JP4820377B2 - シュワルツシルト対物鏡を使用してフォトマスクの縮写像を投影する装置 - Google Patents
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- 光軸、マスク位置及び像位置を有し、放射ビームでマスクを照らしてマスク像を基板上に投影する装置であって;
前記像を形成する対物鏡であって、離間し対面する凸面第1鏡と凹面第2鏡を含み、前記第2鏡は前記第1鏡より大きく、かつ、前記第1鏡への光アクセスを提供する孔を有する対物鏡と;
前記放射ビームの通路において前記マスク位置の前に位置し複数のフェーセットを有するプリズムであって、前記複数のフェーセットは、それらによって前記放射ビームを複数のビーム部分に分割し該複数のビーム部分が前記プリズムを出るときに互いに集束するように構成され配置されているプリズムと;
を含み、
前記複数のビーム部分のほぼすべての放射を前記第1鏡の前記凸面上の環状ゾーンに入射させ、そこから前記第2鏡へ反射させ、さらにそこから前記基板位置の像点へ反射させるために、前記互いに集束する複数のビーム部分が前記マスク位置で交差し、その後互いに開いて前記第2鏡の前記孔を通るように設けた装置。 - 請求項1の装置であって、前記第1鏡、前記第2鏡及び前記第2鏡の前記孔が前記光軸上に一直線上に並べられ、かつ、前記プリズムの前記複数のフェーセットは、前記光軸上に置かれたフェーセット頂点で合う装置。
- 請求項1の装置であって、前記プリズムは平面表面を有し、前記複数のフェーセットが前記平面表面の反対側に位置する装置。
- 請求項3の装置であって、前記プリズムは、大きさと形状が等しく共通点で合う4つの長方形のフェーセットを有する装置。
- 請求項3の装置であって、前記放射ビームは、前記プリズムの前記平面表面を通って前記プリズムに入り、前記フェーセットを通って前記プリズムを出る装置。
- 請求項1の装置であって、前記放射ビームの前記通路において前記プリズムの前に設けられ前記放射ビームが前記プリズムへ入射する前に前記放射ビームの断面形状を変える光学装置をさらに含んでなる装置
- 請求項1の装置であって、前記複数のビーム部分の通路において前記プリズムと前記マスク位置の間に位置するレンズをさらに含んでなる装置。
- 請求項7の装置であって、前記互いに開くビーム部分は、前記第2鏡の前記孔に入るときに個別に収束する装置。
- 請求項1の装置であって、前記放射ビームは前記プリズムに入るときにコリメートされ、前記互いに開くビーム部分は、前記第2鏡の前記孔に入るときにコリメートされている装置。
- 請求項1の装置であって、前記第1及び第2鏡は球面状反射面を持つ装置。
- 光軸、マスク位置及び像位置を有し、放射ビームでマスクを照らしてマスク像を基板上に投影する装置であって;
前記像を形成する対物鏡であって、離間し対面する凸面第1鏡と凹面第2鏡を含み、前記第2鏡は前記第1鏡より大きく、かつ、前記第1鏡への光アクセスを提供する孔を有する対物鏡と;
前記放射ビームの通路において前記マスク位置の前に位置し複数のフェーセットを有するプリズムであって、前記複数のフェーセットは、それらによって前記放射ビームを複数のビーム部分に分割し該複数のビーム部分が前記プリズムを出るときに互いに集束するように構成され配置されたプリズムと;
を含み、
前記第1鏡の中央ゾーンの照射を最小にするように前記中央ゾーンを囲む環状ゾーンに前記ビーム部分を入射させ、そこから前記第2鏡へ反射させ、そこからさらに前記基板位置の像点へ反射させるために、前記互いに集束する複数のビーム部分が前記マスク位置で交差し、その後、開いて前記第2鏡の前記孔を通るように設けた装置。 - 請求項11の装置であって、前記第1鏡、前記第2鏡及び前記第2鏡の前記孔が前記光軸上に一直線上に並べられ、かつ、前記プリズムの前記複数のフェーセットは、前記光軸上に置かれた前記プリズムの頂点で合う装置。
- 請求項11の装置であって、前記プリズムは平面表面を有し、前記複数のフェーセットが前記平面表面の反対側に位置する装置。
- 請求項13の装置であって、前記プリズムは、大きさと形状が等しく共通点で合う4つの長方形のフェーセットを有する装置。
- 光軸を有しマスク像を基板上に投影する光学システムであって;
光ビームを提供する光源と;
像が形成されるマスクが置かれる対象平面に前記光ビームを指向させる光学素子と;
主鏡と副鏡を含み前記マスク像を形成する対物鏡であって、前記主鏡は前記対物鏡の入口孔をなす入口孔を有する対物鏡と;
前記対象平面に指向された前記光ビームの通路に位置するプリズムであって、互いに角度をなす複数のフェーセットを含むプリズムと;
を含んでなり、
前記光ビームが前記複数のプリズムフェーセットによって対応する複数のビーム部分に分割され、該ビーム部分が光学システムの前記光軸に関してかつ互いに角度をなして伝播し前記対象平面における前記マスク位置で重なり、その後に開いて前記対物鏡の前記入口孔に入るように、前記光ビームを指向させる光学素子と、前記プリズムと、前記対物鏡とが相関的に構成され配置されている光学システム。 - 請求項15の光学システムであって、前記副鏡は、開いて前記対物鏡の前記入口孔に入る前記ビーム部分の通路において前記光軸上に位置し、前記ビーム部分の発散は、前記ビーム部分による前記副鏡の中央ゾーンの照射が最小になるように選択される光学システム。
- 請求項16の光学システムであって、前記複数のフェーセットは、前記光軸上に置かれた前記プリズムの頂点で合う光学システム。
- 請求項17の光学システムであって、前記プリズムは平面表面を有し、前記複数のフェーセットが前記平面表面の反対側に位置する光学システム。
- 請求項18の光学システムであって、前記プリズムは、大きさと形状が等しく共通なポイントで合う4つの長方形のフェーセットを有する光学システム。
- 請求項16の光学システムであって、前記開くビーム部分は前記主鏡の前記入口孔に入るときに個別に収束する光学システム。
- 請求項16の光学システムであって、前記光ビームは前記プリズムに入るときにコリメートされ、前記開くビーム部分は前記主鏡の前記入口孔に入るときにコリメートされる光学システム。
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Families Citing this family (9)
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---|---|---|---|---|
US20040156455A1 (en) * | 2003-08-29 | 2004-08-12 | Hoke Charles D. | External cavity laser in which diffractive focusing is confined to a peripheral portion of a diffractive focusing element |
US7817246B2 (en) * | 2006-06-21 | 2010-10-19 | Asml Netherlands B.V. | Optical apparatus |
US8304425B2 (en) | 2007-06-22 | 2012-11-06 | Arqule, Inc. | Pyrrolidinone, pyrrolidine-2,5-dione, pyrrolidine and thiosuccinimide derivatives, compositions and methods for treatment of cancer |
DE102008038591B3 (de) * | 2008-08-21 | 2010-07-22 | Laser-Laboratorium Göttingen e.V. | Vorrichtung zur Erzeugung eines periodischen Beleuchtungsmusters und Verfahren zu deren Betrieb |
US8030632B2 (en) * | 2009-03-30 | 2011-10-04 | Tokyo Electron Limted | Controlling angle of incidence of multiple-beam optical metrology tools |
US7961306B2 (en) * | 2009-03-30 | 2011-06-14 | Tokyo Electron Limited | Optimizing sensitivity of optical metrology measurements |
US8030631B2 (en) * | 2009-03-30 | 2011-10-04 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for controlling angle of incidence of multiple illumination beams |
EP2525939A1 (en) * | 2010-01-20 | 2012-11-28 | GEM Solar Limited | A method of laser processing |
KR102483322B1 (ko) | 2015-09-30 | 2022-12-30 | 삼성디스플레이 주식회사 | 편광 모듈 및 이를 포함하는 레이저 조사 장치 |
Citations (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03198007A (ja) * | 1989-06-29 | 1991-08-29 | Boeing Co:The | カトプトリック光学装置 |
US5136413A (en) * | 1990-11-05 | 1992-08-04 | Litel Instruments | Imaging and illumination system with aspherization and aberration correction by phase steps |
JPH0513301A (ja) * | 1991-06-28 | 1993-01-22 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置 |
JPH0694613A (ja) * | 1992-09-11 | 1994-04-08 | Satoshi Kawada | 赤外顕微測定装置 |
JPH0695003A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-04-08 | Tandem Scanning Corp | 立体タンデム型走査反射光共焦点顕微鏡 |
JPH06151281A (ja) * | 1992-11-05 | 1994-05-31 | Nikon Corp | X線露光装置 |
JPH06175031A (ja) * | 1990-03-02 | 1994-06-24 | Spectra Tech Inc | 光学式試料分析装置及び光学式試料分析方法 |
JPH06204123A (ja) * | 1992-12-29 | 1994-07-22 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JPH07142369A (ja) * | 1993-11-15 | 1995-06-02 | Nec Corp | 露光装置 |
JPH0854738A (ja) * | 1994-08-11 | 1996-02-27 | Nec Corp | 微細パターン形成方法 |
JPH08160200A (ja) * | 1994-12-01 | 1996-06-21 | Olympus Optical Co Ltd | 照明光学系 |
DE19533314A1 (de) * | 1995-09-08 | 1997-03-13 | Microlas Lasersystem Gmbh | Abbildungsoptik zum verkleinernden Abbilden eines Lichtstrahls |
JPH1020196A (ja) * | 1996-07-08 | 1998-01-23 | Canon Inc | 変倍光学系及びそれを用いた撮像装置 |
WO1999025009A1 (fr) * | 1997-11-10 | 1999-05-20 | Nikon Corporation | Dispositif d'insolation |
JP2000150371A (ja) * | 1992-03-05 | 2000-05-30 | Nikon Corp | 露光装置及び半導体素子の製造方法 |
JP2001236673A (ja) * | 2000-02-17 | 2001-08-31 | Minolta Co Ltd | 光ヘッド及び光記録・再生装置 |
JP2001332489A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-11-30 | Nikon Corp | 照明光学系、投影露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2003163153A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-06 | Canon Inc | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイス |
JP2003163152A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-06 | Canon Inc | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイス |
JP2006186365A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07220990A (ja) | 1994-01-28 | 1995-08-18 | Hitachi Ltd | パターン形成方法及びその露光装置 |
US5975703A (en) * | 1996-09-30 | 1999-11-02 | Digital Optics International | Image projection system |
DE19935404A1 (de) * | 1999-07-30 | 2001-02-01 | Zeiss Carl Fa | Beleuchtungssystem mit mehreren Lichtquellen |
DE19838518A1 (de) * | 1998-08-25 | 2000-03-02 | Bosch Gmbh Robert | Anordnung |
US6423925B1 (en) * | 2000-02-17 | 2002-07-23 | Universal Laser Systems, Inc. | Apparatus and method for combining multiple laser beams in laser material processing systems |
US6313433B1 (en) * | 2000-04-03 | 2001-11-06 | Universal Laser Systems, Inc | Laser material processing system with multiple laser sources apparatus and method |
US6771683B2 (en) * | 2000-10-26 | 2004-08-03 | Coherent, Inc. | Intra-cavity beam homogenizer resonator |
-
2006
- 2006-02-06 US US11/348,185 patent/US7331676B2/en active Active
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Patent Citations (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03198007A (ja) * | 1989-06-29 | 1991-08-29 | Boeing Co:The | カトプトリック光学装置 |
JPH06175031A (ja) * | 1990-03-02 | 1994-06-24 | Spectra Tech Inc | 光学式試料分析装置及び光学式試料分析方法 |
US5136413A (en) * | 1990-11-05 | 1992-08-04 | Litel Instruments | Imaging and illumination system with aspherization and aberration correction by phase steps |
JPH0513301A (ja) * | 1991-06-28 | 1993-01-22 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置 |
JP2000150371A (ja) * | 1992-03-05 | 2000-05-30 | Nikon Corp | 露光装置及び半導体素子の製造方法 |
JPH0695003A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-04-08 | Tandem Scanning Corp | 立体タンデム型走査反射光共焦点顕微鏡 |
JPH0694613A (ja) * | 1992-09-11 | 1994-04-08 | Satoshi Kawada | 赤外顕微測定装置 |
JPH06151281A (ja) * | 1992-11-05 | 1994-05-31 | Nikon Corp | X線露光装置 |
JPH06204123A (ja) * | 1992-12-29 | 1994-07-22 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JPH07142369A (ja) * | 1993-11-15 | 1995-06-02 | Nec Corp | 露光装置 |
JPH0854738A (ja) * | 1994-08-11 | 1996-02-27 | Nec Corp | 微細パターン形成方法 |
JPH08160200A (ja) * | 1994-12-01 | 1996-06-21 | Olympus Optical Co Ltd | 照明光学系 |
DE19533314A1 (de) * | 1995-09-08 | 1997-03-13 | Microlas Lasersystem Gmbh | Abbildungsoptik zum verkleinernden Abbilden eines Lichtstrahls |
JPH1020196A (ja) * | 1996-07-08 | 1998-01-23 | Canon Inc | 変倍光学系及びそれを用いた撮像装置 |
WO1999025009A1 (fr) * | 1997-11-10 | 1999-05-20 | Nikon Corporation | Dispositif d'insolation |
JP2001236673A (ja) * | 2000-02-17 | 2001-08-31 | Minolta Co Ltd | 光ヘッド及び光記録・再生装置 |
JP2001332489A (ja) * | 2000-03-13 | 2001-11-30 | Nikon Corp | 照明光学系、投影露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2003163153A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-06 | Canon Inc | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイス |
JP2003163152A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-06 | Canon Inc | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイス |
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