JP4832800B2 - セラミック製装飾部材およびその製造方法 - Google Patents
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Description
ここで、輪郭曲線要素の高さZtとは、1つの輪郭曲線要素、即ち1つのパターンにおける山部と谷部との間の高さをいう。Ztが2μm未満となると、微細な研削痕が多数集合しても、美しい装飾模様として目視で確認することが困難となる。例えば、金属の場合は表面にZtが2μm未満の傷が付いても目立つが、セラミックの場合は傷が目立ちにくく光の反射も比較的鈍いため、模様を形成する主要な研削痕のZtは2μm以上とする必要がある。但し、通常は図9に示すように研削痕のZtは大小混在しており、Ztが2μm未満の研削痕がパターン内に存在しても構わない。装飾部材の強度を考慮するとZtを50μm以下とすることが望ましい。この範囲であれば、薄い時計用文字板などに用いても組み付け時に文字板が割れてしまうという問題も殆ど発生しない。また、上記Ztは5μm〜40μmであることがさらに好ましい。Ztが5μm以上の研削痕で形成された模様は非常に鮮明であり、Ztを40μm以下とすればツールの損耗を低減できるためである。例えば、中心付近のZtが約5μmである研削痕で形成された模様は、柔らかな風合いとなり、半径方向外周に向かうに従って、Ztを大きくすると、鮮明で力強い風合いを有する模様を連続的に形成することができる。
次にセラミック製装飾部材の製造方法に関して説明する。まず、一般的なセラミック製装飾部材の製造方法にあるように、例えばジルコニア等のセラミック材料の原料粉末を圧縮して成形体を形成し、焼成炉でこの成形体を焼成しセラミック焼結体とする。次に、このセラミック焼結体を機械加工により円板に加工しセラミック製装飾部材を得る。
さらに、模様が形成されたセラミック製装飾部材1を分割するか外辺に加工を施すことなどにより、模様を形成する時の中心部と、最終製品の中心部の位置が異なるデザインとすることも可能であり、この場合も本発明の範囲内である。
続いて、上記セラミック製装飾部材1と砥石15を例えば矢印方向に互いに回転させ、砥石15を図7のようにセラミック製装飾部材1の主面1aに対して平行に外周部から中心付近まで移動させながら研削加工を行う。中心付近まで研削加工が終了した後、砥石15を主面1aから離すと、主面1aには図4に示す研削痕の集合体からなる放射状の模様が形成されている。
次に、上述の装飾部材の製造方法に用いられる装飾加工装置に関して説明する。この装飾加工装置は、装飾部材を固定し保持するためのチャック部と、上記チャックに固定された装飾部材に対してパターンを形成するためのツールと、上記チャック部を回転させるための回転手段、及び上記ツールを回転させるための回転手段とを備える。
セラミック製装飾部材の材質にはイットリア安定化ジルコニアを用いた。そして、イットリア安定化ジルコニア粉末に水と成形用の水溶性バインダーを加えて回転ミルで撹拌混合し、スプレードライで噴霧乾燥し成形用の顆粒とした。次いで、メカプレスを用いてイットリア安定化ジルコニアの顆粒を約98MPaの圧力で押圧し外径50mm×厚み1.5mmの成形体とし、その後電気炉で成形体を1400〜1450℃で焼成し、外径約37mm×厚み約1.1mmのセラミック焼結体とした。次に、セラミック焼結体を機械加工により外径30mm×厚み0.5mmの円板に加工しセラミック製装飾部材の素材を得た。
Claims (5)
- セラミック基板の少なくとも一方の主面に、研削痕の集合体からなるパターンが形成され、上記研削痕の集合体は、断面曲線における輪郭曲線要素の高さZtが2μm〜50μmとなる領域を含み、
上記パターンが形成された面の少なくとも一部がイオンミリングにより処理されてなることを特徴とするセラミック製装飾部材。 - 上記パターンは、セラミック基板の中心部から外周部に向かって連続的に又は断続的に形成された鱗片状の模様であることを特徴とする請求項1に記載のセラミック製装飾部材。
- 上記パターンが、セラミック基板の中心部から外周部に向かって拡がる放射状の模様であることを特徴とする請求項1に記載のセラミック製装飾部材。
- 上記パターンが形成された面の少なくとも一部に薄膜が形成されてなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のセラミック製装飾部材。
- セラミック基板を回転させ、上記セラミック基板の主面に対して平行な微小振動を加えながら、上記セラミック基板の外周部から回転中心までの区間を連続的または断続的に研削加工する工程と、
上記研削加工する工程によりパターンが形成された面の少なくとも一部をイオンミリングにより処理する工程と、を有することを特徴とするセラミック製装飾部材の製造方法。
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