JP4881335B2 - スパッタ装置 - Google Patents
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Description
図1に、本発明による一実施例の3元マグネトロンカソードを備えるスパッタ装置の概略図を示す。本実施例のスパッタ装置は、所定の真空状態に保たれたチャンバ10内にて、固定位置に設けられたデバイスホルダ(図示せず)に保持したデバイス(以下、代表的に基板11)の成膜面に、所定の薄膜を成膜する装置である。真空排気ポンプ(図示せず)によって、基板11の表面に被覆された有機物から放出されるガス成分の影響を排除しながら、チャンバ10内を真空状態にした状態で、プロセスガス導入系14によって各カソード13a,13b及び13cのうちのいずれか1つのカソードのターゲットに防着板18の窓18aを経てプロセスガスを供給し、該カソードのターゲットに電源供給してプラズマを生じさせ、プロセスガスから形成される組成分子を弾き飛ばすスパッタ粒子を防着板18の窓18aを経て放出し(例えばスパッタ粒子17b)、このスパッタ粒子によって基板11の表面に成膜する。また、イオン化された残留ガスを基板11にぶつけることで表面をエッチングすることもできる。尚、各カソード13a,13b及び13cにおける、それぞれのスパッタ粒子の放出のために、電源16の電源供給による駆動制御で回動する回転機構60とシャッタ12の開閉とを同期して制御するだけでなく、スパッタ粒子の放出に係るカソードのみが電源16の電源供給されるように制御する(詳細は、後述する)。
本実施例の4元マグネトロンカソードを備えるスパッタ装置は、実施例1のスパッタ装置の3元マグネトロンカソードを置き換えて構成するものであり、本実施例の4元マグネトロンカソードは実施例1のスパッタ装置に適用することができるものである。従って、同様な構成要素には同一の参照番号を付しており、本実施例に係る4元マグネトロンカソードについてのみ説明する。
本実施例の多元マグネトロンカソードを備えるスパッタ装置に用いる回転機構及び電流導入機構は、実施例1又は実施例2のスパッタ装置に適用することができるものである。従って、同様な構成要素には同一の参照番号を付しており、本実施例に係る回転機構及び電流導入機構についてのみ説明する。従って、前述した各カソード13a,13b,13c,13dのうち、代表的なカソード29として説明する。
11 デバイス(基板)
12 シャッタ
13a,13b,13c,13d マグネトロンカソード
14 プロセスガス導入系
15 電気配線
16 電源(直流電源又は高周波電源)
17b スパッタ粒子
18 防着板
18a 窓
19a 排水部
19b 入水部
20 カソード保持機構
21 回転機構
22a,22b 電気配線
23 回転機構保持構体
24 整流子
25 回転機構保持構体部分
26 整流子
27a,27b ブラシ
28a,28b 配線
29 マグネトロンカソード
40 直線導入機
41 ロッド
42 保護板
43 防着板
43b 逃げ構造
44 防着板
44b ひさし構造
110 チャンバ
111 デバイス(基板)
112 シャッタ
113a,113b,113c マグネトロンカソード
114 プロセスガス導入系
115a,115b,115c 電気配線
116a,116b,116c 電源(直流電源又は高周波電源)
117b1,117b2 スパッタ粒子
120a,120b,120c ターゲット
121a,121b,121c プラズマ閉じ込め用磁石
122 プラズマ
123,124 防着板
125 フレーク状の堆積粒子
125a 剥がれ落ちフレーク状の堆積粒子
Claims (2)
- 所定の真空状態に保たれたチャンバ内にて、固定位置に設けられたデバイスの成膜面に、当該デバイスの下方から所定の薄膜を成膜するカルーセル式マグネトロンカソードを備えるスパッタ装置であって、
当該デバイスを多層に成膜するために、スパッタ粒子を放出可能なターゲットを各々が有する複数のカソード、
前記複数のカソードを、所定の半径を有する円の円周上にそれぞれ配置するとともに、前記複数のカソードの各々を保持するカソード保持機構、
及び前記カソード保持機構によって保持された複数のカソードを、順にスパッタ粒子を放出するのに適した、当該円の中心を回転軸として回転する回転機構を備え、
前記回転機構及び前記カソード保持機構の各々は、前記複数のカソードの発熱を低減させるのに用いる冷却水の流路として機能する経路を有するカルーセル式マグネトロンカソードと、
前記回転機構の回転軸を維持するために、前記チャンバに固定される回転機構保持構体と、
前記カルーセル式マグネトロンカソードと前記デバイスとの間に、スパッタ粒子を放出するターゲットのサイズと適合した1つの窓が空けられている防着板と、
当該カルーセル式マグネトロンカソードの回転時に、前記窓の位置と適合したカソードのターゲットがスパッタ粒子を放出するように、該カソードに電源供給する電流導入機構と、
前記防着板を、前記カルーセル式マグネトロンカソードと所定の距離で近接して、該所定の距離を維持するように前記回転機構の回転に応じて機械的に上下動する隙間保持手段と、
を備えることを特徴とするスパッタ装置。 - 前記電流導入機構は、前記複数のカソードのターゲットのうち、スパッタ粒子を放出するためのターゲットに対して電源供給するための整流子を有し、
前記複数のカソードの各々は、スパッタ粒子を放出するときのみ前記整流子と電気的に接続されるブラシを有することを特徴とする、請求項1に記載のスパッタ装置。
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