JP4845452B2 - 試料観察方法、及び荷電粒子線装置 - Google Patents
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Description
(b)次に、試料片の一部を階段状または斜めに加工し、試料厚さの異なる部位を作製する。(c)次に、試料表面または試料内部の構造を観察し、連続する構造体が同一直線状に並ぶように試料を傾斜または回転する。(d)その結果、試料加工装置または試料観察装置において試料を正確に水平度調整することが可能になる。
L2を最小の値L1に近づけるように試料を回転または傾斜することで、試料の水平度調整が可能である。また、連続的な構造体の他に、規則的に点在した構造体3を持つ試料でも同様の調整が可能である。
23が備えられ、イオンビーム24をコントロールするように制御される。電子ビーム光学系61にも同様に、電子源27,集束レンズ29、及び走査偏向器30が備えられ、電子ビーム38をコントロールするよう制御される。
(S0007)にとって最適な角度となる。なお、本例の場合、プローブを必要以上に、回転させると、連続的な構造体8の奥行き部分が、試料1の下部に隠れてしまうため、一旦最小値を確認した後、傾斜角を戻すことによって、回転角の変化に対する寸法値の変化が止まった角度(電子ビームと連続的な構造体の長手方向がちょうど並行になる角度)を正確に把握するようにしても良い。
44とは別のステージを設け、切り出した微小試料をその別のステージに載せ、当該別のステージを傾斜させることによって、上記のような水平度調整を行うようにしても良い。また、試料台44に傾斜機構を設け、同様のことをしても良い。
Claims (2)
- 荷電粒子線を走査して得られた画像に基づいて試料の観察を行う試料観察方法において、
前記試料が連続する構造体を持ち、前記試料の透過像を観察した場合、前記荷電粒子線を発生する荷電粒子源から見て、前記試料の厚さの異なる部位を作製し、前記厚さの厚い領域の手前の部分から奥行き部分まで、跨って形成される前記構造体の幅を最小の値に近づけるように、前記試料を傾斜又は回転することを特徴とする試料観察方法。 - 荷電粒子源と、当該荷電粒子源から放出される荷電粒子線を走査する走査偏向器と、前記荷電粒子線に対して試料を傾斜させる試料傾斜機構、あるいは前記試料を回転させる試料回転機構の少なくともいずれかと、前記試料から放出された荷電粒子に基づいて、前記試料の透過像を形成する制御装置を備えた荷電粒子線装置において、
前記試料が連続する構造体を持ち、前記試料の透過像を観察した場合、前記制御装置は、前記荷電粒子源側から見て、前記試料の厚さの異なる部位を作製し、前記厚さの厚い領域の手前の部位から奥行き部分に跨って形成される前記構造体の幅を最小の値に近づけるように、前記試料傾斜機構、或いは前記試料回転機構を制御することを特徴とする荷電粒子線装置。
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