JP4914119B2 - プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
(1)プラズマ中の炭素C2と水素Hの発光強度比(C2/H)が減少して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(2)下部電極に供給する高周波バイアスのピークツーピーク電圧がプラズマ処理時間の増加とともに増加して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(3)プラズマ処理中における前記排気バルブの開度がプラズマ処理時間の増加とともに減少して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(4)プラズマ放電終了後、処理容器内圧力が所定真空圧に排気されるまでに要する時間がプラズマ処理時間の増加とともに減少して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(5)前記整合器を構成するコンデンサの整合動作時の静電容量がプラズマ処理時間の増加とともに増加して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(6)前記アンテナ電極に整合器を介して高周波電力を供給してから、プラズマが着火するまでの時間がプラズマ処理時間の増加とともに減少して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
本実施例ではモニタリングするパラメータとしてプラズマ発光を選定する。なお、プラズマ発光は、エッチング処理容器101内で発生したプラズマ発光を光ファイバ121を介して導出し、導出した光を光検出器113によりモニタする。
図4は、第2の実施例を説明する図である。本実施例では、モニタリングするパラメータとしてウエハバイアス電圧Vpp(ピークツーピーク電圧)を選定する。
図5は第3の実施例を説明する図である。本実施例では、モニタリングするパラメータとして排気バルブ115の開度(VV開度)を選定する。排気バルブ開度は、処理容器内圧力が設定圧力になるようにターボ分子ポンプ116の排気具合を調整する排気バルブの開度である。
[実施例4]
図6は、第4の実施例を説明する図である。本実施例では、モニタリングするパラメータとして、Siウエハ(ダミーウエハ)を用いた慣らし放電後に、処理容器内の残留ガスをターボ分子ポンプにより排出する際、一定圧力までに到達するに要する時間を設定し、この時間の推移を測定する。
図7,8は、第5の実施例を説明する図である。本実施例では、モニタリングするパラメータとしてプラズマ生成用高周波電源に接続した整合器105(ソースバイアス整合器)を構成するコンデンサの整合時の静電容量を設定し、該容量の変化の推移を測定する。
図9は、第6の実施例を説明する図である。本実施例では、モニタリングするパラメータとしてプラズマ着火検出時間(プラズマ生成用高周波電力を印加してからプラズマが生成するまでの時間)を設定する。
図10は、第7の実施例を説明する図である。本実施例では、モニタリングするパラメータとして静電吸着電圧(ESC電圧)を設定する。なお、静電吸着電圧は静電吸着電源112が発生する直流電圧であり、ウエハ108を下部電極109に静電吸着させる電圧である。静電吸着電圧は、静電吸着用電源112の電源電圧が一定であっても電源の内部抵抗により変動する。すなわち静電吸着電流の変動に応じて変動する。
本実施例では、モニタするパラメータとして下部電極と該下部電極上に載置したウエハ間に供給する伝熱ガスの流量を設定する。伝熱ガス(He)の流量は、ウエットクリーニング直後は大きくて、慣らし放電が十分になるにつれて、減少して安定する。
(2)下部電極に供給する高周波バイアスのピークツーピーク電圧がプラズマ処理時間の増加とともに増加して安定値に達したとき、
(3)プラズマ処理中における前記排気バルブの開度がプラズマ処理時間の増加とともに減少してて安定値に達したとき、
(4)プラズマ放電終了後、処理容器内圧力が所定真空圧に排気されるまでに要する時間がプラズマ処理時間の増加とともに減少して安定値に達したとき、
(5)整合器を構成するコンデンサの整合動作時の静電容量がプラズマ処理時間の増加とともに増加して安定値に達したとき、
(6)アンテナ電極に整合器を介して高周波電力を供給してから、プラズマが着火するまでの時間がプラズマ処理時間の増加とともに減少して安定値に達したとき、
(7)下部電極に供給する静電吸着電圧のばらつきがプラズマ処理時間の増加とともに減少し、かつ前記静電吸着電圧が増加して安定値に達したとき、
(8)下部電極と該下部電極上に載置した試料間に供給する伝熱ガスの流量がプラズマ処理時間の増加とともに減少して安定値に達したとき、
はいずれもウエットクリーニングの際に付着した水分(残留水分)等に基づくアウトガスの供給が消失した時点、あるいは装置に所定量の反応生成物が付着して装置が安定化した時点、に密接に関連していると考えられる。
本実施例では、モニタするパラメータとして前記実施例1ないし8においてモニタしたパラメータの全てをモニタする。すなわち、前記各実施例においてモニタしたパラメータは、ダミーウエハを用いた慣らし放電中に、同時にモニタすることができる。したがって実施例1ないし8の各々に開示した方法により慣らし放電の終点を検出することが可能であるが、すべての項目を用いて総合的に判定することもできる。以下に総合判定の例(総合判定例1,2,3)を図13,14,15を参照して説明する。
図13は総合判定例1を説明する図である。この例では、まずモニタする項目(パラメータ)毎に点数を付与する。次に、モニタした項目毎に慣らし放電の終点が判定できたか否かを判別し、終点が判定できた項目に対して付与された前記点数のみを累積加算する。
図14は総合判定例2を説明する図である。この例では、まずモニタする項目(パラメータ)毎に重み係数を付与する。また、図13の例と同様に各項目に10点を付与しておく。次に、モニタした項目毎に慣らし放電の終点が判定できたか否かを判別し、終点が判定できた項目に対して付与された前記点数のみに前記重み係数を積算して累積加算する。
図15は総合判定例3を説明する図である。前述のレベル判定法では、現在の値が目標値の何パーセントかという途中経過の値を得ることができる。
102 アンテナ
103 誘電体
104 導波管
105 整合器
106 プラズマ生成用高周波電源(UHF電源)
107 磁場コイル
108 ウエハ(試料)
109 下部電極(試料台)
110 高周波バイアス整合器
111 高周波バイアス電源
112 静電吸着用電源
113 光検出器
114 圧力計
115 排気バルブ
116 ターボ分子ポンプ
117 データ収集部
118 演算処理部
119 データベース部
120 制御部
121 光ファイバ
Claims (2)
- 試料を載置する下部電極を内部に具備するプラズマ処理容器と、
前記プラズマ処理容器内に処理ガスを供給するガス供給装置と、
前記プラズマ処理容器内に供給された前記処理ガスを排気バルブを介して排気する排気ポンプと、
アンテナ電極に整合器を介して高周波電力を供給する高周波電源と、
前記下部電極に高周波バイアスを供給する高周波バイアス電源とを備えるプラズマ処理装置を用いて前記試料にプラズマ処理を施す処理を、複数の試料に対して順次繰り返す慣らし放電を行うプラズマ処理方法において、
次の条件(1)ないし(6)のうち複数の条件が成立したとき慣らし放電の終了と判定することを特徴とするプラズマ処理方法。
(1)プラズマ中の炭素C2と水素Hの発光強度比(C2/H)が減少して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(2)下部電極に供給する高周波バイアスのピークツーピーク電圧がプラズマ処理時間の増加とともに増加して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(3)プラズマ処理中における前記排気バルブの開度がプラズマ処理時間の増加とともに減少して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(4)プラズマ放電終了後、処理容器内圧力が所定真空圧に排気されるまでに要する時間がプラズマ処理時間の増加とともに減少して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(5)前記整合器を構成するコンデンサの整合動作時の静電容量がプラズマ処理時間の増加とともに増加して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(6)前記アンテナ電極に整合器を介して高周波電力を供給してから、プラズマが着火するまでの時間がプラズマ処理時間の増加とともに減少して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、 - 試料を載置する下部電極を内部に具備するプラズマ処理容器と、
前記プラズマ処理容器内に処理ガスを供給するガス供給装置と、
前記プラズマ処理容器内に供給された前記処理ガスを排気バルブを介して排気する排気ポンプと、
アンテナ電極に整合器を介して高周波電力を供給する高周波電源と、
前記下部電極に高周波バイアスを供給する高周波バイアス電源とを備え、
前記試料にプラズマ処理を施す処理を、複数の試料に対して順次繰り返す慣らし放電を行うプラズマ処理装置において、
次の条件(1)ないし(6)のうち複数の条件が成立したとき慣らし放電の終了と判定することを特徴とするプラズマ処理装置。
(1)プラズマ中の炭素C2と水素Hの発光強度比(C2/H)が減少して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(2)下部電極に供給する高周波バイアスのピークツーピーク電圧がプラズマ処理時間の増加とともに増加して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(3)プラズマ処理中における前記排気バルブの開度がプラズマ処理時間の増加とともに減少して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(4)プラズマ放電終了後、処理容器内圧力が所定真空圧に排気されるまでに要する時間がプラズマ処理時間の増加とともに減少して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(5)前記整合器を構成するコンデンサの整合動作時の静電容量がプラズマ処理時間の増加とともに増加して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
(6)前記アンテナ電極に整合器を介して高周波電力を供給してから、プラズマが着火するまでの時間がプラズマ処理時間の増加とともに減少して予め設定された慣らし放電の終了と判定する判定値に達したとき、
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