JP4893559B2 - 電源電圧検出回路 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体装置に搭載される電源電圧検出回路に関する。
電源電圧検出回路は、電源投入後、電源電圧が電源電圧検出レベルに達した時点で電源電圧検出信号を出力する回路、あるいは、電源電圧が電源電圧検出レベル以上の期間だけ電源電圧検出信号を出力する回路であり、低電源電圧による動作不良を防止する等のために、広く半導体装置に搭載されている。
図5は従来の電源電圧検出回路の一例の回路図である。図5中、1は電源電圧検出部、2は電源電圧検出信号生成部である。電源電圧検出部1は、電源投入後、電源電圧VDDが電源電圧検出レベルを超えたことを検出するものである。電源電圧検出信号生成部2は、電源電圧検出部1が電源電圧VDDが電源電圧検出レベルを超えたことを検出すると、ハイレベルからなる電源電圧検出信号PDを生成して出力するものである。
電源電圧検出部1において、3〜6は電源電圧VDDが印加される電源電圧端子、7〜9は接地電圧0Vが印加される接地電圧端子、10、11はPチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタであるPチャネルMOSトランジスタ(以下、PMOSトランジスタと言う)、12〜15はNチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタであるNチャネルMOSトランジスタ(以下、NMOSトランジスタと言う)である。
PMOSトランジスタ10は、ソースを電源電圧端子3に接続し、ゲートを接地電圧端子7に接続し、ドレインをノードN1に接続しており、抵抗素子として機能する。NMOSトランジスタ12は、ドレインをノードN1に接続し、ゲートを電源電圧端子4に接続しており、抵抗素子として機能する。
NMOSトランジスタ13は、ドレインをNMOSトランジスタ12のソースに接続し、ゲートをノードN2に接続し、ソースを接地電圧端子8に接続しており、スイッチ素子として機能する。なお、PMOSトランジスタ10のオン抵抗値は、NMOSトランジスタ12、13の合成オン抵抗値よりも大きいものとされる。
PMOSトランジスタ11は、ソースを電源電圧端子5に接続し、ゲートをドレインに接続している。NMOSトランジスタ14は、ドレインをPMOSトランジスタ11のドレインに接続し、ゲートを電源電圧端子6に接続し、ソースをノードN2に接続している。NMOSトランジスタ15は、ドレイン及びゲートをノードN2に接続し、ソースを接地電圧端子9に接続している。
また、電源電圧検出信号生成部2において、16、17は電源電圧端子、18は接地電圧端子、19は電源電圧検出信号出力端子、20、21、22はインバータ、23、24はPMOSトランジスタ、25はNMOSトランジスタである。
インバータ20、21、22は、ノードN1と電源電圧検出信号出力端子19との間に縦列接続されている。PMOSトランジスタ23は、ゲートをインバータ20の入力端子に接続し、ドレイン及びソースを電源電圧端子16に接続しており、キャパシタとして機能する。
PMOSトランジスタ24は、ゲートをインバータ22の入力端子に接続し、ドレイン及びソースを電源電圧端子17に接続しており、キャパシタとして機能する。NMOSトランジスタ25は、ゲートをインバータ21の入力端子に接続し、ドレイン及びソースを接地電圧端子18に接続しており、キャパシタとして機能する。
本例においては、PMOSトランジスタ11とNMOSトランジスタ14、15とで電源電圧追従電圧生成回路が構成され、PMOSトランジスタ10とNMOSトランジスタ12、13と電源電圧検出信号生成部2とで閾値回路が構成されている。
なお、NMOSトランジスタ26は、電源を落とした際に、ノードN2の電圧がNMOSトランジスタ26の閾値電圧に下降するまで電荷を引き抜くものであり、ドレインを電源電圧端子27に接続し、ゲート及びソースをノードN2に接続している。
このように構成された従来の電源電圧検出回路においては、電源が投入され、電源電圧VDDが上昇を開始すると、PMOSトランジスタ11及びNMOSトランジスタ14、15に電流が流れる。この場合、ノードN2の電圧は、電源電圧VDDよりも低いが、電源電圧VDDに追従して上昇する。
また、この場合、PMOSトランジスタ10も導通状態となるが、ノードN2の電圧がNMOSトランジスタ13の閾値電圧を超えず、NMOSトランジスタ13が非導通状態である間は、NMOSトランジスタ13には電流が流れないので、この間は、ノードN1の電圧は、電源電圧VDDとほぼ同一の電圧となり、電源電圧検出信号出力端子19の電圧は、接地電圧のままである。
その後、更に電源電圧VDDが上昇し、ノードN2の電圧がNMOSトランジスタ13の閾値電圧を超えると、NMOSトランジスタ13は導通状態となり、電源電圧端子3からのPMOSトランジスタ10を介したノードN1への電荷供給と、ノードN1からのNMOSトランジスタ12、13を介した接地電圧端子8への電荷放出とが同時に起こる。
この場合、ノードN1の電圧は、PMOSトランジスタ10のオン抵抗値がNMOSトランジスタ12、13の合成オン抵抗値よりも大きいとされていることから、接地電圧へ向けて下がる。この結果、電源電圧検出信号出力端子19の電圧は、電源電圧VDDと同一となり、ハイレベルからなる電源電圧検出信号PDを出力する。
特開2002−109883号公報
図6は図5に示す従来の電源電圧検出回路が有する問題点を説明するための図であり、電源投入後の電源電圧VDDの電圧変化とノードN1の電圧変化を示している。図6中、28は電源電圧VDDの変化、29はノードN2の電圧変化、30Aは動作温度が高温時のノードN1の電圧変化、30Bは動作温度が低温時のノードN1の電圧変化を示している。
図5に示す従来の電源電圧検出回路においては、ノードN2の電圧がNMOSトランジスタ13の閾値電圧に達した時の電源電圧VDDのレベルが電源電圧検出レベルとなるが、NMOSトランジスタ13の閾値電圧は、動作温度により変化し、高温ほど低く、低温ほど高くなる。これに対して、ノードN2のレベルは、PMOSトランジスタ11及びNMOSトランジスタ14の合成オン抵抗値とNMOSトランジスタ15のオン抵抗値との比で決定されるので、温度による変化が少ない。
このように、NMOSトランジスタ13の閾値電圧は、動作温度により変化し、高温ほど低く、低温ほど高くなるが、ノードN2の電圧は温度による変化が少ないため、電源電圧検出レベルは、図6に示すように、高温では低め、低温では高めとなり、温度依存性を持つことになる。
しかしながら、電源電圧検出レベルは、温度依存性を持たず、温度変化による影響を受けないことが望ましい。なぜなら、電源電圧検出レベルが温度依存性を持つと、動作保証電圧で確実に動作するように電源電圧検出レベルを低めに設定しなければならないことになり、本来の低電源電圧による誤動作防止の効用が薄れてしまうからである。
本発明は、かかる点に鑑み、電源電圧検出レベルが温度変化による影響を受けないようにすることができ、これを半導体装置に搭載する場合には、電源電圧検出レベルを半導体装置の動作保証電圧に近い値に設定することができ、半導体装置の安定的な動作を実現することができるようにした電源電圧検出回路を提供することを目的とする。
本出願が開示する電源電圧検出回路は、電源電圧に追従する電圧を生成する電源電圧追従電圧生成回路と、前記電源電圧追従電圧生成回路の出力電圧を入力し、前記出力電圧が閾値電圧を越えると電源電圧検出信号を出力する閾値回路とを備える電源電圧検出回路において、前記電源電圧追従電圧生成回路は、前記閾値電圧の温度変化を相殺する温度対出力電圧特性を持つことを特徴とする。
開示した電源電圧検出回路によれば、電源電圧追従電圧生成回路は、閾値回路の閾値電圧の温度変化を相殺する温度対出力電圧特性を持つとしているので、電源電圧検出レベルが温度変化による影響を受けないようにすることができる。したがって、本発明を半導体装置に搭載する場合には、電源電圧検出レベルを半導体装置の動作保証電圧に近い値に設定することができ、半導体装置の安定的な動作を実現することができる。
(第1実施形態)
図1は本発明の第1実施形態の回路図である。本発明の第1実施形態は、図5に示す従来の電源電圧検出回路が備える電源電圧検出部1と回路構成の異なる電源電圧検出部31を備えるようにし、その他については、図5に示す従来の電源電圧検出回路と同様に構成したものである。
本発明の第1実施形態が備える電源電圧検出部31は、図5に示す電源電圧検出部1が備えるPMOSトランジスタ11及びNMOSトランジスタ14、15の代わりに、常誘電体キャパシタ32及び強誘電体キャパシタ33を備えるようにし、その他については、図5に示す電源電圧検出部1と同様に構成したものである。
常誘電体キャパシタ32は、常誘電体膜を金属電極で挟んで構成され、第1の電極を電源電圧端子5に接続し、第2の電極をノードN2に接続している。強誘電体キャパシタ33は、強誘電体膜を金属電極で挟んで構成され、第1の電極をノードN2に接続し、第2の電極を接地電圧端子9に接続している。
本発明の第1実施形態においては、常誘電体キャパシタ32と強誘電体キャパシタ33とで電源電圧追従電圧生成回路が構成され、PMOSトランジスタ10とNMOSトランジスタ12、13と電源電圧検出信号生成部2とで閾値回路が構成されている。
図2は強誘電体キャパシタ33の電極間電圧−分極量特性を示す図であり、(A)は低温時の場合、(B)は高温時の場合である。強誘電体キャパシタ33は、図2に示すようなヒステリシス特性を持つが、本実施形態においては、太線の矢印線Q1、Q2で示す特性部(非反転特性部)を使用する。
即ち、電極間電圧の変化に対する分極量の変化の比率が強誘電体キャパシタ33の容量に相当するが、強誘電体キャパシタ33の容量は、高温時ほど大きくなり、低温時ほど小さくなる傾向があることから、本発明の第1実施形態は、強誘電体キャパシタ33のこの特性を利用している。
このように構成された本発明の第1実施形態においては、常誘電体キャパシタ32の容量をC32、強誘電体キャパシタ33の容量をC33とすると、電源が投入され、電源電圧VDDが上昇を開始すると、ノードN2の電圧は、{C32/(C32+C33)}×VDDとなり、電源電圧VDDよりは低いが、電源電圧VDDに追従して上昇する。
また、この場合、PMOSトランジスタ10も導通状態となるが、ノードN2の電圧がNMOSトランジスタ13の閾値電圧を超えず、NMOSトランジスタ13が非導通状態である間は、NMOSトランジスタ13には電流が流れないので、この間は、ノードN1の電圧は、電源電圧VDDとほぼ同一の電圧となり、電源電圧検出信号出力端子19の電圧は、接地電圧のままである。
その後、更に電源電圧VDDが上昇し、ノードN2の電圧がNMOSトランジスタ13の閾値電圧を超えると、NMOSトランジスタ13は導通状態となり、電源電圧端子3からのPMOSトランジスタ10を介したノードN1への電荷供給と、ノードN1からのNMOSトランジスタ12、13を介した接地電圧端子8への電荷放出とが同時に起こる。
この場合、ノードN1の電圧は、PMOSトランジスタ10のオン抵抗値がNMOSトランジスタ12、13の合成オン抵抗値よりも大きいとされていることから、接地電圧へ向けて下がる。この結果、電源電圧検出信号出力端子19の電圧は、電源電圧VDDと同一となり、ハイレベルからなる電源電圧検出信号PDを出力する。
本発明の第1実施形態においては、電源が投入され、電源電圧VDDが上昇を開始すると、ノードN2の電圧は、前述のように、{C32/(C32+C33)}×VDDとなるが、強誘電体キャパシタ33の容量C33は、高温時ほど大きく、低温時ほど小さくなる。
即ち、高温時の場合には、NMOSトランジスタ13の閾値電圧は低くなるが、電源電圧VDDが電源電圧検出レベルに上昇した時のノードN2の電圧は、強誘電体キャパシタ33の容量C33が大きくなる分だけ低くなる。
これに対して、低温時の場合には、NMOSトランジスタ13の閾値電圧は高くなるが、電源電圧VDDが電源電圧検出レベルに上昇した時のノードN2の電圧は、強誘電体キャパシタ33の容量C33が小さくなる分だけ高くなる。
したがって、常誘電体キャパシタ32と強誘電体キャパシタ33との容量比を好適な値とすることにより、動作保証温度範囲であれば、温度変化によらず、電源電圧VDDが電源電圧検出レベルに上昇した時のノードN2の電圧をNMOSトランジスタ13の閾値電圧と同一電圧にすることができる。
このように、本発明の第1実施形態によれば、常誘電体キャパシタ32と強誘電体キャパシタ33からなる電源電圧追従電圧生成回路に、NMOSトランジスタ13の閾値電圧(即ち、PMOSトランジスタ10とNMOSトランジスタ12、13と電源電圧検出信号生成部2からなる閾値回路の閾値電圧)の温度変化を相殺する温度−出力電圧特性を持たせることができる。
したがって、本発明の第1実施形態を半導体装置に搭載する場合には、電源電圧検出レベルを半導体装置の動作保証電圧に近い値に設定することができ、半導体装置の安定的な動作を実現することができる。
(第2実施形態)
図3は本発明の第2実施形態の回路図である。本発明の第2実施形態は、図1に示す本発明の第1実施形態が備える電源電圧検出部31と回路構成の異なる電源電圧検出部34を備えるようにし、その他については、図1に示す本発明の第1実施形態と同様に構成したものである。
本発明の第2実施形態が備える電源電圧検出部34は、図1に示す電源電圧検出部31が備えるNMOSトランジスタ13の代わりに、4個のNMOSトランジスタ35−1〜35−4を備えるようにし、その他については、図1に示す電源電圧検出部31と同様に構成したものである。
NMOSトランジスタ35−1〜35−4は、多段接続(トーテムポール接続)され、最上段のNMOSトランジスタ35−1のドレインをNMOSトランジスタ12のソースに接続し、最下段のNMOSトランジスタ35−4のソースを接地電圧端子8に接続し、NMOSトランジスタ35−1〜35−4のゲートをノードN2に接続している。
本発明の第2実施形態では、PMOSトランジスタ10のオン抵抗値は、NMOSトランジスタ12、35−1〜35−4の合成オン抵抗値よりも高いものとする。なお、本発明の第2実施形態では、常誘電体キャパシタ32と強誘電体キャパシタ33とで電源電圧追従電圧生成回路が構成され、PMOSトランジスタ10とNMOSトランジスタ12、35−1〜35−4と電源電圧検出信号生成部2とで閾値回路が構成されている。
このように構成された本発明の第2実施形態においては、電源が投入され、電源電圧VDDが上昇を開始すると、ノードN2の電圧は、{C32/(C32+C33)}×VDDとなり、電源電圧VDDよりは低いが、電源電圧VDDに追従して上昇する。
また、この場合、PMOSトランジスタ10も導通状態となるが、ノードN2の電圧がNMOSトランジスタ35−1〜35−4の閾値電圧未満であり、NMOSトランジスタ35−1〜35−4が非導通状態である間は、NMOSトランジスタ35−1〜35−4には電流が流れないので、この間は、ノードN1の電圧は、ほぼ電源電圧VDDとなり、電源電圧検出信号出力端子19の電圧は、接地電圧のままである。
その後、更に電源電圧VDDが上昇し、ノードN2の電圧がNMOSトランジスタ35−1〜35−4の閾値電圧を超えると、NMOSトランジスタ35−1〜35−4は導通状態となり、電源電圧端子3からのPMOSトランジスタ10を介したノードN1への電荷供給と、ノードN1からのNMOSトランジスタ12、35−1〜35−4を介した接地電圧端子8への電荷放出とが同時に起こる。
この場合、ノードN1の電圧は、PMOSトランジスタ10のオン抵抗値がNMOSトランジスタ12、35−1〜35−4の合成オン抵抗値よりも大きいとされていることから、接地電圧へ向けて下がる。この結果、電源電圧検出信号出力端子19の電圧は、電源電圧VDDと同一となり、ハイレベルからなる電源電圧検出信号PDを出力する。
ここで、本発明の第2実施形態においても、常誘電体キャパシタ32と強誘電体キャパシタ33との容量比を好適な値とすることにより、動作保証温度範囲であれば、温度変化によらず、電源電圧VDDが電源電圧検出レベルに上昇した時のノードN2の電圧をNMOSトランジスタ35−1〜35−4の閾値電圧と同一電圧にすることができる。
このように、本発明の第2実施形態によれば、常誘電体キャパシタ32と強誘電体キャパシタ33からなる電源電圧追従電圧生成回路に、NMOSトランジスタ35−1〜35−4の閾値電圧(即ち、PMOSトランジスタ10とNMOSトランジスタ12、35−1〜35−4と電源電圧検出信号生成部2からなる閾値回路の閾値電圧)の温度変化を相殺する温度−出力電圧特性を持たせることができる。
したがって、本発明の第2実施形態を半導体装置に搭載する場合には、電源電圧検出レベルを半導体装置の動作保証電圧に近い値に設定することができ、半導体装置の安定的な動作を実現することができる。
また、本発明の第2実施形態においては、NMOSトランジスタ35−1〜35−4のいずれかの閾値電圧が、例えば、製造プロセス上の原因で、期待値から外れている場合、例えば、NMOSトランジスタ35−2の閾値が期待値から外れている場合、図4に示すように、NMOSトランジスタ35−1のソースとNMOSトランジスタ35−3のドレインとの間をジャンパ線36で短絡することにより、NMOSトランジスタ35−2を不使用とすることができる。
即ち、図1に示す本発明の第1実施形態によれば、NMOSトランジスタ13の閾値電圧が期待値から外れている場合、本発明の第1実施形態自体が不良となってしまうが、本発明の第2実施形態によれば、NMOSトランジスタ35−1〜35−4のうち、最大で3個のNMOSトランジスタの閾値電圧が期待値から外れていても、期待値から外れているNMOSトランジスタを不使用とすることにより、本発明の第2実施形態を電源電圧検出回路として正常に動作させることができるので、本発明の第1実施形態よりも歩留りの高いものとすることができる。
なお、本発明の第2実施形態においては、4個のNMOSトランジスタ35−1〜35−4を多段接続(トーテムポール接続)した場合について説明したが、多段接続するNMOSトランジスタの数は4個に限らず、任意の数とすることができる。
また、本発明の第1実施形態及び第2実施形態においては、強誘電体キャパシタ33を設けるようにした場合について説明したが、この代わりに、チタン酸リチウム等の焦電性を持つ材料からなる素子を設けるようにしても良い。
本発明の第1実施形態の回路図である。 本発明の第1実施形態が備える強誘電体キャパシタの電極間電圧−分極量特性を示す図である。 本発明の第2実施形態の回路図である。 本発明の第2実施形態が有する特有の効果を説明するための回路図である。 従来の電源電圧検出回路の一例の回路図である。 図5に示す従来の電源電圧検出回路が有する問題点を説明するための図である。
符号の説明
1…電源電圧検出部
2…電源電圧検出信号生成部
3〜6…電源電圧端子
7〜9…接地電圧端子
10、11…PMOSトランジスタ
12〜15…NMOSトランジスタ
16、17…電源電圧端子
18…接地電圧端子
19…電源電圧検出信号出力端子
20〜22…インバータ
23、24…PMOSトランジスタ
25、26…NMOSトランジスタ
27…電源電圧端子
31…電源電圧検出部
32…常誘電体キャパシタ
33…強誘電体キャパシタ
34…電源電圧検出部
35−1〜35−4…NMOSトランジスタ
36…ジャンパ線

Claims (2)

  1. 電源電圧に追従する電圧を生成する電源電圧追従電圧生成回路と、
    前記電源電圧追従電圧生成回路の出力電圧を入力し、前記出力電圧が閾値電圧を越えると電源電圧検出信号を出力する閾値回路とを備え
    前記電源電圧追従電圧生成回路は、前記閾値電圧の温度変化を相殺する温度対出力電圧特性を持つ電源電圧検出回路において、
    前記閾値回路は、
    一端を電源電圧端子に接続し、他端を第1のノードに接続した第1の抵抗素子と、
    一端を前記第1のノードに接続した第2の抵抗素子と、
    ドレインを前記第2の抵抗素子の他端に接続し、ゲートを第2のノードに接続し、ソースを接地電圧端子に接続したNチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタと、
    前記第1のノードの電圧を入力して前記電源電圧検出信号を生成する電源電圧検出信号生成部とを有し、
    前記電源電圧追従電圧生成回路は、
    第1の電極を前記電源電圧端子に接続し、第2の電極を前記第2のノードに接続した常誘電体キャパシタと、
    第1の電極を前記第2のノードに接続し、第2の電極を前記接地電圧端子に接続した強誘電体キャパシタとを有すること
    を特徴とする電源電圧検出回路。
  2. 前記第1の抵抗素子は、ソースを前記電源電圧端子に接続し、ゲートを前記接地電圧端子に接続し、ドレインを前記第1のノードに接続したPチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタであり、
    前記第2の抵抗素子は、ドレインを前記第1のノードに接続し、ゲートを前記電源電圧端子に接続し、ソースを前記第2の抵抗素子の他端とするNチャネル絶縁ゲート形電界効果トランジスタであること
    を特徴とする請求項に記載の電源電圧検出回路。
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