JP4841983B2 - イオン源装置におけるプラズマ均一化方法及びイオン源装置 - Google Patents
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Description
10 真空プラズマ室
11 永久磁石
20 アンテナ装置
21、21−1〜21−4 RFエキサイター
22、22−1〜22−4 アンテナ
30A、30B、30A−1、30B−1、30A−2、30B−2 アンテナ対向磁石
40 ガス拡散板
50 イオンビーム引出系
51 シャッター
Claims (16)
- イオンビーム引出面を持つプラズマ室と、該プラズマ室内にイオン源ガスを供給する供給部と、前記プラズマ室内で前記イオンビーム引出面に平行な第1の方向に配列されて高周波電源から供給される電力により前記プラズマ室内に高周波電界を生成し前記イオン源ガスと反応させてプラズマを生成するための複数のアンテナと、前記第1の方向に並ぶ該複数のアンテナを挟むように対向配置されて該複数のアンテナを横切る磁界を形成することにより高濃度の電子発生領域を形成させてプラズマ生成を補助する対のアンテナ対向磁石と、前記複数のアンテナに対して前記対のアンテナ対向磁石を相互に接近、離反させる第2の方向及び前記イオンビーム引出面に接近、離反させる第3の方向の少なくとも一方に移動させる位置調整手段と、前記プラズマ室の壁面部の周囲に配置されて生成されたプラズマを閉じ込めるカスプ磁場を形成する複数の永久磁石と、前記イオンビーム引出面に設けられて生成されたプラズマからイオンビームを引き出すための複数の電極からなるイオンビーム引出系とにより構成したイオン源装置におけるプラズマ均一化方法において、
前記アンテナのループ形状を前記アンテナの配列方向である第1の方向に長い形状とすることにより、前記プラズマ室内でのプラズマ密度を前記第1の方向に関して均一化させるとともに、
前記対のアンテナ対向磁石は前記第1の方向に関して等しい長さを有するとともに異磁極が対向するようにされ、該対のアンテナ対向磁石を、前記プラズマ室における前記第1の方向の中心近傍において磁極が反転するように少なくとも2組、前記第1の方向に直列接続して配置することにより前記第1の方向のプラズマの偏りを少なくして、プラズマ密度を前記第1の方向に関して均―化させることを特徴とするプラズマ均一化方法。 - 請求項1に記載のプラズマ均一化方法において、前記アンテナのループ形状を第1の方向に長いレーストラック状あるいは長四角形状とし、ループ形状のアンテナの基部をアンテナ対向磁石の中心磁界が通過するよう配置することを特徴とするプラズマ均一化方法。
- 請求項1又は2に記載のプラズマ均一化方法において、前記アンテナを偶数個、前記第1の方向に並べて配置し、アンテナ間隔をアンテナ径の2倍以下とすることによりプラズマ密度を前記第1の方向に関して均一化させることを特徴とするプラズマ均―化方法。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のプラズマ均一化方法において、前記カスプ磁場を形成する複数の永久磁石は、前記プラズマ室を形成している壁のうち、前記イオンビーム引出系に近い領域を除く壁に間隔をおいて配置されることを特徴とするプラズマ均一化方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載のプラズマ均一化方法において、前記アンテナ対向磁石を前記アンテナの基部付近まで移動可能にしていることを特徴とするプラズマ均一化方法。
- イオンビーム引出面を持つプラズマ室と、該プラズマ室内にイオン源ガスを供給する供給部と、前記プラズマ室内で前記イオンビーム引出面に平行な第1の方向に配列されて高周波電源から供給される電力により前記プラズマ室内に高周波電界を生成し前記イオン源ガスと反応させてプラズマを生成するための複数のアンテナと、前記第1の方向に並ぶ該複数のアンテナを挟むように対向配置されて該複数のアンテナを横切る磁界を形成することにより高濃度の電子発生領域を形成させてプラズマ生成を補助する対のアンテナ対向磁石と、前記複数のアンテナに対して前記対のアンテナ対向磁石を相互に接近、離反させる第2の方向及び前記イオンビーム引出面に接近、離反させる第3の方向の少なくとも一方に移動させる位置調整手段と、前記プラズマ室の壁面部の周囲に配置されて生成されたプラズマを閉じ込めるカスプ磁場を形成する複数の永久磁石と、前記イオンビーム引出面に設けられて生成されたプラズマからイオンビームを引き出すための複数の電極からなるイオンビーム引出系とにより構成したイオン源装置において、
前記アンテナのループ形状を前記第1の方向に長い形状とするとともに、前記対のアンテナ対向磁石は前記第1の方向に関して等しい長さを有するとともに異磁極が対向するようにされ、該対のアンテナ対向磁石を、前記プラズマ室における前記第1の方向の中心近傍において磁極が反転するように少なくとも2組、前記第1の方向に直列接続して配置したことを特徴とするイオン源装置。 - 請求項6に記載のイオン源装置において、前記アンテナのループ形状がレーストラック状あるいは長四角形状であることを特徴とするイオン源装置。
- 請求項6又は7に記載のイオン源装置において、前記アンテナが偶数個、前記第1の方向に並べて配置され、アンテナ間隔をアンテナ径の2倍以下としたことを特徴とするイオン源装置。
- 請求項6〜8のいずれか1項に記載のイオン源装置において、前記第1の方向に直列接続された少なくとも2組のアンテナ対向磁石の前記第1の方向に関する長さが、前記イオンビーム引出系における引出スリットの前記第1の方向に関する長さより大きいことを特徴とするイオン源装置。
- 請求項6〜9のいずれか1項に記載のイオン源装置において、前記カスプ磁場を形成する複数の永久磁石は、前記プラズマ室を形成している壁のうち、前記イオンビーム引出系に近い領域を除く壁に間隔をおいて配置されていることを特徴とするイオン源装置。
- 請求項6〜10のいずれか1項に記載のイオン源装置において、前記位置調整手段は、前記アンテナ対向磁石を前記アンテナの基部付近まで移動可能であることを特徴とするイオン源装置。
- 請求項6〜11のいずれか1項に記載のイオン源装置において、前記アンテナ対向磁石は、前記アンテナに対向している対向ヨークと該対向ヨークに一方の磁極を密着させて前記第3の方向に重ねられた複数枚の永久磁石とを磁石ケース内に配置して構成されるとともに、前記対向ヨークの前記第3の方向のサイズと前記重ねられた複数枚の永久磁石の前記第3の方向のサイズとが等しくなるように構成されていることを特徴とするイオン源装置。
- 請求項12に記載のイオン源装置において、前記複数枚の永久磁石のうち、前記第3の方向に関して両外側の永久磁石を内側の永久磁石よりも前記第2の方向に関して長くしたことを特徴とするイオン源装置。
- 請求項12又は13に記載のイオン源装置において、前記磁石ケースに水冷管を複数設け、プラズマからの熱によって前記アンテナ対向磁石からの磁場が低下するのを防止したことを特徴とするイオン源装置。
- 請求項14に記載のイオン源装置において、前記複数の水冷管は、前記対向ヨークの両側に設けた2本の水冷管と、前記磁石ケースの背面中央部に設けた1本の水冷管からなることを特徴とするイオン源装置。
- 請求項6〜15のいずれか1項に記載のイオン源装置を備えたドーピング装置。
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