａ），（ｂ），（ｃ）は、ガス捕集器の他の例を示す図である。(A), (b), (c) is a figure which shows the other example of a gas collector. ガス捕集器の更に他の例を示す図である。It is a figure which shows the further another example of a gas collector. （ａ），（ｂ）は、本発明に係るＲＩ化合物合成装置の第２実施形態を示す図である。(A), (b) is a figure which shows 2nd Embodiment of the RI compound synthesis apparatus which concerns on this invention. 本発明に係るＲＩ化合物合成装置の第３実施形態を示す図である。It is a figure which shows 3rd Embodiment of the RI compound synthesis apparatus which concerns on this invention. 本発明に係るＲＩ化合物合成装置の第４実施形態を示す図である。It is a figure which shows 4th Embodiment of the RI compound synthesis apparatus which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１，３１，５１，７１…マイクロシリンジ合成装置（ＲＩ化合物合成装置）、５…温度制御装置（第１の温度制御手段，第２の温度制御手段）、１０…マイクロシリンジ、１７…制御装置（制御手段）、２０…マイクロシリンジ、２５…流体往復部、２６…ガス供給源（原料準備手段）２７…ガス捕集器（原料供給部）、２８…原料供給部、Ａ１…第１反応室（第１の反応部）、Ａ２…第２反応室（第２の反応部）、Ａ７１…チャンバー（第１の反応部）、Ａ７２…チャンバー（第２の反応部）、Ｌ２…流路（流体流路）、Ｐ７１…ポンプ、Ｐ７２…ポンプ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 31, 51, 71 ... Micro syringe synthesis apparatus (RI compound synthesis apparatus), 5 ... Temperature control apparatus (1st temperature control means, 2nd temperature control means), 10 ... Micro syringe, 17 ... Control apparatus ( Control means), 20 ... micro syringe, 25 ... fluid reciprocating part, 26 ... gas supply source (raw material preparation means) 27 ... gas collector (raw material supply part), 28 ... raw material supply part, A1 ... first reaction chamber ( First reaction part), A2 ... second reaction chamber (second reaction part), A71 ... chamber (first reaction part), A72 ... chamber (second reaction part), L2 ... flow path (fluid flow) Road), P71 ... pump, P72 ... pump.

Claims (6)

放射性同位元素を反応させて、放射性同位元素標識化合物を得るＲＩ化合物合成装置において、
互いに連結された第１及び第２の反応部を有し、前記第１の反応部と前記第２の反応部との間で前記放射性同位元素標識化合物の第１の原料を含む原料流体を往復移動させる流体往復部と、
流体が通過する流体流路と、前記流体流路上に設けられ前記放射性同位元素標識化合物の第２の原料を保持すると共に、前記流体流路を通過する流体に対して、保持する前記第２の原料を供給する原料供給部と、を有し、前記流体往復部に前記第２の原料を導入する原料導入部と、
を備えたことを特徴とするＲＩ化合物合成装置。 In an RI compound synthesizer that reacts with a radioisotope to obtain a radioisotope labeled compound,
First and second reaction parts connected to each other, and reciprocating a raw material fluid containing a first raw material of the radioisotope labeled compound between the first reaction part and the second reaction part A fluid reciprocating part to be moved;
A fluid flow path the fluid passes through, holds the second raw material is provided in the fluid flow path wherein the radiolabeled compound, for the fluid passing through said fluid flow path, the second holding A raw material supply section for supplying a raw material, and a raw material introduction section for introducing the second raw material into the fluid reciprocating section,
An RI compound synthesizer characterized by comprising: 放射性同位元素を反応させて、放射性同位元素標識化合物を得るＲＩ化合物合成装置において、
互いに連結された第１及び第２の反応部を有し、前記第１の反応部と前記第２の反応部との間で前記放射性同位元素標識化合物の第１の原料を含む原料流体を往復移動させる流体往復部と、
流体が通過する流体流路と、前記流体流路上に設けられ前記流体流路を通過する流体に前記放射性同位元素標識化合物の第２の原料を供給する原料供給部と、を有し、前記流体往復部に前記第２の原料を導入する原料導入部と、を備え、
前記第２の原料を前記流体流路に通過させ、前記第２の原料を予め前記原料供給部に保持させる原料準備手段を更に備えたことを特徴とするＲＩ化合物合成装置。 In an RI compound synthesizer that reacts with a radioisotope to obtain a radioisotope labeled compound,
First and second reaction parts connected to each other, and reciprocating a raw material fluid containing a first raw material of the radioisotope labeled compound between the first reaction part and the second reaction part A fluid reciprocating part to be moved;
A fluid flow path through which a fluid passes, and a raw material supply section that is provided on the fluid flow path and supplies a second raw material of the radioisotope labeled compound to the fluid that passes through the fluid flow path. A raw material introduction part for introducing the second raw material into the reciprocating part,
An RI compound synthesizing apparatus, further comprising a raw material preparation means for passing the second raw material through the fluid flow path and holding the second raw material in the raw material supply unit in advance. 放射性同位元素を反応させて、放射性同位元素標識化合物を得るＲＩ化合物合成装置において、
互いに連結された第１及び第２の反応部を有し、前記第１の反応部と前記第２の反応部との間で前記放射性同位元素標識化合物の第１の原料を含む原料流体を往復移動させる流体往復部と、
流体が通過する流体流路と、前記流体流路上に設けられ前記流体流路を通過する流体に前記放射性同位元素標識化合物の第２の原料を供給する原料供給部と、を有し、前記流体往復部に前記第２の原料を導入する原料導入部と、を備え、
前記原料供給部は、
気体として前記流体流路を通過する前記第２の原料を捕集すると共に、予め捕集した前記第２の原料の気体を、前記流体流路を通過する液体に溶解させることを特徴とするＲＩ化合物合成装置。 In an RI compound synthesizer that reacts with a radioisotope to obtain a radioisotope labeled compound,
First and second reaction parts connected to each other, and reciprocating a raw material fluid containing a first raw material of the radioisotope labeled compound between the first reaction part and the second reaction part A fluid reciprocating part to be moved;
A fluid flow path through which a fluid passes, and a raw material supply section that is provided on the fluid flow path and supplies a second raw material of the radioisotope labeled compound to the fluid that passes through the fluid flow path. A raw material introduction part for introducing the second raw material into the reciprocating part,
The raw material supply unit
The RI is characterized in that the second raw material passing through the fluid flow path is collected as a gas, and the gas of the second raw material collected in advance is dissolved in a liquid passing through the fluid flow path. Compound synthesizer. 前記第１の反応部の温度を制御する第１の温度制御手段を更に備えることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のＲＩ化合物合成装置。   The RI compound synthesizer according to any one of claims 1 to 3, further comprising first temperature control means for controlling the temperature of the first reaction section. 前記第２の反応部の温度を制御する第２の温度制御手段を更に備えることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載のＲＩ化合物合成装置。   The RI compound synthesizing apparatus according to any one of claims 1 to 4, further comprising a second temperature control means for controlling the temperature of the second reaction section. 放射性同位元素を反応させて、放射性同位元素標識化合物を得るＲＩ化合物合成方法において、
互いに連結された第１及び第２の反応部を有する流体往復部において、前記第１の反応部と前記第２の反応部との間で前記放射性同位元素標識化合物の第１の原料を含む原料流体を往復移動させる流体往復工程と、
流体が通過する流体流路と、前記流体流路上に設けられ前記放射性同位元素標識化合物の第２の原料を保持すると共に、前記流体流路を通過する流体に対して、保持する前記第２の原料を供給する原料供給部とを有する原料導入部によって、前記流体往復部に前記第２の原料を導入する原料導入工程と、を備えたことを特徴とするＲＩ化合物合成方法。 In an RI compound synthesis method for obtaining a radioisotope-labeled compound by reacting a radioisotope,
A raw material containing a first raw material of the radioisotope-labeled compound between the first reaction part and the second reaction part in a fluid reciprocating part having first and second reaction parts connected to each other A fluid reciprocating step for reciprocating the fluid;
A fluid flow path the fluid passes through, holds the second raw material is provided in the fluid flow path wherein the radiolabeled compound, for the fluid passing through said fluid flow path, the second holding A method of synthesizing an RI compound, comprising: a raw material introduction step of introducing the second raw material into the fluid reciprocating portion by a raw material introduction portion having a raw material supply portion for supplying a raw material.
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