JP4917945B2 - ガスハイドレートの脱水装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明によるガスハイドレートの製造装置における脱水装置の第一の実施態様を説明するための概略図であって、この図1において、1は、所定の圧力と温度が保持されている反応器である。この反応器1にガス供給ライン2から原料ガスG1が、また水供給ライン3から原料水W1がそれぞれ導入され、ここでガスハイドレートスラリーSが生成される。
図2は、本発明によるガスハイドレートの脱水装置の第二の実施態様を説明するための概略図であって、図1と同一符号は同一名称を示し説明を省略する。
図3は、本発明によるガスハイドレートの脱水装置の第三の実施態様を説明するための概略図であって、この図3において、図1及び図2と同一符号は同一名称を示し説明を省略する。
2 ガス供給ライン
3 水供給ライン
4 冷媒
5 スラリーライン
6 脱水装置
7 分離部
8 内筒
9 外筒
10 排水室
11 排気ライン
12 排水ライン
13 ハイドレート層
14 貯留部
15 スクリューコンベア
16 ガス供給ライン
17 第一外筒
18 第二外筒
19 隔壁
20 連通室
B1 原料ガス供給ブロワ
B2 排気ブロワ
B3 給気ブロワ
P1 スラリーポンプ
P2 排水ポンプ
S スラリー
G ガス
W 水
H ガスハイドレート
x1 差圧検出器
x2 液面計
Claims (2)
- 原料水と原料ガスとの気液接触により生成されたガスハイドレートスラリーに含まれる未反応水を脱水する脱水装置であって、
前記脱水装置の内筒を外筒内に収容し、前記内筒に設けられている固液分離部よりも上方に前記内筒と前記外筒との間の隙間を閉鎖する隔壁を設け、該隔壁よりも上部を原料ガス供給ラインを介してガスハイドレート生成反応器と連通する連通室とし、前記隔壁よりも下部を排水ラインを介して前記ガスハイドレート生成反応器と連通する排水室とし、かつ、前記連通室と前記排水室との差圧を計測する差圧検出器によって前記原料ガス供給ラインに設けた給気ブロワ及び/又は前記ガスハイドレート生成反応器と連通する排気ラインに設けた排気ブロワを制御し、かつ、前記排水室に設けた液面計によって前記排水ラインに設けた排水ポンプを制御することを特徴とするガスハイドレートの脱水装置。 - 原料水と原料ガスとの気液接触により生成されたガスハイドレートスラリーに含まれる未反応水を脱水する脱水装置であって、
前記脱水装置の内筒を外筒内に収容し、前記内筒に天板を有しかつ下部が開放された固液分離部内包用の筒状隔壁を設け、該筒状隔壁の内部を排気ラインを介してガスハイドレート生成反応器と連通する排水室とし、前記外筒内を原料ガス供給ラインを介して前記ガスハイドレート生成反応器と連通する連通室とし、かつ、前記連通室と前記排水室との差圧を計測する差圧検出器によって前記原料ガス供給ラインに設けた給気ブロワ及び/又は前記排気ラインに設けた排気ブロワを制御し、更に、前記排水室に設けた液面計によって前記ガスハイドレート生成反応器と連通する排水ラインに設けた排水ポンプを制御して前記筒状隔壁の下部を液シールすることを特徴とするガスハイドレートの脱水装置。
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