JP4848841B2 - Film forming apparatus and film forming method - Google Patents
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Description
本発明は、成膜装置とこれを用いた成膜方法に関する。 The present invention relates to a film forming apparatus and a film forming method using the same.
従来、主に薄膜の形成に用いられる成膜方法として、薄膜塗布法の一つであるスピンコート法が一般に知られている。このスピンコート法は、塗布液を基板上に滴下した後に、基板を回転させて遠心力により基板全面に塗布を行い、薄膜を形成する方法であり、回転数及び回転保持時間、あるいは塗布液の粘度などによって膜厚を制御するものである。このようなスピンコート法は、例えば半導体製造工程等に用いられるフォトレジスト膜やＳＯＧ（スピンオングラス）等の層間絶縁膜の形成、液晶装置製造工程等におけるオーバーコート膜（平坦化膜）や配向膜の形成、さらには光ディスク等の製造工程における保護膜の形成等に広く用いられている。 Conventionally, as a film forming method mainly used for forming a thin film, a spin coating method which is one of thin film coating methods is generally known. This spin coating method is a method of forming a thin film by rotating the substrate and applying the entire surface of the substrate by centrifugal force after dropping the coating solution onto the substrate. The film thickness is controlled by viscosity or the like. Such a spin coating method includes, for example, formation of a photoresist film used in a semiconductor manufacturing process or the like, an interlayer insulating film such as SOG (spin on glass), an overcoat film (planarization film) or an alignment film in a liquid crystal device manufacturing process or the like. Is widely used for forming a protective film in the manufacturing process of an optical disk or the like.
ところが、このスピンコート法では、供給された塗布液の大半が飛散してしまうため、多くの塗布液を供給する必要があるとともに無駄が多く、生産コストが高くなるといった不都合があった。また、基板を回転させるため、遠心力により塗布液が内側から外側へと流動し、外周領域の膜厚が内側よりも厚くなる傾向があるため、膜厚が不均一になるといった不都合もあった。 However, in this spin coating method, since most of the supplied coating solution is scattered, it is necessary to supply a large amount of coating solution, and there is a disadvantage that the production cost is increased. In addition, since the substrate is rotated, the coating liquid flows from the inside to the outside due to centrifugal force, and the film thickness in the outer peripheral region tends to be thicker than the inside. .
これらの対策のため、近年、いわゆるインクジェット法（液滴吐出法）によって基板上に塗布液を塗布し、成膜を行う技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この技術は、膜材料となる液状体（インク）を吐出する液滴吐出ヘッドと、該液滴吐出ヘッドを移動させる移動手段を有した成膜装置（液滴吐出装置）を用い、前記液滴吐出ヘッドのノズルから液状体を液滴として基板上に吐出することにより、液状体を基板上に均一に塗布するようにしたものである。
このような成膜装置によって成膜を行う場合、特に液状体（インク）の吐出量の精度向上が、すなわち、制御手段で制御した通りの正規の吐出量で液状体を基板上に塗布することが、得られる膜のパターンや厚さの精度向上を図るうえで重要となっている。
When film formation is performed by such a film forming apparatus, the accuracy of the discharge amount of the liquid material (ink) is improved, that is, the liquid material is applied onto the substrate at a regular discharge amount as controlled by the control means. However, it is important to improve the accuracy of the pattern and thickness of the obtained film.
ところで、前記の成膜装置にあっては、例えば一枚の基板に対して所望の描画処理（成膜処理）を終了させた後、液滴吐出ヘッドを基板上（描画領域）から非描画領域に移動させ、基板を入れ替えて次の基板に対し新たに描画処理を行うまでの間、その非描画領域で待機させるのが一般的である。なお、待機させている間には、例えばノズルに残る液状体が乾燥して目詰まりが起こるのを防止するため、液滴吐出ヘッドをキャップで覆うといったことも、必要に応じてなされている。 By the way, in the film forming apparatus, for example, after a desired drawing process (film forming process) is completed for one substrate, the droplet discharge head is moved from the substrate (drawing area) to the non-drawing area. It is common to wait in the non-drawing area until the next board is replaced and a new drawing process is performed on the next board. During the standby, for example, the liquid discharge head is covered with a cap to prevent the liquid remaining in the nozzles from drying and clogging, if necessary.
また、液滴吐出ヘッドは、吐出時には液滴を吐出させるアクチュエータへの通電等によって発熱し、その結果、液滴吐出ヘッド自体の温度も高くなる。したがって、連続的に吐出動作をなす描画処理時には、ある程度温度が上昇した後、ある温度で安定するものの、特に基板を入れ替える際の待機時には、液滴吐出ヘッドは放熱により温度が低下してしまう。すると、再度描画処理を行う際、特にその初期において液滴吐出ヘッドの温度が低いことに起因して、一回の吐出動作における液状体（インク）の吐出量が所望の量と異なる量になってしまい、結果として得られる膜のパターンや厚さの精度が損なわれてしまう。 Further, the droplet discharge head generates heat due to energization to an actuator that discharges droplets during discharge, and as a result, the temperature of the droplet discharge head itself increases. Therefore, during a drawing process in which continuous ejection operations are performed, the temperature rises to some extent and then stabilizes at a certain temperature, but the temperature of the droplet ejection head decreases due to heat dissipation, particularly during standby when replacing the substrate. Then, when performing the drawing process again, the discharge amount of the liquid material (ink) in one discharge operation is different from the desired amount, particularly because the temperature of the droplet discharge head is low at the initial stage. As a result, the accuracy of the pattern and thickness of the resulting film is impaired.
すなわち、液滴吐出ヘッドの温度変化により、吐出する液状体の粘度が変化したり、アクチュエータとして例えばピエゾ素子（圧電素子）を用いた場合に、その共振周波数が変動して液状体への加圧動作が変化したり、近傍の電子部品の特性変化によって印加電圧が変化したりしてしまうことから、一回の吐出動作における液状体（インク）の吐出量が、わずかながら変動してしまうのである。 That is, when the viscosity of the liquid to be discharged changes due to the temperature change of the droplet discharge head, or when, for example, a piezo element (piezoelectric element) is used as an actuator, the resonance frequency fluctuates to pressurize the liquid. Since the operation changes or the applied voltage changes due to the change in characteristics of nearby electronic components, the discharge amount of the liquid material (ink) in one discharge operation slightly varies. .
このような課題を解決し得るものとして、例えば、発熱量による特性差を補正する補正機能（例えば、温度に応じて駆動アルゴリズムを変える機能）を付加することが考えられ、パルス幅変調により温度をキャンセルするアルゴリズムを搭載したもの（例えば、特開平５−３１９０５号公報に記載のもの）も提案されている。しかし、このように補正機能を付加すると、制御システムが肥大化し、成膜装置自体が大型化したり、高価になってしまうといった新たな課題を生じてしまう。 As a solution to such a problem, for example, it is conceivable to add a correction function (for example, a function of changing a driving algorithm in accordance with the temperature) for correcting a characteristic difference due to a heat generation amount. There are also proposed ones equipped with an algorithm for canceling (for example, those described in JP-A-5-31905). However, when the correction function is added in this way, the control system is enlarged, and a new problem arises that the film forming apparatus itself becomes large or expensive.
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、発熱量による特性差を補正する補正機能、すなわちフィードバック機能を具備することなく、描画処理に先立つ待機時において液滴吐出ヘッドの温度が低くなってしまうことに起因する不都合を防止し、これによって得られる膜のパターンや厚さの精度向上を図った、成膜装置とこれを用いた成膜方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to discharge droplets during standby before drawing processing without providing a correction function for correcting a characteristic difference due to a heat generation amount, that is, a feedback function. To provide a film forming apparatus and a film forming method using the same, which prevent inconvenience due to the temperature of the head being lowered and improve the accuracy of the pattern and thickness of the film obtained thereby. is there.
前記目的を達成するため本発明の成膜装置は、複数のノズルを有し、該ノズルから液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、該液滴吐出ヘッドを移動させるヘッド移動手段と、前記液滴吐出ヘッドにおける前記各ノズルからの液滴の吐出を制御する制御手段と、を有してなる成膜装置であって、前記制御手段は、被成膜体上への液滴吐出による描画処理とは別に、該描画処理に先立つ待機時において前記液滴吐出ヘッドに、前記描画処理における前記液滴吐出ヘッドの全てのノズルから単位時間あたりに吐出される液滴の合計ドット数によって表される液滴吐出ヘッド全体での液滴吐出速度の、±１０％の範囲の液滴吐出速度で、非描画領域に吐出をなさせるように構成されていることを特徴としている。 In order to achieve the above object, a film forming apparatus of the present invention includes a plurality of nozzles, a droplet discharge head that discharges droplets from the nozzles, a head moving unit that moves the droplet discharge head, and the liquid And a control unit that controls ejection of droplets from each nozzle in the droplet ejection head, wherein the control unit performs drawing processing by droplet ejection onto the film formation target Separately, it is represented by the total number of dots of droplets ejected per unit time from all the nozzles of the droplet ejection head in the drawing process to the droplet ejection head during standby prior to the drawing process. The present invention is characterized in that ejection is performed in a non-drawing region at a droplet ejection speed in a range of ± 10% of the droplet ejection speed of the entire droplet ejection head.
この成膜装置によれば、描画処理に先立つ待機時において、液滴吐出ヘッドに、描画処理における前記液滴吐出ヘッド全体での液滴吐出速度の、±１０％の範囲の液滴吐出速度で、非描画領域に吐出をなさせるようにしているので、待機時にも描画処理時とほぼ同等の吐出動作をなすことにより、液滴吐出ヘッドの温度を、描画処理時とほぼ同じに保持することが可能になる。したがって、このように待機時にも描画処理時とほぼ同じ温度に液滴吐出ヘッドを保持できることから、待機時後の描画処理時に、特にその初期においても液状体（インク）を所望の量で吐出させることができ、これにより得られる膜のパターンや厚さの精度向上を図ることができる。
また、温度検知による吐出駆動制御へのフィードバックや、事前の温度予測による吐出駆動制御の変更を必要としないため、装置構成がよりシンプルになり、装置の大型化や高価格化が抑えられる。
According to this film forming apparatus, at the time of standby prior to drawing processing, the droplet discharging head has a droplet discharging speed in a range of ± 10% of the droplet discharging speed of the entire droplet discharging head in drawing processing. Since the discharge is performed in the non-drawing area, the temperature of the droplet discharge head can be kept substantially the same as that during the drawing process by performing a discharging operation almost equal to that during the drawing process even during standby. Is possible. Accordingly, since the droplet discharge head can be held at substantially the same temperature as in the drawing process even during the standby, the liquid material (ink) is discharged in a desired amount during the drawing process after the standby, particularly in the initial stage. Therefore, the accuracy of the pattern and thickness of the film obtained can be improved.
Further, since there is no need for feedback to discharge drive control by temperature detection or change of discharge drive control by prior temperature prediction, the apparatus configuration becomes simpler, and the increase in size and cost of the apparatus can be suppressed.
また、前記成膜装置においては、前記描画処理が被成膜体に対する複数回の走査によってなされ、前記制御手段は、待機時において非描画領域に吐出をなさせる際、前記描画処理における前記液滴吐出ヘッド全体での液滴吐出速度として、最初の走査時における液滴吐出速度を用いるのが好ましい。
このようにすれば、特に待機時後の描画処理時の最初の走査時において、液状体（インク）を所望の量で吐出させることができる。
Further, in the film forming apparatus, the drawing process is performed by scanning the film formation body a plurality of times, and the control unit causes the liquid droplets in the drawing process to be discharged when discharging to the non-drawing area during standby. It is preferable to use the droplet discharge speed at the time of the first scan as the droplet discharge speed of the entire discharge head.
In this way, it is possible to eject a liquid material (ink) in a desired amount, particularly during the first scanning during the drawing process after standby.
また、前記成膜装置においては、前記描画処理が被成膜体に対する複数回の走査によってなされ、前記制御手段は、待機時において非描画領域に吐出をなさせる際、前記描画処理における前記液滴吐出ヘッド全体での液滴吐出速度として、複数回の走査時における液滴吐出速度の平均を用いるのが好ましい。
このようにすれば、特に待機時後の描画処理時における複数回の走査時の各液滴吐出速度が異なる場合に、待機時にその平均の速度で吐出させることで、液滴吐出ヘッドを描画処理時における平均的な温度にすることができ、したがって描画処理時に液状体（インク）を所望の量で吐出させることができる。
Further, in the film forming apparatus, the drawing process is performed by scanning the film formation body a plurality of times, and the control unit causes the liquid droplets in the drawing process to be discharged when discharging to the non-drawing area during standby. It is preferable to use the average of the droplet discharge speeds during a plurality of scans as the droplet discharge speed of the entire discharge head.
In this way, especially when each droplet discharge speed at the time of multiple scans during the drawing process after the standby is different, the droplet discharge head is drawn at the average speed during the standby to perform the drawing process. Therefore, the liquid (ink) can be ejected in a desired amount during the drawing process.
また、前記成膜装置においては、前記待機時の前に前描画処理があり、前記制御手段は、待機時において非描画領域に吐出をなさせる際、前記前描画処理で吐出を行ったノズルとは異なるノズルを少なくとも一つ用いて、前記非描画領域に吐出をなさせるのが好ましい。
このように、前描画処理で吐出を行ったノズルとは異なるノズルを少なくとも一つ用いて、待機時に吐出をなさせることにより、特に前描画処理で吐出を行わなかったことによって液状体が乾燥し易くなっているノズルの、目詰まりを防止することができる。
Further, in the film forming apparatus, there is a pre-drawing process before the standby time, and the control unit includes a nozzle that performs the discharge in the pre-drawing process when discharging to the non-drawing area during the standby time. Preferably, at least one different nozzle is used to cause ejection in the non-drawing area.
In this way, by using at least one nozzle that is different from the nozzle that has ejected in the previous drawing process and performing ejection during standby, the liquid material is dried due to the fact that the ejection has not been performed in the previous drawing process. It is possible to prevent clogging of the nozzle which is easy.
本発明の成膜方法は、複数のノズルを有し、該ノズルから液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、該液滴吐出ヘッドを移動させるヘッド移動手段と、を有してなる成膜装置を用い、前記液滴吐出ヘッドのノズルから被成膜体上に液滴を吐出して成膜を行う成膜方法であって、被成膜体上への液滴吐出による描画処理とは別に、該描画処理に先立つ待機時において前記液滴吐出ヘッドに、前記描画処理における前記液滴吐出ヘッドの全てのノズルから単位時間あたりに吐出される液滴の合計ドット数によって表される前記液滴吐出ヘッド全体での液滴吐出速度の、±１０％の範囲の液滴吐出速度で、非描画領域に吐出をなさせることを特徴としている。 The film forming method of the present invention has a plurality of nozzles, a droplet discharge head that discharges droplets from the nozzles, and a head moving unit that moves the droplet discharge head. A film forming method for forming a film by discharging droplets onto the film formation body from the nozzle of the liquid droplet discharge head, separately from the drawing process by the liquid droplet discharge onto the film formation body The droplet represented by the total number of dots discharged per unit time from all the nozzles of the droplet ejection head in the drawing process to the droplet ejection head during standby before the drawing process It is characterized in that ejection is performed in a non-drawing region at a droplet ejection speed in a range of ± 10% of the droplet ejection speed of the entire ejection head.
この成膜方法によれば、描画処理に先立つ待機時において、液滴吐出ヘッドに、描画処理における前記液滴吐出ヘッド全体での液滴吐出速度の、±１０％の範囲の液滴吐出速度で、非描画領域に吐出をなさせるので、待機時にも描画処理時とほぼ同等の吐出動作をなすことにより、液滴吐出ヘッドの温度を、描画処理時とほぼ同じに保持することが可能になる。したがって、このように待機時にも描画処理時とほぼ同じ温度に液滴吐出ヘッドを保持できることから、待機時後の描画処理時に、特にその初期においても液状体（インク）を所望の量で吐出させることができ、これにより得られる膜のパターンや厚さの精度向上を図ることができる。
また、温度検知による吐出駆動制御へのフィードバックや、事前の温度予測による吐出駆動制御の変更を必要としないため、成膜装置の構成をよりシンプルにすることができ、したがって成膜装置の大型化や高価格化を抑えることができる。
According to this film forming method, at the time of standby prior to drawing processing, the droplet discharging head has a droplet discharging speed in a range of ± 10% of the droplet discharging speed of the entire droplet discharging head in drawing processing. Since the discharge is performed in the non-drawing area, the temperature of the liquid droplet discharge head can be kept substantially the same as that during the drawing process by performing a discharging operation substantially equal to that during the drawing process even during standby. . Accordingly, since the droplet discharge head can be held at substantially the same temperature as in the drawing process even during the standby, the liquid material (ink) is discharged in a desired amount during the drawing process after the standby, particularly in the initial stage. Therefore, the accuracy of the pattern and thickness of the film obtained can be improved.
In addition, it is not necessary to provide feedback to the discharge drive control based on temperature detection or to change the discharge drive control based on temperature prediction in advance, so that the configuration of the film formation apparatus can be simplified, and thus the film formation apparatus can be enlarged. And high price.
また、前記成膜方法においては、前記描画処理を被成膜体に対する複数回の走査によって行う場合に、待機時において非描画領域に吐出をなさせる際、前記描画処理における前記液滴吐出ヘッド全体での液滴吐出速度として、最初の走査時における液滴吐出速度を用いるのが好ましい。
このようにすれば、特に待機時後の描画処理時の最初の走査時において、液状体（インク）を所望の量で吐出させることができる。
Further, in the film forming method, when the drawing process is performed by scanning the film formation body a plurality of times, the entire droplet discharge head in the drawing process is used when discharging to the non-drawing area during standby. It is preferable to use the droplet discharge speed at the first scanning as the droplet discharge speed at.
In this way, it is possible to eject a liquid material (ink) in a desired amount, particularly during the first scanning during the drawing process after standby.
また、前記成膜方法においては、前記描画処理が被成膜体に対する複数回の走査によって行う場合に、待機時において非描画領域に吐出をなさせる際、前記描画処理における前記液滴吐出ヘッド全体での液滴吐出速度として、複数回の走査時における液滴吐出速度の平均を用いるのが好ましい。
このようにすれば、特に待機時後の描画処理時における複数回の走査時の各液滴吐出速度が異なる場合に、待機時にその平均の速度で吐出させることで、液滴吐出ヘッドを描画処理時における平均的な温度にすることができ、したがって描画処理時に液状体（インク）を所望の量で吐出させることができる。
Further, in the film forming method, when the drawing process is performed by scanning the deposition target body a plurality of times, the entire liquid droplet ejection head in the drawing process is used when discharging to the non-drawing area during standby. It is preferable to use the average of the droplet discharge speeds at the time of multiple scans as the droplet discharge speed at.
In this way, especially when each droplet discharge speed at the time of multiple scans during the drawing process after the standby is different, the droplet discharge head is drawn at the average speed during the standby to perform the drawing process. Therefore, the liquid (ink) can be ejected in a desired amount during the drawing process.
また、前記成膜方法においては、前記待機時の前に前描画処理がある場合に、待機時において非描画領域に吐出をなさせる際、前記前描画処理で吐出を行ったノズルとは異なるノズルを少なくとも一つ用いて、前記非描画領域に吐出をなさせるのが好ましい。
このように、前描画処理で吐出を行ったノズルとは異なるノズルを少なくとも一つ用いて、待機時に吐出をなさせることにより、特に前描画処理で吐出を行わなかったことによって液状体が乾燥し易くなっているノズルの、目詰まりを防止することができる。
Further, in the film forming method, when there is a pre-drawing process before the standby time, a nozzle that is different from the nozzle that has ejected in the pre-drawing process when discharging to the non-drawing area at the standby time Preferably, at least one of these is used to cause the non-drawing area to be ejected.
In this way, by using at least one nozzle that is different from the nozzle that has ejected in the previous drawing process and performing ejection during standby, the liquid material is dried due to the fact that the ejection has not been performed in the previous drawing process. It is possible to prevent clogging of the nozzle which is easy.
以下、本発明を詳しく説明する。
図１は、本発明の成膜装置の一実施形態を示す図であり、図１において符号３０は成膜装置である。この成膜装置３０は、インクジェット装置（液滴吐出装置）としての構成を有したもので、ベース３１、基板移動手段３２、ヘッド移動手段３３、液滴吐出ヘッド（以下、吐出ヘッドと記す）３４、液供給手段３５、制御手段４０等を有してなるものである。ベース３１は、その上に前記基板移動手段３２、ヘッド移動手段３３を設置したものである。
The present invention will be described in detail below.
FIG. 1 is a view showing an embodiment of a film forming apparatus according to the present invention. In FIG. 1,
基板移動手段３２は、ベース３１上に設けられたもので、Ｙ軸方向に沿って配置されたガイドレール３６を有したものである。この基板移動手段３２は、例えばリニアモータ（図示せず）により、スライダ３７をガイドレール３６に沿って移動させるよう構成されたものである。
スライダ３７上にはステージ３９が固定されている。よって、基板移動手段３２がステージ３９の移動軸となる。このステージ３９は、被成膜体となる基板Ｓを位置決めし保持するためのものである。すなわち、このステージ３９は、公知の吸着保持手段（図示せず）を有し、この吸着保持手段を作動させることにより、基板Ｓをステージ３９の上に吸着保持するようになっている。基板Ｓは、例えばステージ３９の位置決めピン（図示せず）により、ステージ３９上の所定位置に正確に位置決めされ、保持されるようになっている。
なお、この基板移動手段３２には、図示しない搬送手段によって基板Ｓが供給され、さらには、描画処理後の基板Ｓが搬出されるようになっている。これにより、描画処理後、基板Ｓの入れ替えが自動的に短時間でなされるようになっている。
The substrate moving means 32 is provided on the
A
The substrate moving means 32 is supplied with a substrate S by a conveying means (not shown), and further, the substrate S after drawing processing is carried out. Thus, the substrate S is automatically replaced in a short time after the drawing process.
ステージ３９上の基板Ｓに対し、その両側、すなわち基板Ｓに対して描画を行うための描画領域とは異なる非描画領域には、吐出ヘッド３４にフラッシングを行わせるためのフラッシングエリアＦ、Ｆが配されている。これらフラッシングエリアＦ、Ｆは、後述する吐出ヘッド３４の移動方向（Ｘ軸方向）での両側に位置しており、吐出ヘッド３４からのフラッシングによる液滴を受ける容器５０を配設している。容器５０は、前記ステージ３９の移動方向（Ｙ軸方向）に沿って長く形成された直方体状のもので、内部にスポンジ等の液滴を吸収する部材（図示せず）を収容したものである。
Flushing areas F and F for causing the
ヘッド移動手段３３は、ベース３１の後部側に立てられた一対の架台３３ａ、３３ａと、これら架台３３ａ、３３ａ上に設けられた走行路３３ｂとを備えてなるもので、該走行路３３ｂをＸ軸方向、すなわち前記の基板移動手段３２のＹ軸方向と直交する方向に沿って配置したものである。走行路３３ｂは、架台３３ａ、３３ａ間に渡された保持板３３ｃと、この保持板３３ｃ上に設けられた一対のガイドレール３３ｄ、３３ｄとを有して形成されたもので、ガイドレール３３ｄ、３３ｄの長さ方向に吐出ヘッド３４を搭載するキャリッジ４２を移動可能に保持したものである。キャリッジ４２は、リニアモータ（図示せず）等の作動によってガイドレール３３ｄ、３３ｄ上を走行し、これにより吐出ヘッド３４をＸ軸方向に移動させるよう構成されたものである。ここで、このキャリッジ４２は、ガイドレール３３ｄ、３３ｄの長さ方向、すなわちＸ軸方向に例えば１μｍ単位で移動が可能になっており、このような移動は後述する制御手段４０によって制御されるようになっている。
The head moving means 33 includes a pair of
吐出ヘッド３４は、前記キャリッジ４２に取付部４３を介して回動可能に取り付けられたものである。取付部４３にはモータ４４が設けられており、吐出ヘッド３４はその支持軸（図示せず）がモータ４４に連結している。このような構成のもとに、吐出ヘッド３４はその周方向に回動可能となっている。また、モータ４４も前記制御手段４０に接続されており、これによって吐出ヘッド３４はその周方向への回動も、制御手段４０によって制御されるようになっている。
The
ここで、吐出ヘッド３４は、図２（ａ）に示すように例えばステンレス製のノズルプレート１２と振動板１３とを備え、両者を仕切部材（リザーバプレート）１４を介して接合したものである。ノズルプレート１２と振動板１３との間には、仕切部材１４によって複数の空間１５と液溜まり１６とが形成されている。各空間１５と液溜まり１６の内部は液状体で満たされており、各空間１５と液溜まり１６とは供給口１７を介して連通したものとなっている。また、ノズルプレート１２には、空間１５から液状体を噴射するためのノズル１８が縦横に整列させられた状態で複数形成されている。一方、振動板１３には、液溜まり１６に液状体を供給するための孔１９が形成されている。
Here, as shown in FIG. 2A, the
また、振動板１３の空間１５に対向する面と反対側の面上には、図２（ｂ）に示すように圧電素子（ピエゾ素子）２０が接合されている。この圧電素子２０は、アクチュエータとして機能するもので、一対の電極２１を有し、これら電極２１、２１間に通電されると外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたものである。そして、このような構成のもとに圧電素子２０が接合されている振動板１３は、圧電素子２０と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間１５の容積が増大するようになっている。したがって、増大した容積分に相当する液状体が、液溜まり１６から供給口１７を介して空間１５内に流入する。また、このような状態から圧電素子２０への通電を解除すると、圧電素子２０と振動板１３はともに元の形状に戻る。したがって、空間１５も元の容積に戻ることから、空間１５内部の液状体の圧力が上昇し、ノズル１８から基板に向けて液状体の液滴２２が吐出される。
Further, a piezoelectric element (piezo element) 20 is joined to the surface of the
このような構成からなる吐出ヘッド３４は、その底面形状が略矩形状のもので、例えばノズル１８を、６０μｍのピッチで１３２０個一列に整列配置させたものである。ここで、図１では吐出ヘッド３４を一つしか示していないが、本発明の液滴吐出装置はこれに限定されることなく、吐出ヘッド３４を複数備えていてもよい。例えば、形成する膜をカラーフィルタとする場合には、通常は赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３種類のインクを吐出してそれぞれに対応したカラーフィルタを成膜するため、これら各色に対応するように、３つの吐出ヘッド３４を並列した状態に備えるようにしてもよい。さらに、基板Ｓが大型である場合には、例えば１２台の吐出ヘッド３４を並列した状態に備えることもできる。
また、吐出ヘッド３４としては、前記の圧電素子２０を用いたピエゾジェットタイプ以外にも、例えばエネルギー発生素子として電気熱変換体を用いる方式などを採用することができる。
The
In addition to the piezo jet type using the
液供給手段３５は、前記吐出ヘッド３４に接続した液供給チューブ４６と、この液供給チューブ４６に接続したタンク４５とを有したものである。タンク４５は、前記吐出ヘッド３４に供給する液状体（インク）をその内部に貯留したものである。なお、この液供給手段３５は、吐出ヘッド３４から吐出する液状体の種類毎に備えられたもので、例えば前記したように赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３種類のカラーフィルタ用インクを吐出するべく、３つの吐出ヘッド３４が並列した状態に備えられている場合には、これら３つの吐出ヘッド３４に対応して、液供給手段３５も３つ備えられている。
The liquid supply means 35 has a
制御手段４０は、装置全体の制御を行うマイクロプロセッサ等のＣＰＵや、各種信号の入出力機能を有するコンピュータなどによって構成されたもので、吐出ヘッド３４による吐出動作、さらにはヘッド移動手段３３及び基板移動手段３２による各移動動作を制御するようになっている。また、前述したように容器５０の位置、具体的にはＹ軸に平行となる両方の側縁のＸ座標を記憶するとともに、吐出ヘッド３４の位置情報、すなわち吐出ヘッド３４のガイドレール３３ｄ、３３ｄ上での位置（Ｘ座標）や、そのときの各ノズルの位置（Ｘ座標）などを検知して記憶するようになっている。
The control means 40 is constituted by a CPU such as a microprocessor for controlling the entire apparatus, a computer having an input / output function for various signals, and the like. Each moving operation by the moving
さらに、この制御手段４０には、予め基板Ｓに形成する膜についての情報、すなわち描画情報が記憶されており、これによって制御手段４０は、この描画情報に基づき、吐出ヘッド３４の各ノズル１８毎の吐出動作、すなわち前記した圧電素子２０への通電を制御し、基板Ｓに描画処理をなさせるようになっている。
また、この制御手段４０は、前記の描画処理に先だって非描画領域で吐出ヘッド３４を待機させるが、この待機時に、前記のフラッシングエリアＦにおいて前記容器５０に向けて液滴を吐出させ、吐出ヘッド３４にフラッシング動作をなさせるようになっている。
Further, information about the film formed on the substrate S, that is, drawing information is stored in advance in the control means 40, whereby the control means 40 is based on the drawing information for each
Further, the
その際、制御手段４０は、その後に行う描画処理における前記吐出ヘッド３４全体での液滴吐出速度の、±１０％の範囲の液滴吐出速度で、前記容器５０に吐出をなさせ、フラッシングさせるようになっている。ここで、吐出ヘッド３４全体での液滴吐出速度とは、以下の式に示すように、多数のノズル１８全てから、単位時間あたりに吐出される液滴のドット数によって表される値である。
・吐出ヘッド全体での液滴吐出速度＝全てのノズルからの合計吐出ドット数／時間
At that time, the control means 40 causes the
-Droplet discharge speed in the entire discharge head = total number of discharge dots / time from all nozzles
ここで、待機時におけるフラッシング動作を、描画処理における前記吐出ヘッド３４全体での液滴吐出速度の、±１０％の範囲の液滴吐出速度でなさせるようにしたのは、このような範囲でフラッシングをなさせることにより、吐出ヘッド３４の温度を、描画処理時とほぼ同じに保持することができるからである。すなわち、吐出ヘッド３４は、吐出時に圧電素子（アクチュエータ）２０へ通電することによって発熱し、その結果、吐出ヘッド３４自体の温度が高くなる。このような発熱による昇温は、吐出ヘッド３４が環境温度より十分に高くなることから、ある温度になると熱的に平衡状態となり、安定化する。したがって、描画待機時におけるフラッシング時にも、描画時と同等の速度で吐出を行う、つまり描画時と同等に通電を行うことにより、待機時において吐出ヘッド３４を描画時と同じ温度に調整しておき、これによって特に描画処理の初期においても、液状体（インク）の吐出量を所望の量となるようにするのである。
Here, the flushing operation during standby is performed at a droplet discharge speed in a range of ± 10% of the droplet discharge speed of the
また、特に、描画処理における吐出ヘッド３４全体での液滴吐出速度の、±１０％の範囲の液滴吐出速度でフラッシング動作を行わせるのは、この範囲内の速度であれば、環境温度のわずかな変動などによる影響と同等の影響しかなく、吐出量に実質的な変動を与えるだけの温度変化が生じないためである。
In particular, the flushing operation is performed at a droplet discharge speed within a range of ± 10% of the droplet discharge speed of the
なお、成膜に際しての描画処理としては、基板Ｓに対して吐出ヘッド３４を複数回走査（スキャン）させることにより、面を構成する膜を得るのが一般的である。その際、例えばカラーフィルタのようにＲ、Ｇ、Ｂ毎に均一な膜を形成する場合、通常は各走査毎に同一の吐出動作をなさせる。すなわち、各走査毎に同一のアルゴリズムで吐出動作を行わせ、これによって同じノズルを用いて同じ吐出タイミングで同じ回数の吐出を行わせるようにする。これに対し、配線などのような不均一なパターンを形成する場合には、各走査毎に異なるアルゴリズムで吐出を行う場合もある。 As a drawing process at the time of film formation, a film constituting a surface is generally obtained by scanning the substrate S with the ejection head 34 a plurality of times. At this time, when a uniform film is formed for each of R, G, and B as in a color filter, for example, the same ejection operation is usually performed for each scan. That is, the ejection operation is performed with the same algorithm for each scan, and thereby the same number of ejections are performed at the same ejection timing using the same nozzle. On the other hand, when a non-uniform pattern such as wiring is formed, ejection may be performed with a different algorithm for each scan.
このように、描画処理を基板Ｓに対して複数回走査（スキャン）することで行う場合、前記制御手段４０は、待機時において非描画領域に吐出をなさせる際、前記描画処理における前記吐出ヘッド３４全体での液滴吐出速度として、最初の走査時における液滴吐出速度を用いることができる。このようにすれば、特に待機時後の描画処理時の最初の走査時において、液状体（インク）を所望の量で吐出させることができる。また、カラーフィルタ成膜のように、各走査毎に同一のアルゴリズムで吐出動作を行わせる場合、最初の走査時における液滴吐出速度がそのまま描画処理中の液滴吐出速度となり、したがってこのような成膜を行う場合に好適となる。
As described above, when the drawing process is performed by scanning the substrate S a plurality of times (scanning), the
また、待機時において非描画領域に吐出をなさせる際、前記描画処理における前記吐出ヘッド３４全体での液滴吐出速度として、複数回の走査時における液滴吐出速度の平均を用いることもできる。このようにすれば、特に不均一なパターンを形成する描画処理のように、描画処理時における複数回の走査時の各液滴吐出速度が異なる場合に、待機時にその平均の速度で吐出させることで、液滴吐出ヘッドを描画処理時における平均的な温度にすることができ、したがって描画処理時に液状体（インク）を所望の量で吐出させることができる。なお、不均一なパターンを形成する描画処理の場合にも、前記したように、描画処理における前記吐出ヘッド３４全体での液滴吐出速度として、最初の走査時における液滴吐出速度を用いることもできる。
In addition, when discharging to a non-drawing area during standby, an average of droplet discharge speeds during a plurality of scans can be used as the droplet discharge speed of the
また、複数の基板Ｓに対して描画処理を行う場合、これら描画処理の間の待機時を基にして見れば、この待機時の前に相対的に前描画処理がなされていることになる。このように前描画処理がある場合、前記制御手段４０は、待機時において非描画領域に吐出をなさせる際、前記前描画処理で吐出を行ったノズルとは異なるノズルを少なくとも一つ用いて、前記非描画領域に吐出をなさせるようになっていてもよい。このようにすれば、特に前描画処理で吐出を行わなかったことによって液状体が乾燥し易くなっているノズルの、目詰まりを防止することができる。 Further, when drawing processing is performed on a plurality of substrates S, the pre-drawing processing is relatively performed before this waiting time when viewed from the waiting time between these drawing processing. In this way, when there is a pre-drawing process, the control means 40 uses at least one nozzle different from the nozzle that has ejected in the pre-drawing process when making a discharge in the non-drawing area during standby, The non-drawing area may be ejected. In this way, it is possible to prevent clogging of the nozzle that makes it easy to dry the liquid due to the fact that no discharge was performed in the pre-drawing process.
次に、このような構成からなる成膜装置３０を用いた成膜方法を、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色からなるカラーフィルタの成膜に適用した例について説明する。なお、この例では、成膜装置３０として、前述したように３種類のカラーフィルタインクに対応した３つの吐出ヘッド３４を、並列した状態に備えたものを用いるものとする。
Next, an example in which the film forming method using the
まず、搬送手段（図示せず）によって基板Ｓをベース３１上に供給し、これをステージ３９上の所定位置にセットする。ここで、基板Ｓとしては、例えば液晶装置における対向基板となる、ガラス基板が用いられる。なお、本発明の成膜方法は、カラーフィルタ以外の各種の機能膜の形成にも適用可能であり、当然ながら形成する機能膜に応じて、被成膜体となる基板Ｓも種々のものが使用可能である。
First, the substrate S is supplied onto the base 31 by a conveying means (not shown), and is set at a predetermined position on the
次に、基板Ｓ上にカラーフィルタインクを吐出する描画処理に先立ち、待機時での吐出（フラッシング）を行う。この待機時の吐出では、制御手段４０による制御により、ヘッド移動手段３３を駆動させて吐出ヘッド３４を一方のフラッシングエリアＦの容器５０上に移動させ、その位置で所定時間吐出をなさせる。このときの吐出（フラッシング）については、特に、その後の描画処理における吐出ヘッド３４全体での液滴吐出速度の、±１０％の範囲の液滴吐出速度で、吐出をなさせる。好ましくは、描画処理における吐出ヘッド３４からの吐出と同一の条件、すなわち同じノズルを用いて同じ吐出タイミングで同じ回数の吐出を同じ時間行わせるようにする。ただし、生産性を考慮した場合、必ずしも描画処理の時間と同じ時間フラッシングを行う必要はなく、吐出によって吐出ヘッド３４の温度上昇がほとんど起こらなくなる程度の時間、つまり吐出ヘッド３４の温度が安定化する時間、フラッシング（吐出）を行えばよい。
Next, prior to the drawing process for discharging the color filter ink onto the substrate S, discharge (flushing) during standby is performed. In this standby discharge, under the control of the control means 40, the head moving means 33 is driven to move the
また、本例ではカラーフィルタを成膜するが、通常カラーフィルタの形成は必要な膜厚を確保するため、複数回の走査（スキャン）を行うことで所定の厚さのカラーフィルタを得る。本例でも、一方のフラッシングエリアＦ側から他方のフラッシングエリアＦ側への移動を一回の走査（スキャン）とすると、８回の走査（スキャン）を行うものとする。なお、カラーフィルタについては前述したようにＲ、Ｇ、Ｂ毎に均一な膜を形成することから、この８回の走査（スキャン）では、各走査時の液滴吐出条件を同じとしている。したがって、この描画処理における吐出ヘッド３４全体での液滴吐出速度としては、最初の走査時における液滴吐出速度を用いても、複数回の走査時における液滴吐出速度の平均を用いても、同じになる。よって、本例では描画処理時の最初の走査時における液滴吐出速度を用いて、容器５０へのフラッシングを行うものとする。
In this example, a color filter is formed. Usually, a color filter having a predetermined thickness is obtained by performing a plurality of scans in order to secure a necessary film thickness. Also in this example, assuming that the movement from one flushing area F side to the other flushing area F side is one scan (scan), eight scans (scan) are performed. As described above, since a uniform film is formed for each of R, G, and B for the color filter, the droplet discharge conditions for each scan are the same in these eight scans. Therefore, as the droplet discharge speed of the
このようにして、待機時において容器５０（非描画領域）に吐出（フラッシング）をなさせたら、ヘッド移動手段３３を駆動させて基板Ｓ上に吐出ヘッド３４を８回走査させ、かつ、基板移動手段３２によって各走査間などに基板Ｓを移動させつつ、予め制御手段４０に記憶させた描画除法に基づいて吐出ヘッド３４の各ノズルから吐出（描画）をなさせることにより、描画処理を行う。
Thus, when discharge (flushing) is performed on the container 50 (non-drawing area) during standby, the head moving means 33 is driven to scan the
このようにして描画処理を終了させたら、搬送手段によって基板Ｓを搬出し、これを次工程に移送する。また、描画処理済みの基板Ｓを搬出したら、これに続いて、搬送手段によって新たな基板Ｓをベース３１上に供給し、これをステージ３９上の所定位置にセットする。この基板Ｓの入れ替えの間、制御手段４０は、先の基板Ｓのときの描画処理に先立つ待機時と同様に、一方のフラッシングエリアＦ（非描画領域）において、容器５０に向けて吐出（フラッシング）をなさせる。
When the drawing process is completed in this way, the substrate S is unloaded by the transfer means and transferred to the next process. Further, after the drawing-processed substrate S is unloaded, a new substrate S is supplied onto the base 31 by the transfer means and set at a predetermined position on the
このときの吐出（フラッシング）についても、その後の描画処理における吐出ヘッド３４全体での液滴吐出速度の、±１０％の範囲の液滴吐出速度でなさせる。その場合、前述したように特に描画処理における吐出ヘッド３４からの吐出と同一の条件で吐出をなさせるのが好ましい。ただし、前の基板Ｓについての描画処理（前描画処理）において使用せず、今回の描画処理で使用するノズル１８があるような場合には、前の描画処理（前描画処理）で吐出を行ったノズル１８とは異なるノズル１８を少なくとも一つ用いて、前記非描画領域に吐出をなさせるようにしてもよい。このようにすれば、特に前描画処理で吐出を行わなかったことによって液状体が乾燥し易くなっているノズル１８の、目詰まりを防止することができる。
The ejection (flushing) at this time is also performed at a droplet ejection speed in a range of ± 10% of the droplet ejection speed of the
このようにして、待機時において容器５０（非描画領域）に吐出（フラッシング）をなさせたら、前の描画処理と同様にして、ヘッド移動手段３３を駆動させて基板Ｓ上に吐出ヘッド３４を８回走査させ、かつ、基板移動手段３２によって各走査間などに基板Ｓを移動させつつ、予め制御手段４０に記憶させた描画除法に基づいて吐出ヘッド３４の各ノズルから吐出（描画）をなさせ、描画処理を行う。
さらに、前記と同様にして基板Ｓを入れ替え、待機時における非描画領域への吐出、描画処理、さらには基板Ｓの入れ替えを順次繰り返すことにより、基板Ｓへのカラーフィルタの形成を連続的に行うことができる。
In this manner, when discharge (flushing) is performed on the container 50 (non-drawing area) during standby, the
Further, the substrate S is replaced in the same manner as described above, and the color filter is continuously formed on the substrate S by sequentially repeating the discharge to the non-drawing area during the standby, the drawing process, and the replacement of the substrate S. be able to.
このような成膜方法にあっては、描画処理に先立つ待機時において、吐出ヘッド３４に、描画処理における前記吐出ヘッド３４全体での液滴吐出速度の、±１０％の範囲の液滴吐出速度で、容器５０（非描画領域）に吐出をなさせるので、待機時にも描画処理時とほぼ同等の吐出動作をなすことにより、吐出ヘッド３４の温度を、描画処理時とほぼ同じに保持することができる。したがって、このように待機時にも描画処理時とほぼ同じ温度に吐出ヘッド３４を保持できることから、待機時後の描画処理時に、特にその初期においても液状体（インク）を所望の量で吐出させることができ、これにより得られる膜のパターンや厚さの精度向上を図ることができる。特に、本例のカラーフィルタの場合には、膜厚が均一になることにより、色むらの無い良好なカラーフィルタを得ることができる。
また、温度検知による吐出駆動制御へのフィードバックや、事前の温度予測による吐出駆動制御の変更を必要としないため、成膜装置３０の装置構成がよりシンプルになり、その大型化や高価格化を抑えることができる。
In such a film forming method, at the time of standby prior to the drawing process, the droplet discharge speed in the range of ± 10% of the droplet discharge speed of the
In addition, since there is no need for feedback to discharge drive control by temperature detection or change of discharge drive control by preliminary temperature prediction, the apparatus configuration of the
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で変更が可能である。例えば、形成する膜についても、カラーフィルタ以外の各種膜、例えば配線や電極となる金属膜、各種絶縁膜、半導体膜などの成膜に本発明を適用することができる。
また、前記実施形態では、フラッシングを行う非描画領域を、フラッシングエリアＦに配された容器５０としたが、例えばこれに代えて、フラッシングエリアＦに配される、吐出ヘッド３４の底面側（吐出面側）を覆うキャップに、フラッシングをなさせるようにしてもよい。
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be modified without departing from the gist of the present invention. For example, as for the film to be formed, the present invention can be applied to various films other than color filters, for example, a metal film to be a wiring or an electrode, various insulating films, and a semiconductor film.
In the above-described embodiment, the non-drawing area where flushing is performed is the
次に、本発明の効果を確認するためのシミュレーション結果について説明する。
図３は、吐出ヘッドの駆動時間と吐出ヘッドの温度とのシミュレーション結果を示した図である。図３において横軸は駆動時間、縦軸は吐出ヘッドの相対的な温度である（以下の図４、図５においても同様）。
図３に示したシミュレーション結果は、休みなく連続して吐出（描画）を行った場合の例であり、具体的には、隣り合う８つのノズルから吐出を行い、その隣りの３つのノズルからは吐出を休止させ、さらにその隣りの８つのノズルから吐出させるといった、駆動ノズルと休止ノズルとを繰り返させた構成のもとで吐出動作をなさせ、かつ、各駆動ノズルからの吐出を、５０μｓ間隔で連続吐出した場合の例である。
図３に示すように、同じ駆動ノズルから連続して吐出を行うと、単位時間あたりの発熱量が一定になるため、駆動をある程度続けると、発熱量と放熱量とが等しくなる熱平衡状態となり、吐出ヘッドの温度はある値（温度）に収束する。
Next, simulation results for confirming the effects of the present invention will be described.
FIG. 3 is a diagram illustrating simulation results of the ejection head drive time and the ejection head temperature. In FIG. 3, the horizontal axis represents the drive time, and the vertical axis represents the relative temperature of the ejection head (the same applies to FIGS. 4 and 5 below).
The simulation result shown in FIG. 3 is an example in the case where the discharge (drawing) is continuously performed without a break. Specifically, the discharge is performed from eight adjacent nozzles, and from the three adjacent nozzles. The discharge operation is performed under a configuration in which the drive nozzle and the pause nozzle are repeated such that the discharge is stopped and the adjacent eight nozzles are discharged, and the discharge from each drive nozzle is performed at intervals of 50 μs. This is an example in the case of continuous discharge.
As shown in FIG. 3, if the discharge is continuously performed from the same drive nozzle, the amount of heat generated per unit time becomes constant, so if the drive is continued to some extent, a heat balance state where the amount of heat generated and the amount of heat released becomes equal, The temperature of the ejection head converges to a certain value (temperature).
実際の基板への描画について考えると、従来では、走査（スキャン）と走査（スキャン）との間に駆動ノズルについても吐出の休止が入り、さらには、基板の入れ替え時の待機時間では全てのノズルがその吐出を休止する。図４は、この状態をシミュレーションした結果を示す図である。
この例では、図４中Ａで示すように、走査（スキャン）間での駆動ノズルの吐出休止による比較的小さい温度低下が生じ、さらには、図４中Ｂで示すように、基板の入れ替え時の待機時間による比較的大きい温度低下が生じる。したがって、基板の入れ替え後の描画処理時には、特にその初期において、吐出ヘッドの温度が低くなることに起因して、一回の吐出動作における液状体（インク）の吐出量が所望の量と異なる量になってしまい、結果として得られる膜のパターンや厚さの精度が損なわれてしまうことになる。
Considering the actual drawing on the substrate, in the past, the ejection of the drive nozzles is also stopped between the scans, and all the nozzles are used in the waiting time when the substrates are replaced. Stops the discharge. FIG. 4 is a diagram showing the result of simulating this state.
In this example, as shown by A in FIG. 4, a relatively small temperature drop occurs due to the ejection stop of the drive nozzle between scans, and further, when the substrate is replaced as shown by B in FIG. 4. A relatively large temperature drop occurs due to the waiting time. Therefore, during the drawing process after the replacement of the substrates, particularly in the initial stage, the discharge amount of the liquid material (ink) in one discharge operation is different from the desired amount due to the temperature of the discharge head being lowered. As a result, the accuracy of the pattern and thickness of the resulting film is impaired.
これに対し、本発明では、特に基板の入れ替え時の待機時間においても、描画処理時と同じ液滴吐出速度で、駆動ノズルから吐出をなさせる。図５は、この状態をシミュレーションした結果を示す図である。
この例では、図５中Ａで示すように、走査（スキャン）間での駆動ノズルの吐出休止による比較的小さい温度低下は生じるものの、基板の入れ替え時（待機時）にも、描画処理時と同じ液滴吐出速度で駆動ノズルから吐出をなさせているので、図４中Ｂで示したような比較的大きい温度低下が起こらず、したがって吐出ヘッドはその温度が全体的に安定した状態に保持される。よって、本発明によれば、待機時にも描画処理時とほぼ同じ温度に吐出ヘッドを保持することができ、これにより描画処理時の初期においても、液状体（インク）を所望の量で吐出させることができる。
On the other hand, in the present invention, discharge is performed from the drive nozzle at the same droplet discharge speed as in the drawing process, particularly during the standby time when the substrate is replaced. FIG. 5 is a diagram showing the result of simulating this state.
In this example, as indicated by A in FIG. 5, although a relatively small temperature drop occurs due to the suspension of ejection of the drive nozzle between scans (scanning), the substrate replacement (standby) and the drawing process are also performed. Since ejection is performed from the drive nozzle at the same droplet ejection speed, a relatively large temperature drop as shown by B in FIG. 4 does not occur, and therefore the ejection head maintains its temperature in a stable state as a whole. Is done. Therefore, according to the present invention, it is possible to hold the ejection head at a temperature substantially the same as that during the drawing process even during standby, thereby ejecting a liquid material (ink) in a desired amount even in the initial stage during the drawing process. be able to.
１８…ノズル、３０…吐出装置、３３…ヘッド移動手段、３４…液滴吐出ヘッド、４０…制御手段、５０…容器（非描画領域）、Ｓ…基板（被成膜体）、Ｆ…フラッシングエリア（非描画領域）
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記制御手段は、被成膜体上への液滴吐出による描画処理とは別に、該描画処理に先立つ待機時において前記液滴吐出ヘッドに、前記描画処理における前記液滴吐出ヘッドの全てのノズルから単位時間あたりに吐出される液滴の合計ドット数によって表される液滴吐出ヘッド全体での液滴吐出速度の、±１０％の範囲の液滴吐出速度で、非描画領域に吐出をなさせるように構成されていることを特徴とする成膜装置。 A plurality of nozzles, a droplet discharge head that discharges droplets from the nozzles, a head moving unit that moves the droplet discharge head, and discharge of droplets from the nozzles in the droplet discharge head; A film forming apparatus having a control means for controlling,
In addition to the drawing process by the droplet discharge onto the film formation body, the control means is configured to send all the nozzles of the droplet discharge head in the drawing process to the droplet discharge head during standby prior to the drawing process. To a non-drawing area at a droplet ejection speed in the range of ± 10% of the droplet ejection speed of the entire droplet ejection head represented by the total number of droplets ejected per unit time. It is comprised so that it may make. The film-forming apparatus characterized by the above-mentioned.
被成膜体上への液滴吐出による描画処理とは別に、該描画処理に先立つ待機時において前記液滴吐出ヘッドに、前記描画処理における前記液滴吐出ヘッドの全てのノズルから単位時間あたりに吐出される液滴の合計ドット数によって表される前記液滴吐出ヘッド全体での液滴吐出速度の、±１０％の範囲の液滴吐出速度で、非描画領域に吐出をなさせることを特徴とする成膜方法。 A liquid droplet ejection head having a plurality of nozzles and having a liquid droplet ejection head for ejecting liquid droplets from the nozzle and a head moving means for moving the liquid droplet ejection head, the liquid droplet ejection head A film forming method for forming a film by discharging droplets onto a film formation body from the nozzle of
In addition to the drawing process by droplet discharge onto the film formation target, the liquid droplet discharge head is in a standby state prior to the drawing process, and from every nozzle of the droplet discharge head in the drawing process per unit time. The non-drawing region is discharged at a droplet discharge speed in a range of ± 10% of the droplet discharge speed of the entire droplet discharge head represented by the total number of dots of the discharged droplets. A film forming method.
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