JP4817316B2 - 消弧用樹脂加工品、及びそれを用いた回路遮断器 - Google Patents
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Description
そして、ポリオレフィン樹脂(A)中にポリアセタール系樹脂(C)が分散してミクロ相分離構造が形成されているので、消弧用樹脂加工品が熱分解される際、ポリアセタール系樹脂(C)が熱分解されやすく、消弧性の高い熱分解ガスを放出でき、アークを速やかに消弧できる。
上記応性有機リン系難燃剤(B)は、エネルギー的に安定したものであり、樹脂への混練・成形時に、気化しにくく、更には、熱や剪断によって分解され難いので、成形加工性を損なうこともない。
すなわち、上記の有機リン化合物は、末端不飽和結合である−CH=CH2基又は−C(CH3)=CH2基を少なくとも一つ以上含む化合物である。この官能基は、放射線の照射によって、上記ポリオレフィン樹脂(A)と結合するための官能基である。なお、末端不飽和結合は1分子中に2つ以上有していることが好ましい。
メチレン基1モルに対して、水酸基を0.58モル含有するポリオレフィン樹脂(商品名;「EVAL-L104B」 クラレ(株)社製)67質量部と、オキシメチレンから誘導される繰り返し単位の含有量が90モル%であるポリオキシメチレン−オキシエチレン共重合体(商品名;「テナック−C 4520」 旭化成(株)社製)25質量部とを溶融混合した後、反応性有機リン系難燃剤として上記式(I−14)の化合物8質量部を添加し、サイドフロー型2軸押出機(日本製鋼社製)を用いて220℃で混練して樹脂ペレットを得た。次いで、この樹脂ペレットを、80℃で、7時間乾燥した後、射出成形機(FUNUC社製:α50C)を用いて樹脂温度215℃、金型温度50℃の条件で成形した。この成形体の断面状態をSEMで観察したところ、ラメラ状態の球晶と均一な海島構造をしたミクロ相分離状態が確認できた。
メチレン基1モルに対して、水酸基を0.58モル含有するポリオレフィン樹脂(商品名;「EVAL-L104B」 クラレ(株)社製)50質量部と、オキシメチレンから誘導される繰り返し単位の含有量が90モル%であるポリオキシメチレン−オキシエチレン共重合体(商品名;「テナック−C 4520」 旭化成(株)社製)20質量部とを溶融混合した後、無機フィラーとして、ベーマイト(商品名;「BMT−10」 河合石灰工業(株)10質量部及びシラン処理したガラスファイバー(商品名;「03.JAFT2Ak25」 旭ファイバーグラス社製)15質量部と、反応性有機リン系難燃剤として上記式(II−3)の化合物5質量部を添加し、サイドフロー型2軸押出機(日本製鋼社製)を用いて220℃で混練して樹脂ペレットを得た。次いで、この樹脂ペレットを、80℃で、7時間乾燥した後、射出成形機(FUNUC社製:α50C)を用いて樹脂温度215℃、金型温度50℃の条件で成形した。この成形体の断面状態をSEMで観察したところ、ラメラ状態の球晶と均一な海島構造をしたミクロ相分離状態が確認できた。
メチレン基1モルに対して、水酸基を0.58モル含有するポリオレフィン樹脂(商品名;「EVAL-L104B」 クラレ(株)社製)53質量部と、オキシメチレンから誘導される繰り返し単位の含有量が90モル%であるポリオキシメチレン−オキシエチレン共重合体(商品名;「テナック−C 4520」 旭化成(株)社製)20質量部とをN2雰囲気下にて、220℃で溶融混合した。次いで、無機フィラーとしてベーマイト(商品名;「BMT−10」 河合石灰工業(株))15質量部と、反応性有機リン系難燃剤として上記式(I−18)の化合物12質量部を添加し、N2ガス置換したサイドフロー型2軸押出機(日本製鋼社製)を用いて220℃で混練して樹脂ペレットを得た。そして、この樹脂ペレットを、80℃で、7時間乾燥した後、射出成形機(FUNUC社製:α50C)を用いてN2雰囲気下、樹脂温度215℃、金型温度50℃の条件で成形した。この成形体の断面状態をSEMで観察したところ、ラメラ状態の球晶と均一な海島構造をしたミクロ相分離状態が確認できた。
(比較例1)
実施例1において、反応性有機リン系難燃剤を配合しなかった以外は、実施例1と同様の条件で混練して樹脂ペレットを得た。そして、得られた樹脂ペレットを、80℃で、7時間乾燥した後、射出成形機(FUNUC社製:α50C)を用いて樹脂温度215℃、金型温度50℃の条件で成形して、比較例1の消弧用樹脂加工品を得た。
実施例2において、反応性有機リン系難燃剤を配合しなかった以外は、実施例2と同様の条件で混練して樹脂ペレットを得た。そして、得られた樹脂ペレットを、80℃で、7時間乾燥した後、射出成形機(FUNUC社製:α50C)を用いて樹脂温度215℃、金型温度50℃の条件で成形して、比較例2の消弧用樹脂加工品を得た。
実施例2において、反応性有機リン系難燃剤の代わりに、反応性を有しない添加型の有機リン系難燃剤(商品名;「HCA‐HQ」 三光化学社製)を用いた以外は実施例2と同様にして比較例3の消弧用樹脂加工品を得た。
実施例2において、反応性有機リン系難燃剤の代わりに、臭素系難燃剤(商品名;「Great Lakes pdbs−80」 グレートレークス製)を用いた以外は実施例2と同様にして比較例4の消弧用樹脂加工品を得た。
実施例2において、メチレン基1モルに対して、水酸基を0.58モル含有するポリオレフィン樹脂(商品名;「EVAL-l104B」 クラレ(株)社製)の代わりに、ポリエチレン樹脂(商品名;「HJ362」 日本ポリエチレン(株)社製)を用いた以外は実施例2と同様にして比較例5の消弧用樹脂加工品を得た。
不飽和ポリエステル樹脂(商品名;「7527」 ユピカ(株)社製)25質量部と、Al(OH)335質量部と、スチレン−酢ビ共重合体5質量部と、重合開始剤としてt−ブチルパーオキサイド−Z0.3質量部と、粘度調整剤4.7質量部とをニーダーで混練しながら、無機フィラーとしてシラン処理したガラスファイバー(商品名;「03.JAFT2Ak25」 旭ファイバーグラス社製)35質量部を添加分散し、バルクモールドコンパンドを得た。このバルクモールドコンパンドを成形し、140〜150℃にて重合反応させて、比較例6の消弧用樹脂加工品を得た。
ナイロン6樹脂(商品名;「UBEナイロン1015B」 宇部興産(株)社製)99.8質量部と酸化防止剤(チバガイギー社製:イルガノイルガノックス1010)0.2質量部とを混練して樹脂ペレットを得た。そして、得られた樹脂ペレットを、105℃で、4時間乾燥した後、射出成形機(FUNUC社製:α50C)を用いて樹脂温度260℃、金型温度85℃の条件で成形して、比較例7の消弧用樹脂加工品を得た。
2:グリット
4:電源側端子
5:固定接触子
6:可動接点
7:固定接点
9:アークホーン
12:絶縁体
13:消弧室
14:条溝
Claims (7)
- メチレン鎖の水素原子の一部が水酸基で置換され、メチレン基1モルに対して、水酸基を0.2〜0.7モル含有するポリオレフィン樹脂(A)と、末端不飽和結合を有する反応性有機リン系難燃剤(B)と、オキシメチレンから誘導される繰り返し単位の含有量が75〜100モル%であるポリアセタール系樹脂(C)とを含み、前記ポリオレフィン樹脂(A)100質量部に対して前記ポリアセタール系樹脂(C)を5〜90質量部含有する樹脂組成物を、成形後に放射線架橋を施して得られ、ポリオレフィン樹脂(A)中にポリアセタール系樹脂(C)が分散してミクロ相分離構造が形成されていることを特徴とする消弧用樹脂加工品。
- 前記樹脂組成物が、ガラスファイバー、チタン酸バリウムウィスカー、シリカゲル微粒子、ベーマイト、タルク、炭酸マグネシウム及び金属水酸化物から選ばれた1種以上の無機フィラー(D)を、1〜70質量%含有する、請求項1に記載の消弧用樹脂加工品。
- 前記ポリオレフィン樹脂(A)の分解潜熱が30cal/g以上である、請求項1又は2に記載の消弧用樹脂加工品。
- 前記ポリオレフィン樹脂(A)が、エチレン−ビニルアルコール共重合体である、請求項1〜3のいずれか一つに記載の消弧用樹脂加工品。
- 前記反応性有機リン系難燃剤(B)が、下記式(I)及び/又は下式(II)に示される有機リン化合物であり、前記樹脂組成物中に0.5〜20質量%含有される、請求項1〜4のいずれか一つに記載の消弧用樹脂加工品。
(式(I)中、R1〜R4はそれぞれCH2=CY1−Y2−、又はヘテロ原子を含んでもよい一官能性の芳香族炭化水素系基を表し、R5はヘテロ原子を含んでもよい二官能性の芳香族炭化水素系基を表す。X1〜X4はそれぞれ−O−、−NH−、−(CH2=CY1−Y2)N−より選択される基を表し、X1〜X4の少なくとも1つは−NH−、又は−(CH2=CY1−Y2)N−を含む。R1〜R4及びX1〜X4の少なくとも1つはCH2=CY1−Y2−を含む。Y1は水素又はメチル基を表し、Y2は炭素数1〜5のアルキレン基、又は−COO−Y3−を表す。ここで、Y3は炭素数1〜5のアルキレン基を表す。)
(式(II)中、1分子中に少なくとも1つのP−C結合を含み、Ar1とAr2は、それぞれ炭素数20以下の易動性水素を含まない二官能性の芳香族炭化水素系基を表し、nは0〜2の整数である。R6〜R10はそれぞれ、−NHCH2CH=CH2、−N(CH2CH=CH2)2、−OCH2CH=CH2、−CH2CH=CH2、−CH2CH2OCH=CH2、−(C6H4)−CH=CH2、−O(C6H4)−CH=CH2、−CH2(C6H4)−CH=CH2、−NH(C6H4)−CH=CH2、−N(CH2CH=CH2)−(C6H4)−CH=CH2、−O−R−OOC−C(R’)=CH2、−NH−R−NHCO−C(R’)=CH2、炭素数12以下のアリール基より選択される基を表す。ここで、Rは炭素数2〜5のアルキレン基、R’は水素またはメチル基を表す。R6〜R10の少なくとも1つは−CH=CH2基又は−C(CH3)=CH2基を含む。) - 前記ポリアセタール系樹脂(C)が、オキシメチレン−オキシエチレン共重合体又はオキシメチレン重合体である、請求項1〜5のいずれか一つに記載の消弧用樹脂加工品。
- 固定接点を有する固定接触子と、前記固定接触子と接触する可動接点を有し前記固定接触子に対して開閉動作をする可動接触子と、前記固定接触子と前記可動接触子とが開閉動作する際に発生するアークを消弧する消弧装置とを備えた回路遮断器において、
前記消弧装置が、請求項1〜6のいずれか一つに記載の消弧用樹脂加工品からなることを特徴とする回路遮断器。
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