JP4884553B1 - X線分析装置および方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】X線分析装置は、試料Sを試料の所定点周りに360°回転させながら1次X線2を照射させて取得した回折パターンを記憶する制御手段15と、試料SのR−θ座標において試料の測定面上に位置することができる試料の平行移動範囲の上下限値のθ座標を、演算および/または記憶する演算記憶手段17と、演算および/または記憶されたθ座標の上下限値、および回折パターンに基づいて、隣り合う間隔がθ座標の上下限値範囲内の角度であって、回折X線を回避できる回避角度を選択するための選択手段とを備え、制御手段15が試料の測定点の座標に応じて、回避角度の中から測定点の座標に最も近い回避角度を読み出して、読み出した回避角度に試料を設定する。
【選択図】図1
Description
sinθ1=(R−T)/R (1)
測定者が前記演算記憶手段によって演算および/または記憶された前記角度範囲2θ1、ならびに前記表示手段に表示された回折パターンに基づいて、回折X線を回避できる複数の回避角度であって、回避角度同士の隣り合う間隔が前記角度範囲2θ1内である回避角度を選択するための選択手段と、を備え、前記制御手段が、測定者によって前記選択手段を用いて選択された回避角度を記憶し、試料の測定点の座標に応じて、前記記憶した回避角度の中から測定点の座標に最も近い回避角度を読み出して、前記回転手段を制御して前記読み出した回避角度に試料を設定し、前記平行移動手段を制御して試料の測定点を1次X線の照射位置に設定する。
sinθ1=(R−T)/R (1)
前記制御選択手段が、前記演算記憶手段によって演算および/または記憶された前記角度範囲2θ1、ならびに前記表示手段に表示された回折パターンに基づいて、前記回折パターンにおいて所定の閾値以下のX線強度で回折X線を回避できる複数の回避角度であって、回避角度同士の隣り合う間隔が前記角度範囲2θ1内である回避角度を選択して記憶し、試料の測定点の座標に応じて、前記記憶した回避角度の中から測定点の座標に最も近い回避角度を読み出して、前記回転手段を制御して前記読み出した回避角度に試料を設定し、前記平行移動手段を制御して試料の測定点を1次X線の照射位置に設定する。
sinθ1=(R−T)/R (1)
演算記憶された前記角度範囲2θ1、および前記表示手段に表示された回折パターンに基づいて、回折X線を回避できる複数の回避角度であって、回避角度同士の隣り合う間隔が前記角度範囲2θ1内である回避角度を選択して記憶し、試料の測定点の座標に応じて、前記記憶した回避角度の中から測定点の座標に最も近い回避角度を読み出して、前記回転手段によって前記読み出した回避角度に試料を設定し、前記平行移動手段によって試料の測定点を1次X線の照射位置に設定して分析する。
2 1次X線
4 2次X線
7 検出器
8 試料台
11 回転手段
12 平行移動手段
15 制御手段
16 表示手段
17 演算記憶手段
18 選択手段
20 制御選択手段
S 試料
Claims (3)
- 結晶構造を有する円板状の試料が載置される試料台と、
試料に1次X線を照射するX線源と、
試料から発生する2次X線を検出する検出器と、
試料測定面の任意の位置に1次X線を照射させるように前記試料台を平行移動させる平行移動手段と、
試料測定面に垂直な軸を中心に前記試料台を回転させる回転手段と、
を備え、
試料の縁近傍にある任意の測定部位について、試料の上方の領域から1次X線が照射されて前記領域外へ反射するように位置させて測定するX線分析装置であって、
試料を試料の所定点周りに前記回転手段によって360°回転させながら前記X線源から1次X線を照射させ、試料から発生して前記検出器に入射する2次X線の強度を試料の回転角度と対応させた回折パターンを表示手段に表示させ、その回折パターンを記憶する制御手段と、
試料の半径Rおよび試料の測定面上における前記検出器の視野の半径Tに基づいて次式(1)から求められる角度範囲2θ1を、試料の直径ごとに、演算および/または記憶する演算記憶手段と、
sinθ1=(R−T)/R (1)
測定者が前記演算記憶手段によって演算および/または記憶された前記角度範囲2θ1、ならびに前記表示手段に表示された回折パターンに基づいて、回折X線を回避できる複数の回避角度であって、回避角度同士の隣り合う間隔が前記角度範囲2θ1内である回避角度を選択するための選択手段と、
を備え、
前記制御手段が、測定者によって前記選択手段を用いて選択された回避角度を記憶し、試料の測定点の座標に応じて、前記記憶した回避角度の中から測定点の座標に最も近い回避角度を読み出して、前記回転手段を制御して前記読み出した回避角度に試料を設定し、前記平行移動手段を制御して試料の測定点を1次X線の照射位置に設定するX線分析装置。 - 結晶構造を有する円板状の試料が載置される試料台と、
試料に1次X線を照射するX線源と、
試料から発生する2次X線を検出する検出器と、
試料測定面の任意の位置に1次X線を照射させるように前記試料台を平行移動させる平行移動手段と、
試料測定面に垂直な軸を中心に前記試料台を回転させる回転手段と、
を備え、
試料の縁近傍にある任意の測定部位について、試料の上方の領域から1次X線が照射されて前記領域外へ反射するように位置させて測定するX線分析装置であって、
試料を試料の所定点周りに前記回転手段によって360°回転させながら前記X線源から1次X線を照射させ、試料から発生して前記検出器に入射する2次X線の強度を試料の回転角度と対応させた回折パターンを表示手段に表示させ、その回折パターンを記憶する制御選択手段と、
試料の半径Rおよび試料の測定面上における前記検出器の視野の半径Tに基づいて次式(1)から求められる角度範囲2θ1を、試料の直径ごとに、演算および/または記憶する演算記憶手段と、
を備え、
sinθ1=(R−T)/R (1)
前記制御選択手段が、前記演算記憶手段によって演算および/または記憶された前記角度範囲2θ1、ならびに前記表示手段に表示された回折パターンに基づいて、前記回折パターンにおいて所定の閾値以下のX線強度で回折X線を回避できる複数の回避角度であって、回避角度同士の隣り合う間隔が前記角度範囲2θ1内である回避角度を選択して記憶し、試料の測定点の座標に応じて、前記記憶した回避角度の中から測定点の座標に最も近い回避角度を読み出して、前記回転手段を制御して前記読み出した回避角度に試料を設定し、前記平行移動手段を制御して試料の測定点を1次X線の照射位置に設定するX線分析装置。 - 結晶構造を有する円板状の試料が載置される試料台と、
試料に1次X線を照射するX線源と、
試料から発生する2次X線を検出する検出器と、
試料測定面の任意の位置に1次X線を照射させるように前記試料台を平行移動させる平行移動手段と、
試料測定面に垂直な軸を中心に前記試料台を回転させる回転手段と、
を備え、
試料の縁近傍にある任意の測定部位について、試料の上方の領域から1次X線が照射されて前記領域外へ反射するように位置させて測定するX線分析装置を用いるX線分析方法であって、
前記試料台に載置された試料を前記回転手段によって試料の所定点周りに360°回転させながら1次X線を照射させ、試料から発生して前記検出器に入射する2次X線の強度を試料の回転角度と対応させた回折パターンを取得し、
試料の半径Rおよび試料の測定面上における前記検出器の視野の半径Tに基づいて次式(1)から求められる角度範囲2θ1を、試料の直径ごとに、演算して記憶し、
sinθ1=(R−T)/R (1)
演算記憶された前記角度範囲2θ1、および前記表示手段に表示された回折パターンに基づいて、回折X線を回避できる複数の回避角度であって、回避角度同士の隣り合う間隔が前記角度範囲2θ1内である回避角度を選択して記憶し、試料の測定点の座標に応じて、前記記憶した回避角度の中から測定点の座標に最も近い回避角度を読み出して、前記回転手段によって前記読み出した回避角度に試料を設定し、前記平行移動手段によって試料の測定点を1次X線の照射位置に設定して分析するX線分析方法。
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